JPH0318435Y2 - - Google Patents

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JPH0318435Y2
JPH0318435Y2 JP1985138465U JP13846585U JPH0318435Y2 JP H0318435 Y2 JPH0318435 Y2 JP H0318435Y2 JP 1985138465 U JP1985138465 U JP 1985138465U JP 13846585 U JP13846585 U JP 13846585U JP H0318435 Y2 JPH0318435 Y2 JP H0318435Y2
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wafer
gripper
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plate
spring
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Description

【考案の詳細な説明】 考案の技術分野 本考案は、板体、例えばシリコンウエハー等を
保持するための装置の改良に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field of the Invention The present invention relates to an improvement in an apparatus for holding a plate, such as a silicon wafer.

従来技術 半導体部品の基板となるシリコンウエハーの製
造過程では数々の工程がある。その工程の中でス
ライシング工程が終了すると、その後1枚のウエ
ハーとして取り扱われる。この工程の後に、ラツ
ピング工程、ポリシング工程等の加工過程があ
り、数回の測定、検査の後にシリコンウエハーの
完成品となる。
Prior Art There are many steps in the manufacturing process of silicon wafers, which serve as substrates for semiconductor components. When the slicing process is completed during this process, the wafer is handled as one wafer. After this step, there are processing steps such as wrapping and polishing, and after several measurements and inspections, the silicon wafer becomes a finished product.

これらの各工程の間で、ウエハーの搬送が必要
となるが、従来、この搬送は、通常、丸ベルト、
あるいはバキユームチヤツクなどを用いて専用の
ウエハーカセツトに収容しながら行われている。
Between each of these steps, the wafer must be transported, but conventionally, this transport has typically been carried out using round belts,
Alternatively, the wafers are stored in a special wafer cassette using a vacuum chuck or the like.

ウエハーをウエハーカセツトへ供給するとき、
あるいはその内部から排出するときに、丸ベル
ト、あるいはバキユームチヤツクなどが用いられ
ると、ウエハーの裏面に直接丸ベルトまたはウエ
ハーチヤツクが接触することになる。このような
保持過程で、搬送手段の一部がウエハーの表面に
対して面接触すると、ウエハーの表面にバキユー
ムチヤツク、あるいは丸ベルトなどの跡が付着し
てしまう。接触位置がウエハーの裏面であるとは
いえ、発塵の原因となるため、これがクリーン度
を必要とする半導体製造工程において問題とな
る。
When feeding wafers into a wafer cassette,
Alternatively, if a round belt or vacuum chuck is used to discharge the wafer from inside, the round belt or wafer chuck will come into direct contact with the back surface of the wafer. During such a holding process, if part of the conveying means comes into surface contact with the surface of the wafer, marks such as vacuum chucks or round belts will be deposited on the surface of the wafer. Although the contact position is on the back side of the wafer, it causes dust generation, which poses a problem in semiconductor manufacturing processes that require cleanliness.

考案の目的 したがつて、本考案の目的は、ウエハー等の板
体を取り扱う際に、この板体との面接触を避け、
板体の外周部分を点接触の状態で保持することに
より、発塵を最小限度に抑えることである。
Purpose of the invention Therefore, the purpose of the invention is to avoid surface contact with a plate such as a wafer when handling the plate,
By holding the outer periphery of the plate in point contact, dust generation is minimized.

考案の概要 そこで、本考案は、例えば3つのグリツパー部
の押え部によつて、板体の外周面を3点支持の状
態で保持するようにしている。ここで3つの押え
部のうち、2つのものは、定位置に固定されてい
るが、他の1つのものは、把持方向にスプリング
によつて付勢されながら、駆動源によつて進退自
在に設けられている。したがつて、この可動側の
押え部が駆動源によつて前進し、板体の側面に接
触するとき、その把持力がスプリングによつて与
えられ、またある程度の寸法誤差を許容する状態
となつているため、ウエハーなどが破壊されるこ
となく、保持動作が柔軟な状態で対応できる。
Summary of the Invention Accordingly, in the present invention, the outer circumferential surface of the plate is held in a three-point supported state by, for example, the holding parts of the three gripper parts. Here, two of the three holding parts are fixed at fixed positions, but the other one is biased by a spring in the gripping direction and can be moved back and forth by a drive source. It is provided. Therefore, when this movable holding part is moved forward by the drive source and comes into contact with the side surface of the plate, its gripping force is applied by the spring, and a certain degree of dimensional error is allowed. This allows for flexible holding operations without damaging the wafer, etc.

