【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、Ｘ線用光学系として広範囲に用いられる多層
膜反射鏡に関する。
（従来の技術）
近時、Ｘ線リソグラフィー、Ｘ＠顕微鏡、シンクロトロ
ン放射（ＳＯＲ）分光、Ｘ線レーザーなどの軟Ｘ線用光
学系として、多層膜反射鏡が、広範囲に用いられている
。従来、Ｘ線用多層膜反射鏡の多層膜としては、複素屈
折率の異なる二つの物質の組み合わせが用いられている
。たとえば、Ａｕ／Ｃ，Ｍｏ／Ｃ，Ｔａ／Ｃ，Ｗ／Ｃ。
ＡｕＰｄ／Ｃ，ＲｅＷ／Ｃ等の組み合わせが報告されて
いる（特開昭６２−２９７８００号公報、特開昭６３−
８８５０１号公報、特開昭６３−１８５０２号公報、特
開昭６３−８８５０３号公報、特開昭６３−９５４００
号公報、特開昭６３−２６６３９６号公報、特開昭６３
−２６６３９７号公報、特開昭６３−２６６３９８号公
報、特開昭６３−２６６３９９号公報、特開昭６３−２
６６４００号公報、特開昭６３−２７１２００号公報、
特開昭６３−２７３０９９号公報、特開昭６３−２８４
４９８号公報、特開昭６３−２８４４９９号公報、特開
昭６４−１８０９１１号公報）。つまりーこれらの物質
対の組み合わせは重元素と軽元素の組合せで複素屈折率
の差が大きくなるように構成されている。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、一般的に重元素は吸収係数が大きいため
、熱吸収による多層膜構造の劣化の原因ともなる。
本発明は、上記事情を参酌してなされたもので、反射率
が高く、かつ、吸収率の小さい多層膜反射鏡を提供する
ことを目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段と作用）
吸収係数の小さい軽元素のみにより多層膜を形成するこ
とにより、反射率が高く、かつ吸収率の小さい多層膜反
射鏡を得るようにしたものである。
（実施例）
以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。
第１図は、この実施例の多層膜反射鏡を示している。こ
の多層膜反射鏡は、例えばＳｉＣなど平面または曲面に
形成された基板（１）と、この基板（１）上に着設され
た多層膜（２）と、この多層膜（２）の最上層に被着さ
れた例えばＣ（炭素）などからなる極薄（１０八以下）
の保護膜（３）とからなっている。そうして、前記多層
膜（２）は、例えば密度が４ ｇ／ｃｉ以下の軽元素か
らなる一対の膜（４）、（５）が交互に例えば３１層積
層されてなるものであり、各膜（４） 、 （５）の膜
厚は、それぞれの層中におけるＸ線吸収および各層の界
面からの反射Ｘ線の位相の重なりによる反射Ｘ線の強め
合いの両者を考慮し、多層膜反射鏡全体として最も高い
反射率かえられるようにする。また、膜（４）、（５）
の材種の選択は、両者のフレネル係数の差の絶対値が大
きいこと、及び膜（５）の軽元素は複素屈折率の吸収係
数が小さいことの二つの条件を満たすようになされてい
る。さらに、多層膜の最上層は、膜（４）とするほうが
反射率が高まる。以上を考慮して、例えば波長４４．１
人のＸ線を効率よく反射するには、膜（４）は膜厚ｄＡ
４ｇ人の八１−（アルミニウム）で、また膜（５）は膜
厚ｄＢ３６人のＣ（炭素）で構成すると良い。
つぎに、上記構成の多層膜反射鏡の作用について述べる
。
多層膜（２）に対して、波長４４．７人のＸ線を投射す
る。すると、この多層膜（２）にては、反射Ｘ線が反射
率Ｒで反射する。このときの入射角θと反射率Ｒとの関
係を第２図に示す。すなわち、この第２図が示すように
、１４″の入射角で極大の反射率１９．５％を得ること
ができる。この反射率では、ＳＯＲ分光用、Ｘ線顕微鏡
用などのｘＩｌ用光学系として、十分使用できるものと
なる。しかも、膜（４） 、 （５）は、複素屈折率の
吸収係数が小さい軽元素からなっているので、Ｘ線によ
る昇温蓄熱が小さくなり、反射鏡全体の冷却が容易とな
る。
なお、膜（４）、（５）の膜厚は、必ずしも一定でなく
てもよい。さらに、多層膜を構成する膜対の組み合わせ
は、波長４４．７人のＸ線に対してはＡｉ／Ｃａ、Ａ
Ｉ／Ｌ ｉ、Ｂ／Ｃａ、Ｂ／Ｃ，Ｂ／Ｌ ｔ。
５ ｉ／Ｃａ、Ｓ ｉ／Ｃ，Ｓ ｉ／Ｌ ｔ、Ｂｅ／Ｃ
。
Ｂｅ／Ｃａ、Ｂｅ／Ｌｉ等、密度４ｇ／ｄ以下で融点１
００℃以上のものの組合せであるならばどのようなもの
でもよい。[Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a multilayer film reflecting mirror that is widely used as an optical system for X-rays. (Prior Art) Recently, multilayer film reflecting mirrors have been widely used as optical systems for soft X-rays such as X-ray lithography, X@microscopes, synchrotron radiation (SOR) spectroscopy, and X-ray lasers. Conventionally, a combination of two materials having different complex refractive indexes has been used as a multilayer film of a multilayer film reflecting mirror for X-rays. For example, Au/C, Mo/C, Ta/C, W/C. Combinations of AuPd/C, ReW/C, etc. have been reported (Japanese Patent Application Laid-open No. 62-297800, Japanese Patent Application Laid-open No. 63-
88501, JP 63-18502, JP 63-88503, JP 63-95400
No. 1, JP-A-63-266396, JP-A-63
-266397, JP 63-266398, JP 63-266399, JP 63-2
66400, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-271200,
JP-A-63-273099, JP-A-63-284
498, JP-A-63-284499, JP-A-64-180911). In other words, the combination of these substance pairs is such that the difference in complex refractive index becomes large due to the combination of heavy elements and light elements. (Problem to be Solved by the Invention) However, since heavy elements generally have a large absorption coefficient, they also cause deterioration of the multilayer film structure due to heat absorption. The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a multilayer film reflecting mirror with high reflectance and low absorption. [Structure of the invention] (Means and effects for