JPH0315139Y2 - - Google Patents

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JPH0315139Y2
JPH0315139Y2 JP18095785U JP18095785U JPH0315139Y2 JP H0315139 Y2 JPH0315139 Y2 JP H0315139Y2 JP 18095785 U JP18095785 U JP 18095785U JP 18095785 U JP18095785 U JP 18095785U JP H0315139 Y2 JPH0315139 Y2 JP H0315139Y2
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fluidized bed
gas
particles
circulation line
particle
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  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、化学工業等で反応器や伝熱装置とし
て利用されている流動床装置の改良に関する。
〔従来の技術〕
従来装置を第4図に基づいて説明する。
第4図において、2段流動床容器5にはガス分
散板2,6が上下2個フランジにてとりつけられ
ている他、ガス導入口1、ガス排出口8、粒子導
入機7、傾斜管と垂直管とで形成された粒子循環
ライン9、粒子排出流管4がとりつけられてい
る。又、サイクロン12、ホツパ13をへて粒子
循環ライン11は分散板2上部の流動床容器5に
とりつけられている。ガス導入口1から入るガス
は、分散板2をへて流動床3の粒子を流動化し、
さらに分散板6をへて流動床10を流動化後、ガ
ス排出口8をへてサイクロン12へ至る。粒子
は、導入機7により流動床10に供給され、粒子
循環ライン9内を動落下し流動床3へ入り、粒子
排出管4より排出される。以上の流動床3,10
にて、ガスと粒子の接触により、必要な反応、伝
熱等がなされる。また、ガスにより搬送された粒
子はサイクロン12に至りサイクロン12でガス
と粒子とに分離され、サイクロン12で分離され
た粒子は、ホツパ13をへて循環ライン11によ
り流動床3へ供給される。
〔考案が解決しようとする問題点〕
従来の粒子循環ライン9では、粒子循環の停止
任意の起動、及び粒子流量のコントロールができ
なかつた。
これは循環ライン9が傾斜管と垂直管で構成さ
れているため、粒子に働く重力の作用により、管
径の最大輸送量にて粒子流量が定まり、また任意
の停止ができないためである。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案は、上記問題点を解決するために、下部
流動床への粒子循環ラインに垂直管部とその途中
に連通する水平管部を形成し、また、上記垂直管
部の下部に多孔板を配置し、更にその下方にガス
供給管を連通させた流動床装置を提供するもので
ある。
〔作用〕
本考案の装置では、粒子循環ラインに形成した
垂直管部の多孔板上で粒子が滞積する。多孔板下
方で垂直管部に連通したガス供給管からガスを送
り込めば、多孔板上の粒子は流動化して水平管部
から粒子が排出される。
〔実施例〕
まず、第1図に示す第1の実施例について説明
する。
2段流動床容器5には、ガス分散板2,6が上
下2個フランジにより取り付けられ、ガス分散板
2の下方には空間が形成されている。ガス分散板
2より下方の容器5には、ガス導入口1が取り付
けられ、容器5の頂部にはガス排出口8が取り付
けられている。ガス分散板6の上方、および、ガ
ス分散板2の上方に位置する容器5の側部にそれ
ぞれ粒子導入機7、粒子排出管4が設けられてい
る。
14は粒子循環ラインで、ガス分散板6の上部
に形成される流動床10に連通する傾斜管部14
Aと、それに連通する垂直管部14Bと、この垂
直管部14Bの途中に連通する水平管部14C、
および、ガス分散板2の上部に形成される流動床
3に通じる傾斜管部14Dとから構成されてい
る。多孔板15は、水平管部14Cの連通位置よ
り下方の垂直管部14B内に配置されており、更
にその下方にガス供給管16が連通している。な
お、垂直管部14Bの下端は閉じており、また、
ガス供給管16は、図示しない圧力ガス源に通じ
ている。
ガス導入口1からガス分散板2の下方の空間に
ガスが供給され、空間からガス分散板2を通つて
ガス分散板2上の粒子間に噴出されて粒子を流動
