JPH03148227A - 鎮痛剤 - Google Patents
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Landscapes
- Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
- Peptides Or Proteins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は下記−数式(I>で示されるペプチド誘4体ま
たは医薬として許容されるその塩を有効成分として含有
する鎮痛剤に関する。
たは医薬として許容されるその塩を有効成分として含有
する鎮痛剤に関する。
この発明の鎮痛剤の活性成分であるペプチド誘導体は次
の一般式(1)で表わすことができる。
の一般式(1)で表わすことができる。
(式中 R1は水素またはアシル基であり、R2は水酸
基、R3はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基
であるか、またはR2とR3とが互いに結合して式−〇
−C−の基を表わし、R4は1 水酸基または保護された水酸基、R5は水酸基または保
護された水酸基、R6は水酸基、保護された水酸基また
は低級アルコキシ基、====は単結合または二重結合
である) この発明において、新規ペプチド誘導体(1)はさまざ
まな方法で製造することができる。
基、R3はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基
であるか、またはR2とR3とが互いに結合して式−〇
−C−の基を表わし、R4は1 水酸基または保護された水酸基、R5は水酸基または保
護された水酸基、R6は水酸基、保護された水酸基また
は低級アルコキシ基、====は単結合または二重結合
である) この発明において、新規ペプチド誘導体(1)はさまざ
まな方法で製造することができる。
(以下余白)
[合成による製造法]
またはその塩
またはその塩
またはその塩
またはその塩
製造法4
る反応性誘導体またはその
塩
またはその塩
製造法5
またはその塩
またはその塩
またはその塩
またはその塩
またはその塩
またはその塩
またはその塩
またはその塩
またはその塩
またはその塩
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6および=
==はそれぞれ前と同じ、R1はアシル基、Rはアシル
オキシ基、R3はエステル化されたa
aカルボキシ
基、Rbは低級アルケニル基で置換されたアリール(低
級)アルケノイル基、R1は低級アルキル基で置換され
たアリール(低級)アルカノイル基、R6は低級アルコ
キシ基である)出発化合物(I[)および(I[[)は
新規化合物であり、次の方法で製造することができる。
==はそれぞれ前と同じ、R1はアシル基、Rはアシル
オキシ基、R3はエステル化されたa
aカルボキシ
基、Rbは低級アルケニル基で置換されたアリール(低
級)アルケノイル基、R1は低級アルキル基で置換され
たアリール(低級)アルカノイル基、R6は低級アルコ
キシ基である)出発化合物(I[)および(I[[)は
新規化合物であり、次の方法で製造することができる。
製」口L△
またはその塩
またはその塩
またはその塩
またはその塩
製Ji旦
またはその塩
またはその塩
またはその塩
(式中、R1、R4、R5、R6および===はそれぞ
れ前と同じ、R7は保護されたカルボキシ基、Rは保護
されたアミノ基、R9は保護され0 タアミノ基、Rは保護されたアミノ基、R11は保護さ
れたカルボキシ基、R12は保護されたアミ13 ノ基、Rは保護されたアミノ基、R14は保護されたア
ミノ基) この発明の出発化合物および目的化合物の製造法を次に
説明する。
れ前と同じ、R7は保護されたカルボキシ基、Rは保護
されたアミノ基、R9は保護され0 タアミノ基、Rは保護されたアミノ基、R11は保護さ
れたカルボキシ基、R12は保護されたアミ13 ノ基、Rは保護されたアミノ基、R14は保護されたア
ミノ基) この発明の出発化合物および目的化合物の製造法を次に
説明する。
製造法1
化合物(Ia)またはその塩は、化合物(II)または
その塩を環化反応に付すことにより製造することができ
る。
その塩を環化反応に付すことにより製造することができ
る。
この反応は、通常の環状ペプチド合成法、たとえば混合
酸無水物法、活性エステル法、カルボジイミド法などに
よって実施することができる。
酸無水物法、活性エステル法、カルボジイミド法などに
よって実施することができる。
反応は、通常、アルコール、テトラヒドロフラン、酢酸
エチル、N、N−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタ
ン、クロロホルムのような慣用の溶媒をはじめとして反
応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。
エチル、N、N−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタ
ン、クロロホルムのような慣用の溶媒をはじめとして反
応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加温下の
範囲で、反応壮行われる。
範囲で、反応壮行われる。
毀盟豊1
化合物(Ia)またはその塩は、化合物(I[)または
その塩を環化反応に付すことにより製造することができ
る。
その塩を環化反応に付すことにより製造することができ
る。
この反応は、通常の環状ペプチド合成法、たとえば混合
酸無水物法、活性エステル法、カルボジイミド法などに
よって実施することができる。
酸無水物法、活性エステル法、カルボジイミド法などに
よって実施することができる。
反応は、通常、アルコール、テトラヒドロフラン、酢酸
エチル、N、N−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタ
ン、クロロホルムのような慣用の溶媒をはじめとして反
応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。
エチル、N、N−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタ
ン、クロロホルムのような慣用の溶媒をはじめとして反
応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却ないし加温下の範
囲で、反応は行われる。
囲で、反応は行われる。
製造法3
化合物(Ic)またはその塩は、化合物(Ib)または
その塩を脱アシル化反応に付すことにより製造すること
ができる。
その塩を脱アシル化反応に付すことにより製造すること
ができる。
この反応の適当な方法としては、加水分解、還元等の慣
用の方法が含まれる。
用の方法が含まれる。
い)加水分解の場合
カ日水分解は好ましくは塩基または酸(ルイス酸も含む
)の存在下に行なわれる。
)の存在下に行なわれる。
適自な塩基としては、無機および有機の塩基、たとえば
アルカリ金属(ナトリウム、カリウム等)、アルカリ土
金属(マグネシウム、カルシウム等)、それらの水酸化
物、炭酸塩または炭酸水素塩、トリアルキルアミン(ト
リメチルアミン、トリエチルアミン等)、ピコリン、1
.5−ジアザビシクロ[:4.3.O]メタン5−エン
、1.4−ジアザビシクロ[2,2,21オクタン、1
.8−ジアザビシクロ[5,4,Oコランデク−7−エ
ン等を挙げることができる。
アルカリ金属(ナトリウム、カリウム等)、アルカリ土
金属(マグネシウム、カルシウム等)、それらの水酸化
物、炭酸塩または炭酸水素塩、トリアルキルアミン(ト
リメチルアミン、トリエチルアミン等)、ピコリン、1
.5−ジアザビシクロ[:4.3.O]メタン5−エン
、1.4−ジアザビシクロ[2,2,21オクタン、1
.8−ジアザビシクロ[5,4,Oコランデク−7−エ
ン等を挙げることができる。
適当な酸としては、有機酸(例えば、ギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等)およ
び無機酸(例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素
、臭化水素等)を挙げることができる。トリハロ酸#(
例えば、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等)などの
ルイス酸を用いる脱離は、好ましくはカチオン捕捉剤(
例えば、アニソール、フェノール等)の存在下に行われ
る。
ピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等)およ
び無機酸(例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素
、臭化水素等)を挙げることができる。トリハロ酸#(
例えば、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等)などの
ルイス酸を用いる脱離は、好ましくはカチオン捕捉剤(
例えば、アニソール、フェノール等)の存在下に行われ
る。
反応は、通常、水、アルコール(例えば、メタノール、
エタノール等)、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、
その混合物のような溶媒をはじめとして反応に悪影響を
及ぼさないその他の溶媒中で行われる。液状の塩基また
は酸も溶媒として用いることができる1反応温度は特に
限定されず、通常冷却下ないし加温下の範囲で、反応は
行われる。
エタノール等)、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、
その混合物のような溶媒をはじめとして反応に悪影響を
及ぼさないその他の溶媒中で行われる。液状の塩基また
は酸も溶媒として用いることができる1反応温度は特に
限定されず、通常冷却下ないし加温下の範囲で、反応は
行われる。
(i)還元の場合
還元は化学還元および接触還元を含む慣用の方法で行わ
れる。
れる。
化学還元に用いられる適当な還元剤としては、金属(例
えば、スズ、亜鉛、鉄等)または金属化合物(例えば、
塩化クロム、酢酸クロム等)と有機または無機酸(例え
ば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、p
−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等)の組合わ
せである。
えば、スズ、亜鉛、鉄等)または金属化合物(例えば、
塩化クロム、酢酸クロム等)と有機または無機酸(例え
ば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、p
−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等)の組合わ
せである。
接触還元に用いられる適当な触媒としては、白金触媒(
例えば、白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸
化白金、白金線等)、パラジウム触媒(例えば、パラジ
ウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム
−炭素、コロイドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム−炭酸バリウム等)、ニッケル触媒(例
えば、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル等
)、コバルト触媒(例えば、還元コバルト、ラネーコバ
ルト等)、鉄触媒(例えば、還元鉄、ラネー鉄等)、銅
触媒(例えば、還元鋼、ラネー銅、ウルマン銅等)など
の慣用の触媒を挙げることができる。還元は、通常、水
、メタノール、エタノール、プロパツール、N、N−’
;メチルホルムアミド、テトラヒドロフランまたはその
混合物のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中
で行われる。さらに、化学還元で用いられる上記の酸が
液状の場合、それらを溶媒としても用いることができる
。
例えば、白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸
化白金、白金線等)、パラジウム触媒(例えば、パラジ
ウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム
−炭素、コロイドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム−炭酸バリウム等)、ニッケル触媒(例
えば、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル等
)、コバルト触媒(例えば、還元コバルト、ラネーコバ
ルト等)、鉄触媒(例えば、還元鉄、ラネー鉄等)、銅
触媒(例えば、還元鋼、ラネー銅、ウルマン銅等)など
の慣用の触媒を挙げることができる。還元は、通常、水
、メタノール、エタノール、プロパツール、N、N−’
;メチルホルムアミド、テトラヒドロフランまたはその
混合物のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中
で行われる。さらに、化学還元で用いられる上記の酸が
液状の場合、それらを溶媒としても用いることができる
。
この還元の反応温度は特に限定されず、通常冷却下ない
し加温下の範囲で、反応は行われる。
し加温下の範囲で、反応は行われる。
製造法4
化合物(Ib)またはその塩は、化合物(I c)また
はそのアミノ基における反応性誘導体またはその塩をア
シル化反応に付すことにより製造することができる。
はそのアミノ基における反応性誘導体またはその塩をア
シル化反応に付すことにより製造することができる。
化合物(Ic)のアミノ基における適当な反応性誘導体
としては、化合物(Ic)とアルデヒド、ケトンのよう
なカルボニル化合物との反応によって生成したシッフ塩
基型のイミノ化合物またはそのエナミン型互変異性体;
化合物(Ic)とビス(トノメチルシリル)アセトアミ
ド、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(ト
リメチルジノル)尿素のようなシリル化合物との反応に
よって生成したシリル誘導体;化合物(Ic)と三塩化
溝、ホスゲンなどとの反応によって生成した誘導体など
が挙げられる。
としては、化合物(Ic)とアルデヒド、ケトンのよう
なカルボニル化合物との反応によって生成したシッフ塩
基型のイミノ化合物またはそのエナミン型互変異性体;
化合物(Ic)とビス(トノメチルシリル)アセトアミ
ド、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(ト
リメチルジノル)尿素のようなシリル化合物との反応に
よって生成したシリル誘導体;化合物(Ic)と三塩化
溝、ホスゲンなどとの反応によって生成した誘導体など
が挙げられる。
このアシル化反応に用いられる適当なアシル化剤として
は、慣用のアシル化剤を挙げることができ1.:tt、
ハ[R’−0H(Xl’lr) (式中、RZ;!前
とa
a同じ)で示される化合物またはその反応性誘
導体またはその塩などである。
は、慣用のアシル化剤を挙げることができ1.:tt、
ハ[R’−0H(Xl’lr) (式中、RZ;!前
とa
a同じ)で示される化合物またはその反応性誘
導体またはその塩などである。
化合物(XIV)の適当な反応性誘導体は、酸ハロゲン
化物、酸無水物、活性化アミド、活性化エステル等が挙
げられる。その適当な例としては、酸塩化物;酸アジド
;置換されたリン酸(例えば、ジアルキルリン酸、フェ
ニルリン酸、ジフェニルノン酸、ジベンジルリン酸、ハ
ロゲン化リン酸等)、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チ
オ硫酸、硫酸、スルホン酸(例えば、メタンスルホン酸
等)、アルキル炭酸、脂肪族カルボン酸(例えば、ピバ
リン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、2−エチル酪酸
、トリクロロ酢酸等)または芳香族カルボン酸(例えば
