JPH03174536A - フェノール系シアン色素生成写真カプラー類の改良された合成方法 - Google Patents

フェノール系シアン色素生成写真カプラー類の改良された合成方法

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JPH03174536A
JPH03174536A JP2311665A JP31166590A JPH03174536A JP H03174536 A JPH03174536 A JP H03174536A JP 2311665 A JP2311665 A JP 2311665A JP 31166590 A JP31166590 A JP 31166590A JP H03174536 A JPH03174536 A JP H03174536A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、概括的には写真に関し、具体的にはシアン
色素生成写真カプラー類として有用な一定のフェノール
系化合物類に関する。より具体的には、この発明はフェ
ノールの2位にp−シアノフェニルウレイド基を有する
フェノール系シアン色素生成カプラー類の改良された合
成方法に関する。
〔従来の技術〕
カラー画像は、写真技術分野ではハロゲン化銀発色現像
主薬の酸化生成物(すなわち、酸化された芳香族第一ア
ミノ現像主薬)とカプラーとして知られている色素生成
化合物との間の反応によって得られるのが普通である。
カプラーと酸化された発色現像主薬との間の反応は、カ
プリング位置として知られているカプラーの反応部位で
酸化された発色現像主薬のカプリングをもたらして色素
を生ずる。カプリングによって生成される色素類は、カ
プラーおよび現像主薬の化学組成に応じてインドアニリ
ン、アゾメチン、インダミンまたはインドフェノール色
素類である。カラー画像の減法混色処理が、通常多色写
真要素で用いられ、カプリングによって生じた色素類は
、画像色素によって吸収された輻射線に感光性のハロゲ
ン化銀乳剤層またはその隣接層で生成されるシアン色素
、マゼンタ色素またはイエロー色素である。すなわち、
ハロゲン化銀乳剤はスペクトルの赤色、緑色または青色
領域に感光性である。
シアン色素類を生成するのに使用されるカプラー類は、
フェノール類およびナフトール類が典型例である。それ
らは、酸化された芳香族第一アミノカラー現像主薬との
カプリングによってアゾメチン色素類を提供する。
2位にウレイド基を含有するフェノールカプラー類は、
英国特許筒1,011,940号ならびに米国特許筒3
,446,622号、同3,996,253号、同3,
758,308号および同3,880,661号明細書
に記載されている。
これらのカプラー類は、概して良好な光安定性を有する
。しかしながら、色素類を提供するそれらの多くは赤色
領域スペクトルのより短波長部位に吸収極大(λ□X)
を有するかもしくは相当広いスペクトル吸収曲線を有す
るか、あるいはそれらの両者を有する。従って、これら
の色素は写真の目的にとって好ましくない色相を有し、
しばしば緑色領域のスペクトルに著しい吸収を有する。
さらに、第一鉄イオンと接触したとき多くの色素はフェ
ードを起こすため、通常使用される処理組成物中で安定
性に乏しい。
フェノールの2位のP−シアノフェニルウレイド基によ
って特徴付けられるフェノール系シアン色素生成カプラ
ー類は非常に有利である。このようなカプラー類は、1
982年6月8日発行のLauの米国特許筒4,333
.999号明細書に記載されている。
この種のカプラー類の重要な利点の中には次に挙げられ
るものがある。
(1)それらは、赤色領域の可視スペクトル(一般に7
50nm以上)の長波長部に吸収極大(λIRMK)を
有するので写真画像にとって好ましい色相の色素類を提
供する。
(2)それらは、相当狭い分光吸収曲線を有する色素を
与えるので相当純粋な色相のシャープカット色素を提供
する。
(3)それらは、第一鉄イオンによる還元に対して優れ
た安定性を有するので、シアン色素濃度の有意な低減を
