JPH03179417A - 光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的〕 （産業上の利用分野） この発明はレーザプリンタ等の装置に用いられる光学装
置、特に、半導体レーザ素子からの光ビームをレンズ群
及び光偏向装置を介して走査対象物へ導く結像光学装置
の改良に関する。

（従来の技術） 一般に、レーザプリンタなどの装置に組込まれる光学装
置においては、光ビームを集束させる第一結像光学系（
レンズ群）、第一結像光学系からの光ビームを第二結像
光学系（ｆθレンズなど）に向かって等角速度で反射さ
せる光偏向装置及び光偏向装置で反射された光ビームを
感光体などの走査対象物に対して結像させる第二結像光
学系を備えている。

光源からの光ビームは第一結像光学系によって集束され
、その集束された光ビームは光偏向装置によって反射さ
れ、第二結像光学系を介して感光体などの走査対象物に
対して等速度で結像される。

即ち、コリメータレンズ、及び少なくとも１枚のレンズ
で構成される前記第−結像光学系は、発散性である光ビ
ームを平行先或いは集束光に変換する。また、所定の方
向に回転する回転多面ｍ＜ポリゴンミラー）である前記
光偏向装置は、前記集束された光ビームを等角速度で反
射し、第二結像光学系を介して走査対象物の面上に走査
する。さらに、ｆθレンズ等で構成され回転多面鏡と走
査対象物の間に配置された第二結像光学系は、回転多面
鏡によって反射された等角速度で走査されている光ビー
ムを走査対象物の面上に結像させる。

前記第一結像用光学系では、光源及びコリメートレンズ
が収容された鏡筒、第一結像光学系のコリメートレンズ
以外のレンズ、光偏向装置及び第二結像光学系とは別ユ
ニットとして枠体に配置される。このため、鏡筒及び他
の第一結像光学系を配置する際に求められる位置精度、
他の光学部材、即ち、光偏向装置或いは第二結像光学系
を配置する際に求められる位置精度と比較して、非常に
高い位置情度が必要になる。また、光源である半導体レ
ーザ素子には、半導体レーザ素子から発生される光ビー
ムの垂直方向及び水平方向における見かけ上の発光点が
異なるという非点隔差が個々に存在するため、光学装置
全体として再調整が必要となる。

（発明が解決しようとする課題） 上述したように、鏡筒及び他の第一結像光学系を配置す
るハウジングとこれらの光学部材以外を配置するハウジ
ングと一体形成すると、光学装置全体に対して高い位置
精度が要求される。このことは、枠体に利用可能な材質
を制限し、且つ、加工方法に対しても制約を与える。ま
た、組立て調整においても熟練を要し或いは作業時間の
増大を招く虞れがある。さらに、半導体レーザ素子は、
レーザ素子に固有の非点隔差を有することから、組立て
調整において再調整を必要とし、作業時間のいっそうの
増大を招く虞れがある。従って、コストの高い光学系が
提供されるという問題がある。

この発明は、組立て調整が容易で、しかも、コストのか
からない光学装置を提供することを目的とする。

［発明の構成コ （課題を解決するための手段） この発明は、上述問題点に基づきなされたもので、光源
と、この光源からの光ビームを主走査及び副走査方向の
一方の第１面内において平行ビームに変換し、他方の第
２面内において集束ビームに変換する第一光学手段と、
前記光源及び前記第一光学手段を一体的に保持し、所定
の方向に移動可能な第一保持手段と、前記第一光学手段
からの光ビームを前記第１及び第２面内において集束す
る第二光学手段と、この第二光学手段からの光ビームを
走査対象物に対して走査する光偏向手段と、この光偏向
手段で走査された光ビームを走査対象物の面上に結像さ
せる結像光学手段と、前記第一保持手段、前記第二光学
手段、前記光偏向手段及び前記結像光学手段を保持する
第二保持手段とを備えることを特徴とする光学装置が提
供される。