考案の構成 第1図、および第2図は、本考案の保持装置1
を示している。この保持装置1は、一対の固定的
なグリツパー2、および移動可能なグリツパー3
を備えており、これらのうち一対のグリツパー2
は、グリツパー部4の上面に着脱自在に固定され
ており、また他のグリツパー3は、それらの間で
プツシユロツド5によつて進退自在に設けられて
いる。
Structure of the invention FIGS. 1 and 2 show the holding device 1 of the invention.
It shows. This holding device 1 includes a pair of fixed grippers 2 and a movable gripper 3.
Of these, a pair of grippers 2
is detachably fixed to the upper surface of the gripper part 4, and the other gripper 3 is provided so as to be movable forward and backward by a push rod 5 between them.

そして、一対のグリツパー2は、その先端部分
で、ローラ状の第1の押え部7を、例えばピン6
によつて回転可能な状態で備えており、また同様
に他のグリツパー3は、そのほぼ中央部分で、ピ
ン8によつてローラ状の第2の押え部9を回転可
能な状態で保持している。これらの第1および第
2の押え部7,9は、いずれも洗浄のために交換
可能で、弾性材、例えばウレタンゴム等によつて
構成されており、板体としてのウエハー31の上
下方向のばらつきを吸収できる状態となつてい
る。
The pair of grippers 2 use their tip portions to hold the roller-shaped first holding portion 7, for example, with a pin 6.
Similarly, the other gripper 3 has a roller-like second holding part 9 rotatably held by a pin 8 at its approximately central portion. There is. Both of the first and second holding parts 7 and 9 are replaceable for cleaning, and are made of an elastic material such as urethane rubber, and hold the wafer 31 as a plate in the vertical direction. It is in a state where it can absorb variations.

なお上記グリツパー3は、L字状に屈曲してお
り、その前面で光センサー10を固定している。
この光センサー10のリード線11は、グロメツ
トなどを介在させながら、グリツパー部4の内部
に導かれている。
The gripper 3 is bent into an L shape, and the optical sensor 10 is fixed on the front surface thereof.
The lead wire 11 of this optical sensor 10 is led into the interior of the gripper section 4 with a grommet or the like interposed therebetween.

一方、上記プツシユロツド5は、グリツパー部
4の前面に取り付けられた、すべり軸受け12に
対し摺動自在に挿入されおり、またその中間部分
で、固定具13によつて回り止め板14に固定さ
れ、さらに後端部分でスライダー15のプツシユ
16に対し、軸線方向に摺動自在に挿入され、先
端部分でねじ等のストツパー17を備えている。
上記回り止め板14、および、スライダー15
は、共にその両端部分のブツシユ18,19の間
でグリツパー部4の内部で、それとカバープレー
ト4aとに架け渡された平行な一対のガイドバー
20に対し、摺動可能な状態で支持されている。
そして、この回り止め板14とスライダー15と
の間で、プツシユロツド5にコイル状のスプリン
グ21が設けられている。
On the other hand, the push rod 5 is slidably inserted into a sliding bearing 12 attached to the front surface of the gripper part 4, and is fixed to a rotation stop plate 14 by a fixing member 13 at an intermediate portion thereof. Further, the rear end portion is inserted into the pusher 16 of the slider 15 so as to be slidable in the axial direction, and the distal end portion is provided with a stopper 17 such as a screw.
The anti-rotation plate 14 and the slider 15
are slidably supported inside the gripper section 4 between the bushes 18 and 19 at both ends thereof, with respect to a pair of parallel guide bars 20 spanning between the gripper section 4 and the cover plate 4a. There is.
A coil-shaped spring 21 is provided on the push rod 5 between the detent plate 14 and the slider 15.

さらに前記スライダー15は、駆動源としての
シリンダ22のピストンロツド23に連結されて
いる。このシリンダ22は、グリツパー部4の内
部に設けられており、ブラケツト24によつて取
り付けられている。このようにして、第2の押え
部9は、スプリング21により駆動源としてのシ
リンダ22に連結されている。
Further, the slider 15 is connected to a piston rod 23 of a cylinder 22 as a driving source. This cylinder 22 is provided inside the gripper part 4 and is attached by a bracket 24. In this way, the second presser part 9 is connected to the cylinder 22 as a driving source by the spring 21.