化して流動床3を形成する。粒子を流動化したガ
スは、流動床3の上部フリーボード部に達し、こ
こから更にガス分散板6を通つてガス分散板6上
の粒子を流動化して流動床10を形成する。流動
床10を形成したガスは、上部のフリーボード部
からガス排出口8を通つて排出される。
粒子は、粒子導入機7によりガス分散板6上の
流動床10に供給され、流動床10の上側部分の
粒子が粒子循環ライン14の傾斜管部14Aから
入り、多孔板15上の垂直管部14Bに滞積す
る。
多孔板15上の粒子は、ガス供給管16より供
給され、多孔板15の孔を通つて噴出されるガス
により流動化される。流動化される粒子の量は、
ガス供給管16から供給されるガス量によつて定
まり、その粒子は水平管部14C、傾斜管部14
Dを経て、ガス分散板2上の流動床3に落下す
る。流動床3の粒子は、粒子排出管4から排出さ
れる。
本装置によれば、粒子循環ライン14に垂直管
部14Bと水平管部14Cとを設け、粒子を一時
滞留させるようにした。また、垂直管部14Bの
下部に多孔板15を配置し、粒子をこの上で滞留
させるようにし、ガス供給管16から供給される
ガスで、滞留している粒子を流動化し、水平管部
14Cへ流すようにした。
従つて、流動床3への粒子の循環を停止した
り、あるいは、循環させる量を調整することは、
ガス供給管16からのガス量を調整することによ
り行うことができる。
次に第3図に示す他の実施例について説明す
る。この図では先の実施例の第2図に相当する部
分のみを示してあり、同一の符号を付したものの
構造・作用は同一であり説明を省く。
17はガス投入用ノズルで、水平管部14Cの
垂直管部14Bへの取付開口位置に臨んで配置さ
れており、図示しない圧力ガス源に連通されてい
る。
この実施例では、ガス供給管16から供給され
るガスにより流動化された多孔板15上の粒子は
ガス投入用ノズル17から噴出されるガスにより
水平管部14Cへ送り込まれることになる。
本実施例の装置では、先の実施例と比べ、流動
床3へ循環させる粒子の量の調整がしやすくな
る。第1及び第2の例ともに第4図に示した従来
の流動床装置における粒子循環ライン11を省略
しているが、第1及び第2の例ともに粒子循環ラ
イン11にも採用することはもちろん可能であ
る。
〔考案の効果〕
本考案の装置によれば、粒子循環の起動停止、
および、循環粒子流量の調整が極めて簡単に行え
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す装置の縦断面
図、第2図は第1図の部拡大図、第3図は第1
図における部の他の例を示す図、第4図は従来
の流動床装置を示す図である。 2,6……ガス分散板、3,10……流動床、
5……流動床容器、9,11,14……粒子循環
ライン、14A,14D……傾斜管部、14B…
…垂直管部、14C……水平管部、15……多孔
板、16……ガス供給管、17……ガス投入用ノ
ズル。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 上下多段に流動床が形成され、上方の流動床の
    粒子を直下の流動床に循環させる粒子循環ライン
    を具えた流動床装置において、上記粒子循環ライ
    ンに垂直管部とその途中に連通する水平管部を形
    成し、上記垂直管部の下部に多孔板を配置し、同
    多孔板の下側の上記垂直管部にガス供給管を連通
    させたことを特徴とする流動床装置。
JP18095785U 1985-11-25 1985-11-25 Expired JPH0315139Y2 (ja)

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JP18095785U JPH0315139Y2 (ja) 1985-11-25 1985-11-25

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JP18095785U JPH0315139Y2 (ja) 1985-11-25 1985-11-25

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JPS6287738U JPS6287738U (ja) 1987-06-04
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JPS6287738U (ja) 1987-06-04

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