、安息香酸等);対称酸無水物;イミダゾール、4−置
換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾールま
たはテトラゾールとの活性化アミド;活性化エステル(
例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステル
、ジメチルイミノメチル[(CH3)2哀−CH−]エ
ステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、p−
二トロフェニルエステル、2.4−’;ニトロフェニル
エステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロ
フェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニル
アゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、p−ニ
トロフェニルチオエステル、p−タレシルチオエステル
、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、
ピリジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノリル
チオエステル等)またはN−ヒドロキシ化合物(例えば
、N、N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキ
シ−2−(LH)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシン
イミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ
−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾール等)とのエス
テルなどが挙げられる。これらの反応性誘導体は使用す
べき化合物(XIV)の種類によって、これらの中から
適宜選択することができる。
化物、酸無水物、活性化アミド、活性化エステル等が挙
げられる。その適当な例としては、酸塩化物;酸アジド
;置換されたリン酸(例えば、ジアルキルリン酸、フェ
ニルリン酸、ジフェニルノン酸、ジベンジルリン酸、ハ
ロゲン化リン酸等)、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チ
オ硫酸、硫酸、スルホン酸(例えば、メタンスルホン酸
等)、アルキル炭酸、脂肪族カルボン酸(例えば、ピバ
リン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、2−エチル酪酸
、トリクロロ酢酸等)または芳香族カルボン酸(例えば
、安息香酸等);対称酸無水物;イミダゾール、4−置
換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾールま
たはテトラゾールとの活性化アミド;活性化エステル(
例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステル
、ジメチルイミノメチル[(CH3)2哀−CH−]エ
ステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、p−
二トロフェニルエステル、2.4−’;ニトロフェニル
エステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロ
フェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニル
アゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、p−ニ
トロフェニルチオエステル、p−タレシルチオエステル
、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、
ピリジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノリル
チオエステル等)またはN−ヒドロキシ化合物(例えば
、N、N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキ
シ−2−(LH)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシン
イミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ
−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾール等)とのエス
テルなどが挙げられる。これらの反応性誘導体は使用す
べき化合物(XIV)の種類によって、これらの中から
適宜選択することができる。
反応は、通常、アルコール(例えば、メタノール、エタ
ノール等)、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、
塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、N
、N−ジメチルホルムアミド、ビリンンのような慣用の
溶媒をはじめとして反応に悪影響を及ぼさないその他の
溶媒中で行われる。これらの慣用の溶媒は水との混合物
の形で使用することもできる。
ノール等)、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、
塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、N
、N−ジメチルホルムアミド、ビリンンのような慣用の
溶媒をはじめとして反応に悪影響を及ぼさないその他の
溶媒中で行われる。これらの慣用の溶媒は水との混合物
の形で使用することもできる。
化合物(XIV)を遊離酸の形またはその塩の形でこの
反応に使用する場合、反応は、N、N’ −ジノクロへ
キシルカルボジイミド、N−シクロヘキンルーN′−モ
ルホリノエチルカルボジイミド、N−シクロへキシル−
N’−(4−ジエチルアミノ/りロヘキシル)カルボジ
イミド、N、N’ジエチルカルボジイミド、N、 N’
−ジインプロピルカッしポジイミド、N−エチル−N
’−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド;
N。
反応に使用する場合、反応は、N、N’ −ジノクロへ
キシルカルボジイミド、N−シクロヘキンルーN′−モ
ルホリノエチルカルボジイミド、N−シクロへキシル−
N’−(4−ジエチルアミノ/りロヘキシル)カルボジ
イミド、N、N’ジエチルカルボジイミド、N、 N’
−ジインプロピルカッしポジイミド、N−エチル−N
’−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド;
N。
N′ −カルボニルビス−(2−メチルイミタソール)
;ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン;
ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン;エトキ
シアセチレン;1−アルフキシー1−クロロエチレン;
亜リン酸トリアルキル;ポリリン酸エチル:ポリリン酸
インプロピル:オキシ塩化リン(塩化ホスホリル);三
塩化リン:塩化チオニル:塩化オキサリル;トリフェニ
ルホスフィン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイン
キサゾリウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフェニ
ル)イソキサゾリウムヒドロキシド分子内[;1−(p
−’Zクロロンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−
1H−ベンゾトリアゾール;N、N−ジメチルホルムア
ミドと塩化チオニル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロ
メチル、オキシ塩化リン等との反応によって調製したい
わゆるビルスマイヤー試薬などのような慣用の縮合剤の
存在下に行なうことが好ましい。
;ペンタメチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン;
ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン;エトキ
シアセチレン;1−アルフキシー1−クロロエチレン;
亜リン酸トリアルキル;ポリリン酸エチル:ポリリン酸
インプロピル:オキシ塩化リン(塩化ホスホリル);三
塩化リン:塩化チオニル:塩化オキサリル;トリフェニ
ルホスフィン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイン
キサゾリウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフェニ
ル)イソキサゾリウムヒドロキシド分子内[;1−(p
−’Zクロロンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−
1H−ベンゾトリアゾール;N、N−ジメチルホルムア
ミドと塩化チオニル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロ
メチル、オキシ塩化リン等との反応によって調製したい
わゆるビルスマイヤー試薬などのような慣用の縮合剤の
存在下に行なうことが好ましい。
反応はまた、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)ア
ルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモルホ
リン、N、N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等の
無機塩基または有機塩基の存在下に行なってもよい0反
応温度は特に限定されず、通常冷却ないし常温下の範囲
で、反応は行われる。
ルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモルホ
リン、N、N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等の
無機塩基または有機塩基の存在下に行なってもよい0反
応温度は特に限定されず、通常冷却ないし常温下の範囲
で、反応は行われる。
製造法5
化合物(Ie)またはその塩は、化合物(Id)または
その塩をアシル化反応に付すことにより製造することが
できる。
その塩をアシル化反応に付すことにより製造することが
できる。
この反応については後述の実施例2.4.5.7.8.
17および18の反応を参照することができる。
17および18の反応を参照することができる。
製造法6
化合物(If)またはその塩は、化合物(Ia)または
その塩を加水分解反応に付すことにより製造することが
できる。
その塩を加水分解反応に付すことにより製造することが
できる。
この加水分解反応については前出の製造法3の反応を参
照することができる。
照することができる。
製造法7
化合物(Ig)またはその塩は、化合物(If)または
その塩をエステル化反応に付すことにより製造すること
ができる。この反応に使用されるエステル化剤としては
、アルコールまたはその反応性等価物(例えば、ハロゲ
ン化物、スルホン酸エステル、硫酸エステル、ジアゾ化
合物等)のような慣用のものが挙げられる。
その塩をエステル化反応に付すことにより製造すること
ができる。この反応に使用されるエステル化剤としては
、アルコールまたはその反応性等価物(例えば、ハロゲ
ン化物、スルホン酸エステル、硫酸エステル、ジアゾ化
合物等)のような慣用のものが挙げられる。
反応は、通常、アセトン、ジオキサン、アルコール、塩
化メチレン、塩化エチレン、n−ヘキサン、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホルムアミド
のような慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないそ
の他の溶媒中で行われる。
化メチレン、塩化エチレン、n−ヘキサン、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホルムアミド
のような慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないそ
の他の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加温下の
範囲で、反応は行われる。
範囲で、反応は行われる。
製造法8
化合物(Ii)またはその塩は、化合物(Ih>または
その塩を還元に付すことにより製造することができる。
その塩を還元に付すことにより製造することができる。
この反応に適用できる還元方法としては、接触還元が挙
げられる。
げられる。
接触還元に使用される適当な触媒としては、白金触媒(
例えば、白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸
化白金、白金線等)、パラジウム触媒(例えば、パラジ
ウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム
−炭素、コロイドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム−炭酸バリウム等)、ニッケル触媒(例
えば、還元ニッケル、M化ニッケル、ラネーニッケル等
)、コバルト触媒(例えば、還元コバルト、ラネーコバ
ルト等)、鉄触媒(例えば、還元鉄、う不−鉄等)、銅
触媒(例えば、還元鋼、ラネー銅、ウルマン銅等)など
の慣用の触媒を挙げることができる。
例えば、白金板、白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸
化白金、白金線等)、パラジウム触媒(例えば、パラジ
ウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム
−炭素、コロイドパラジウム、パラジウム−硫酸バリウ
ム、パラジウム−炭酸バリウム等)、ニッケル触媒(例
えば、還元ニッケル、M化ニッケル、ラネーニッケル等
)、コバルト触媒(例えば、還元コバルト、ラネーコバ
ルト等)、鉄触媒(例えば、還元鉄、う不−鉄等)、銅
触媒(例えば、還元鋼、ラネー銅、ウルマン銅等)など
の慣用の触媒を挙げることができる。
反応は、通常、アセトン、ジオキサン、アルコール、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル、N。
トラヒドロフラン、酢酸エチル、N。
N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのよ
うな慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他
の溶媒中で行われる。
うな慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他
の溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下の
範囲で、反応は行われる。
範囲で、反応は行われる。
製造法9
化合物(Ij)またはその塩は、化合物(Id)または
その塩をアルキル化反応に付すことにより製造すること
ができる。
その塩をアルキル化反応に付すことにより製造すること
ができる。
この反応については後述の実施例19の反応を参照する
ことができる。
ことができる。
製」l(△
化合物(n)またはその塩は、化合物(1’/)または
その塩を製造法Aの合成チャートに従って反応させるこ
とにより製造することができる。
その塩を製造法Aの合成チャートに従って反応させるこ
とにより製造することができる。
この合成チャートの各々の反応は、ペプチド合成の分野
における常法により行われる。
における常法により行われる。
出発化合物(F/)またはその塩は、後述の製造例に記
載の方法または同様の方法で製造することができる。
載の方法または同様の方法で製造することができる。
鮭泣豊1
