JPH03177548A - 電子機器用銅合金条の製造方法 - Google Patents

電子機器用銅合金条の製造方法

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JPH03177548A
JPH03177548A JP31499789A JP31499789A JPH03177548A JP H03177548 A JPH03177548 A JP H03177548A JP 31499789 A JP31499789 A JP 31499789A JP 31499789 A JP31499789 A JP 31499789A JP H03177548 A JPH03177548 A JP H03177548A
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JP
Japan
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copper alloy
copper
alloy bar
heat treatment
electronic equipment
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JP31499789A
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Koji Nakajima
孝司 中島
Shinichi Iwase
岩瀬 晋一
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、集積回路のリードフレーム材や、コネクタ、
スイッチ、リレー等の電子機器に用いられる銅合金条、
特にCu−N1−P−3i−Zn合金条の製造方法に関
するものである。
〔従来の技術〕
電子機器に使用される材料は、部品の小型化や高信頼性
の要求に伴い、高強度、高電導性と同時に、耐食性や耐
熱性が良好で、さらに半導体用リードフレーム等の場合
Agめっきの信頼性や、はんだめっきの高温環境下にお
けるより優れた長時間の信頼性が必要であるとされてい
る。
従来、電子機器用の銅合金としては、CDA(Copp
er Development As5ociatio
n)、C19400合金、Cu−0,1%Sn、 Cu
−0,1%Feのような高電導型の合金、りん青銅のよ
うな高強度型の合金等が主に使われている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、これらの従来使用されている合金には、
高強度および高電導の性質を併せもち、しかもめっき信
頼性の高い材料で、実用化されているものは少ないなど
の問題点があった。
本発明は、強度および電気伝導性共に優れた特性を有し
、しかも高いめっき信頼性を有する材料が得られる電子
機器用銅合金条の製造方法を提供することを目的とする
ものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の電子機器用銅合金条の製造方法は、重量%にて
、ニッケル2.0〜8.0%、燐0.1〜0.8%、シ
リコン0.06〜1.0%、亜鉛0.5〜8.0%を含
有し、残部が銅および不可避の不純物から成り、酸素含
有量が20ppI11以下の銅合金組成物に冷間圧延と
熱処理を施して銅合金条を製造する方法において、最終
仕上圧延前、またはその前段階の圧延上りの状態で75
0〜950℃の温度範囲で1分間以上熱処理した後、3
50〜500℃の温度範囲で10分間以上熱処理する工
程を1回以上行う方法である。
本発明の電子機器用銅合金条の製造方法の具体的な方法
としては、次の方法があげられる。
(1)重量%にて、ニッケル2.0〜8.0%、燐0.
1〜0.8%、シリコン0.06〜1.0%、亜鉛0.
5〜8.0%を含有し、残部が銅および不可避の不純物
から成り、酸素含有量が20pp+x以下の銅合金組成
物に冷間圧延と熱処理を施して銅合金条を製造する方法
において、最終仕上圧延前、またはその前段階の圧延上
りの状態で750〜950℃の温度範囲で1分間以上熱
処理し、水または油中で急冷した後、冷間加工の有無に
かかわらず、350〜500℃の温度範囲で10分間以
上加熱処理する工程を1回以上行う電子機器用銅合金条
の製造方法。−一一一製造方法(1)(2)重量%にて
、ニッケル2.0〜8.0%、燐0.1〜0.8%、シ
リコン0.06〜1.0%、亜鉛0.5〜8.0%を含
有し、残部が銅および不可避の不純物から成り、酸素含
有量が20ppm以下の銅合金組成物に冷間圧延と熱処
理を施して銅合金条を製造する方法において、最終仕上
圧延前に750〜950℃の温度範囲で1分間以上熱処
理し、この後4℃/分以下の冷却速度で徐冷することに
より、350〜500℃の温度範囲で10分間以上熱処
理する電子機器用銅合金条の製造方法。−−−一一一−
−−製造方法(2)(3)重量%にて、ニッケル2.0
〜8.0%、燐0.1〜0.8%、シリコン0.06〜
1.0%、亜鉛0.5〜8.0%を含有し、残部が銅お
よび不可避の不純物から成り、酸素含有量が20ppm
以下の銅合金組成物に冷間圧延と熱処理を施して銅合金
条を製造する方法において、最終仕上圧延前に750〜
950℃の温度範囲で工分間以上熱処理した後、この加
熱された合金の温度が500℃までは1℃/分以上の冷
却速度で冷却を行い、この後500〜350℃の間で少
なくとも1時間以上保持する電子機器用銅合金条の製造
方法。−−−−−一−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−一製造方法(3)〔作 用〕 本発明における合金の組成範囲について、その限定理由
を以下に説明する。
ニッケルと燐およびニッケルとシリコンについては、こ
れらの元素によりNi、P2やNi、 Si等の金属間
化合物が効率良く生成して、強度が向上し、かつ導電率
の低下の少ない範囲とした。ニッケルは2.0重量%未
満では金属間化合物の生成が少なく。
強度の向上度合が小さい。一方8.0重量%を超えると
電気伝導性の低下や銅合金の加工性の低下が起る傾向が
ある。NiとP、あるいはNiとSLの金属間化合物を
効率良く生成させるために、特に好ましくは各元素の重
量比でNi:Pが約5:1.Ni:Siが約4:lの比
率のとき、強度、電気伝導率がともに優れており、Pお
よびSiの範囲はこれにより定められている。