きたすことなく第一鉄イオン含有漂白定着液を用いる処
理に使用できる色素を提供する。
(4)それらは、熱および光に安定な色素を提供する。
米国特許筒4.333.999号のフェノール系シアン
色素生成カプラー類は、特別に設計された高圧装置中で
水素ガスと遷移金属触媒を用いる2−(p−シアノフェ
ニルウレイド)−5−二トロフェノールの高圧接触水素
添加を必要とする合成方法により対応する2−(p−シ
アノフェニルウレイド)−5−アミノフェノールを生成
し、次いでこの2−(p−シアノフェニルウレイド)−
5−75ノフエノールとアシル化剤の反応によって前記
フェノール系シアン色素生成カプラーを生成する合成方
法によって製造することができる。しかしながら、この
合成方法には引火性水素ガスと特殊な高圧装置の使用が
必要である。さらに、不純物が副反応の結果生ずるので
、好ましくない低収率でカプラーを提供する。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の目的は、良好な収率を与えそして引火性水素ガ
スの使用も特殊な高圧装置の使用も必要としない改良さ
れた合成方法を提伏するにある。
[課題を解決するための手段] この発明に従えば、水素供与体を、中温および生気圧下
、遷移金属触媒の存在する反応溶媒中でカプラー中間体
と接触させて対応する2−(p−シアノフェニルウレイ
ド)−5−アミノフェノールを生成する工程およびアシ
ル化剤を前記2−(P−シアノフェニルウレイド)−5
−アミノフェノールと反応させて、式 (上式中、 Xは水素またはカプリング離脱基であ り、モしてRはバラスト基である)で示されるフェノー
ル系シアン色素生成カプラーを生成する工程を含んでな
る方法によって前記フェノール系シアン色素生成カプラ
ーが合成される。
前記カプラー中間体は、次式 (上式中、Aは水素原子またはベンジル基を表し、Xは
前記定義のとおりである)で示される。従って、有用な
カプラー中間体としては、次式で示される2−(p−シ
アノフェニルウレイド)−5−二トロフェノール類、お
よび次式で示されるようなフェノール性水素がベンジル
基で置換された2−(p−シアノフェニルウレイド)−
5−ニトロフェノール類が挙げられる。
前記方法は、重要な利点を提供する。例えば、不純物の
生成が極小化し、目的生成物の良好な収量を与える。ま
た、それは経費がかかりそして危険性のある高圧装置中
での水素ガスの使用を避けられる。
〔好ましい態様の記述〕
前述のように、この発明の改良された方法によって製造
されるシアン色素生成写真カプラー類は、当業者に既知
の、次式 (上式中、Xは水素原子またはカプリング離脱基であり
、そしてRはバラスト基である)で示されるものである
。これらの基がカプラーの等価(すなわち、それが二価
のカプラーであるかまたは四価のカプラーであるか)を
決定することができ、あるいはカプラーの反応性を変性
することができ、あるいはカプラーから放出された後に
現像抑制剤、漂白抑制剤、漂白促進剤および色補正など
の機能を発揮することによってそのカプラーが塗布され
た層またはその要素の他の層に有益な影響を及ぼすこと
ができる。カプリング離脱基の代表的な部類としては、
ハロゲン、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテロイルオ
キシ、スルホニルオキシ、アシルオキシ、アシル、ヘテ
ロイル、チオシアノ、アルキルチオ、アリールチオ、ヘ
テロイルチオ、スルホナミド、ホスホニルオキシおよび
アリールアゾが挙げられる。それらは、例えば、米国特
許第2,455.169号、同3,227,551号、
同3,432,521号、同3,476.563号、同
3,617,291号、同3,880,661号、同4
,052,212号および同4,134,766号明細
書、ならびに英国特許および公開第1,466.728
号、同1.531,927号、同1,533,039号
、同2,006,755八号および同2.017.70
4A号公報に記載されており、これらの公表内容は引用
することによって本明細書の内容となる。
具体的なカプリング離脱基の例としては次の基が挙げら