化合物(II)またはその塩は、化合物(IX)または
その塩を製造法Bの合成チャートに従って反応させるこ
とにより製造することができる。
その塩を製造法Bの合成チャートに従って反応させるこ
とにより製造することができる。
この合成チャート中の各々の反応社、ペプチド合成の分
野における常法により行われる。
野における常法により行われる。
出発化合物(IX)またはその塩は、後述の製造例に記
載の方法または同様の方法により製造することができる
。
載の方法または同様の方法により製造することができる
。
[発酵による製造法コ
この発明の賀S−9326AおよびWS−9326Bは
、ストレプトミセス・ビオラ七才二ガ−(兆■匹竺屈朋
框剋土造連4虹)陶9326のごときストレプトミセス
属に属するMS −9326Aおよび/またはWS−9
326B生産菌株を培地中で培養させることによって製
造できる。
、ストレプトミセス・ビオラ七才二ガ−(兆■匹竺屈朋
框剋土造連4虹)陶9326のごときストレプトミセス
属に属するMS −9326Aおよび/またはWS−9
326B生産菌株を培地中で培養させることによって製
造できる。
MS−9326AおよびシS−9326Bの生産に使用
する微生物の詳細を以下に説明する。
する微生物の詳細を以下に説明する。
漿土勿
賢S−9326Aおよび貿S−9326Bの生産に使用
できる微生物は、ストレプトミセス属に属するWS−9
326Aおよび/またはWS −9326B生産菌株で
あり、なかでもストレプトミセス・ビオラ七才二ガーN
o、9326は、日本国長野県諏訪市で採集された土壌
試料から新規に分*gれたものである。
できる微生物は、ストレプトミセス属に属するWS−9
326Aおよび/またはWS −9326B生産菌株で
あり、なかでもストレプトミセス・ビオラ七才二ガーN
o、9326は、日本国長野県諏訪市で採集された土壌
試料から新規に分*gれたものである。
その新たに分離されたストレプトミセス・ビオラセオニ
ガ−No 9326の凍結乾燥標本が工業技術院微生物
工業技術研究所(日本国茨城県つくば南東1了目1−3
)に微工研条寄第1667号として、1988年1月2
0日付で寄託されている。
ガ−No 9326の凍結乾燥標本が工業技術院微生物
工業技術研究所(日本国茨城県つくば南東1了目1−3
)に微工研条寄第1667号として、1988年1月2
0日付で寄託されている。
新規す5Js−9326AオヨびWS−9326Bノ生
産は、単に説明のためにのみ挙げた本明細書記載の特定
の微生物に限定されるものではないことを、理解された
い、この発明は、自然突然変異株ならびにX線照射、紫
外線照射、N−メチル−N′ −二トロー−N−ニトロ
ソグアニジン、2−アミノプリンなどによる処理のごと
き慣用手段によって記載微生物から産生せしめろる人工
突然変異株を含めて、IJs−9326AおよびWS−
93261liテキル;F) ラユル変異株の使用をも
包含するものである。
産は、単に説明のためにのみ挙げた本明細書記載の特定
の微生物に限定されるものではないことを、理解された
い、この発明は、自然突然変異株ならびにX線照射、紫
外線照射、N−メチル−N′ −二トロー−N−ニトロ
ソグアニジン、2−アミノプリンなどによる処理のごと
き慣用手段によって記載微生物から産生せしめろる人工
突然変異株を含めて、IJs−9326AおよびWS−
93261liテキル;F) ラユル変異株の使用をも
包含するものである。
ストレプトミセス・ビオラセ才二ガーNQ 9326は
次の形態上、培養上、生物学上および生理学上の特性を
有する。
次の形態上、培養上、生物学上および生理学上の特性を
有する。
〔Jコ形態学的特徴:
この分類学的研究には、シル−リングとゴツトリープが
記載している方法 「イー・ビー・シャーリングおよびデイ−・ゴットリー
プ:メソッズ・フォー・キ勺うクテリゼー〉ヨン・才ブ
・ストレプトミセス・スペーシース、インターナショナ
ル・ジ勺−ナル・才ブ・システマチック・バクテリオロ
ジー (Shirling、 E、B、 and D、 Go
ttlieb : Methodsfor chara
cterization of 5tre tom c
esspecies、 International
Journal of SystematicBact
ariology)、 18.313−340.196
6Jを採用した。
記載している方法 「イー・ビー・シャーリングおよびデイ−・ゴットリー
プ:メソッズ・フォー・キ勺うクテリゼー〉ヨン・才ブ
・ストレプトミセス・スペーシース、インターナショナ
ル・ジ勺−ナル・才ブ・システマチック・バクテリオロ
ジー (Shirling、 E、B、 and D、 Go
ttlieb : Methodsfor chara
cterization of 5tre tom c
esspecies、 International
Journal of SystematicBact
ariology)、 18.313−340.196
6Jを採用した。
形態観察を、オートミール寒天、酵母−麦芽エキス寒天
および無機塩類−でんぷん寒天を用いて30℃で14日
間生育させた培養物について光学顕微鏡および電子顕微
鏡を用いて行った。
および無機塩類−でんぷん寒天を用いて30℃で14日
間生育させた培養物について光学顕微鏡および電子顕微
鏡を用いて行った。
栄養菌糸は、断片化することなく、よく発育した。気菌
糸は車軸型に分岐し、らせん状の胞子鎖を形成した。1
鎖当りの胞子数は10〜30であった。N!子の表面は
滑らかで、形は卵形で、大きさは0.6〜0.8X O
,8〜1,3pであった。菌核顆粒、胞子嚢および硬毛
胞子は観察されなかった。
糸は車軸型に分岐し、らせん状の胞子鎖を形成した。1
鎖当りの胞子数は10〜30であった。N!子の表面は
滑らかで、形は卵形で、大きさは0.6〜0.8X O
,8〜1,3pであった。菌核顆粒、胞子嚢および硬毛
胞子は観察されなかった。
[2コ培養特性:
上述のシャーリングとゴツトリープが記載している、お
よびワクスマン 「ニス・ニー・ワクスマン:ジ・アクチノミセーティス
、第2巻:クラシフィケーション・アイデンティフィケ
ーション・アンド・デスクリブジョン・才ブ・ジェネラ
・アンド・スペシーズ、ザ・ウィリアムス・アンド◆ウ
ィルキンス・カンパニー、バルチモア、 1961年(
%Jaksman、 S、A、 :The acti
nomycetes、 Vol、 2 : C1ass
ification。
よびワクスマン 「ニス・ニー・ワクスマン:ジ・アクチノミセーティス
、第2巻:クラシフィケーション・アイデンティフィケ
ーション・アンド・デスクリブジョン・才ブ・ジェネラ
・アンド・スペシーズ、ザ・ウィリアムス・アンド◆ウ
ィルキンス・カンパニー、バルチモア、 1961年(
%Jaksman、 S、A、 :The acti
nomycetes、 Vol、 2 : C1ass
ification。
1dentificaI−ion and descr
iption of genera andspeci
es、 τhe williams and Wil
kins Co、 。
iption of genera andspeci
es、 τhe williams and Wil
kins Co、 。
Baltimore、 1961) Jが記載している
培地針10種について培養特性をI!察した。
培地針10種について培養特性をI!察した。
30°Cで21日間培養を行った。この研究で用いた色
名は、メス−エン・ハンドブック・オフ・カラー1ニー
・フーネラップおよびフォー・エイチ・ワンシャー:メ
ス−エン・ハンドブック・才プ・カラー、メス−エン、
ロンドン、 1978年(Kornerup、 A、
and J、H,Wanscher : Mathue
nHandbook of Co1our、 Meth
uen、 London、 1978) Jからとった
。
名は、メス−エン・ハンドブック・オフ・カラー1ニー
・フーネラップおよびフォー・エイチ・ワンシャー:メ
ス−エン・ハンドブック・才プ・カラー、メス−エン、
ロンドン、 1978年(Kornerup、 A、
and J、H,Wanscher : Mathue
nHandbook of Co1our、 Meth
uen、 London、 1978) Jからとった
。
結果を第1表に示す。
第1表 菌株歯9326の培養性状
略号二G=生育、A−気菌糸、R=生育裏面の色、S−
可溶性色素 気菌糸は灰色ないしは茶色がかった灰色であった。コロ
ニーの一部は黒く、湿潤した状態となり、たいていの寒
天培地上で吸湿性を示した0発育の裏側は黄色がかった
茶色、茶色および暗い茶色であった。裏側の菌糸体色素
はpH感受性ではなかった。メラノイド色素、その他の
可溶性色素は生産されなかった。
可溶性色素 気菌糸は灰色ないしは茶色がかった灰色であった。コロ
ニーの一部は黒く、湿潤した状態となり、たいていの寒
天培地上で吸湿性を示した0発育の裏側は黄色がかった
茶色、茶色および暗い茶色であった。裏側の菌糸体色素
はpH感受性ではなかった。メラノイド色素、その他の
可溶性色素は生産されなかった。
ベラカーらの方法1ビー・ベッカー、エム・ビー・レシ
ヴアリエル、アール・イー・ゴートンおよびエイチ・ニ
ー・レシヴアリエル:ラピッド・ディファレンシエーシ
ョン・ピトウィーン・ノカルジア・アンド・ストレプト
ミセス・パイ・ペーパー・クロマトグラフィー・才ブ・
ホール・セル・ヒドロリゼーツ:アプライド・マイクロ
バイオロン−(BeCker、 B、、 M、 P、
Lechevalier、 R。
ヴアリエル、アール・イー・ゴートンおよびエイチ・ニ
ー・レシヴアリエル:ラピッド・ディファレンシエーシ
ョン・ピトウィーン・ノカルジア・アンド・ストレプト
ミセス・パイ・ペーパー・クロマトグラフィー・才ブ・
ホール・セル・ヒドロリゼーツ:アプライド・マイクロ
バイオロン−(BeCker、 B、、 M、 P、
Lechevalier、 R。
E、 Gordon and H,A、 Lechev
alier : Rapiddifferentiat
ion between Nocardia andS
ere tom ces by piper chro
matography ofwhole cell h
ydrolysates : Appl、 Micro
biol、 )。
alier : Rapiddifferentiat
ion between Nocardia andS
ere tom ces by piper chro
matography ofwhole cell h
ydrolysates : Appl、 Micro
biol、 )。
12、421−423.1964) Jおよび山口の方
法「山口:コンポl)アン・才ブ・ザ・セル・ウオール
・コンポジション・才ブ・モルホロジカリー・デイステ
インクト・アクチノミセーテス:ジャーナル・才プ・バ
クテリオロジー(Yamaguchi、 T、 :Co
mparison of the cell wall
composition ofmorphologi
cally distinct actinomyce
tes : J。
法「山口:コンポl)アン・才ブ・ザ・セル・ウオール
・コンポジション・才ブ・モルホロジカリー・デイステ
インクト・アクチノミセーテス:ジャーナル・才プ・バ
クテリオロジー(Yamaguchi、 T、 :Co
mparison of the cell wall
composition ofmorphologi
cally distinct actinomyce
tes : J。
Bacteriol、 ) 、 89.444−453
.1965) Jによって細胞壁分析を行った。菌株N
o、9326の全細胞加水分解物の分析により、LL−
ジアミノピメリン酸の存在が示された。従って、この株
の細胞壁はタイプIであると考えられる。
.1965) Jによって細胞壁分析を行った。菌株N
o、9326の全細胞加水分解物の分析により、LL−
ジアミノピメリン酸の存在が示された。従って、この株
の細胞壁はタイプIであると考えられる。
[3]生物学的および生理学的性質:
生理学的性質および炭素源の利用をそれぞれ第2表およ
び第3表に示す。
び第3表に示す。
炭素源の利用は、ブリドハムおよびゴツトリープの方法
1テイー・ジー・プリドハムおよびデイ−・ゴットリー
プ:ザ・ユーテイリゼーション・才プ・カーボン・フン
パウンズ・パイeサム・アクデノマイセッテールズ・ア
ズ・アン・エイド・フォー・スペーシーズ・デターミネ
ーション:ジケーナル・才ブ・バクテリオロジー(Pr
idham、 T、 G、 and D、 Gottl
ieb : Theueilization of c
arbon compounds by someAc
tinomycetales as an aid f
or speciesdetermination :
J、 Bactariol、)、 56.107−1
14゜1948 、に従って調べた。
1テイー・ジー・プリドハムおよびデイ−・ゴットリー
プ:ザ・ユーテイリゼーション・才プ・カーボン・フン
パウンズ・パイeサム・アクデノマイセッテールズ・ア
ズ・アン・エイド・フォー・スペーシーズ・デターミネ
ーション:ジケーナル・才ブ・バクテリオロジー(Pr
idham、 T、 G、 and D、 Gottl
ieb : Theueilization of c
arbon compounds by someAc
tinomycetales as an aid f
or speciesdetermination :
J、 Bactariol、)、 56.107−1
14゜1948 、に従って調べた。
第2表 菌株No9326の生理学的性質条件
特性
生育温度範囲
IL”C〜47”C
生育至適温度範囲
29℃〜31℃
ゼラチン液化
ミルク凝固
ミルクペプトン化
でんぷん加水分解
メラノイド色素の産生
セルロースの分解
陽性
陰性
陽性
陽性
陰性
陰性
第3表
菌株No 9326の炭素利用
化合物
D−グルツース
スクロース
D−キシロース
D−フルクトース
L−ラムノース
ラフィノース
L−アラビノース
イノシトール
マンニトール
+:利用
菌株Nu 9326の形態および化学的特徴から、該微
生物をストレプトミセス属に明瞭に帰属させることがで
きた。
きた。
菌株No9326を、バージ−のマニュアル第8版1ア
ール・イー・ブチャナンおよびエヌ・イー・ギボンズ:
バージーズ・マニュアル・才プ・ディターミネイティブ
・バクテリオロジー、第8版。
ール・イー・ブチャナンおよびエヌ・イー・ギボンズ:
バージーズ・マニュアル・才プ・ディターミネイティブ
・バクテリオロジー、第8版。
ザ・ウィリアムス・アンド・ウィルキンス・カンパニー
、バルチモア、 1974年(Buchanan、 R
,E。
、バルチモア、 1974年(Buchanan、 R
,E。
and N、 E、 Gibbons :
Bargay’s manual ofdetem
inative bacteriology、 eig
ht edition。
Bargay’s manual ofdetem
inative bacteriology、 eig
ht edition。
Ihe Williams and Wilkins
Co、 、 Baltimore。
Co、 、 Baltimore。
1974) J
中に記載されているストレプトミセス種、シャーリング
のISPレポート[「イー・ビー・シャーリングおよび
デイ−・ゴ/トリープ:コー才ペレーテイプ・ディスク
リブジョン・才ブ・タイプ・カルチャー・才プ・ストレ
プトミセス、2.スピーシーズ・ディスクリブジョン・
フロム・ファースト・スタデイ−、インターナショナル
・ジャーナル・才ブ・システマティク・バクテリオロジ
−(Sbirling、 E、 B、 and
D、 Gottlieb :Cooperative
description of type cult
ure ofStre tom ces、2. 5pe
cies descriptions fromfir
st 5tudy、 Intern、 J、 5
yst、 Bacteriol、 ) 18: 69
−189. 1968 J、′イー・ビー・シャーリン
グおよびデイ−・ゴットリーブ:フーオペラティブ・デ
ィスクリブジョン・才ブ・タイプ・カルチャー・才ブ・
ストレプトミセス、3.アディショナル・スピーシーズ
・ディスクリブジョンズ・フロム・ファースト・アント
−セカンド・スタディーズ、インターナショナル・ジャ
ーナル・才プ・システマティク・バクテリオロジー(S