亜鉛については、0.5重量%未満では、はんだ付け、
あるいははんだめっき後の、高温環境下におけるはんだ
層の剥離等の長期信頼性が低下する。
また上限について8.0重量%を超えると、導電性の低
下や腐食感受性等が増加する。
酸素含有量については銅合金のAgめつき密着性の評価
の結果、Agめっき後の加熱テスト(450″CX5分
)でめっき膨れが発生しない範囲として最大20ppm
+と定めた。
この発明の製造方法では、前記の銅合金組成物を、最終
仕上圧延前またはその前段階の状態で750〜950℃
の温度範囲で工分間以上加熱した後、製造方法(1)で
は、水または油中で急冷し、その後冷間加工の有無にか
かわらず350〜500℃の間で10分間以上加熱し、
製造方法(2)では、4℃/分以下の冷却速度で徐冷し
、製造方法(3)では、500℃までは1℃/分以上で
冷却を行い、500〜350℃の間で少なくともt時間
以上保持する。
〔発明の実施例〕
以下1本発明の実施例について説明する。
表1にCu−N1−P−Si−Zn合金条における本発
明の製造方法による特性の例を示した。
試料の作成は、表1に示す成分および酸素含有量の銅合
金組成物を高周波電気炉で溶解して厚さ20mmの鋳塊
とし、得られた鋳塊の表面を薄削後、冷間圧延と熱処理
を繰り返し施して、最終50%の冷間圧延率で0.25
noaの板状の銅合金条に仕上げた。
各実施例および比較例の熱処理、その他の製造条件は次
の通りである。
実施例1.2 厚さ0 、5mmの板を800℃で30分間熱処理後水
冷し。
厚さ0 、25mmまで冷間圧延した後に、450℃で
2時間加熱処理を行い、炉冷して試片を得た。
実施例3 厚さ1.5n+mの板を800℃で30分間熱処理して
水冷した後に、冷間圧延して厚さ0 、5mmとした。
それを450℃で2時間熱処理して炉冷し、厚さ0.2
5+amまで冷間圧延して試片を得た。
実施例4 実施例1〜3と同様に熱処理および水冷を行った後に、
450℃で2時間熱処理を行い、炉冷してから厚さ0.
25mmまで冷間圧延して試片を得た。
実施例5.6 厚さ0.5mmの板を800℃で30分間熱処理後、炉
中で冷却速度が2.5℃/+++in以下になるように
制御して冷却した。その後冷間圧延により厚さを0.2
5mmとして試片を得た。
実施例7 厚さ0.5++v+の板を800℃で30分熱処理し、
炉中にて30分間で450℃に冷却し、450℃のまま
で2時間保持した後炉冷し、冷間圧延を施して厚さ0.
25mmの試片を得た。
比較例1 厚さ0.5mmの板を700℃で工時間熱処理した以外
は、実施例1と同様にして試片を得た。
比較例2 厚さ0.5mmの板を800℃で1時間熱処理して水冷
し、冷間圧延により厚さを0.25mmとして試片を得
た。
比較例3 実施例1と同様にして試片を得た。
比較例4 実施例4と同様にして試片を得た。
比較例5 実施例5と同様にして試片を得た。
以上により得られた試片の引張強さおよび導電率を測定
した。またAgめっき後450”Cで5分間加熱テスト
を行い、めっき膨れ発生の有無を[6した。結果を表1
に示す。
表1の結果から明らかなように、比較例1.2に対して
、本発明の実施例は何れも高い強度が得られていること
がわかる。
すなわち、比較例1では溶体化処理の温度水準が低く、
過飽和固溶体の形成が不充分なため、また、比較例2は
時効硬化処理にあたる加熱処理を行わないため、高水準
の強度を得ることができなし)。
一方、実施例では、溶体化処理ならびに時効硬化処理に
関し適切な条件選定を行った結果、著しい高強度が得ら
れている。
また、 Agめっき膨れ発生の有無についても、比較例
1,3.4.5ではAgめっき膨れは発生するが、比較
例2および実施例ではAgめっき膨れは発生せず、酸素
含有量が本発明の範囲内にあれば、Agめっき膨れが発
生しないことが明らかである。
以上の結果より1本発明によれば、Cu−N1−P−3
L−Zn合金条の製造方法において、高強度と高い電気
伝導率を併せもち、しかもめっき信頼性の高い電子機器
用銅合金条が得られることがわかる。
また本発明の製造方法において、最終の加工工程で仕上
圧延した場合は、圧延時の内部歪除去のため歪取りの低
温焼鈍として、150〜450℃の温度範囲で3分間以
上加熱することができ、これによってはね特性の向上お
よび成形加工性を改蕾することができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、特定の成分および酸素含有量を有する
銅合金を特定の温度で熱処理し、その後別の温度で熱処
理することにより、溶体化処理および時効硬化処理を行
い、高強度で高い導電性を有し、かつ高いめっき信頼性
を有する゛電子機器用銅合金条が得られる効果がある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)重量%にて、ニッケル2.0〜8.0%、燐0.
    1〜0.8%、シリコン0.06〜1.0%、亜鉛0.
    5〜8.0%を含有し、残部が銅および不可避の不純物
    から成り、酸素含有量が20ppm以下の銅合金組成物
    に冷間圧延と熱処理を施して銅合金条を製造する方法に
    おいて、最終仕上圧延前、またはその前段階の圧延上り
    の状態で750〜950℃の温度範囲で1分間以上熱処
    理した後、350〜500℃の温度範囲で10分間以上
    熱処理する工程を1回以上行うことを特徴とする電子機
    器用銅合金条の製造方法。
JP31499789A 1989-12-04 1989-12-04 電子機器用銅合金条の製造方法 Pending JPH03177548A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0718356A (ja) * 1993-07-01 1995-01-20 Mitsubishi Electric Corp 電子機器用銅合金、その製造方法およびicリードフレーム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0718356A (ja) * 1993-07-01 1995-01-20 Mitsubishi Electric Corp 電子機器用銅合金、その製造方法およびicリードフレーム

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