れる。
一5CN・−0CH3・−CaTls・−CM2CON
HCII!2CH20H・−0CII!2CONECH
2CH20CR3,−0CH2CONIIICH2CH
20COCH3゜′″−0CH2CH2N’HSO2C
H3および−o−<°−〉−o−6□3 Rで表されるバラスト基は、写真要素中にカプラーが塗
布される層からそれを実質的に拡散しないようにするの
に十分な嵩をそのカプラー分子に付与するようなサイズ
および配置の有機基である。
代表的なバラスト基としては、合計8〜32個の炭素原
子を含有する置換もしくは未置換のアルキル基またはア
リール基が挙げられる0代表的な置換基としては、アル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基
、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヒドロキシル基、
ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、カルボキシル基、アシル基、アシルオ
キシ基、カルポナξド基、カルバモイル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、スルホナミド基お
よびスルファモイル基が挙げられ、ここでアルキルおよ
びアリール置換基ならびにアルコキシ、アリールオキシ
、アルキルチオ、アリールチオ、アルコキシカルボニル
、アリールカルボニル、アシル、アシルオキシ、カルポ
ナξド、カルバモイル、アルキルスルホニル、アリール
スルホニル、スルホナミドおよびスルファモイル置換基
のアルキルおよびアリール部分は、それぞれ炭素原子1
〜30個ならびに炭素原子6〜30個を含み、そしてこ
のような置換基によってさらに置換されていてよい。
特に有用なカプラー類としては、次の式で示されるもの
が挙げられる。
上式中、 Xは、水素原子または前記定義のようなカプリング離脱
基であり、 Yは、酸素またはイオウであり、 R1は、炭素原子2〜20個の分岐アルキレン基、すな
わち第二級アルキレンまたは第三級アルキレンである。
R2は、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アリール
、アラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、アルキ
ルスルファモイル、アリールスルファモイル、アルキル
スルホナミド、アリールスルホナミド、アルキルスルホ
ニル、アリールスルホニル、アルコキシカルボニルまた
はアシルオキシであって、これらの基のアルキル部分は
炭素原子l〜20個を含み、アリール部分は炭素原子6
〜20個を含み、そしてアルキル、アリールおよびアラ
ルキル部分はヒドロキシ、カルボキシ、アルコキシカル
ボニルまたはアシルオキシによってさらに置換されてい
てよく、そして nは1〜3である。
これらのカプラー類の前記R2が炭素原子1〜20個の
直鎖または分岐鎖アルキルであって、nが1から2のも
のが特に好ましい。
この発明の改良された方法によって効率よく合成するこ
とができる具体的なカプラー類としては、上記構造式を
引用して後述される第1表に示されるものが挙げられる
第二二し=麦 ’12”25− n 夷工」ニー麦(続き) 易−ニヒー表(続き) 第−」ニー麦(続き) この発明の改良された方法は、中温、例えば約20’C
〜約60°Cの範囲内の温度および大気圧下で行う。有
用な遷移金属触媒としては、パラジウム−炭素、パラジ
ウム−アルミナ、パラジウム−硫化炭素およびラネーニ
ッケルが挙げられる。触媒は、いずれかの触媒有効量で
使用することができる。
有用な水素供与体としては、ギ酸、ギ酸ナトリウム、ギ
酸アンモニウム、ギ酸トリエチルアンモニウム、ホスフ
ィン酸、ホスフィン酸ナトリウム、ホスフィン酸トリエ
チルアンモニウムおよびヒドラジンが挙げられる。
有用な反応溶媒としては、酢酸エチル、アセトニトリル
、メタノール、イソプロパツール、テトラヒドロフラン
、ギ酸およびN、N−ジメチルホルムアミドが挙げられ