hirling、 E、 B、 and D、 Got
tlieb 1Cooperative descri
ptions of type culture of
Stre ton ces、3. Additiona
l 5peciesdescriptions fro
m first and 5econd 5tudie
s。
のISPレポート[「イー・ビー・シャーリングおよび
デイ−・ゴ/トリープ:コー才ペレーテイプ・ディスク
リブジョン・才ブ・タイプ・カルチャー・才プ・ストレ
プトミセス、2.スピーシーズ・ディスクリブジョン・
フロム・ファースト・スタデイ−、インターナショナル
・ジャーナル・才ブ・システマティク・バクテリオロジ
−(Sbirling、 E、 B、 and
D、 Gottlieb :Cooperative
description of type cult
ure ofStre tom ces、2. 5pe
cies descriptions fromfir
st 5tudy、 Intern、 J、 5
yst、 Bacteriol、 ) 18: 69
−189. 1968 J、′イー・ビー・シャーリン
グおよびデイ−・ゴットリーブ:フーオペラティブ・デ
ィスクリブジョン・才ブ・タイプ・カルチャー・才ブ・
ストレプトミセス、3.アディショナル・スピーシーズ
・ディスクリブジョンズ・フロム・ファースト・アント
−セカンド・スタディーズ、インターナショナル・ジャ
ーナル・才プ・システマティク・バクテリオロジー(S
hirling、 E、 B、 and D、 Got
tlieb 1Cooperative descri
ptions of type culture of
Stre ton ces、3. Additiona
l 5peciesdescriptions fro
m first and 5econd 5tudie
s。
Intern、 J、 5yst、 Bacterio
l、 ) 18 : 279−392゜1968 、お
よび 「イー・ビー・シャーリングおよびデイ−・ゴットリー
ブ:フーオペラティプ・ディスクリブジョン・才ブ・タ
イプ・カルチャー・才プ・ストレプトミセス 4.スピ
ーシーズ・ディスクリプションス・フロム・ザ・セカン
ド・サード・アンド・フォース・スタディーズ、インタ
ーナショナル・′;ヤーナル・才ブ・システマテイク・
バクテリオo ’、; −(Shirling、 E、
B、 and D、 Gottlieb :Coop
erative description of ty
pe culture ofStre tom ces
、 4.5pecies descriptions
fromth63eC□nd、 third and
fourth 5tudies。
l、 ) 18 : 279−392゜1968 、お
よび 「イー・ビー・シャーリングおよびデイ−・ゴットリー
ブ:フーオペラティプ・ディスクリブジョン・才ブ・タ
イプ・カルチャー・才プ・ストレプトミセス 4.スピ
ーシーズ・ディスクリプションス・フロム・ザ・セカン
ド・サード・アンド・フォース・スタディーズ、インタ
ーナショナル・′;ヤーナル・才ブ・システマテイク・
バクテリオo ’、; −(Shirling、 E、
B、 and D、 Gottlieb :Coop
erative description of ty
pe culture ofStre tom ces
、 4.5pecies descriptions
fromth63eC□nd、 third and
fourth 5tudies。
Intarn、 J、 5yst、 Bacterio
l、 ) 19 : 391−512゜1969plに
記載されているストレプトミセス種、“アブルーブト・
リスト・才ブ・バクチリアル・不一ムズ 1ブイ・ビー・デイ−・スケルマン;ブイ・フックゴー
フンおよびビー・エイチ・ニー・スネース:アプルーブ
ド・リスト・才ブ・バクチリアル・ネームズ、インター
ナショナル・ジャーナル・才プ・ンステマティク・バタ
テリオロジー(Skerman、 V、B、D、 ;V
、 McGowan & P、H,A、 5neath
: Approved 1ist of bacter
ial names、 Intern。
l、 ) 19 : 391−512゜1969plに
記載されているストレプトミセス種、“アブルーブト・
リスト・才ブ・バクチリアル・不一ムズ 1ブイ・ビー・デイ−・スケルマン;ブイ・フックゴー
フンおよびビー・エイチ・ニー・スネース:アプルーブ
ド・リスト・才ブ・バクチリアル・ネームズ、インター
ナショナル・ジャーナル・才プ・ンステマティク・バタ
テリオロジー(Skerman、 V、B、D、 ;V
、 McGowan & P、H,A、 5neath
: Approved 1ist of bacter
ial names、 Intern。
J、 5yst、 Bacteriol、 ) 30
: 225−420. 1980 Jにリストされて
いる種ならびに他の参考文献[’ニス・ティー・ウィリ
アムス:エム・グ・ノドフェロ−、ジー・アルダーソン
、イー◆エム・エイテ・ウェリントン、ピー・エイチ・
ニー・スネースおよびエム・ジエイ・サツキイン:ニュ
ーメリカル・クラシフィケーション・才ブ・ストレプト
ミセス・アンド・リレーティド・ジエネラ。
: 225−420. 1980 Jにリストされて
いる種ならびに他の参考文献[’ニス・ティー・ウィリ
アムス:エム・グ・ノドフェロ−、ジー・アルダーソン
、イー◆エム・エイテ・ウェリントン、ピー・エイチ・
ニー・スネースおよびエム・ジエイ・サツキイン:ニュ
ーメリカル・クラシフィケーション・才ブ・ストレプト
ミセス・アンド・リレーティド・ジエネラ。
ブヤーナル・才ブ・ジェネラル・マイクロバイオロジー
(Williams、 S、T、 : M、 Goo
dfellow、 G。
(Williams、 S、T、 : M、 Goo
dfellow、 G。
Alderson、 E、M、H,Wellingto
n、 P、H,A、 5neathand MJ、 5
ackin : Numerical claasif
icationof Straptomyces an
d related genera、 J、 Gen。
n、 P、H,A、 5neathand MJ、 5
ackin : Numerical claasif
icationof Straptomyces an
d related genera、 J、 Gen。
Microbiol、 ) 129 : 1743−1
813.1983Jおよび「ニー・デイー′ン:クリテ
リア・フォア・キャラクタリゼーション・才ブ・ヒゲロ
スコピカス・ストレインズ(Dietz、 A、 :
Cr1taria forcharacterizat
ion of )lygroscopicus 5tr
ains ) 。
813.1983Jおよび「ニー・デイー′ン:クリテ
リア・フォア・キャラクタリゼーション・才ブ・ヒゲロ
スコピカス・ストレインズ(Dietz、 A、 :
Cr1taria forcharacterizat
ion of )lygroscopicus 5tr
ains ) 。
新井部“アクチノミセーテイス;ザ・バウンダノー・マ
イクロオーガニエム(Actinomycetes ;
The Boundary Microorganis
ms )”PP 1113−191゜1976、]に記
載されている種と比較した。
イクロオーガニエム(Actinomycetes ;
The Boundary Microorganis
ms )”PP 1113−191゜1976、]に記
載されている種と比較した。
その結果、菌株No 9326は、ストレプトミセス・
ビオラ七才二ガーに極めて似ていることが判明した。従
って、菌株N119326をストレプトミセス・ビオラ
セオニガーと同定し、ストレプトミセス・ビ才うセ才二
ガーNc9326と命名した。
ビオラ七才二ガーに極めて似ていることが判明した。従
って、菌株N119326をストレプトミセス・ビオラ
セオニガーと同定し、ストレプトミセス・ビ才うセ才二
ガーNc9326と命名した。
WS −9326AおよびWS−9326Bの生産この
発明の新規賀S−9326AおよびMS−9326Bは
、ストレプトミセス属に属するWS −9326Aおよ
び/またはν5−(1326B生産菌株(たとえばスト
レプトミセス・ビオラセ才二ガーNo 9326、微工
研条寄第1667号)を培地中で培養することによって
生産できる。
発明の新規賀S−9326AおよびMS−9326Bは
、ストレプトミセス属に属するWS −9326Aおよ
び/またはν5−(1326B生産菌株(たとえばスト
レプトミセス・ビオラセ才二ガーNo 9326、微工
研条寄第1667号)を培地中で培養することによって
生産できる。
一般に、MS−9326AオヨびWS−9326Bハ、
同化性の炭素源および窒素源を含有する水性栄養培地中
で、MS−9326Aおよび/またはWS −9326
B生産菌株を、好ましくは好気性条件下で(たとえば振
盪培養、深部培養など)、培養することによって生産で
きる。
同化性の炭素源および窒素源を含有する水性栄養培地中
で、MS−9326Aおよび/またはWS −9326
B生産菌株を、好ましくは好気性条件下で(たとえば振
盪培養、深部培養など)、培養することによって生産で
きる。
該栄養培地中の好ましい炭素源は、グルコース、キシロ
ース、ガラクトース、グリセリン、でんぷん、デキスト
リンなどの炭水化物である。包含されうる他の炭素源は
、マルトース、ラムノース、ラフィノース、アラビノー
ス、マンノース、ナリシン、コハダ酸ナトリウムなどで
ある。
ース、ガラクトース、グリセリン、でんぷん、デキスト
リンなどの炭水化物である。包含されうる他の炭素源は
、マルトース、ラムノース、ラフィノース、アラビノー
ス、マンノース、ナリシン、コハダ酸ナトリウムなどで
ある。
好ましい窒素源は、酵母エキス、ペプトン、グルテン粉
、綿実粉、大豆粉、コーンスチープリカー、乾燥酵母、
小麦胚芽、フェザ−ミール、落花生粉など、ならびに、
アンモニウム塩類(たとえば硝酸アンモニウム、硫酸ア
ンモニウム、リン酸アンモニウムなど)、尿素、アミノ
酸などの無機および有機窒素化合物である。
、綿実粉、大豆粉、コーンスチープリカー、乾燥酵母、
小麦胚芽、フェザ−ミール、落花生粉など、ならびに、
アンモニウム塩類(たとえば硝酸アンモニウム、硫酸ア
ンモニウム、リン酸アンモニウムなど)、尿素、アミノ
酸などの無機および有機窒素化合物である。
炭素源および窒素源は好ましくはそれらの組合わせで使
用されるが、微量の生育因子および相当量の無機栄養素
を含有していれば純度の低い物質も使用でき、必ずしも
純粋な形で使用する必要はない。所望により培地に炭酸
ナトリウムまたは炭酸カルシウム、燐酸ナトリウムまた
は燐酸カリウム、塩化ナトリウムまたは塩化カリウム、
沃化ナトリウムまたは沃化カリウム、マグネシウム塩、
銅塩、コバルト塩等の無機塩を添加してもよい。
用されるが、微量の生育因子および相当量の無機栄養素
を含有していれば純度の低い物質も使用でき、必ずしも
純粋な形で使用する必要はない。所望により培地に炭酸
ナトリウムまたは炭酸カルシウム、燐酸ナトリウムまた
は燐酸カリウム、塩化ナトリウムまたは塩化カリウム、
沃化ナトリウムまたは沃化カリウム、マグネシウム塩、
銅塩、コバルト塩等の無機塩を添加してもよい。
特に培養培地が著しく発泡する場合には、必要により液
状パラフィン、脂肪油、植物油、鉱油またはンリコンの
ような消泡剤を添加してもよい。
状パラフィン、脂肪油、植物油、鉱油またはンリコンの
ような消泡剤を添加してもよい。
νS−9326Aおよび賀S−9326Bを大量生産す
る条件としては、深部好気培養が好ましい。少量生産に
はフラスコまたはびん中で振とう培養または表面培養が
行われる。さらにまた、大型タンク内で生育を実施する
場合には、’dS−9326AおよびwS−9326B
の生産工程における生育遅延を回避するために、微生物
の前培養を用いて生産タンク中に菌を接種するのが好ま
しい、すなわち、比較的少量の培養培地に微生物の胞子
または菌糸を接種し、その接種培地を培養して微生物の
前培養接種物をまず生産し、次いで培養した前培養接種
物を無菌的に大型タンクに移すのが望ましい。この前培
養接種物を生産する培地は、MS −9326Aおよび
MS−9326Bの生産に使用される培地と実質的に同
じであってもよく、また異なってもよい。
る条件としては、深部好気培養が好ましい。少量生産に
はフラスコまたはびん中で振とう培養または表面培養が
行われる。さらにまた、大型タンク内で生育を実施する
場合には、’dS−9326AおよびwS−9326B
の生産工程における生育遅延を回避するために、微生物
の前培養を用いて生産タンク中に菌を接種するのが好ま
しい、すなわち、比較的少量の培養培地に微生物の胞子
または菌糸を接種し、その接種培地を培養して微生物の
前培養接種物をまず生産し、次いで培養した前培養接種
物を無菌的に大型タンクに移すのが望ましい。この前培
養接種物を生産する培地は、MS −9326Aおよび
MS−9326Bの生産に使用される培地と実質的に同
じであってもよく、また異なってもよい。
培養混合物の攪拌および通気は種々の方法で行うことが
できる。PJl拌はプロペラまたはこれに準する攪拌装
置を用いるか、醗酵器を回転させるかまたは振とうする
か、種々のポンプ装置を用いるか、または培地中に滅菌
空気を通すことによっても行うことができる0通気は滅
菌生気を醗酵混合物中を通過させることにより行っても
よい。
できる。PJl拌はプロペラまたはこれに準する攪拌装
置を用いるか、醗酵器を回転させるかまたは振とうする
か、種々のポンプ装置を用いるか、または培地中に滅菌
空気を通すことによっても行うことができる0通気は滅
菌生気を醗酵混合物中を通過させることにより行っても
よい。
醗酵は通常、約20°C〜40’Cの温度範囲、好まし
くは25〜35℃で、約50〜150時間行われるが、
醗酵条件および醗酵規模によって適宜変化させればよい
。
くは25〜35℃で、約50〜150時間行われるが、
醗酵条件および醗酵規模によって適宜変化させればよい
。
このようにして生産されたMS−9326Aおよび6−
9326Bは、他の既知の生物学的活性物質の回収に通
常使用される慣用の方法で培養培地から回収することが
できる。生産されたMS−9326AおよびMS−93
26Bは、培養菌糸中および濾液中に見出され、従って
MS−9326AおよびMS−9326Bは、培養ブロ
スの濾過または遠心分離によって得られる菌糸および濾
液から、減圧濃縮、凍結乾燥、常用の溶媒による抽出、
pH調整、例えば陰イオン交換樹脂または陽イオン交換
樹脂、非イオン性吸着樹脂等の常用の樹脂による処理、
例えば活性炭、ケイ酸、シリカゲル、セルロース、アル
ミナ等の常用の吸着剤による処理、結晶化、再結晶化等
の慣用の方法によって分離、jjt製することができる
。
9326Bは、他の既知の生物学的活性物質の回収に通
常使用される慣用の方法で培養培地から回収することが
できる。生産されたMS−9326AおよびMS−93
26Bは、培養菌糸中および濾液中に見出され、従って
MS−9326AおよびMS−9326Bは、培養ブロ
スの濾過または遠心分離によって得られる菌糸および濾
液から、減圧濃縮、凍結乾燥、常用の溶媒による抽出、
pH調整、例えば陰イオン交換樹脂または陽イオン交換
樹脂、非イオン性吸着樹脂等の常用の樹脂による処理、
例えば活性炭、ケイ酸、シリカゲル、セルロース、アル
ミナ等の常用の吸着剤による処理、結晶化、再結晶化等
の慣用の方法によって分離、jjt製することができる
。
上記のプロセスに従って生産されたMS−9326Aは
、次の物理化学的性質を有する。
、次の物理化学的性質を有する。
(1)形状および色調:
無色の粉末
(2)呈色反応
陽性:硫酸セリウム反応、
沃素蒸気反応、
塩化第二鉄−フェリシアン化
カリウム反応
陰性:ニンヒドリン反応、モーリッシュ反応、塩化第二
鉄反応、エールリッヒ 反応、パウリ反応 (3) fa解性: 可溶:メタノール、エタノール M溶:アセトン、酢酸エチル 不溶:水、クロロホルム 〈4〉融点:187〜190℃ (5)比旋光度: [αコo3 : −84” (c=t、o、 Ma
OH)(6)紫外線吸収スペクトル: 入”0H280nm (E =34.700)ax (7〉赤外線吸収スペクトル: vKB” = 3300.3050.2950.292
0.2860.1730゜fIaX 1650、1610.1560.1540.1530.