（作用） この発明によれば、配置に際して高い位置精度が要求さ
れる半導体レーザ素子、非球面有限レンズ及び光源側に
配置されるシリンダレンズまたはトーリックレンズが一
つのユニットとして形成されることから、配置に際して
比較的位置精度の緩い光偏向装置光偏向装置、第二結像
光学系及びこのユニットに含まれない第一結像光学系の
光学部材を保持する枠体を形成するに際して、コストの
かからない材質及び形成方法例えばプラスチックによる
成型加工が可能となる。また、半導体レーザ素子固有の
非点隔差に対しても、このユニットを移動させることに
よって、容易に調整可能となる。従って、コストの低い
光学装置が提供される。

（実施例） 以下、図面を用いてこの発明の一実施例を説明する。

第１Ａ図及び第１Ｂ図には、この発明の一実施例である
光学装置が示されている。第１Ａ図は、この光学装置の
副走査方向にお１する偏向角０″の状態における断面図
、第１Ｂ図は、第１Ａ図に示した装置のカバーを取除い
た状態の底面図である。

この光学装置は、光学装置を形成する光学部材を保持す
る枠体２を備えている。この枠体２は、光源からの光ビ
ームを平行光或いは集束光に変換し光偏向装置へ導く第
一結像光学系４、第一結像光学系からの光ビームを走査
対象物へ走査する光偏向装置３２、及び、光偏向装置に
よって反射された光ビームを走査対象物の面上に集束さ
せる第二結像光学系６を同一平面内に保持している。ま
た、この枠体２即ち光学装置は、主走査方向における水
平同期を検出する光検出器８を備えている。

前記第一結像光学系４は、光源即ち半導体レーザ素子１
４、鏡筒部へ組込まれるに際して利用されるフランジを
有するガラスレンズ１６及び鏡筒部へ取付られる際に用
いられるフランジがその周囲に形成され、位置決め用の
突起又は凹みが主走査方向のほぼ中心に形成された一対
のトーリックレンズの光源側に配置される第１プラスチ
ツクレンズ２４を保持する鏡筒部１２、この鏡筒部Ｉ２
の光軸上に配置され、第１プラスチツクレンズ２４と対
をなす第２プラスチツクレンズ２８を保持する枠体２と
一体形成されているベース部２２をＨしている。第１プ
ラスチツクレンズ２４などを右する鏡筒部１２は、ガラ
スレンズ１６の後方、即ち、半導体レーザ素子１４の直
後に配置されるレンズＩ６の後側黒点位置に絞り１ｇ（
第２Ａ図乃至第３Ｂ図参照）を備えている。一方、ベー
ス部２２は、第１プラスチツクレンズ２４に対向する側
に装置を小形化させるための折返しミラー２６を有して
いる。

ところで、この鏡筒部１２は、熱膨張係数がガラスレン
ズエ６の温度変化に対する影響を少なくする所定の数値
を有し、しかも、加工精度が高い十分な剛性を有する例
えば亜鉛ダイカスト等の材料で一体形成される。従って
、例えば、温度変化による半導体レーザ素子１４の発振
波長の変動、ガラスレンズの屈折率の変動、或いは、温
度変化による鏡筒部及びベース部の伸縮の影響によるレ
ンズ間距離の変動等が生じる場合には、温度の変化によ
る光学特性の変動が補正される必要がある。第１Ａ図及
び第１Ｂ図に示したこの発明の実施例によれば、後述す
る方法によって温度或いは湿度の変化による光学特性の
変動が補正されている。

前記光偏向装置３２は、回転多面鏡３６を有するモータ
であって、この多面鏡３Ｂは、アキシャルギャップ型の
スキャナモータ３４のロータに配置される。

この多面鏡３６は、弾性部材６６によって所定の圧力で
ロータに押付けられるとともに止め輪３８及びばね材４
９によって固定され、所定の方向に回転される。この光
偏向装置３２は、し〜ザ１４から発生され、ガラスレン
ズ１６、第１プラスチツクレンズ２４、第２プラスチツ
クレンズ２８によって、主走査方向及び副走査方向にそ
れぞれ所定の集束位置を有する平行光或いは集束光に変
換された光ビームを所定の速度で走査する。

