JPH03150188A - 光学的記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は本質的に担体材料とこの上に形成された記録層
とから成り、レーザ光照射により記録層の光学的特性が
その被照射部分で変えられてボイドが形成される光学的
記録媒体に関するものである。

（従来技術） ディジタル情報を光学的に記録するために、最も簡単な
方法では、焦点を合わせた光線照射により薄い無機質居
を部分的に高温加熱し、暦の被照射部分を溶融、蒸散及
び他の物理的処理により除去する。読取りのために出力
の弱い第２の光線を記録層に指向照射して形成された孔
隙の低減された反射能を検出する。このような記録方式
のためには、ことに低い溶融点と低い熱伝導性を有する
材料、例えばテルル、ビスマス及びこれらの合金が適当
である。フランス国特許出願公開２４２０１８８号には
、ことにゲルマニウム（Ｇｅ）含有分が２２＾ｔ％のテ
ルル（Ｔｅ）との合金が開示されており、これは上述し
たような態様で部分的に光熱学的に誘起された孔隙が形
成される。これに対して日本国特許出願公開昭８０−１
１５４８９号には、水との接触角度が少なくとも９０に
調整された後処理により、孔隙形成記録材料の光学的記
録性能を改善することが記載されている。

しかしながら、このような孔隙形成記録材料の場合には
、記録個所から除去された材料が記録層表面上の思いが
はない個所に再付着する欠点をまぬがれない。このため
には反射能の局部的不均斉がもたらされ、ノイズの問題
が原則的に解決され得ない。

記録層における孔隙形成による光学的情報記録のほかに
、いわゆる相変化材料の使用も公知である（ことにヨー
ロッパ特許出願公開１８６２７７号参艙）。この相変化
材料においては、一般に高エネルギー放射線による分子
構造の変化、例えば非晶質から結晶構造への変化を示す
材料が１！！Ｊｆｆｉとなる。相違する分子構造、いわ
ゆる相が、相違する光学的特性、例えば反射性或は透過
性を示すので、記録された情報は低エネルギー放射線に
より読取られ得る。この相変化材料の開発における問題
点は、十分に短かい変換時間をもたらすことである。ｉ
ｆｉ速な結晶化、従って短かい変換時間は、非晶質状態
から結晶質状態への相変化の場合においては高温の場合
においてのみ可能であり、従って高い光強度が要求され
る。＾ｐｐｌ、Ｐｂｙｓ　、Ｌｅｔｔ　、４９（９）、
（１９８６）　５０２頁以降の、Ｍ、チエンらの１幅に
は、ｓｏ　ａｔ％までのゲルマニウム含ｎ分を有するＴ
ｅ／Ｇｅ合金記録層では、すべての場合変換時間と感度
に関する要件は同時には充足され得ない旨記載されてい
る。さらに結晶質から非晶質への相変換をもたらすため
には、競合する孔隙形成を阻止するように追加的な保護
居或は被覆層が必要である。従ってこの記録媒体の製造
は高コストを必要とする。

光学的情報記録の他の方法は、高エネルギー光Ｉｊ照射
によりボイド或はいわゆるピットを形成する若干の材料
の特性を利川する。ことに最も周知のものは染料／ポリ
マー混合物のようなａ機材料である。しかしながら、こ
のような材料は狭い特定のスペクトル＠囲において使川
され得るに過ぎない欠点がある。さらに長峙間の読取り
において安定性に問題がある。

またＳＰＩＥ４２Ｇ　（１９８３）　８Ｇ頁以降のＪ、
コーネットの１幅「デフオーメイレロン、レコーディン
グ、プロセス、イン、ポリマー、メタル、パイレヤーズ
、アンド、イッツ、ユース、フォア、オプティカル、ス
トーレツジ」には、ポイＦ形成２Ｊ！構造が記載されて
いる。この第１１１は、１５０から３００銀識厚さのポ
リマーから形成される。これは透明基板もしくは基体上
に遠心塗布法により形成され、さらにその上に１５鳳−
厚さの貴金属合金が、ｎ極電鍍或は真空Ｍｔｌにより積
層される。この２１１構造の露光により、ポリマー盾の
部分的！散がもたらされ、この蒸気圧により金属層に非
可逆的にボイドが形成される。

またヨーロッパ特許出願公開１３０３２９号には、基板
もしくは基体上に順次に形成された３Ｊ！！構造のボイ
ド形成記録媒体が開示されている。基板に接する層は透
明蓋Ｗ賀材料から成り、その上に有機質層及び無機質の
ポイＶ形成記録層が形成される。

上記両方法による記録媒体の欠点は、これら複数Ｈが順
次に形成されて行かねばならないので製造方法が多工程
となり、従って当然に高コストを必要とすることである
。

そこで本発明の目的は、慣用の担体上に他の中１；；１
層を設けるこきなく記ｊｊＩ！Ｊが直接形成されている
、レーザ光照射によりボイドが形成され得る光学的記録
媒体を提供することである。さらに他の目的は、照射さ
れるレーザ光の広い光強度範囲にわたり安定なボイドが
形成され、ことに競合する孔隙形成メカニズムに対する
耐性を有する上述の種類の記録媒体を提供することであ
る。