なお上記一対のグリツパー2は、第3図に示す
ように溝付きの位置決めピン25によつてグリツ
パー部4の位置決め孔26の内部に差し込まれ、
グリツパー部4の部分にねじ込まれたボールプラ
ンジヤー27によつて係止されているため、異な
る寸法のものと簡単に交換できるようになつてい
る。またプツシユロツド5の摺動部分は、ポケツ
ト32の内側のスクレーパ28によつて密閉され
ており、しかもポケツト32は、吸引用の配管2
9により、常に負圧空気により吸引状態となつて
いる。
The pair of grippers 2 are inserted into the positioning holes 26 of the gripper part 4 by grooved positioning pins 25, as shown in FIG.
Since it is locked by a ball plunger 27 screwed into the gripper part 4, it can be easily replaced with one of a different size. Further, the sliding part of the push rod 5 is sealed by a scraper 28 inside the pocket 32, and the pocket 32 is connected to the suction pipe 2.
9, it is always in a suction state with negative pressure air.

考案の作用 上記保持装置1は作業用ロボツトのヘツド30
の上部等に取り付けられており、その運動によ
り、ウエハー31の下側に移動する。この状態
で、光センサー10がウエハー31の有無を光電
的に確認した後、グリツパー2は少しだけ上昇す
る。ウエハー31は、たな状の部分に収められて
おり、これらのグリツパー2,3によつて取り出
せる状態となつている。グリツパー2,3の上昇
後、ロボツトのヘツド30が2つの第1の押え部
7で、ウエハー31を手前に引き出してから、シ
リンダ22がそのピストンロツド23を引き込む
ため、第2の押え部9は、スプリング21に押さ
れ、前進しながらウエハー31の外周面に接触す
る。このようにして2つの第1の押え部7、と第
2の押え部9との間でウエハー31が、3点支持
の状態で保持される。このとき、第2の押え部9
の接触圧力は、スプリング21を介して与えられ
る。したがつて、ウエハー31に必要以上の力が
加えられず、またその大きさのばらつきが、スプ
リング21によつて吸収される。このようにし
て、第1および第2の押え部7,9によつてウエ
ハー31を把持した後、ロボツトのヘツド30
は、そのウエハー31を保持したまま、所定の工
程の作業位置に搬送する。
Effect of the invention The above-mentioned holding device 1 is attached to the head 30 of a working robot.
The wafer 31 is attached to the upper part of the wafer 31, and its movement causes it to move below the wafer 31. In this state, after the optical sensor 10 photoelectrically confirms the presence or absence of the wafer 31, the gripper 2 rises slightly. The wafer 31 is housed in a trough-shaped portion and can be taken out by the grippers 2 and 3. After the grippers 2 and 3 rise, the head 30 of the robot pulls out the wafer 31 with the two first holding parts 7, and then the cylinder 22 pulls in its piston rod 23, so the second holding part 9 It is pushed by the spring 21 and comes into contact with the outer peripheral surface of the wafer 31 while moving forward. In this way, the wafer 31 is held between the two first holding parts 7 and the second holding part 9 in a three-point supported state. At this time, the second presser part 9
The contact pressure is applied via the spring 21. Therefore, no more force than necessary is applied to the wafer 31, and variations in the size thereof are absorbed by the spring 21. After the wafer 31 is gripped by the first and second holding parts 7 and 9 in this way, the head 30 of the robot
While holding the wafer 31, the wafer 31 is transported to a working position for a predetermined process.

考案の変形例 上記実施例は、固定的は2つの第1の押え部7
に対し、1つの第2の押え部9を移動可能な状態
としているが、これらの配置の関係は、実施例の
ものと逆の関係にあつてもよい。しかし、2つの
第1の押え部7は、1つのものとして一体的に構
成することもできる。さらにこの第2の押え部9
は、1個に限らず、それ以上、例えば2個設けら
れていてもよい。
Modified example of the invention In the above embodiment, two first presser parts 7 are fixed.
On the other hand, although one second presser part 9 is in a movable state, the relationship of arrangement thereof may be opposite to that of the embodiment. However, the two first holding parts 7 can also be integrally configured as one piece. Furthermore, this second presser part 9
is not limited to one, but may be more than one, for example two.

