JPH0315805A - 光導波路の製造方法 - Google Patents
光導波路の製造方法Info
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- JPH0315805A JPH0315805A JP15185689A JP15185689A JPH0315805A JP H0315805 A JPH0315805 A JP H0315805A JP 15185689 A JP15185689 A JP 15185689A JP 15185689 A JP15185689 A JP 15185689A JP H0315805 A JPH0315805 A JP H0315805A
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Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は，複写機．ファクシミリ，電子黒板，イメージ
スキャナ等の情報読み取ｂに用いられる光導波路に関す
るものである。
スキャナ等の情報読み取ｂに用いられる光導波路に関す
るものである。
従来の技術
従来、高分子光導波路の製造方法としては低屈折率の七
ノマーを高屈折率の透明樹脂シートに含浸させ，パター
７を有する７７クを設けて、ＵＶ光を照射し，低屈折率
七ノマーを高屈折率樹脂と重合反応させて、その部分の
屈折率を低くする方法が提案されている。
ノマーを高屈折率の透明樹脂シートに含浸させ，パター
７を有する７７クを設けて、ＵＶ光を照射し，低屈折率
七ノマーを高屈折率樹脂と重合反応させて、その部分の
屈折率を低くする方法が提案されている。
以下、図面を参照しながら，上述した従来の光導波路の
製造方法について説明する。第６図の１〜４ぱ従来の光
導波路の製造プロセスを示し、特開昭５６−３５２２号
公報等でも示されている。
製造方法について説明する。第６図の１〜４ぱ従来の光
導波路の製造プロセスを示し、特開昭５６−３５２２号
公報等でも示されている。
第６図において，１１ぱポリカーポネー｝Ｚ樹脂のキャ
ヌティングシ一ト，１２はキャヌティングシ一ト中に分
散されている低屈折率の七ノマー１３はＵｖ光、１ ４
ハ７ オトマ７ク、１６ｄＵＶ光によりポリカーボネー
トｚと七ノマーが反応シて屈折率が低下している部分、
１６は上下に形成された屈折率の低い部分で１７Ｆｉポ
リカーボネート２固有の屈折率の１１の部分である。
ヌティングシ一ト，１２はキャヌティングシ一ト中に分
散されている低屈折率の七ノマー１３はＵｖ光、１ ４
ハ７ オトマ７ク、１６ｄＵＶ光によりポリカーボネー
トｚと七ノマーが反応シて屈折率が低下している部分、
１６は上下に形成された屈折率の低い部分で１７Ｆｉポ
リカーボネート２固有の屈折率の１１の部分である。
このｌｉ造プロセスを説明する。０）１ず溶媒中にポリ
カーボネートｚを分散させ、重合開始剤．重合禁止剤．
低屈折率七ノマー等を配合してキャスティングをしてシ
一ト１１を得る。（２）次にフォトマヌク１４を設けて
ＵＶ光１３を照射し、照射した部分のみ、選択的に低屈
折率モノマーの重合反応を起こさせ、屈折率の低下した
部分１５を形成し、（３）反応を起こしていないモノマ
ーは真空乾燥を行なうことにより、シート外へ放出させ
る。（４）そしてシートを七ノマー溶液に浸漬して所定
量のモノマーをシートに再分散させ，ＵＶ光照射を行な
って上下に屈折率の低い部分１６を形成する。ここで中
央のポリカーボネートＺ固有の屈折率の１１の部分１７
がコアとなり、低屈折率七ノマーが重合反応して屈折率
が低下した部分がクラッドとなって、光導波路が形成さ
れる。所定の開口角以内で入射された光は，コアの内部
を全反射しながら進行する。
カーボネートｚを分散させ、重合開始剤．重合禁止剤．
低屈折率七ノマー等を配合してキャスティングをしてシ
一ト１１を得る。（２）次にフォトマヌク１４を設けて
ＵＶ光１３を照射し、照射した部分のみ、選択的に低屈
折率モノマーの重合反応を起こさせ、屈折率の低下した
部分１５を形成し、（３）反応を起こしていないモノマ
ーは真空乾燥を行なうことにより、シート外へ放出させ
る。（４）そしてシートを七ノマー溶液に浸漬して所定
量のモノマーをシートに再分散させ，ＵＶ光照射を行な
って上下に屈折率の低い部分１６を形成する。ここで中
央のポリカーボネートＺ固有の屈折率の１１の部分１７
がコアとなり、低屈折率七ノマーが重合反応して屈折率
が低下した部分がクラッドとなって、光導波路が形成さ
れる。所定の開口角以内で入射された光は，コアの内部
を全反射しながら進行する。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記のような構成では，■ 低屈折率七ノ