前記第２結像光学系５は、一種のｆθレンズである第３
プラスチツクレンズ４２、折返しミラー４４及び防塵ガ
ラス４６を有し、多面ｉ３６によって走査対象物に走査
された光ビームをその面上に集束させる。

以下に、ユニット４内の光学系の特性が温度或いは湿度
の変化の影響を受けないための条件に関して説明する。

温度変化による焦点距離の変動量Δｆｔは、ｎｔを比温
度係数（１℃に対する）、 αｔを線脳膜係数（１℃に対する）、 ｆ　をｆθレンズの焦点距離、及び、 Δｔを温度変化（℃）とするとき、 Δｆｔ　＝　（−ｎｔ　＋ａｔ　）　ｆ　・Δｔ　　　
−（１）で近似できる。

また、湿度変化による黒点距離の変動量Δｆｌは、 ｎｍを比吸水係数（１％に対する）、 α厘を吸水による脳膜係数（１％に対する）、ｆ　をｆ
θレンズの焦点距離、及び、 Δ麿を吸水率変化（％）とするとき、 Δｆｓ　−（−ｎ＋ｇ　＋ａｔｘ　）　ｆ　・Δｒｎ　
　　−（２）で近似できる。

よって、プラスチック材料として、代表的なＰＭＭＡ　
（ポリメチルメタクリル）を用いて、ｆ＝４’５ｍｇ、
　　Δｔ−３０℃の条件で近似すると、温度変化による
焦点距離の変動量は、 ｎｔ　−−２，０９Ｘｌ０−４／”Ｃ，αｔ　−７Ｘ　
１０−５／”Ｃの条件のもとて Δｆｔ−０．３７６６５ＩＩｌａ＋ となる。

また、ａｔａ　−１％の条件で近似すると湿度変化によ
る黒点距離の変動量は、 ｎｍ　＝８．４５Ｘ１０−’／％、　ａｔａ　−２，１
８ｘｌＯ−３／％の条件のもとて Δｆ＋ｎ−０．０５９１７５ａｍ となる。

したがって、温度、湿度の両方の変化による焦点距離の
変動量Δｆは、 Δｆ−Δｆｔ十Δｆａ＋−０．４３５８３ｍ＋ａとなる
。

よって、レンズの焦点距Ｍｆ−４５ｍｍは、ｆ十Δｆ−
ｆ＋Δｆｔ十ΔｆＩ１１ −４５．４３５８３ｓＩｆｆ となる。

ゆえに、物体面、即ち感光体とｆθレンズ前側主点の間
の距離ＺＯを ｚＯ−９０１１１とすると、 レンズ後側主点と走査対象物の面上の間の距離２１は、 Ｚｌ＝９０ｍｍとなるべきであるが、レンズ後側主点と
走査対象物の面上の間の距離Ｚｌは、Ｚｌ＋ΔＺ−９１
，７４３３２ｍｔａ （ΔＺ−４Δｆ） となる。

ここで、黒点距離の変動が光ビームのビーム径に及ぼす
影響を考察する。焦点距離の変動によるビーム径の変化
は、 Ｗ　を焦点距離がΔＺシフトした場合のビーム径の半径
（μ）、 Ｗｏをビーム径の半径（μｍ）、 λ　を波長（−）としたとき、 Ｗ−Ｗｏ　ｌ＋（ΔＺλ／　ｙｒ　Ｗｏ　）　２＝１３
）で求めることができる。

