JPH03167826A - 基板表面の洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野」 この発明は、超微細な氷粒子等の凍結粒子を基板表面に
噴射することにより、基板の洗浄を行う基板表面の洗浄
装置に関するものである。

し従来の技術］ 第２図は、従来の基板表面の洗浄装置を示し、断熱材で
囲まれた製氷部（１）内に、液体窒素等の冷媒体（２）
を注入し、スプレーノズル（３）より超純水等の彼凍結
体を微噴霧して微細凍結粒子（４）を得る。こうして得
られた微細凍結粒子（４）は、気体の噴流によるエジェ
クタ一方式によって洗浄槽（７）内に備えた噴射手段（
５）に送られ、半導体等の基板（６）に噴射される。基
板（６）表面上の汚染物は、噴射された微細凍結拉子（
４）の衝突と、低温効果により除去される。微細凍結粒
子（４）が基板（６）に衝突する際、その摩擦によって
基板（６）は−ＩＱＫＶ〜＋ｌ（ＩＫＶの範囲で帯電さ
れる。洗浄槽（７）上部に取付けられている空気イオン
発生装置（８）は２端子にそれぞれ＋，〜の直流高電圧
を印加することにより、周囲空気をイオン化させ基板（
０の静電気を防止するものである。しかし、空気イオン
発生装置（８）からの出力は基板（６〉の帯電量を考慮
して経験的に決めたものであり、実際には±ｓｏｏｖ程
度の帯電量のばらつきが生じている。

［発明が解決しようとする課題コ 従来の基仮表面の洗浄装置は、基板の静電気除去対策と
して空気イオン発生装置を用いているが、静電気制御は
行われておらず、±５００ｖ程度の帯電が基板に生じて
、一旦基板から除去されたダストや基板周囲のダストを
付着させやすいという問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、ダストの再付着のない、クリーンな洗浄を行
うことのできる基板表面の洗浄装置を得ることを目的と
する。

［課題を解決するための手段］ この発明に係る基板表面の洗浄装置は、洗浄中に基板の
帯電量を測定し、フィードバック制御により基板の静電
気を除去する静電気制御手段を備える。

［作　用］ この発明においては、静電気制御手段が、洗浄中の基板
の帯電量を測定し、フィードバック制御により基板の帯
電を±Ｏｖに近づけ、その結果として基板へのダストの
付着を防止する。

［実施例］ 以下、この発明の一実施例を第１図について説明する。

図において、符号（１）〜（８）は第２図で示したもの
と同一であり、（９）は帯電量測定器で、例えば平行平
板型の静電誘導電位を測定するものである。（１０）は
帯電量測定器からの基板の帯電量の信号をフィードバッ
クし空気イオン発生装置（８）の出力の制御を行う制御
である。（Ｕ）は静電気制御手段で、空気イオン発生装
置（８）、帯電量測定器（９）、制御部ク１０）より構
或されている。

次に動作について説明する。微細凍結粒子（４）を生成
し、凍結粒子噴射手段（５）によって基板（６）に噴射
するまでは前述の従来の技術と同様である。これに加え
て、洗浄中、つまり微細凍結粒子（４）が基板（６）に
噴射している間、帯電量測定器（９）は常に基板（６）
の帯電量を測定し、その値を制御部（１０）へ信号とし
て送る。制御部（１０）はその信号を基にして空気イオ
ン発生器（８）の出力を制御して基板（６）の静電気を
±Ｏｖに近づけるように働く。帯″ｉｉｌｉｌｉ測定器
（９）は、例えば基板（６）と平行に平板を置き、基板
（６）から誘導される平板の誘導電位を測定するもので
ある。

［発明の効果］ 以上のように、この発明によれば、静電気制御手段を装
置内に設けたことにより、洗浄中の基板の静電気を除去
し、ダストが基板に付着するのを防いで、高洗浄を行う
ことができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例の概略立断面図、第２図は
従来の基板表面の洗浄装置の概略立断面図である。 （４）・・微細凍結粒子、（５）・・凍結粒子噴射手段
、（６）・・基板、（７）・・洗浄槽、（８）・・空気
イオン発生装置、（９）・・帯？！ｉｔ測定器、（ＩＯ
）・・制御部、（ＩＩ）・・静電気制御手段。 なお、各図中、同一符号は同一又は相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　純水より製氷した超微細な氷粒子を基板表面に噴射す
   ることにより洗浄を行う基板表面の洗浄装置において、
   前記洗浄中に前記基板の帯電量を測定しフィードバック
   制御により前記基板の静電気を除去する静電気制御手段
   を備えてなることを特徴とする基板表面の洗浄装置。