1510゜1440、1380.1340.12g0.
1240.1170゜1110、1080.1060.
1040.970.920゜880、860.830
cm−’ 上記スペクトルのチャートを図1に示す。
鉄反応、エールリッヒ 反応、パウリ反応 (3) fa解性: 可溶:メタノール、エタノール M溶:アセトン、酢酸エチル 不溶:水、クロロホルム 〈4〉融点:187〜190℃ (5)比旋光度: [αコo3 : −84” (c=t、o、 Ma
OH)(6)紫外線吸収スペクトル: 入”0H280nm (E =34.700)ax (7〉赤外線吸収スペクトル: vKB” = 3300.3050.2950.292
0.2860.1730゜fIaX 1650、1610.1560.1540.1530.
1510゜1440、1380.1340.12g0.
1240.1170゜1110、1080.1060.
1040.970.920゜880、860.830
cm−’ 上記スペクトルのチャートを図1に示す。
(8)元素分析:
実験値: C60,18,H6,61,N 10.32
C54H68N80132H20としての計算値:C6
0,43,H6,76、N 10.44(9)薄層クロ
マトグラフィー: 固定相 関溶 吐通シリカゲル
りロロホルムーメタノール 0.38プレート
(5: 1. v/v)(メルク 7−ト57
15) RP−18プレート メタノール−水(メルク)
(8:2.v/v)(10)分子式” 54’
68N80L3(11〉分子量: FAB−MS : rn/z 1037 (M+H)”
(12)物質の性質: 酸性物質 (13) 13C核磁気共鳴スペクトル:(100MH
z、CD30D ) 8 175.69 (s)、 174.70
173.73 (s)、 173.381
72.89 (s)、 171.041
70.45 (s)、 167.791
67.15 (s)、 159.201
40.05 (d)、 139.1213
8.71 (S)、 135.2713
4.85 (s)、 132.11132
.03 (s)、 131.69(S)。
C54H68N80132H20としての計算値:C6
0,43,H6,76、N 10.44(9)薄層クロ
マトグラフィー: 固定相 関溶 吐通シリカゲル
りロロホルムーメタノール 0.38プレート
(5: 1. v/v)(メルク 7−ト57
15) RP−18プレート メタノール−水(メルク)
(8:2.v/v)(10)分子式” 54’
68N80L3(11〉分子量: FAB−MS : rn/z 1037 (M+H)”
(12)物質の性質: 酸性物質 (13) 13C核磁気共鳴スペクトル:(100MH
z、CD30D ) 8 175.69 (s)、 174.70
173.73 (s)、 173.381
72.89 (s)、 171.041
70.45 (s)、 167.791
67.15 (s)、 159.201
40.05 (d)、 139.1213
8.71 (S)、 135.2713
4.85 (s)、 132.11132
.03 (s)、 131.69(S)。
(S)。
〈S〉。
(S)。
(S〉。
(S)。
(d)。
(d〉。
(d) x 2゜
0.46
130.70 (d)、 129.90 (d
)。
)。
129.61 (d) x 2. 129.22 (
d) x 2゜128.55 (d)、 t2
s、Oa (d)。
d) x 2゜128.55 (d)、 t2
s、Oa (d)。
127.99 (d)、 127.38 (d
)。
)。
126.09 (s)、 123.70 (d
)。
)。
115.63 (d) x 2. 73.46 (d
)。
)。
71.34 (d)、 62.
80 (t)。
80 (t)。
59.53 (d)、 56
.91 (d)。
.91 (d)。
56.76 (a>、 55.55 (d)。
53.64 (d)、 52.10 (d)。
39.85 (t)、 37.18 (t)。
37.09 (t)、 34.58 (Q)。
31.37 (t)、 24.56 (d)。
23.63 (t)、 22.71 (Q)。
22.52 (q)、 21.17 (q)。
17.19 (q)、 14.13 (Q)。
上記スペクトルのチャートを図2番こ示す。
(14) ’H核磁気共鳴スペクトル:(400MHz
、 CD5OD )δ 7.80 <IH,d、J=8)1z)。
、 CD5OD )δ 7.80 <IH,d、J=8)1z)。
7.67
7.45−7
7.06
6.83
6.65
6.59
88
5.55
5.35
5.10
4.68
4.55
4.48
3.92
3.70
3.62
3.46
2.94
2.89
2.74
(L)1.d、J=161(Z)。
14 (1,m>。
(2H,d、J=8Hz)。
(IH,s)。
(2H,d、J=8Hz)。
(if(、d、J=12Hz)。
(IH,dt、J=12および7Hz)。
(18,m)。
(1)1.ブロードシグナル (broad sig
nal))。
nal))。
(LH,dd、J=3および9.5Hz)。
(IH,d、J=10Hz>。
(LH,t、J=6Hz>。
(LH,dd、 J=3および12H2) 。
(2H,d、J=6Hz)。
(1)1.t、J=7.5Hz>。
(LH,+++)。
(IH,dd、J=3および14H2)。
(LH,dd、J=3および16Hz )(3H,s)
。
。
(IH,dd、 J=9.5およびt6Hz)。
2.69 (IH,dd、J=12および14H
z)。
z)。
2.14 (2)1.m)。
1.5−1.4 (2H劃)。
1.20 <3H,d、J=6Hz)。
1、08 (3H,d、J=6Hz)。
t、o−o、g (2H劃)。
0.91 (3H,t、J=7)1z)。
0、6 (LH,m)。
0.53 (3)1.d、J=6Hz)。
0、51 (3H,d、J=6Hz)。
上記スペクトルのチャート、を図3に示す。
(15)アミノ酸分析:
育S−9326A(5n+g)を、封管中、塩酸(2−
)により110°Cで20時間加水分解した。Ki合物
を蒸発乾固して加水分解産物を得て、これを日立835
自動アミノ酸分析装置により分析した。
)により110°Cで20時間加水分解した。Ki合物
を蒸発乾固して加水分解産物を得て、これを日立835
自動アミノ酸分析装置により分析した。
アミノ酸分析結果:
トレオニン(2)、ロイシン(1)、フェニルアラニン
(1〉、アスパラギン酸(1)、セリン(1)、メチル
アミン(1)およびアンモニア(1) 図2および3に示された13Cおよび H核磁気共鳴ス
ペクトルは、WS −9326AがCD30D溶液中で
少なくとも2つの安定なフンフォメーション(Conf
ormation )をとっていることを示している。
(1〉、アスパラギン酸(1)、セリン(1)、メチル
アミン(1)およびアンモニア(1) 図2および3に示された13Cおよび H核磁気共鳴ス
ペクトルは、WS −9326AがCD30D溶液中で
少なくとも2つの安定なフンフォメーション(Conf
ormation )をとっていることを示している。
そして、上記(13)および(14〉に記載された化学
シフトはWS−9326Aの主要なフンフォーマ−(c
onformer )の化学シフトである。
シフトはWS−9326Aの主要なフンフォーマ−(c
onformer )の化学シフトである。
上記のプロセスに従って生産されたWS−9326Bは
、次の物理化学的性質を有する。
、次の物理化学的性質を有する。
(1)形状および色調:
無色の粉末
(2)呈色反応:
陽性:硫酸セリウム反応、沃素蒸気反応陰性:二ンヒド
リン反応 (3)溶解性: 可溶:メタノール g1溶:エタノール 不m:水、アセトン、酢酸エチル、クロロホルム (4〉融点:165〜170℃(分解)(5)比旋光度
: [αコ23 、 −a4° (C=1.0. Me
OH)(6)紫外線吸収スペクトル: MeOH λ =283 nm (E ;27.000)ax 〈7〉分子式: %式% : C54’7ON8013”H2Oとしての計算値:C6
0,32,H6,94,N 10.42(9)分子量: FAB−MS : m/z t061.6 (W+Na
)”(10〉薄層クロマトグラフィー: 固定相 聞溶媒 歴量シリカケル
りロロホルムーメタノール 0.31プレート
(5:1.v/v)(メルク アー←5715
) RP−18プレート メタノール−水(8: 2.
v/v) 0.2!(11)赤外線吸収スペクト
ル: Br vffla!= 3300.3050.2950.17
35.1660.1530゜1510、1450.14
00.1380.1340.1260゜1220、10
80.980.920 am−1(12) 13C核磁
気共鳴スペクトル:(100MHz、CD30D )
5 174.99 (s)、 174.54 (s
)。
リン反応 (3)溶解性: 可溶:メタノール g1溶:エタノール 不m:水、アセトン、酢酸エチル、クロロホルム (4〉融点:165〜170℃(分解)(5)比旋光度
: [αコ23 、 −a4° (C=1.0. Me
OH)(6)紫外線吸収スペクトル: MeOH λ =283 nm (E ;27.000)ax 〈7〉分子式: %式% : C54’7ON8013”H2Oとしての計算値:C6
0,32,H6,94,N 10.42(9)分子量: FAB−MS : m/z t061.6 (W+Na
)”(10〉薄層クロマトグラフィー: 固定相 聞溶媒 歴量シリカケル
りロロホルムーメタノール 0.31プレート
(5:1.v/v)(メルク アー←5715
) RP−18プレート メタノール−水(8: 2.