（発明の要約） しかるに上記の目的は、本質的に担体材料とこの上に形
成された記録層とから成り、レーザ光照射により記Ｓ！
層の光学的特性がその被照射部分で変えられてボイドが
形成される光学的記録媒体であって、この記録層が構造
ＧｅＴｅヨ（ただしＸは１．８から２．２の数値を表わ
す）の熱力学的に準安定な合金から本質的に構成されて
おり、ｌＯから１００ａｍの厚さを有することを特徴と
する記録媒体により達成されることが本発明者らにより
見出された。

（発明の構成） 本発明による光学的記録媒体のａ利な構成において、記
ｆＪｆｌはＧｅＴｅ＊合金或は場合によりさらに他の金
属元素を含有する合金から形成される。耐蝕性の観点か
ら、少量の、１０　Ａｔ％を超えない量のセレンを添加
することができる。非晶質であることができるＧｅＴｅ
合金は、構造がＧｅＴｅ、　（ｘ＝　１．８−２．２）
で表わされ、非晶質構造成は熱力学的に準安定結晶品質
構造をもたらすことができ、各Ｔｅｂ；ミ子がもっばら
Ｇｅ原子に隣接している化学的配置を（ｒするものであ
る。このような構造は、Ｊ！ｌ厚さが薄い場合のみ存在
し得る（Ｊ、Ｐｈｙｓ、Ｓｏｃ、Ｊａｐ、５Ｇ（１９８
７）　、　３３９Ｇ−９７頁におけるラネモトらの論槁
参照）。

このように形成される記録層の製造は、公知の方法によ
り担体上に物理的気相分離させて必要な厚さ、ｌＯから
ｌＧｏ＠■、ことに３０から７０１５になされる。この
場合、層の形成についてｎ極電鍍によりＧｅＴｅ　ター
ゲットから析出させて、ターゲットの化学的組成により
層の化学的組成を変えることもできる。この場合析出前
に４かのガスによる汚染を４１比するためＩ　Ｏ−ミリ
パールより低い減圧にするのが好ましい。基板はＮ層の
良好な接若をもたらすために化学的にし化されねばなら
ない。

このようにして、一般的に光学的記録媒体において使川
される担体材料、例えばポリカルボナード或はポリメチ
ルメタクリラートから成る担体上に特定の記録層が形成
される。この担体材料は、類似するデータ記録媒体にお
けると同様に、すでにトレース位置及びセクタ導入のた
めのサーボ情報を持っている。これによりＧｅＴｅ記録
層をスパッタリング処理により基板上に直接形成する前
にあらかじめ予想して処理することができる。

本発明による光学的記録媒体は、複雑な月形成を打うこ
となく簡！［に製造され、入射光の広い強度範囲におい
て情報再現ボイドが安定的に形成される点において秀れ
ている。さらにこの記録媒体は２０％以」−の高い反射
率を示し、従って高いシグナル／ノイズ比をａする。こ
れはまた、可視光線及び近赤外線全般にわたり十分な吸
収を示し、従って入射光波長範囲と無関係に使川され得
る。

以下の実施例によりさらに具体的に本発明を説明する。

厚さ１．２ｍ−の案内溝を付したポリカルボナード基板
をスパッタリング装−置に装着する。スパッタリング開
始前に基板を、圧力ｐ　＝　５　Ｘ　１０−ミリバール
でアルゴン中において１分間ｓｏｏ冒のバイアスロ荷で
腐蝕処理した。次いでＲＦダイオードモードで５０頁膳
厚さのＴｅＧｅ　Ｂを基板上に形成した。スパッタリン
グターゲットは、純テルル板体とこれに重ねられたゲル
マニウム小板体とから成る。この小板体の個数が層の組
成を決定する。多数の小板体が載置されている場合には
、層は式Ｔｅ２Ｇｅで表わされることができ、ボイド形
成メカニズムがこれに応じて決定される。光学的走行装
置において波長８３０ｎｍ％照射径１０−”　ｍの半導
体レーザにより３．７１１１１１の記録周波数でデータ
をδ込んだ。対媒体５　＝８　ｍｆのレーザ負荷で４０
ｄ８以上のＣＩＲ値が３０　ＫＨｚの帯域幅で読取られ
る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 本質的に担体材料とこの上に形成された記録層とから成
   り、レーザ光照射により記録層の光学的特性がその被照
   射部分で変えられてボイドが形成される光学的記録媒体
   であって、この記録層が構造ＧｅＴｅ＿ｘ（ただしｘは
   １．８から２．２の数値を表わす）の熱力学的に準安定
   な合金から本質的に構成されており、１０から１００ｎ
   ｍの厚さを有することを特徴とする記録媒体。