マーを含浸させた高屈折率透明樹脂シートを形成するた
めのキャスティングの工程で、溶媒を窒素ガスを用いて
揮発させる必要があるため、装置が大がかりになり，製
造プロセスも複雑であ！７製造タクトも長くなる。■
低屈折率部と高屈折率部の屈折率差が大きくとれないた
め、開口角が小さい等の問題があった。
マーを含浸させた高屈折率透明樹脂シートを形成するた
めのキャスティングの工程で、溶媒を窒素ガスを用いて
揮発させる必要があるため、装置が大がかりになり，製
造プロセスも複雑であ！７製造タクトも長くなる。■
低屈折率部と高屈折率部の屈折率差が大きくとれないた
め、開口角が小さい等の問題があった。
課題を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の光導波路の製造方
法は，低屈折率樹脂シート上に界面活性剤をストライプ
状に印刷し，高屈折率の透明液状材料中に浸漬後，引き
上げることにより，低屈折率樹脂シート上にストライプ
状に高屈折率のＵＶ硬化型透明液状材料を形威して硬化
を行ない、さらに硬化物上に液状低屈折率樹脂を充填し
て硬化を行なうという構成を備えたものである。
法は，低屈折率樹脂シート上に界面活性剤をストライプ
状に印刷し，高屈折率の透明液状材料中に浸漬後，引き
上げることにより，低屈折率樹脂シート上にストライプ
状に高屈折率のＵＶ硬化型透明液状材料を形威して硬化
を行ない、さらに硬化物上に液状低屈折率樹脂を充填し
て硬化を行なうという構成を備えたものである。
作用
本発明は上記した構成によシ，溶媒の揮発等のプロセス
がないため大がかシな設備を必要とせず、製造タクトは
短かくなり、低屈折率材料と高屈折率料のそれぞれの屈
折率を選ぶことによシ、光導波路の開口角を任意に設定
することができる。
がないため大がかシな設備を必要とせず、製造タクトは
短かくなり、低屈折率材料と高屈折率料のそれぞれの屈
折率を選ぶことによシ、光導波路の開口角を任意に設定
することができる。
実施例
以下本発明の実施例の光導波路の製造方法について図面
を参照しながら説明する。第１図は本発明の実施例にむ
ける製造方法によｉ）製造した光導波路の斜視図であり
１は光導波路，２．４は低屈折率樹脂のクラウド，３ぱ
高屈折率樹脂のコア，６ぱ界面活性剤が塗布された面で
ある。第２図〜第３図は本発明の実施例における光導波
路の製造プロセスを示す斜視図である。第２図は界面活
性剤をストライプ状に印刷した低屈折率樹脂シートを示
すものであシ、１ぱ低屈折率樹脂シート、５は界面活性
剤である。第３図は本発明の実施例に釦けるディ・ソブ
槽の斜視図であり８ぱディ・ンプ槽、７は高屈折率の透
明液状材料である。第４図は、本発明の実施例における
低屈折率樹脂シートのディ・ンピング後の斜視図であり
、３は低屈折率樹脂ンート２上の界面活性剤塗布面６上
に形成された高屈折率透明液状材料である。
を参照しながら説明する。第１図は本発明の実施例にむ
ける製造方法によｉ）製造した光導波路の斜視図であり
１は光導波路，２．４は低屈折率樹脂のクラウド，３ぱ
高屈折率樹脂のコア，６ぱ界面活性剤が塗布された面で
ある。第２図〜第３図は本発明の実施例における光導波
路の製造プロセスを示す斜視図である。第２図は界面活
性剤をストライプ状に印刷した低屈折率樹脂シートを示
すものであシ、１ぱ低屈折率樹脂シート、５は界面活性
剤である。第３図は本発明の実施例に釦けるディ・ソブ
槽の斜視図であり８ぱディ・ンプ槽、７は高屈折率の透
明液状材料である。第４図は、本発明の実施例における
低屈折率樹脂シートのディ・ンピング後の斜視図であり
、３は低屈折率樹脂ンート２上の界面活性剤塗布面６上
に形成された高屈折率透明液状材料である。
以下に、本発明の実施例の製造方法を説明する。
第２図に示すように，低屈折率樹脂で成形したシートに
、所定のピッチで界面活性剤のストライプパターンを塗
布する。塗布方法は、スクリーン印刷，転写印刷その他
の印刷方法が適用できる。界面活性剤印刷後の低屈折率
樹脂シ一ト２は、第３図に示すように、高屈折率透明液
状材料が充填されているディヮプ槽８に矢印６に示され
た方向に浸漬．引上げを行なう。第４図はその引上げ後
の低屈折率樹脂シートであるが、界面活性剤が印刷され
た面６の上にのみ高屈折率透明准状材料が形成されてい
る。この直後に，この高屈折率透明液状材料を硬化させ
る（図示せず）ことにより、低屈折率樹脂シートのクラ
ッド上に，コアが形成されたことになる。さらに，その
上に液状の低屈折率樹脂を充填して硬化させることによ
り第１図に示したような高分子光導波路が得られる。材
料系の一例として、低屈折率樹脂材料には、７−）素系
アクリル樹脂、高屈折率樹脂としては、ウレタンアクリ