v/v) 0.2!(11)赤外線吸収スペクト
ル: Br vffla!= 3300.3050.2950.17
35.1660.1530゜1510、1450.14
00.1380.1340.1260゜1220、10
80.980.920 am−1(12) 13C核磁
気共鳴スペクトル:(100MHz、CD30D )
5 174.99 (s)、 174.54 (s
)。
173.60 (s)、 173.41 (
s)。
s)。
173.30 (s)、 171
.27 (s)。
.27 (s)。
170.74 (s)、 170.19 (
s)。
s)。
168.69 (sン、 157
.59 Cs>−140,53(d)、
139.35 (s)。
.59 Cs>−140,53(d)、
139.35 (s)。
139.1111 (s)、 1
35.76 (d)134.17 (S)、
131.15 (d) X 2゜13(1,93(
d)、 130.35 (d)。
35.76 (d)134.17 (S)、
131.15 (d) X 2゜13(1,93(
d)、 130.35 (d)。
12cj、8B (d)χ2. 129.39 (d
)χ2゜128.70 (d)、 128.S
J3 (s)。
)χ2゜128.70 (d)、 128.S
J3 (s)。
128.13 (d)、 127.64 (
d)。
d)。
127.53 (d>、 121.99 (
d)。
d)。
116.45 (dン x 2. 72
.76 (d)。
.76 (d)。
70.82 (d)、 62.73 (t
)。
)。
62.67 (dン、 59
.35 (d)。
.35 (d)。
56.33 (d) x 2. 56
.19 (d)。
.19 (d)。
53.36 (d)、 52.24 (d
)。
)。
40.24 (t)、 37.55 (t
)。
)。
37.08 (t)、 33.69 (t
)。
)。
3157 (t)、 29.93 (q)
。
。
24.61 (dン、 23
.70 (q)。
.70 (q)。
23.59 (t)、 22.16 (q
)。
)。
21.36 (qン、 17
.12 (q)。
.12 (q)。
14.23 (q)。
上記スペクトルのチャートを図6に示す。
(13)IH核磁気共鳴スペクトル:
(400MHz、CD30D )δ
7.86 (IH,d、J=16Hz)。
7.80 (18,br d、J=8H
z>。
z>。
7.12−7.42 (11)1劃)。
6.77 (2H,d、J=8.6Hz)。
6.61 <IH,d、J:11.5Hz>。
5.88 (LH,dt、J=7.5および11
.58Z)。
.58Z)。
5、O8
5,04
4,66
65
56
4,48
4,46
3,8B
3.64
51
3.17
3、Ol
2.94
2.71
2.71
2.64
2、04
43
28
1.20
(IH,dd、 J=3.5および10)1z)。
(IH,q、J=6.5)1z)。
(IH,dd、J=3.5および13)1z)。
(IH,d、J=11.5)1z)。
(LH,dd、 J=2.5および7Hz>。
(IH,dd、J=4.5および11Hz>。
(lH,s)。
(2H,m)。
(2H,mン。
(I H,dd、 J=3.5および14)12)。
(IH,dd、 J=4.5および14)IZ>。
(1)1.dd、J=Hおよび14Hz>。
(IH,dd、 J=3.5および1’6Hz)。
(38,sン。
(IH,dd、J=10および16Hz>。
(IH,dd、J=13および14Hz>。
(2H,m)。
(2H,m)。
(2H,m)。
(3H,d、J=5Hz>。
0.95 (31(、dJ=6.5Hz>
。
。
0.87 <38.t、Jニア、5Hz)。
0、53 (LH,m)。
0、52 (6H,d、J=10.5Hz)。
上記スペクトルのチャートを図7に示す。
3
図6および7に示された Cおよび1H核磁気共鳴スペ
クトルは、MS−93268がCD30D溶液中で少な
くとも2つの安定なフンフォメーションをとっているこ
とを示している。そして、上記(12)および(13〉
に記載された化学シフトはMS−9326Bの主要なコ
ンフォーマ−の化学シフトである。
クトルは、MS−93268がCD30D溶液中で少な
くとも2つの安定なフンフォメーションをとっているこ
とを示している。そして、上記(12)および(13〉
に記載された化学シフトはMS−9326Bの主要なコ
ンフォーマ−の化学シフトである。
上記の物理化学的性質ならびに化学構造決定を目的とす
る諸研究の結果として、前記WS−9326Aお・よび
WS−9326Bの各化学構造を以下の如く決定した。
る諸研究の結果として、前記WS−9326Aお・よび
WS−9326Bの各化学構造を以下の如く決定した。
MS−9326A
シS−9326B
R−: (E)−3−[2−((Z)−1−ヘン7ニル
) 7 、 =ル3プロペノイル 目的化合物(I)の医薬として許容される適当な塩の種
類としては、慣用の無毒性の塩、すなわち各種塩基との
塩ならびに酸付加塩を挙げることができる。より具体的
には、アルカリ金属塩(例えば、リチウム塩、ナトリウ
ム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例えば、
カルシウム塩、マグネシウム塩等)、アンモニウム塩の
ような無機塩基との塩、有機アミン塩(例えば、トリエ
チルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールア
ミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロへキシルア
ミン塩、N、N’ −ジベンジルエチレンジアミン塩等
)のような有機塩基との塩、無機酸付加塩(例えば、塩
酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等)、有機カルボ
ン酸付加塩または有機スルホン酸付加塩(例えば、ギ酸
塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石
酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p
−1ルエンスルホン酸塩等)、塩基性アーミノ酸または
酸性アミノ酸との塩(例えば、アルギニン、アスパラギ
ン酸、グルタミン酸等)などが挙げられる。
) 7 、 =ル3プロペノイル 目的化合物(I)の医薬として許容される適当な塩の種
類としては、慣用の無毒性の塩、すなわち各種塩基との
塩ならびに酸付加塩を挙げることができる。より具体的
には、アルカリ金属塩(例えば、リチウム塩、ナトリウ
ム塩、カリウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例えば、
カルシウム塩、マグネシウム塩等)、アンモニウム塩の
ような無機塩基との塩、有機アミン塩(例えば、トリエ
チルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールア
ミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロへキシルア
ミン塩、N、N’ −ジベンジルエチレンジアミン塩等
)のような有機塩基との塩、無機酸付加塩(例えば、塩
酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等)、有機カルボ
ン酸付加塩または有機スルホン酸付加塩(例えば、ギ酸
塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石
酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p
−1ルエンスルホン酸塩等)、塩基性アーミノ酸または
酸性アミノ酸との塩(例えば、アルギニン、アスパラギ
ン酸、グルタミン酸等)などが挙げられる。
化合物(Ia)〜(!j〉、(I[)および(Ilr)
の適、当な塩としては、化合物(I)で例示したものと
同じものが挙げられる。
の適、当な塩としては、化合物(I)で例示したものと
同じものが挙げられる。
本明細書における以上の記載ならびに以下の記載におい
て、本発明の範囲に包含される諸定義の適当な具体例な
いし説明は、以下の通りである。
て、本発明の範囲に包含される諸定義の適当な具体例な
いし説明は、以下の通りである。
r低級」とは、特記なき限り炭素原子1〜6個の範囲を
意味する。
意味する。
r高級」とは、特記なき限り炭素原子7〜20個の範囲
を意味する。
を意味する。
′アシル基」および「アシルオキシ基j中の′アシル」
部分の適当な例としては、カルバモイル基、脂肪族アシ
ル基、芳香環をもつアシル基(以下、芳香族アシル基と
称する)または複素環をもつアシル基(以下、複素環ア
シル基と称する)を挙げることができる。
部分の適当な例としては、カルバモイル基、脂肪族アシ
ル基、芳香環をもつアシル基(以下、芳香族アシル基と
称する)または複素環をもつアシル基(以下、複素環ア
シル基と称する)を挙げることができる。
上記アシル基の適当な具体例としては、低級または高級
アルカノイル基(例えば、ホルミル、アセチル、プロパ
ノイル、ブタノイル、2−メチルプロパノイル、ペンタ
ノイル、2.2−ジメチルプロパノイル、ヘキサノイル
、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカメイ
ル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、
テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイ
ル、ヘプタデカノイル、オクタデカノイル、ノナデカノ
イル、アイコサノイル等)、低級または高級アルコキシ
カルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、1−ブトキシカルボニル、t−ペンチルオ
キシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル等)、低級
または高級アルカンスルホニル基(例えば、メタンスル
ホニル、エタンスルホニル等)、低級または高級アルコ
キシスルホニル(例えば、メトキシスルホニル、エトキ
シスルホニル等)などのような脂肪族アシル基 アロイル基(例えば、ベンゾイル、トルオイル、ナフト
イル等)、アリール(低級)アルカノイル基(例、t
l;i’ 、フェニルアセチル、フェニルプロパノイル
、フェニルブタノイル、フェニルインブチリル、フェニ
ルペンタノイル、フェニルヘキサノイル等のフェニル(
低級)アルカノイル、ナフチルアセチル、ナフチルプロ
パノイル、ナフチルブタノイル等のナフチル(低級)ア
ルカノイル等)、アリール(低級)アルケノイル基(例
えば、フェニルプロペノイル、フェニルブテノイル、フ
ェニルメタクリロイル、フェニルペンテノイル、フェニ
ルヘキセノイル等のフェニル(低級)アルケノイル、ナ
フチルプロペノイル、ナフチルブテノイル、ナフチルペ
ンテノイル等のナフチル(低級)アルケノイル等)、ア
リール(低級)アルコキシカルボニル基(例えば、ベン
ジルオキシカルボニル等のフェニル(低級)アルコキシ
カルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(例えば
、フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等
)、アリールオキシ(低級)アルカノイル基(例えば、
フェノキシアセチル、フェノキシプロピ才二ル等)、ア
リールグリオキシロイル基(例えば、フェニルグリオキ
シロイル、ナフチルグリオキシロイルl、アレーンスル
ホニJL、 基(例えば、ベンゼンスルホニル、p−ト
ルエンスルホニル等)などのような芳香族アシル基、複
素環カルボニル基(例えば、テノイル、フロイル、ニコ
チノイル等)、複素環(低級)アルカノイル基(例えば
、チエニルアセチル、チエニルプロパノイル、チエニル
ブタノイル、チエニルペンタノイル、チエニルヘキサノ
イル、チアゾリルアセチル、チアジアゾリルアセチル、
テトラゾリルアセチル等)、複素環グリオキシロイル基
(例えば、チアゾリルグリオキシロイル、チエニルグツ
オキシロイル等)などのような複素環アシル基が挙げら
れ、上記「複素環カルボニル基」「複素環(低級)アル
カノイル基」および「複素環グリオキンロイル基」中の
複素環部分の適当な具体例としては、酸素、硫黄、窒素
その他の少なくとも1つのへテロ原子をもつ飽和または
不飽和の、単環または多環状の複素環基、が挙げられる
。
アルカノイル基(例えば、ホルミル、アセチル、プロパ
ノイル、ブタノイル、2−メチルプロパノイル、ペンタ
ノイル、2.2−ジメチルプロパノイル、ヘキサノイル
、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカメイ
ル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、
テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイ
ル、ヘプタデカノイル、オクタデカノイル、ノナデカノ
イル、アイコサノイル等)、低級または高級アルコキシ
カルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、1−ブトキシカルボニル、t−ペンチルオ
キシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル等)、低級
または高級アルカンスルホニル基(例えば、メタンスル
ホニル、エタンスルホニル等)、低級または高級アルコ
キシスルホニル(例えば、メトキシスルホニル、エトキ
シスルホニル等)などのような脂肪族アシル基 アロイル基(例えば、ベンゾイル、トルオイル、ナフト
イル等)、アリール(低級)アルカノイル基(例、t
l;i’ 、フェニルアセチル、フェニルプロパノイル
、フェニルブタノイル、フェニルインブチリル、フェニ
ルペンタノイル、フェニルヘキサノイル等のフェニル(
低級)アルカノイル、ナフチルアセチル、ナフチルプロ
パノイル、ナフチルブタノイル等のナフチル(低級)ア
ルカノイル等)、アリール(低級)アルケノイル基(例
えば、フェニルプロペノイル、フェニルブテノイル、フ
ェニルメタクリロイル、フェニルペンテノイル、フェニ
ルヘキセノイル等のフェニル(低級)アルケノイル、ナ
フチルプロペノイル、ナフチルブテノイル、ナフチルペ
ンテノイル等のナフチル(低級)アルケノイル等)、ア
リール(低級)アルコキシカルボニル基(例えば、ベン
ジルオキシカルボニル等のフェニル(低級)アルコキシ
カルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(例えば
、フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等
)、アリールオキシ(低級)アルカノイル基(例えば、
フェノキシアセチル、フェノキシプロピ才二ル等)、ア
リールグリオキシロイル基(例えば、フェニルグリオキ
シロイル、ナフチルグリオキシロイルl、アレーンスル
ホニJL、 基(例えば、ベンゼンスルホニル、p−ト
ルエンスルホニル等)などのような芳香族アシル基、複
素環カルボニル基(例えば、テノイル、フロイル、ニコ
チノイル等)、複素環(低級)アルカノイル基(例えば
、チエニルアセチル、チエニルプロパノイル、チエニル
ブタノイル、チエニルペンタノイル、チエニルヘキサノ
イル、チアゾリルアセチル、チアジアゾリルアセチル、
テトラゾリルアセチル等)、複素環グリオキシロイル基
(例えば、チアゾリルグリオキシロイル、チエニルグツ
オキシロイル等)などのような複素環アシル基が挙げら
れ、上記「複素環カルボニル基」「複素環(低級)アル
カノイル基」および「複素環グリオキンロイル基」中の
複素環部分の適当な具体例としては、酸素、硫黄、窒素
その他の少なくとも1つのへテロ原子をもつ飽和または
不飽和の、単環または多環状の複素環基、が挙げられる
。
特に好ましい複素環基としては、1〜4の窒素原子を含
む不飽和の3〜8員環、望ましくは5〜6員環の複素単
環基、たとえばピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、
ピラゾリル、ピリジルおよびそのN−オキシト、ジヒド
ロピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、
トリアゾリル(例えば、4H−1,2,4−トリアゾリ
ル、IH−1,2,3−1−リアゾリル、2H−1,2
,3−トノアゾリル等)、テトラゾリル(例えば、IH
−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等)など、1〜4
の窒素原子を含む飽和の3〜8員環、さらに望ましくは
5〜6員環の複素単環基、たとえばピロリジニル、イミ
ダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニルなど、1〜4
の窒素原子を含む不飽和の縮合複素環基、たとえばイン
ドリル、イソインドリル、イントリジニル、ベンズイミ
ダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベ
ンゾトリアゾールなど、1〜2の酸素原子および1〜3
の窒素原子を含む不飽和の3〜8員環、さらに望ましく
は5〜6員環の複素単環基、たとえばオキサシリル、イ
ンキサゾリル、オキサジアゾリル(f列えば、1,2.