solving the problem) A multilayer film reflecting mirror with high reflectance and low absorption coefficient is obtained by forming a multilayer film using only light elements with small absorption coefficients. This is what I did. (Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a multilayer reflective mirror of this embodiment. This multilayer film reflecting mirror consists of a substrate (1) formed on a flat or curved surface such as SiC, a multilayer film (2) deposited on this substrate (1), and the topmost layer of this multilayer film (2). Ultra-thin (108 or less) made of, for example, C (carbon) adhered to
and a protective film (3). The multilayer film (2) is made up of, for example, a pair of films (4) and (5) made of a light element having a density of 4 g/ci or less, which are alternately laminated, for example, 31 layers. The film thicknesses of films (4) and (5) are determined by considering both the X-ray absorption in each layer and the reinforcement of the reflected X-rays due to the phase overlap of the reflected X-rays from the interface of each layer. The mirror as a whole has the highest reflectance. Also, membranes (4), (5)
The selection of the material is made so as to satisfy two conditions: the absolute value of the difference in Fresnel coefficients between the two is large, and the light element of the film (5) has a small absorption coefficient of complex refractive index. Furthermore, the reflectance increases when the film (4) is used as the top layer of the multilayer film. Considering the above, for example, the wavelength is 44.1
In order to efficiently reflect human X-rays, the film (4) must have a film thickness of dA.
It is preferable that the film (5) is made of carbon (aluminum) with a film thickness of 4 g and 36 dB. Next, the operation of the multilayer mirror having the above configuration will be described. X-rays with a wavelength of 44.7 are projected onto the multilayer film (2). Then, the reflected X-rays are reflected by the multilayer film (2) with a reflectance R. The relationship between the incident angle θ and the reflectance R at this time is shown in FIG. In other words, as shown in Fig. 2, a maximum reflectance of 19.5% can be obtained at an incident angle of 14''.With this reflectance, xIl optical systems such as SOR spectroscopy and X-ray microscopes can be used. Moreover, since the films (4) and (5) are made of light elements with a small absorption coefficient of complex refractive index, the heat accumulation caused by X-rays is small, and the entire reflecting mirror is The thickness of the films (4) and (5) does not necessarily have to be constant.Furthermore, the combination of the film pairs constituting the multilayer film has a wavelength of 44.7 For the line, Ai/Ca, A
I/L i, B/Ca, B/C, B/L t. 5 i/Ca, S i/C, S i/L t, Be/C
. Be/Ca, Be/Li, etc., with a density of 4 g/d or less and a melting point of 1
Any combination of temperatures of 00° C. or higher may be used.
【発明の効果】【Effect of the invention】
本発明の多層膜反射鏡は、膜対が、複素屈折率の係数が
小さい軽元素からなっているので、Ｘ線による昇温蓄熱
が小さくなり、水冷などによる反射鏡の冷却が容易とな
る。In the multilayer film reflecting mirror of the present invention, since the film pair is made of a light element with a small coefficient of complex refractive index, heat accumulation caused by X-rays is reduced, and the reflecting mirror can be easily cooled by water cooling or the like.
【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]
（２）：多層膜
（３）、（４） 、膜
(2): Multilayer film
(3), (4), membrane