また駆動源は、シリンダ22に限らず、ロータ
リーアクチユエータや、モータなどの回転をクン
ク機構、あるいは送りねじ機構などを用いて、直
線方向の運動に変換することによつても構成でき
る。
Further, the drive source is not limited to the cylinder 22, but can also be configured by converting the rotation of a rotary actuator, a motor, etc. into linear motion using a Kunk mechanism, a feed screw mechanism, or the like.

もちろん、この保持装置1の用途は、ウエハー
等の半導体に限らず、板状体のものであれば、他
の搬送などにも用いられる。
Of course, the use of this holding device 1 is not limited to semiconductors such as wafers, but can also be used for transporting other plate-shaped objects.

考案の効果 本考案では、ウエハー等の板体が面接触でな
く、その外周部分で点接触の状態で、第1および
第2の押え部によつて安定に保持されるから、実
際に使用する表面などの塵埃の付着や保持すると
きの跡などが残らないため、その後の製造過程で
の品質上の悪影響がなく、また、第2の押え部が
板体の側面に接するとき、スプリングによつて押
され、その弾力によつて把持力を働かせているた
め、ウエハーなどの板体に無理な外力が作用せ
ず、またその大きさのばらつき等がある程度吸収
できる。
Effects of the invention In this invention, the plate such as a wafer is stably held by the first and second holding parts not in surface contact but in point contact on its outer periphery, which makes it easier to use in actual use. Since no dust adheres to the surface or leaves marks when holding, there is no negative impact on quality in the subsequent manufacturing process, and when the second holding part touches the side of the plate, the spring Since the gripping force is exerted by the elasticity of the wafer, no unreasonable external force is applied to the plate such as a wafer, and variations in size can be absorbed to some extent.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本考案の保持装置の垂直断面図、第2
図は一部の水平断面図、第3図はグリツパーの取
り付け部分の拡大断面図である。 1……保持装置、2,3……グリツパー、4…
…グリツパー部、5……プツシユロツド、7……
第1の押え部、9……第2の押え部、14……回
り止め板、15……スライダー、20……ガイド
バー、21……スプリング、22……駆動源とし
てのシリンダ、31……板体としてのウエハー。
Figure 1 is a vertical sectional view of the holding device of the present invention;
The figure is a horizontal sectional view of a portion, and FIG. 3 is an enlarged sectional view of the gripper attachment part. 1...Holding device, 2, 3...Gripper, 4...
...gripper section, 5... push rod, 7...
First holding part, 9...Second holding part, 14...Stopping plate, 15...Slider, 20...Guide bar, 21...Spring, 22...Cylinder as a driving source, 31... Wafer as a plate.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 ウエハー等の板体31周面の一方側と当たる少
なくとも1つの第1の押え部7をグリツパー部4
の定位置に支持し、 上記板体31周面の他方側と当たる少なくとも
1つの第2の押え部9を上記グリツパー部4に上
記第1の押え部7の方向に進退自在に設け、 上記第2の押え部9をスプリング21によりグ
リツパー部4に設けられた駆動源22に連結して
なり、 上記第1の押え部7および第2の押え部9で上
記スプリング21の付勢力により上記板体31周
側面を両側から少なくとも3点で挟むことを特徴
とするウエハー等の板体の保持装置1。
[Claims for Utility Model Registration] At least one first holding part 7 that contacts one side of the circumferential surface of a plate 31 such as a wafer is attached to the gripper part 4.
At least one second holding part 9 is provided on the gripper part 4 so as to be able to move forward and backward in the direction of the first holding part 7, and is supported in a fixed position and comes into contact with the other side of the circumferential surface of the plate body 31. The second presser section 9 is connected to a drive source 22 provided in the gripper section 4 by a spring 21, and the first presser section 7 and the second presser section 9 use the urging force of the spring 21 to press the plate body. 31. A holding device 1 for a plate such as a wafer, characterized in that the circumferential side surface is held between at least three points from both sides.
JP1985138465U 1985-09-10 1985-09-10 Expired JPH0318435Y2 (en)

Priority Applications (1)

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JPS6247542U JPS6247542U (en) 1987-03-24
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