JPH03174393A - 基板保持装置 - Google Patents
基板保持装置Info
- Publication number
- JPH03174393A JPH03174393A JP31320789A JP31320789A JPH03174393A JP H03174393 A JPH03174393 A JP H03174393A JP 31320789 A JP31320789 A JP 31320789A JP 31320789 A JP31320789 A JP 31320789A JP H03174393 A JPH03174393 A JP H03174393A
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- JP
- Japan
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- base plate
- bellows
- cooling
- holder
- plate holder
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- Granted
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、分子線エピタキシャル成長装置等において、
その真空容器内に置かれた冷却された冷却容器に対して
基板ホルダーを装着・離脱させる基板保持装置の構成に
関する。
その真空容器内に置かれた冷却された冷却容器に対して
基板ホルダーを装着・離脱させる基板保持装置の構成に
関する。
（従来の技術）
従来のこの種の基板保持装置では、第２ｒｇＪＡとＢ（
共に側面図）にその離脱の状態と装着の状態を示すよろ
に、装着・固定にバネの力を使用する方法が用いられて
いた。
共に側面図）にその離脱の状態と装着の状態を示すよろ
に、装着・固定にバネの力を使用する方法が用いられて
いた。
即ち従来の基板保持装置の第２図Ａにおいて、基板ホル
ダー９は「底蓋のない箱」形状のもので、その表面に基
板１１を密着し、外周には３ケ所にビン１０が植設され
ている。
ダー９は「底蓋のない箱」形状のもので、その表面に基
板１１を密着し、外周には３ケ所にビン１０が植設され
ている。
冷却表面１２０をもつ冷却容器１２には、大気側から気
密に導入されたフレキシブルな冷媒導入用パイプ７を経
由して冷媒が供給されている。
密に導入されたフレキシブルな冷媒導入用パイプ７を経
由して冷媒が供給されている。
冷媒導入用パイプ７から導入される冷媒としては水ある
いは液体窒素が使われ、基板１１は、基板ホルダー９、
冷却容器１２の冷却表面１２０を経由してその冷媒によ
って間接的に冷却される仕組みになっている。
いは液体窒素が使われ、基板１１は、基板ホルダー９、
冷却容器１２の冷却表面１２０を経由してその冷媒によ
って間接的に冷却される仕組みになっている。
この冷却容器１２にはその底部にバネの案内棒１３が取
り付けられており、一方、真空容器１に固定された支持
台２０にはバネの案内棒１３が貫通する孔が設けられて
いて、バネの案内棒１３を案内とするバネ１４によって
、冷却容器１２は支持台２０に対して弾力的に支持され
るようになっている。
り付けられており、一方、真空容器１に固定された支持
台２０にはバネの案内棒１３が貫通する孔が設けられて
いて、バネの案内棒１３を案内とするバネ１４によって
、冷却容器１２は支持台２０に対して弾力的に支持され
るようになっている。
支持台２０には冷却容器１２を囲む形に、筒状のホルダ
ー受け６が固定されており、ホルダー受け６にはその周
囲の３ケ所に１字型切欠き８が設けられている。
ー受け６が固定されており、ホルダー受け６にはその周
囲の３ケ所に１字型切欠き８が設けられている。
冷却表面１２０に基板ホルダー９の内面を装着・固定す
る動作は次のようになる。
る動作は次のようになる。
■ 先ず第１図Ａに示すように、基板ホルダー９を冷却
容器１２の上にかぶせ、基板ホルダー９の外周のピン１
０の位置を、ホルダー受け６の１字型切欠き８の位置に
正しく合わせる。
容器１２の上にかぶせ、基板ホルダー９の外周のピン１
０の位置を、ホルダー受け６の１字型切欠き８の位置に
正しく合わせる。
■ 基板ホルダー９を冷却容器とともに矢印ａの方向に
、バネ１４を圧縮して１字型切欠き８の深さｄだけ押し
込み、さらに第２図Ｂの矢印Ｃの方向に基板ホルダー９
を回動させて、基板ホルダー９の装着・固定を行なう。
、バネ１４を圧縮して１字型切欠き８の深さｄだけ押し
込み、さらに第２図Ｂの矢印Ｃの方向に基板ホルダー９
を回動させて、基板ホルダー９の装着・固定を行なう。
上記の動作で冷却容器１２は基板ホルダー９とともに、
バネ１４によってホルダー受け６（従って支持台２０）
に圧着固定されることになる。
バネ１４によってホルダー受け６（従って支持台２０）
に圧着固定されることになる。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら上記従来の基板保持装置では、基板ホルダ
ー９の内面を冷却容器１２の冷却表面１２０に押し付け
、押し付けた状態で基板ホルダー９を回転させて装着・