レート等で製作可能であるが、樹脂の組み合せを任意に
設定することが可能である。光導波路としての機能を第
１図で説明すると，▲端のコア３から所定の開口角で入
射された光は，コア内を全反射しながら進み，Ｂ端へ出
躬する。例えば▲端に原稿，Ｂ端にセンサを設けること
により．イメージセンサの光学系として使用することが
できる。
、所定のピッチで界面活性剤のストライプパターンを塗
布する。塗布方法は、スクリーン印刷，転写印刷その他
の印刷方法が適用できる。界面活性剤印刷後の低屈折率
樹脂シ一ト２は、第３図に示すように、高屈折率透明液
状材料が充填されているディヮプ槽８に矢印６に示され
た方向に浸漬．引上げを行なう。第４図はその引上げ後
の低屈折率樹脂シートであるが、界面活性剤が印刷され
た面６の上にのみ高屈折率透明准状材料が形成されてい
る。この直後に，この高屈折率透明液状材料を硬化させ
る（図示せず）ことにより、低屈折率樹脂シートのクラ
ッド上に，コアが形成されたことになる。さらに，その
上に液状の低屈折率樹脂を充填して硬化させることによ
り第１図に示したような高分子光導波路が得られる。材
料系の一例として、低屈折率樹脂材料には、７−）素系
アクリル樹脂、高屈折率樹脂としては、ウレタンアクリ
レート等で製作可能であるが、樹脂の組み合せを任意に
設定することが可能である。光導波路としての機能を第
１図で説明すると，▲端のコア３から所定の開口角で入
射された光は，コア内を全反射しながら進み，Ｂ端へ出
躬する。例えば▲端に原稿，Ｂ端にセンサを設けること
により．イメージセンサの光学系として使用することが
できる。
以上のように本実施例によれば，溶媒を用いてキャステ
ィングする必要がないため、製造装置もコンパクトにで
き、製造プロセスも複雑でなくなり，製造タクトも短か
くなる。筐た低屈折率材料と高屈折率材料のそれぞれの
屈折率を変えることによシ、先導波路の開口角を任意に
設定することができる。
ィングする必要がないため、製造装置もコンパクトにで
き、製造プロセスも複雑でなくなり，製造タクトも短か
くなる。筐た低屈折率材料と高屈折率材料のそれぞれの
屈折率を変えることによシ、先導波路の開口角を任意に
設定することができる。
なお樹脂の硬化方法は、ＵＶ照射による硬化が望１しい
が、熱硬化等も適用可能である。
が、熱硬化等も適用可能である。
捷た、この製造方法の応用として，ベースとなる基板の
ぬれ性が良好な場合、撥水性の材料をパターニングして
，コア材料の形成を行なうことも可能である。
ぬれ性が良好な場合、撥水性の材料をパターニングして
，コア材料の形成を行なうことも可能である。
発明の効果
以上のように本発明によれば、低屈折率樹脂シート上に
界面活性剤をストライプ状に印刷し、高屈折率透明液状
材料中に浸漬後，引き上げることによう，低屈折率樹脂
ンート上にメトライブ状に高屈折率透明液状材料を形成
して硬化を行ない，さらに硬化物上に液状低屈折率樹脂
を充填して硬化を行なって光導波路を製造することによ
シ，溶媒を用いてキャスティングする必要がないため、
製造装置もコンパクトになシ、製造ブロセメも複雑でな
くなり、製造タクトも短かくなる。筐た低屈折率材料と
高屈折率材料のそれぞれの屈折率を変えることにより、
光導波路の開口角を任意に設定することができ，低損失
の光導波路の製造が可能となる等の大なる効果を発揮す
る。
界面活性剤をストライプ状に印刷し、高屈折率透明液状
材料中に浸漬後，引き上げることによう，低屈折率樹脂
ンート上にメトライブ状に高屈折率透明液状材料を形成
して硬化を行ない，さらに硬化物上に液状低屈折率樹脂
を充填して硬化を行なって光導波路を製造することによ
シ，溶媒を用いてキャスティングする必要がないため、
製造装置もコンパクトになシ、製造ブロセメも複雑でな
くなり、製造タクトも短かくなる。筐た低屈折率材料と
高屈折率材料のそれぞれの屈折率を変えることにより、
光導波路の開口角を任意に設定することができ，低損失
の光導波路の製造が可能となる等の大なる効果を発揮す
る。
第１図は本発明の実施例における光導波路の分解斜視図
、第２図〜第４図は本発明の実施例に釦ける光導波路の
製造プロセスを示し，第２図は界面活性剤とストライプ
状に印刷した低屈折率樹脂シートの斜視図、第３図はデ
ィップ槽の斜視図、第４図は低屈折率樹脂シートのディ
ッピング後の斜視図、第６図は従来例における光導波路
の製造プロセスを示す断面図である。 １・・・・・・光導波路、２・・・・・・クラヮド、３
・・・・・・コア，４・・・・・クラヮド、６・・・・
・界面活性剤，７・・・・・・高屈折率液状材料、８・
・・・・・ディ，ブ櫓。
、第２図〜第４図は本発明の実施例に釦ける光導波路の