例えば、 λ−７８５ｎａｌ、　Ｗｏ　＝　２５ｐとした場合、焦
点距離の補正を行わないとすれば、Ｗ−３０，７８，ｎ となりビーム径の変化は、およそ２３％になる。

ところで、薄肉レンズの色消しにおいて、像面が色消し
であるための条件は、 ｈｌを像高Ｏから出射する軸上光の１番めのレンズにお
ける入射高、 ｆｌを１番めのレンズにおける焦点距離、νＩを１番め
のレンズにおける分散率、及び、ｍ　を第一、第二結像
光学系のレンズ枚数としたとき、 となる。

この式は、各レンズに入射する光線の波長或いは像高の
差によって屈折率が異なる場合に用いられるが、温度及
び湿度の変化による屈折率の変化或いは形状の変化に関
して 一Δｆｌ　／ｆ１−１／ν１ と置換えて、ν１′を温度及び湿度による屈折率或いは
形状変化による定数と仮定した場合、（１）、（２）式
より −”’−（−ｎｔｉ＋αｔｉ）Δｔ＋（−ｎｍｉ＋ｃｒ
ａ＋Ｉ）　Δｍ１ νｌ゛ ・・・（５） と表すことができる。

ここで、（４）式において分散率νｌを波長変化に対し
て Δｆｉ　／ｆ１−１／しｌ としであるので、（４）式のνｌを温度及び湿度の変化
に対するν１゛と置換えると、温度及び湿度による像点
の移動を無くすことができ、結局のところ、 を満たすことにより像面における色消しが可能になる。

しかしながら、ν１°は温度及び湿度の変化に対する関
数であり、レンズの材質が同一種類のものでなければ広
い範囲の温度及び湿度の変化に対して（６）式を常に満
たすことが困難になる。

一般に、第一結像光学系はガラスレンズとプラスチック
製レンズが組合わせられることから（６）式を満たすた
めにガラスレンズとプラスチックレンズを独立して補正
することを考慮すると、ガラスレンズに関しては、湿度
の変化による吸湿の影響は焦損でき、温度変化による黒
点距離の変動のみを考慮するとその固定部材の材質と形
状を適切に選ぶことにより固定部材の熱膨張率と相殺す
ることができる。

プラスチックレンズにおいては、材質が同一であるばあ
いにはすべての温度及び温度に対してνｌ゛が等しい値
をとるため、（６）式は、と書き直せる。

即ち、 ｈｉ２／ｆｉ−０・・・（８） が温度及び湿度或いは波長変化のすべてに対して像面に
おける焦点距離の変動量を補正する条件となる。

このとき、回転多面鏡の反射面の１／ν１゛に関しては
温度及び湿度或いは波長変化などに比べて影響が極めて
小さいので無視できるものとする。

最終的にレンズを厚内化すると（８）式はｈ　ｉ　２／
　ｆ　ｉキ０　　　　　　　　　　・・・（９）となる
が、（１）式を満たすことにより光学装置全体の焦点距
離の補正がなされる。

一方、はとんど吸水しないガラスレンズについては、温
度による焦点距離の変動を、その固定部材の材質と形状
を最適に組み合わせることにより固定部材の熱脳膜と相
殺させて独立して温度補正を行う。

これにより、ガラスレンズに対しては、Δｆ１−０とし
、シｉ°−■ とすることができる。

また、（４）式から明らかなようにプラスチックレンズ
には正のパワーを有するレンズと負のパワーを有するレ
ンズの双方を組合わせる必要がある。このとき、第二結
像光学系の主走査方向におけるパワーが小さいことから
、好ましくは、第二結像光学系には焦点距離の絶対値の
ほぼ等しい正及び負のパワーを有するプラスチックレン
ズを、第一結像光学系にはガラス有限レンズを用いる。

ここで、第１のプラスチックレンズに負のパワーを与え
、軸上光を平行にすることにより、第２のプラスチック
レンズの配置される位置の許容幅を広くすることが可能
になる。また、副走査方向には、プラスチックレンズを
含む第二結像光学系が而倒れ補正機構を備えていること
から第一結像光学系内で、ｇを第−結像光学系のレンズ
枚数＋１とするとき、 を満たす必要がある。