固定を行なうという、金属同士が擦る摩擦力を伴った動
作を必要とするため、冷却容器１２の冷却表面１２０と
基板ホルダー９の内面の両面にキズを生じ易く、ゴミの
発生の問題が無視できないという欠点がある。
ー９の内面を冷却容器１２の冷却表面１２０に押し付け
、押し付けた状態で基板ホルダー９を回転させて装着・
固定を行なうという、金属同士が擦る摩擦力を伴った動
作を必要とするため、冷却容器１２の冷却表面１２０と
基板ホルダー９の内面の両面にキズを生じ易く、ゴミの
発生の問題が無視できないという欠点がある。
また、バネ１４の強度が微妙で、冷却容器１２の傾き等
によって装着・固定が困難になるという場合もある。さ
らに、冷媒導入用パイプ７の径を大きくするとそのパイ
プの曲げ変形に要する力が太き（なって、冷却容器１２
を押し付けるのが難しくなるため、径の小さいパイプし
か使用出来ず、径の小さいパイプでは冷媒の注入・排出
の効率が悪く冷却効果が小さくなる等の欠点があった。
によって装着・固定が困難になるという場合もある。さ
らに、冷媒導入用パイプ７の径を大きくするとそのパイ
プの曲げ変形に要する力が太き（なって、冷却容器１２
を押し付けるのが難しくなるため、径の小さいパイプし
か使用出来ず、径の小さいパイプでは冷媒の注入・排出
の効率が悪く冷却効果が小さくなる等の欠点があった。
（発明の目的）
本発明はこの問題を解決し、冷却容器に対する基板ホル
ダーの離脱・装着を容易にし、且つゴミの発生を抑える
ことのできる基板保持装置を提供することを目的とする
。
ダーの離脱・装着を容易にし、且つゴミの発生を抑える
ことのできる基板保持装置を提供することを目的とする
。
（問題点を解決するための手段）
上記目的を対するするために、本発明は、真空容器内に
置かれた冷却された冷却容器に、基板を固定する基板ホ
ルダーを装着・離脱させる基板保持装置において、その
冷却容器の少なくとも一部をベローズで構成し、ベロー
ズを真空容器外から駆動される回転導入機又は直線導入
機による直線運動を利用して伸縮させることで冷却容器
の冷却表面を基板ホルダーに対し前進・後退運動させ、
それによって冷却容器に対する基板ホルダーの装着・離
脱を行なわせる構成を採用する。
置かれた冷却された冷却容器に、基板を固定する基板ホ
ルダーを装着・離脱させる基板保持装置において、その
冷却容器の少なくとも一部をベローズで構成し、ベロー
ズを真空容器外から駆動される回転導入機又は直線導入
機による直線運動を利用して伸縮させることで冷却容器
の冷却表面を基板ホルダーに対し前進・後退運動させ、
それによって冷却容器に対する基板ホルダーの装着・離
脱を行なわせる構成を採用する。
（作用）
ベローズの伸縮によって基板ホルダーを摩擦なしで容易
に冷却容器表面に密着装着し、又は離脱させることがで
きる。装着場合要する運動は直線運動だけある。
に冷却容器表面に密着装着し、又は離脱させることがで
きる。装着場合要する運動は直線運動だけある。
ベローズの一端は固定されているので、冷媒導入用パイ
プの径に制限がなくなる。
プの径に制限がなくなる。
（実施例）
第１図は本発明の実施例の基板保持装置の側面図であっ
て、第１図Ａ、 Ｂ、 Ｃに、夫々、基板ホルダー
を撤去した状態、基板ホルダーの離脱の状態、基板ホル
ダーの装着の状態の図を示す。
て、第１図Ａ、 Ｂ、 Ｃに、夫々、基板ホルダー
を撤去した状態、基板ホルダーの離脱の状態、基板ホル
ダーの装着の状態の図を示す。
第２図と同じ部材には同じ符号を付している。
２は回転導入機、３は大気中から真空容器内に導入され
た回転をボールネジ４の雄ネジの軸に伝える傘歯車、５
はベローズであって、とのベローズ５はポール雌ネジで
８１又はａ２の方向に伸縮駆動される。
た回転をボールネジ４の雄ネジの軸に伝える傘歯車、５
はベローズであって、とのベローズ５はポール雌ネジで
８１又はａ２の方向に伸縮駆動される。
装置の動作を説明すると、
先ず、回転導入機２により４に歯車３、ボールネジをａ
ｔ力方向駆動してベローズ５を第１図Ａのように縮ませ
ておく。
ｔ力方向駆動してベローズ５を第１図Ａのように縮ませ
ておく。
この状態で、第１図Ｂのように、基板ホルダー９を冷却
容器１２の上にかぶせ、ビン１０を、ホルダー受け６の
１字型切欠き８に合わせ、前記従来の装置同様に押入し
且つ回転させて基板ホルダー９をホルダー受け６に仮装
着する。
容器１２の上にかぶせ、ビン１０を、ホルダー受け６の
１字型切欠き８に合わせ、前記従来の装置同様に押入し
且つ回転させて基板ホルダー９をホルダー受け６に仮装
着する。
次に、回転導入機２によりボールネジ４を８２方向に移
動させてベローズ５を伸ばし、第１図Ｃのように、冷却
容器１２の正面の冷却表面１２０を基板ホルダー９の内
面に押し付は密着させて固定する。 基板ホルダー９を
冷却容器１２から離脱させる動作は上記の逆となる。
動させてベローズ５を伸ばし、第１図Ｃのように、冷却
容器１２の正面の冷却表面１２０を基板ホルダー９の内
面に押し付は密着させて固定する。 基板ホルダー９を
冷却容器１２から離脱させる動作は上記の逆となる。
基板ホルダー９を冷却し基板を処理するときには、冷媒
導入用バイブ７から冷媒を導入する。
導入用バイブ７から冷媒を導入する。