製造プロセスを示し，第２図は界面活性剤とストライプ
状に印刷した低屈折率樹脂シートの斜視図、第３図はデ
ィップ槽の斜視図、第４図は低屈折率樹脂シートのディ
ッピング後の斜視図、第６図は従来例における光導波路
の製造プロセスを示す断面図である。 １・・・・・・光導波路、２・・・・・・クラヮド、３
・・・・・・コア，４・・・・・クラヮド、６・・・・
・界面活性剤，７・・・・・・高屈折率液状材料、８・
・・・・・ディ，ブ櫓。
Claims (1)
- 低屈折率樹脂シート上に界面活性剤をストライプ状に印
刷し、高屈折率の透明液状材料中に浸漬後、引き上げる
ことにより、低屈折率樹脂シート上にストライプ状に高
屈折率の透明液状材料を形成して硬化を行ない、さらに
硬化物上に液状低屈折率樹脂を充填して硬化を行なうこ
とを特徴とする光導波路の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15185689A JPH0315805A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 光導波路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15185689A JPH0315805A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 光導波路の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0315805A true JPH0315805A (ja) | 1991-01-24 |
Family
ID=15527754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15185689A Pending JPH0315805A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 光導波路の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0315805A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003107263A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-09 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光導波路の製造方法 |
| US7024093B2 (en) | 2002-12-02 | 2006-04-04 | Shipley Company, Llc | Methods of forming waveguides and waveguides formed therefrom |
| US7448233B2 (en) | 2003-06-13 | 2008-11-11 | Seiko Epson Corporation | Method for manufacturing optical waveguide, optical waveguide device, electro-optical apparatus and electronic apparatus |
-
1989
- 1989-06-14 JP JP15185689A patent/JPH0315805A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003107263A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-09 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光導波路の製造方法 |
| US7024093B2 (en) | 2002-12-02 | 2006-04-04 | Shipley Company, Llc | Methods of forming waveguides and waveguides formed therefrom |
| US7448233B2 (en) | 2003-06-13 | 2008-11-11 | Seiko Epson Corporation | Method for manufacturing optical waveguide, optical waveguide device, electro-optical apparatus and electronic apparatus |
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