この結果、第一結像光学系の第ルンズのノくワ一を小さ
くし、第２レンズに負のパワーの大部分を与えることに
よって結像光学系の大きさの小型化がなされる。

以下に、第２Ａ図及び第２Ｂ図を用いて光ビームの動作
を説明する。第２Ａ図及び第２Ｂ図には、第１Ａ図及び
第１Ｂ図に示した光学装置の折返しミラー、鏡筒及び枠
体を省略した光ビームの動作を説明するための展開図が
示されている。この第２Ａ図は平面図、第２Ｂ図は、副
走査方向における偏向角Ｏ″の状態を示す断面図である
。

半導体レーザ素子１４から発生された光ビームは、例え
ば５ＫＩＯ等の光学ガラスで形成されるレンズ１６によ
って集束光或いは平行光に変換され、絞り１８によって
所定のビームスポットに制限されて、主走査方向へは負
のパワーを有し副走査方向へは僅かに負のパワーを有す
る例えばＰＭＭＡ　（ポリメタルメタクリル）等の材料
で形成される第１プラスチツクレンズ２４へ導かれる。

レンズ２４を通過した光ビームは、折返しミラー２６で
反射され、主走査方向においては平行光に、また、副走
査方向では集束光に変換され、主走査方向に関しては正
のパワーを有し副走査方向に対しては負のパワーをＨす
る例えばＰＭＭＡ等の材料で形成される第２プラスチツ
クレンズ２８へ導かれる。

レンズ２８を通過した光ビームは、主走査方向及び副走
査方向ともに集束光に変換され、主走査方向の断面が凸
で半径Ｒの円筒面の一部を反射面として有する４面の回
転多面鏡である偏向反射ｖ１．３６へ導かれる。回転多
面鏡３６へ導かれた光ビームは、第２拮像光学系の而倒
れを補正する一種のｆθレンズである例えばＰＭＭＡ等
の材料で形成される第３ブラスチンクレンズ４２へ向か
って反射される。

このレンズ４２は、主走査方向へは多面鏡の回転角θに
対して像高を比例させたｈ−ｆθを満たす形状で、副走
査方向へは主走査方向への偏向角が大きくなるに連れて
パワーが小さくなる■率が与えられたレンズであって、
主走査方向においては前記光ビームの像面湾曲の影響を
低減し、且つ、歪曲収差を適切な値にするとともに、副
走査方向では前記光ビームが感光体１０に照射される際
の感光体のすべての面上における面倒れ補正面を像面に
直線上に一致させる。

レンズ４２を通過した光ビームは、この光学装置内のレ
ンズなどを密閉するための防塵ガラス４６を介して、情
報記録媒体即ち感光体ｌＯへ導かれる。

感光体ＩＯは図示しない他の駆動源によって駆動され所
定の方向に回転し、その外周面に画像が露光される。こ
の感光体５０に露光された画像は、図示しない顕像手段
によって現像され転写用材料に転写される。

また、一種のｆθレンズ４２を通過した光ビームの一部
は、主走査方向におけるスキャン毎に折返しミラー４４
の一部で反射され、同期信号検出器８へ導かれ水平同期
が検出される。

ところで、この実施例或いは同様の光学装置に利用され
る半導体レーザ素子１４には、第３図に示すような非点
隔差が存在する。この非点隔差は、半導体レーザ素子１
４から発生される光ビームの垂直方向及び水平方向にお
ける見かけ上の発光点が穴なることを示している。即ち
、第３図に示したように、水平方向の発光点りは、半導
体レーザ素子におけるチップの界面端部に位置され、垂
直方向の発光点Ｖは、発光点りよりも距離り引込まれた
（奥まった）位置に位置される。この結果、レーザ１４
から発生された光ビームは、その垂直方向及び水平方向
の集束位置が距ＨＤ　−異なるという問題が生じる。こ
のことは、温度の変化に対する焦点距離の変動が補正さ
れる光学装置が用いられた場合であっても同様に発生す
る。従って、光学装置の組立てに際しては、半導体レー
ザ素子１４個々の非点隔差に関する調整を含んだ調整が
必要となる。