る。同じ化合物、例えば、ギ酸を反応溶媒および水素供
与体の両方に使用することができる。2以上の化合物の
混合物からなる反応溶媒を有利に使用することができる
この発明の方法では、典型的には、2− (p −シア
ノフェニルウレイド)−5−アミノフェノールを単離す
ることなくそのままアシル化剤と反応させて前記シアン
色素生成カプラーを生成する。
適当なアシル化剤としては、脂肪族カルボン酸または芳
香族カルボン酸由来の酸ハロゲン化物および酸無水物が
挙げられる。この発明の目的に好ましいアシル化剤は、
式 (上式中、Rは前記定義のとおりである)で示されるア
シル塩化物である。
〔実施例〕
以下の実施例により本発明をさ 明する。
皿上 この例では、次式 らに具体的に説 で示される中間体の水素添加による、 次式 で示される対応するアミノフェノールの生成、引き続き
、次式 で示されるアシル塩化物とそのまま反応させることによ
るカプラーNQ、7の生成、を伴う一連の反応によって
カプラーNα7を合成した。
この一連の反応を行うに際し、テトラヒドロフラン75
rn1と水5dからなる反応溶媒に、化合物■15、O
g (0,05モル)、ギ酸アンモニウム15.0 g
(0,24モル)およびパラジウム5重量%を担持した
炭素からなるパラジウム−炭素触媒1.5gを加えた。
この反応混合物を室温で大気圧下に4時間撹拌したとこ
ろ、発熱反応によって30″Cまで温度が上昇した。こ
の期間の終りに酢酸エチル75m1中化合物I[124
,8g (0,068モル)を10分かけて添加した。
この反応混合物を濾過し、酢酸エチル50dですすぎ、
塩酸50dで洗浄し、塩化ナトリウム溶液50dで洗浄
し、乾燥し、濾過し、次いでトルエン18Mと合わせた
。−夜装置した後、温度を10°Cまで冷却して結晶化
を促進し、次いで結晶を集め、冷トルエン50dですす
ぎ、ヘプタン501dで洗浄し、モして40’Cの真空
乾燥空中で乾燥した。カプラーの収量は23.5gであ
った(これは理論収率78%に相当する)。
炎上 この例では、次式 で示される中間体の水素添加による、 次式 で示される対応するアミノフェノールの生成、引き続き
、次式 で示されるアシル塩化物とそのまま反応させることによ
るカプラーNα19の生成、を伴う一連の反応によって
カプラーNα19を合成した。
この一連の反応を行うに際し、テトラヒドロフラン70
dとイソプロピルアルコール1oIdを含む250成の
丸底四つロフラスコに、化合物I  15.Og(0,
05モル)を加えた。この黄色反応スラリーにギ酸アン
モニウム11 g (0,175モル)を加え、次いで
パラジウム−硫化炭素触媒1.5gを加えた。このフラ
スコに凝縮器をとり付け、反応スラリーを4時間撹拌し
なから50°Cで加熱した。この還元が終了した後、反
応混合物を25°Cまで冷却し、すぐさまギ酸アンモニ
ウム3.2gを加え、次いで酢酸エチル中化合物■の4
4.5重量%溶液55.2 gを10分かけて滴下した
。発熱反応の結果として、反応混合物の温度は25°C
から40’Cまで上昇した。撹拌は30分間続けた。
水50成をこの反応混合物に加えて生じた塩を可溶化し
、次いで濃HC4210mを15分かけて滴下した。得
られた2相系を15分間撹拌し、濾過し、次いで酢酸エ
チル50−で洗浄した後、水101dで洗浄した。これ
らの層を分液漏斗で15分間分離させ、下部水性層を除
去廃棄した。次に、有機層をブライン50In1で洗浄
し、15分間分液させた。下部水性層を廃棄し、無水硫
酸マグネシウム上で有機層を乾燥した。濾過および乾燥
後、有機層を50°Cに加熱して減圧下で濃縮し、次い
で酢酸で25−に増量した。生成物を、酢酸801dと
へブタン40dの混合液に加え、40″Cに加熱して1
年間保持し、30’Cに冷却して1時間保持し、20°
Cに冷却して1時間保持し、10°Cに冷却して集め、
酢酸251+!i!で洗浄し、次いで45°Cの真空乾
燥空中で一夜乾燥した。この乾燥生成物をメタノールL
oo#!i!に加え、40゛Cに加温して15分保持し
、5°Cに冷却して2時間撹拌し、生成物を集め、冷メ