4−オキサジアゾリル、1,3゜4−オキサジアゾリル
、1.2.5−オキサジアゾノル卑)など、1〜2の酸
素原子および1〜3の窒素原子を含む飽和の3〜8員環
、より望ましくは5〜6員環の複素単環基、たとえばモ
ルホリニル、ンドノニルなど、1〜2のrJ1素原子お
よび1〜3の窒素原子を含む不飽和の縮合複素環基、た
とえばベンズオキサシリル、ベンズオキサジアゾノルな
ど、l〜2の硫黄原子および1〜3の窒素原子を含む不
飽和の3〜8員環、より望ましくは5〜6員環の複素単
環基、たとえばチアゾリル、インチアゾリル、チアジア
ゾリル(例えば、1゜2.3−チアジアゾリル、1.2
.4−チアジアゾノル、1,3.4−チアジアゾリル、
1.2.5−チアノアゾリル等)、ジヒドロチアジニル
など、1〜2の硫黄原子および1〜3の窒素原子を含む
飽和の3〜8員環、より望ましくは5〜6員環の複素単
環基、たとえばチアゾリジニルなど、1〜2の硫黄原子
を含む不飽和の3〜8員環、より望ましくは5〜6員環
の複素単環基、たとえばチエニル、ジヒドロシティニル
、ジヒドロジテオニルなど、l〜2の硫黄原子および1
〜3の窒素原子を含む不飽和の縮合複素環基、たとえば
ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリルなど、1つの
酸素原子を含む不飽和の3〜8員環、より望ましくは5
〜6員環の複素単環基、たとえばフリルなど、1つの酸
素原子および1〜2の硫黄原子を含む不飽和の3〜B員
環、より望ましくは5〜6員環の複素単環基、たとえば
ジヒドロオキサチイニルなど、1〜2の硫黄原子を含む
不飽和の縮合複素環基、たとえばベンゾチエニル、ペン
ゾジチイニルなど、1つの酸素原子および1〜2の硫黄
原子を含む不飽和の縮合複素環基、たとえばベンズオキ
サゾイニルなどのような複素環基が挙げられる。
む不飽和の3〜8員環、望ましくは5〜6員環の複素単
環基、たとえばピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、
ピラゾリル、ピリジルおよびそのN−オキシト、ジヒド
ロピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、
トリアゾリル(例えば、4H−1,2,4−トリアゾリ
ル、IH−1,2,3−1−リアゾリル、2H−1,2
,3−トノアゾリル等)、テトラゾリル(例えば、IH
−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等)など、1〜4
の窒素原子を含む飽和の3〜8員環、さらに望ましくは
5〜6員環の複素単環基、たとえばピロリジニル、イミ
ダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニルなど、1〜4
の窒素原子を含む不飽和の縮合複素環基、たとえばイン
ドリル、イソインドリル、イントリジニル、ベンズイミ
ダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベ
ンゾトリアゾールなど、1〜2の酸素原子および1〜3
の窒素原子を含む不飽和の3〜8員環、さらに望ましく
は5〜6員環の複素単環基、たとえばオキサシリル、イ
ンキサゾリル、オキサジアゾリル(f列えば、1,2.
4−オキサジアゾリル、1,3゜4−オキサジアゾリル
、1.2.5−オキサジアゾノル卑)など、1〜2の酸
素原子および1〜3の窒素原子を含む飽和の3〜8員環
、より望ましくは5〜6員環の複素単環基、たとえばモ
ルホリニル、ンドノニルなど、1〜2のrJ1素原子お
よび1〜3の窒素原子を含む不飽和の縮合複素環基、た
とえばベンズオキサシリル、ベンズオキサジアゾノルな
ど、l〜2の硫黄原子および1〜3の窒素原子を含む不
飽和の3〜8員環、より望ましくは5〜6員環の複素単
環基、たとえばチアゾリル、インチアゾリル、チアジア
ゾリル(例えば、1゜2.3−チアジアゾリル、1.2
.4−チアジアゾノル、1,3.4−チアジアゾリル、
1.2.5−チアノアゾリル等)、ジヒドロチアジニル
など、1〜2の硫黄原子および1〜3の窒素原子を含む
飽和の3〜8員環、より望ましくは5〜6員環の複素単
環基、たとえばチアゾリジニルなど、1〜2の硫黄原子
を含む不飽和の3〜8員環、より望ましくは5〜6員環
の複素単環基、たとえばチエニル、ジヒドロシティニル
、ジヒドロジテオニルなど、l〜2の硫黄原子および1
〜3の窒素原子を含む不飽和の縮合複素環基、たとえば
ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリルなど、1つの
酸素原子を含む不飽和の3〜8員環、より望ましくは5
〜6員環の複素単環基、たとえばフリルなど、1つの酸
素原子および1〜2の硫黄原子を含む不飽和の3〜B員
環、より望ましくは5〜6員環の複素単環基、たとえば
ジヒドロオキサチイニルなど、1〜2の硫黄原子を含む
不飽和の縮合複素環基、たとえばベンゾチエニル、ペン
ゾジチイニルなど、1つの酸素原子および1〜2の硫黄
原子を含む不飽和の縮合複素環基、たとえばベンズオキ
サゾイニルなどのような複素環基が挙げられる。
前記のアシル部分は工ないし10の同種または相異なる
適当な置換基をもっていてもよく、このような置換基の
例としては、低級アルキル基(例えば、メチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−
ブチル、ペンチル、ヘキシル等)、低級アルケニル基(
例えば、ビニル、アリル、ニープロペニル、1−2−ま
たは3−ブテニル、1−12−13−または4−ペンテ
ニル、1−12−13−14−または5−へキセニル等
)、低級アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ等)、低級アルキルチオ基(例えば、メチル
チオ、エテルチオ等)、低級アルキルアミノ基(例えば
、メチルアミノ等)、シクロ(低級)アルキル基(例え
ば、シクロペンチル、シクロヘキシル等)、シクロ(低
級)アルケニル基(例えば、シクロヘキセニル等)、ハ
ロゲン、アミノ基、保護されたアミノ基、水酸基、保護
された水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、保
護されたカルボキシ基。
適当な置換基をもっていてもよく、このような置換基の
例としては、低級アルキル基(例えば、メチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−
ブチル、ペンチル、ヘキシル等)、低級アルケニル基(
例えば、ビニル、アリル、ニープロペニル、1−2−ま
たは3−ブテニル、1−12−13−または4−ペンテ
ニル、1−12−13−14−または5−へキセニル等
)、低級アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ等)、低級アルキルチオ基(例えば、メチル
チオ、エテルチオ等)、低級アルキルアミノ基(例えば
、メチルアミノ等)、シクロ(低級)アルキル基(例え
ば、シクロペンチル、シクロヘキシル等)、シクロ(低
級)アルケニル基(例えば、シクロヘキセニル等)、ハ
ロゲン、アミノ基、保護されたアミノ基、水酸基、保護
された水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、保
護されたカルボキシ基。
スルホ基、スルファモイル基、イミノ基、オキソ基、ア
ミノ(低級)アルキル基(例えば、アミンメチル、アミ
ノエチル等)、カルバモイルオキシ基、ヒドロキシ(低
級)アルキル基(例えば、ヒドロキシメチル、1−また
は2−ヒドロキシエチル、1−.2−または3−ヒドロ
キシプロピル等)、シアノ(低級)アルケニルチオ(例
えば、シアノビニルチオ等)などを挙げることができる
。
ミノ(低級)アルキル基(例えば、アミンメチル、アミ
ノエチル等)、カルバモイルオキシ基、ヒドロキシ(低
級)アルキル基(例えば、ヒドロキシメチル、1−また
は2−ヒドロキシエチル、1−.2−または3−ヒドロ
キシプロピル等)、シアノ(低級)アルケニルチオ(例
えば、シアノビニルチオ等)などを挙げることができる
。
1保護された水酸基」における「水酸基保護基」の適当
な例としては、フェニル(低級)アルキル基(例えば、
ベンジル等)、上記のアシル基などが挙げられる。
な例としては、フェニル(低級)アルキル基(例えば、
ベンジル等)、上記のアシル基などが挙げられる。
適当な「保護されたカルボキシ基」としてはエステル化
されたカルボキシ基が含まれる。
されたカルボキシ基が含まれる。
エステル化されたカルボキシ基のエステル部分としての
適当な例としては、少なくとも一つの適当な置換基をも
っていてもよいメチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル
、イソブチルエステル、t−ブチルエステル、ペンチル
エステル、ヘキシルエステル等の低級アルキルエステル
、たとえば低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエ
ステル(例えば、アセトキシメチルエステル、プロピオ
ニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエス
テル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキ
シメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステル
、1−または2−アセトキシエチルエステル、1−52
−または3−アセトキシプロピルエステル、1−12−
13−または4−アセトキシブチルエステル、1−また
は2−プロピオニルオキシエチルエステル、1−2−ま
たは3−プロピ才二ル才キシブロビルエステル、1−ま
たは2−ブチリルオキシエチルニスデル、1−または2
−インブチルオキシエチルエステル、1−または2−ピ
バロイルオキシエチルエステル、1−または2−ヘキサ
ノイルオキシエチルエステル、インブチリルオキシメチ
ルエステル、2−エデルプデリルオキシメデルエステル
、3.3−ジメチルブチリルオキシメチルエステル、1
−または2−ペンタノイルオキシニブルエステル等)、
低級アルカンスルホニル(低級)アルキルエステル(例
えば、2−メシルエチル等)、モノ−、ノーまたはトリ
ーハロ(低級)アルキルエステル(例えば、2−ヨード
エチルエステル、2,2.2−トリクロロエチルエステ
ル等)、低級アルコキシカルボニルオキシ(低級)アル
キルエステル(例えば、メトキシカルボニルオキンメテ
ルエステル、エトキシカルボニルオキシエチルエステル
、2−メトキシカルボニルオキシエチルエステル、1−
エトキシカルボニルオキシエチルエステル、1−インプ
ロポキシカルボニルオキシエチルエステル等)、フタリ
ジリデン(低級)アルキルエステルまたは(5−低級ア
ルキル2−才キソー1.3−ジオキン−ルー4−イル)
(低級)アルキルエステル[例えば、(5−メチル−2
−才キソー1.3−ジオキソ−ルー4−イル)メチルエ
ステル、(5−エチル−2−才キソー1,3−ジオキン
−ルー4−イル)メチルエステル、(5−プロピル−2
−才キソー1.3−シオキソールー4−イル)エチルエ
ステル等コなと、低級アルケニルエステル(例えば、ビ
ニルエステル、アリルエステル”%)、低級アルキニル
ニス5− ル((M 、t ハ、エチニルエステル、プ
ロピニルエステル等)、少なくとも一つの適当な置換基
をもっていてもよいアリール(低級)アルキルエステル
、たとえば非置換また置換モノ、ジまたはトリフェニル
(低級)アルキルエステル(例えば、ベンジルエステル
、4−メトキシベンジルエステル、4−ニトロベンジル
エステル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベ
ンズヒドリルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチ
ルエステル、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4
−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルエステ
ル等)など、少なくとも一つの適当な置換基をもってい
てもよいアリールエステル(例えハ、フェニルエステル
、4−クロロフェニルエステル、トリルエステル、t−
ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、メシチル
エステル、フェニルエステル等)フタリジルエステルな
どを挙げることができる。
適当な例としては、少なくとも一つの適当な置換基をも
っていてもよいメチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル
、イソブチルエステル、t−ブチルエステル、ペンチル
エステル、ヘキシルエステル等の低級アルキルエステル
、たとえば低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエ
ステル(例えば、アセトキシメチルエステル、プロピオ
ニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエス
テル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキ
シメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステル
、1−または2−アセトキシエチルエステル、1−52
−または3−アセトキシプロピルエステル、1−12−
13−または4−アセトキシブチルエステル、1−また
は2−プロピオニルオキシエチルエステル、1−2−ま
たは3−プロピ才二ル才キシブロビルエステル、1−ま
たは2−ブチリルオキシエチルニスデル、1−または2
−インブチルオキシエチルエステル、1−または2−ピ
バロイルオキシエチルエステル、1−または2−ヘキサ
ノイルオキシエチルエステル、インブチリルオキシメチ
ルエステル、2−エデルプデリルオキシメデルエステル
、3.3−ジメチルブチリルオキシメチルエステル、1
−または2−ペンタノイルオキシニブルエステル等)、
低級アルカンスルホニル(低級)アルキルエステル(例
えば、2−メシルエチル等)、モノ−、ノーまたはトリ
ーハロ(低級)アルキルエステル(例えば、2−ヨード