通常、半導体レーザ素子１４は、その発光面の水平方向
と光学装置の主走査方向が一致するよう配置されている
。この結果、レーザ１４から発生された光ビームは、副
走査方向においてそのビームスポットが変動する。即ち
、半導体レーザ素子１４の垂直方向の発光点Ｖが個々に
異なることによる焦点変動が生じる。このことは、上述
したように温度の変化に対する焦点距離の変動が補正さ
れる光学装置に対して焦点調整を必要とさせる。

第１Ｂ図によれ、ば、この発明の実施例である光学装置
では、レーザ１４、ガラスレンズ１６及び第１プラスチ
ツクレンズ２４（以上即ち第一結像光学系に含まれる鏡
筒部１２）は、温度或いは湿度の影響を受けない一つの
ユニットとして一体化されている。また、光学装置の枠
体２に対して他の光学部材とは独立に調整可能なように
配置されていることから、レーザ１４に固有な非点隔差
に対して、鏡筒部１２を移動することで、その垂直方向
の焦点変動の影響を除去できる。当然のことながら、垂
直方向の焦点変動を鏡筒部１２の移動により除去するこ
とから、水平方向の焦点位置が移動することが予想され
る。しかしながら、この実施例に利用される光学装置で
は、主走査方向へは負のパワーを有し副走査方向へは僅
かに負のパワーを有する第１プラスチツクレンズ２４に
よって、光ビームの主走査方向はほぼ平行な光ビームに
変換されていることから、鏡筒部１２を移動することに
よる焦点変動が発生せず、この鏡筒部１２を移動するこ
とによって、光ビームの副走査方向のみが焦点補正され
る。従って、高い組立て精度が必要とされる第一結像光
学系は、上述した光偏向装置及び第３プラスチツクレン
ズ４２を保持する枠体２と分離可能となり、枠体２に関
しては、コストの低い材質及び形成方法例えばプラスチ
ックによる成型加工が可能となる。

表１及び表２に、この実施例に用いた各レンズ及び回転
多面鏡の特性を示す。

第４Ａ図及び第４Ｂ図には、半導体レーザ、ガラスレン
ズ及び絞りを固定する構造が示されている。第４Ａ図は
、第２Ａ図及び第２Ｂ図に示した光学装置に用いられる
鏡筒部分の側面図、第４Ｂ図は第４Ａ図の線Ａ−Ａにお
ける断面図である。

レーザ１４は、ねじ６０によってレーザホルダ５２に固
定されている。レンズ１６は、ウェーブワッシャ５６を
介して押え部材５８によって鏡筒５４へ固定されている
。このレンズ１Ｂは、押え部材５８が回転されることで
矢印Ｂの方向の所定の位置に配置される。

また、レンズ１６は凸状のフランジを有し、押え部材５
８とは線接触することから、押え部材５８を回転するた
めのトルクは小さくできる。押え部材５８は、その長さ
方向に円筒部とねじ部を有し、円筒部によって光軸に対
して押え部材自身が傾くことを防止することにより“、
レンズ１６が傾くことを防止している。この押え部材５
８は、専用工具のための六６２を有し、この穴６２に工
具が挿入されて回転されることでレンズ１６が締付られ
る。また、この押え部材のねじ部は、弾性体（ウェーブ
ワッシャ）５６によって常にレンズと反対の方向へ力を
受けることから、ねじ部のねじ山の隙間によって生じる
ガタを防止できる。絞り１８は、鏡筒５４におけるレン
ズ】６の後側焦点の位置に接着によって固定されている
。また、レーザホルダ５２は、ばね座金７１及び平座金
７２を介してねじ７０により鏡筒５４に所定の圧力で押
え付けられるとともに鏡筒５４に対して矢印Ｃ或いはＤ
の方向に任意に：Ａ整可能で、レーザ１４から放射され
る光ビームの光軸：Ａ整を可能にしている。