なお、実施例は仮装着に回転動作を伴うものを示したが
、本発明では回転動作を全く必要としない仮装着も充分
に可能である。
、本発明では回転動作を全く必要としない仮装着も充分
に可能である。
また、実施例では回転導入機によるベローズの伸縮のみ
を示したが直線導入機によるベローズの伸縮も充分に可
能なことは明らかである。
を示したが直線導入機によるベローズの伸縮も充分に可
能なことは明らかである。
（効果）
本発明のように基板保持装置を構成すると、基板ホルダ
ーの装着・離脱の際に摩擦動作が伴わず、ゴミが発生す
ることがない。動作は単純で誤操作、誤動作の恐れもな
い。
ーの装着・離脱の際に摩擦動作が伴わず、ゴミが発生す
ることがない。動作は単純で誤操作、誤動作の恐れもな
い。
冷却容器１２の左端は支持台２０に固定されているので
、これに冷媒を導入する冷媒導入用バイブ７としては充
分に太いものを使用でき、その径には制限がない。従っ
て効率の高い冷却が可能となる。
、これに冷媒を導入する冷媒導入用バイブ７としては充
分に太いものを使用でき、その径には制限がない。従っ
て効率の高い冷却が可能となる。
第１図Ａ、 Ｂ、 Ｃは、本発明の実施例の基板保
持装置の動作を説明する側面図 第２図Ａ１ Ｂは、従来の基板保持装置の動作を説明す
る側面図 １・・・真空容器、２・・・回転導入機、３・・・傘歯
車、４・・・ボールネジ、５・・・ベローズ、６・・・
ホルダー受け、７・・・冷媒導入用バイブ、８・・・１
字切欠き、９・・・基板ホルダー１０・・・ビン、１１
・・・基板、２０・・・支持台。
持装置の動作を説明する側面図 第２図Ａ１ Ｂは、従来の基板保持装置の動作を説明す
る側面図 １・・・真空容器、２・・・回転導入機、３・・・傘歯
車、４・・・ボールネジ、５・・・ベローズ、６・・・
ホルダー受け、７・・・冷媒導入用バイブ、８・・・１
字切欠き、９・・・基板ホルダー１０・・・ビン、１１
・・・基板、２０・・・支持台。
Claims (1)
- （１）分子線エピタキシャル成長装置等の真空容器内に
置かれた冷却された冷却容器に、基板を固定する基板ホ
ルダーを装着・離脱させる基板保持装置において、 該冷却容器の少なくとも一部をベローズで構成し、該ベ
ローズを真空容器外から駆動される回転導入機又は直線
導入機による直線運動を利用して伸縮させることで、該
冷却容器の冷却表面を該基板ホルダーに対して前進・後
退運動させ、それによって冷却容器に対する基板ホルダ
ーの装着・離脱を行なわせたことを特徴とする基板保持
装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31320789A JPH03174393A (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | 基板保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31320789A JPH03174393A (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | 基板保持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03174393A true JPH03174393A (ja) | 1991-07-29 |
| JPH0520399B2 JPH0520399B2 (ja) | 1993-03-19 |
Family
ID=18038398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31320789A Granted JPH03174393A (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | 基板保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03174393A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115074823A (zh) * | 2022-04-27 | 2022-09-20 | 华灿光电(苏州）有限公司 | 提高外延片成片良率的外延托盘及其使用方法 |
-
1989
- 1989-12-01 JP JP31320789A patent/JPH03174393A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115074823A (zh) * | 2022-04-27 | 2022-09-20 | 华灿光电(苏州）有限公司 | 提高外延片成片良率的外延托盘及其使用方法 |
| CN115074823B (zh) * | 2022-04-27 | 2024-05-07 | 华灿光电(苏州）有限公司 | 提高外延片成片良率的外延托盘及其使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0520399B2 (ja) | 1993-03-19 |
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