タノール50tdで洗浄し、次いで45°Cの真空乾燥
空中で一夜乾燥した。カプラーの収量は24.75 g
であった(理論収率74%に相当する)。
班主 この例では、 次式 で示される中間体の水素添加による、 次式 で示される対応するアミノフェノールの生成、引き続き
、 次式 とによるカプラーNα20の生成、 を伴う一連の反応 によってカプラーNα20を合成した。
この一連の反応を行うに際し、100dの丸底フラスコ
に、化合物15.1g、ギ酸アンモニウム2.9g、テ
トラヒドロンラン20!!11、イソプロピ)1アルコ
ール20.dおよびパラジウム−アルミナ触動0.33
 gを加えた。この反応混合物を18時間撹拌し次いで
化合物m 10.6gを加えて1.5時間撹拌を続けた
。塩酸15−を滴下し、次いで2相混合物壱濾過して触
媒を除去した。層を分離させ、有機層を洗浄し、濾過し
、次いで真空下で乾燥させた。
カプラーの収量は5.3gであった(理論収率70角に
相当する)。
班土 この例では、 次式 :3 で示される中間体の水素添加による、 次式 OCH3 で示される対応するアミノフェノールの生成、引き続き
、 次式 で示されるアシル塩化物とそのまま反応させることによ
るカプラーN018の生成、 を伴う一連の反応 によってカプラーNα18を合成した。
この一連の反応を行うに際し、250dの丸底フラスコ
に、化合物120.4g (0,04モル)、テトラヒ
ドロフラン100rIti、イソプロピルアルコール6
0d、ギ酸アンモニウムl1gおよびパラジウム−硫化
炭素触媒1gを加えた。反応混合物を50°Cに加熱し
、3時間保持した。塩酸40dと塩化ナトリウム溶液1
5!n1を加え、この混合物を15分間撹拌し、濾過し
、次いで酢酸エチルで洗浄した。層を分離させ、水性層
を廃棄した。有機層を塩化ナトリウム溶液で洗浄し、水
性層を廃棄した。この有機層に、酢酸エチル15dに溶
解した化合物II[17,6g(0,048モル)を加
えた。この反応混合物を15分間撹拌し、水20dに溶
解した酢酸アンモニウム12gを加え、30分間撹拌を
続け、次いで層を分離した。
水性層を廃棄し、次いで有機層を20%NaC4225
mで洗浄し、無水Mg5On 10 gで乾燥し、濾過
しそして真空下で溶媒を留去した。溶媒を40〜45°
Cで油状物が得られるまで留去し、アセトニトリル40
/dを加え、次いで油状物を採取した。この油状物にア
セトニトリル140Idとメタノール20−を加えた。
この混合物を60°Cに加熱して油状物を溶解し、この
溶液に種結晶を入れた。この混合物を室温で一夜撹拌し
、次いで5°Cまで冷却し、漏斗上に固体を集め、次い
で洗浄した。カプラーの収量は20.2gであった(理
論収率70%に相当する)。
〔発明の効果〕
前記実施例で示したように、この発明の方法は、従来技
術で使用されてきた引火性の水素ガスや特殊な高圧装置
の使用を必要としない。さらに、理論上70〜78%の
優れた収率がこの発明の触媒水素添加方法により達成さ
れる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、Aは水素原子またはベンジル基であり、そし
    てXは水素原子またはカプリング離脱基である)で示さ
    れるカプラー中間体を水素添加して対応する2−(p−
    シアノフェニルウレイド)−5−アミノフェノールを生
    成し、次いでこの2−(p−シアノフェニルウレイド)
    −5−アミノフェノールをアシル化剤と反応させて、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、Rはバラスト基であり、Xは前記定義のとお
    りである)で示されるフェノール系シアン色素生成写真
    カプラーを生成するに際し、水素添加を中温および中気
    圧下、遷移金属触媒の存在する反応溶媒中で前記中間体
    を水素供与体と接触させることを特徴とするフェノール
    系シアン色素生成写真カプラーの合成方法。
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