第５図には、絞り１８の位置によるレンズ４を通過する
光量の関係が示されている。第５図では、レーザ４の発
光点が仮想的に符合６４．６５で示されている。絞り１
８がレンズ１６の後側焦点位置よりも離れた位置、例え
ば、点線１９て示される位置に配置されたならば、レー
ザ４の僅かなズレ即ち発光点６４が６５に移動すること
によって、光ビームの光量が大きく変化してしまう。こ
こで、絞り１８が第５図の１９に示された位置に配置さ
れた場合を想定すると、光量は、約１／２になる。従っ
て、絞り１８をレンズ１６の後側焦点位置に配置するこ
とで、レーザ１４から放射される光ビームの光軸調整時
に、光量がばらつくことを防ぐことができる。上述のよ
うに、レンズ１Ｇは簡単な構造の押付は部材によって所
定の位置に配置されるとともに、確実にしかも精度よく
鏡筒５４に固定される。

（発明の効果） この発明によれば、光学装置を形成する光学部材を配置
するに際して、高い位置精度が要求される光源、非球面
ガラスレンズ及び光源に近い側のトーリックレンズが一
つのユニットとして形成されることから、光学装置の枠
体に対して他の光学部材とは独立に調整可能なように配
置される。

従って、比較的位置精度の緩い第二結像光学系及び光偏
向装置等の光学装置全体を保持する枠体は、コストのか
からない材質及び形成方法例えばプラスチックによる成
型加工が可能となる。また、半導体レーザ素子固有の非
点隔差に対して、ユニットの移動による微調整が可能と
なる。この結果、光学装置の組立て調整が容易となるこ
とから光学装置全体のコストが低減される。加えて、高
い位置精度が要求される鏡筒部に関しては、温度或いは
湿度の影響が除去されることから、常に高い精度を維持
することが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１Ａ図は、この発明の一実施例である光学装置におけ
る偏向角Ｏ°の状態を示す断面図、第１Ｂ図は、第１Ａ
図に示した装置のカバーを取除いた状態の底面図、第２
Ａ図は、第１図に示した光学装置の折返しミラー、鏡筒
及び枠体を省略した平面展開図、第２Ｂ図は、第２Ａ図
に示した光学装置の副走査方向における偏向角０″の状
態を示す断面図、第３図は、半導体レーザ素子に固有の
非点隔差を示す概略図、第４Ａ図は、レーザ、ガラスレ
ンズ及び絞りを固定する構造を示す側面図、第４Ｂ図は
、第４Ａ図に示したｖｔ筒の線Ａ−Ａにおける断面図、
第５図は、絞りをガラスレンズの後側焦点位置に配置す
る詳細を示す概略図である。 １２・・・一体化ユニット（鏡筒部）、１４・・・半導
体し一ザ索子、Ｌ６・・・ガラスレンズ、２４・・・第
１プラスチツクレンズ、２８・・・第２プラスチツクレ
ンズ、３６・・・回転多面鏡４２、・・・第３プラスチ
ツクレンズ、４Ｇ・・・防塵ガラス

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光源と、この光源からの光ビームを主走査及び副走査方
   向の一方の第１面内において平行ビームに変換し、他方
   の第２面内において集束ビームに変換する第一光学手段
   と、前記光源及び前記第一光学手段を一体的に保持し、
   所定の方向に移動可能な第一保持手段と、前記第一光学
   手段からの光ビームを前記第１及び第２面内において集
   束する第二光学手段と、この第二光学手段からの光ビー
   ムを走査対象物に対して走査する光偏向手段と、この光
   偏向手段で走査された光ビームを走査対象物の面上に結
   像させる結像光学手段と、前記第一保持手段、前記第二
   光学手段、前記光偏向手段及び前記結像光学手段を保持
   する第二保持手段とを備えることを特徴とする光学装置
   。