エチルエステル、2,2.2−トリクロロエチルエステ
ル等)、低級アルコキシカルボニルオキシ(低級)アル
キルエステル(例えば、メトキシカルボニルオキンメテ
ルエステル、エトキシカルボニルオキシエチルエステル
、2−メトキシカルボニルオキシエチルエステル、1−
エトキシカルボニルオキシエチルエステル、1−インプ
ロポキシカルボニルオキシエチルエステル等)、フタリ
ジリデン(低級)アルキルエステルまたは(5−低級ア
ルキル2−才キソー1.3−ジオキン−ルー4−イル)
(低級)アルキルエステル[例えば、(5−メチル−2
−才キソー1.3−ジオキソ−ルー4−イル)メチルエ
ステル、(5−エチル−2−才キソー1,3−ジオキン
−ルー4−イル)メチルエステル、(5−プロピル−2
−才キソー1.3−シオキソールー4−イル)エチルエ
ステル等コなと、低級アルケニルエステル(例えば、ビ
ニルエステル、アリルエステル”%)、低級アルキニル
ニス5− ル((M 、t ハ、エチニルエステル、プ
ロピニルエステル等)、少なくとも一つの適当な置換基
をもっていてもよいアリール(低級)アルキルエステル
、たとえば非置換また置換モノ、ジまたはトリフェニル
(低級)アルキルエステル(例えば、ベンジルエステル
、4−メトキシベンジルエステル、4−ニトロベンジル
エステル、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベ
ンズヒドリルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチ
ルエステル、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4
−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジルエステ
ル等)など、少なくとも一つの適当な置換基をもってい
てもよいアリールエステル(例えハ、フェニルエステル
、4−クロロフェニルエステル、トリルエステル、t−
ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、メシチル
エステル、フェニルエステル等)フタリジルエステルな
どを挙げることができる。
適当な1低級アルコキン基」としては、メトキン、エト
キシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、インブ
トキシ、t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキ
シなどが挙げられる。
キシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、インブ
トキシ、t−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキ
シなどが挙げられる。
1保護されたアミノ基」における1アミノ基保護基、の
適当な例としては、上記のアシル基などが挙げられる。
適当な例としては、上記のアシル基などが挙げられる。
1低級アルケニル基で置換されたアリール(低級)アル
ケノイル基」における1アリール(低級)アルケノイル
基」の適当な例としては、フェニルC低級)アルケノイ
ル基(例えば、フェニルプロペノイル、フェニルブテノ
イル、フェニルメタクリロイル、フェニルペンテノイル
、フェニルヘキセノイル等)、ナフチル(低級)アルケ
ノイル基((M、tば、ナフチルプロペノイル、ナフチ
ルブテノイル、ナフチルベンテノイル等)などが挙げら
れる。
ケノイル基」における1アリール(低級)アルケノイル
基」の適当な例としては、フェニルC低級)アルケノイ
ル基(例えば、フェニルプロペノイル、フェニルブテノ
イル、フェニルメタクリロイル、フェニルペンテノイル
、フェニルヘキセノイル等)、ナフチル(低級)アルケ
ノイル基((M、tば、ナフチルプロペノイル、ナフチ
ルブテノイル、ナフチルベンテノイル等)などが挙げら
れる。
1低級アルケニル基で置換されたアリール(低級)アル
ケノイル基、におけるr低級アルケニル基」の適当な例
としては、ビニル、アリル、1−プロペニル、1−.2
−または3−ブテニル、12−13−または4−ペンテ
ニル、1−123−14−または5−へキセニルなどが
挙げられる。
ケノイル基、におけるr低級アルケニル基」の適当な例
としては、ビニル、アリル、1−プロペニル、1−.2
−または3−ブテニル、12−13−または4−ペンテ
ニル、1−123−14−または5−へキセニルなどが
挙げられる。
「低級アルキル基で置換されたアリール(低級)アルカ
ノイル基」における′アリール(低級)アルカノイル基
、の適当な例としては、フェニル(低級)アルカノイル
基(例えば、フェニルアセチル、フェニルプロパノイル
、フェニルブタノイル、フェニルイソブチリル、フェニ
ルペンタノイル、フェニルヘキサノイル等)、ナフチル
(低級)アルカノイル基(例えば、ナフデルアセチル、
ナフチルプロパノイル、ナフチルブタノイル等)などが
挙げられる。
ノイル基」における′アリール(低級)アルカノイル基
、の適当な例としては、フェニル(低級)アルカノイル
基(例えば、フェニルアセチル、フェニルプロパノイル
、フェニルブタノイル、フェニルイソブチリル、フェニ
ルペンタノイル、フェニルヘキサノイル等)、ナフチル
(低級)アルカノイル基(例えば、ナフデルアセチル、
ナフチルプロパノイル、ナフチルブタノイル等)などが
挙げられる。
’fffiAlltフルキル基で置換されたアリール(
低級)アルカノイル基、における「低級アルキル基、の
適当な例としては、メチル、エチル、プロピル、インプ
ロピル、ブチル、イソプデル、1−ブチル、ペンデル、
ヘキシルなどが挙(デられる。
低級)アルカノイル基、における「低級アルキル基、の
適当な例としては、メチル、エチル、プロピル、インプ
ロピル、ブチル、イソプデル、1−ブチル、ペンデル、
ヘキシルなどが挙(デられる。
目的化合物(1)の望ましい具体例は次の通りである。
R1は水素、アリール(低級)アルフキジカルボニル基
(さらに望ましくは、フェニル(低級)アルコキシカル
ボニル基)、低級アルカノイル基、高級アルカノイル基
(さらに望ましくはC15’20アルカノイル基)、ア
ロイル基(さらに望ましくは、ベンゾイル基)、複素環
(低級)アルカノイル基(さらに望ましくは、チエニル
(低級)プルカッイル基)、低級アルケニル基で置換さ
れたアリール(低級)アルケノイル基(さらに望ましく
は、低級アルケニル基で置換された)工二ル(低級)ア
ルケノイル基)または低級アルキル基で置換されたアリ
ール(低級)アルカノイル基(さらに望ましくは、低級
アルキル基で置換されたフェニル(低級)アルカノイル
基)であり、Rは水酸基、R3はカルボキシ基またはエ
ステル化されたカルボキシ基(さらに望ましくは、低級
アルコキシカルボニル基)であるか、またはR2とR3
とが互いに結合して式−〇−C−の基を表わし、R4は
水酸基、アリール(低級)アルコキシ基(さらに望まし
くは、フェニル(低級)アルコキシ基)またはアシルオ
キシ基(さらに望ましくは低級アルカノイルオキシ基)
、R5は水酸基、アリール(低級)アルコキシ基(さら
に望ましくは、フェニル(低級)アルコキシ基)または
アシルオキシ基(さらに望ましくは、低級アルカノイル
オキシ基)、R6は水酸基、低級アルコキシ基、アリー
ル(低級)アルコキシ基(さらに望ましくは、フェニル
(低級)アルコキシ基)またはアシルオキシ基(さらに
望ましくは低級アルカノイルオキシ基)、=÷=は単結
合または二重結合である。
(さらに望ましくは、フェニル(低級)アルコキシカル
ボニル基)、低級アルカノイル基、高級アルカノイル基
(さらに望ましくはC15’20アルカノイル基)、ア
ロイル基(さらに望ましくは、ベンゾイル基)、複素環
(低級)アルカノイル基(さらに望ましくは、チエニル
(低級)プルカッイル基)、低級アルケニル基で置換さ
れたアリール(低級)アルケノイル基(さらに望ましく
は、低級アルケニル基で置換された)工二ル(低級)ア
ルケノイル基)または低級アルキル基で置換されたアリ
ール(低級)アルカノイル基(さらに望ましくは、低級
アルキル基で置換されたフェニル(低級)アルカノイル
基)であり、Rは水酸基、R3はカルボキシ基またはエ
ステル化されたカルボキシ基(さらに望ましくは、低級
アルコキシカルボニル基)であるか、またはR2とR3
とが互いに結合して式−〇−C−の基を表わし、R4は
水酸基、アリール(低級)アルコキシ基(さらに望まし
くは、フェニル(低級)アルコキシ基)またはアシルオ
キシ基(さらに望ましくは低級アルカノイルオキシ基)
、R5は水酸基、アリール(低級)アルコキシ基(さら
に望ましくは、フェニル(低級)アルコキシ基)または
アシルオキシ基(さらに望ましくは、低級アルカノイル
オキシ基)、R6は水酸基、低級アルコキシ基、アリー
ル(低級)アルコキシ基(さらに望ましくは、フェニル
(低級)アルコキシ基)またはアシルオキシ基(さらに
望ましくは低級アルカノイルオキシ基)、=÷=は単結
合または二重結合である。
ペプチド誘導体の生物学 性
ペプチド誘導体(1)は鎮痛作用を有し、たとえば頭痛
、歯痛、癌の痛みなどの種々の痛みの予防および治療の
ための医薬組成物(鎮痛剤)の活性成分として有用であ
る。さらにペプチド誘導体<1)はP物質拮抗作用、ニ
ューロキニンA拮抗作用、ニューロキニンB拮抗作用な
どの薬理活性を有し、それゆえ、たとえば喘息、鼻炎、
咳、痰など呼吸器疾患、たとえば結膜炎、春季カタルな
どの眼疾患、食物アレルギー、たとえば接触性皮膚炎、
アトピー性皮膚炎、じん麻疹、履修様皮膚炎などの皮膚
疾患などの予防および治療のための医薬組成物の活性成
分として有用であり、また緑内障、ぶどう膜長、潰瘍、
潰瘍性大腸炎、腎炎、たとえば高血圧、狭心症、心不全
、血栓などの循環器疾患、RRlたとえば痴呆、分裂病
などの脳疾患などの予防および治療のための医薬組成物
の活性成分として有用であると期待される。
、歯痛、癌の痛みなどの種々の痛みの予防および治療の
ための医薬組成物(鎮痛剤)の活性成分として有用であ
る。さらにペプチド誘導体<1)はP物質拮抗作用、ニ
ューロキニンA拮抗作用、ニューロキニンB拮抗作用な
どの薬理活性を有し、それゆえ、たとえば喘息、鼻炎、
咳、痰など呼吸器疾患、たとえば結膜炎、春季カタルな
どの眼疾患、食物アレルギー、たとえば接触性皮膚炎、
アトピー性皮膚炎、じん麻疹、履修様皮膚炎などの皮膚
疾患などの予防および治療のための医薬組成物の活性成
分として有用であり、また緑内障、ぶどう膜長、潰瘍、
潰瘍性大腸炎、腎炎、たとえば高血圧、狭心症、心不全
、血栓などの循環器疾患、RRlたとえば痴呆、分裂病
などの脳疾患などの予防および治療のための医薬組成物
の活性成分として有用であると期待される。
かかる薬理活性を示す例として、若干の薬理試験データ
を以下に示す。
を以下に示す。
(1)ラジオリガンド結合アッセイ
(a)粗製膜画分受容体の調製
襲
雌性ウィスター(Wister )ラット(200g)
を用いた。試薬は全てシグマ・ケミカル社から購入した
。全脂(4g)を細かく切って小片とし、容積量で8倍
の水冷緩衝液I(50mMトリス−HCl pH7,5
,5mM MnC1z −0−02%BSA、 2<
/mQキモスタチン、4Hg/−ロイペプチンおよび4
0に7m党バシトラシン)中でウルトラ−ジスパーザ−
(ヤマトLK−21型)を用いてホモジナイズした。こ
のホモジネートを一20’Cで保存するかまたは直ちに
結合実験に用いた。
を用いた。試薬は全てシグマ・ケミカル社から購入した
。全脂(4g)を細かく切って小片とし、容積量で8倍
の水冷緩衝液I(50mMトリス−HCl pH7,5
,5mM MnC1z −0−02%BSA、 2<
/mQキモスタチン、4Hg/−ロイペプチンおよび4
0に7m党バシトラシン)中でウルトラ−ジスパーザ−
(ヤマトLK−21型)を用いてホモジナイズした。こ
のホモジネートを一20’Cで保存するかまたは直ちに
結合実験に用いた。
独
ハートレー系雄性アルピノモルモット(600g>を断
頭層殺した。気管および肺を摘出し、使用時まで一80
℃で保存した。これらの組織(150g)を解凍し、s
oomaの緩衝液(0,25Mスクロース、50mMト
リス−HCl pH7,5,0,1mM EDIA)中
でコンパクトミキサー(検電MJ−761)を用いてホ
モジナイズした。該組織を、ウルトラ−ジスパーザ−(
ヤマトLK−21型)を用い、最大レンジにセットして
、ホモジナイゼーション操作の間に10秒間の冷却時間
をはさんで10秒間づつホモジナイズした(合計ホモジ
ナイゼーション時間:60秒間)。
頭層殺した。気管および肺を摘出し、使用時まで一80
℃で保存した。これらの組織(150g)を解凍し、s
oomaの緩衝液(0,25Mスクロース、50mMト
リス−HCl pH7,5,0,1mM EDIA)中
でコンパクトミキサー(検電MJ−761)を用いてホ
モジナイズした。該組織を、ウルトラ−ジスパーザ−(
ヤマトLK−21型)を用い、最大レンジにセットして
、ホモジナイゼーション操作の間に10秒間の冷却時間
をはさんで10秒間づつホモジナイズした(合計ホモジ
ナイゼーション時間:60秒間)。
ホモジネートを遠心分離(900X g 、 10分間
)して、組織のかたまりを除去し、上澄みを14000
Xgで20分間遠心分離して、ペレットを得た。これ
を粗製膜画分と呼ぶ、ペレットを緩衝液Iに懸濁し、テ
フロンホモジナイザーを用いてホモジナイズし、140
00X gで20分間遠心分離した。ペレットを一20
℃で保存した。
)して、組織のかたまりを除去し、上澄みを14000
Xgで20分間遠心分離して、ペレットを得た。これ
を粗製膜画分と呼ぶ、ペレットを緩衝液Iに懸濁し、テ
フロンホモジナイザーを用いてホモジナイズし、140
00X gで20分間遠心分離した。ペレットを一20
℃で保存した。
(b)膜画分受容体〜の3H−P物質の結合3H−P
物if[(1nM、ニューイングランド・ニュークリア
ー〉を緩衝液■中で50−の膜画分と共に、最終体積2
504で、4℃にて30分間インキュベートした。イン
キュベージ3ン期間が終ると、内容物を、ワットマンG
F/Bガラス繊維フィルター(使用前に0.1%ポリエ
チレンイミンにより3時間前処理したもの)によりセル
ハーベスタ−(ブランデルM −245)を用いてすば
やく濾過した。つぎにフィルターを、0℃で、洗浄用緩
衝液(50nM トノスーHCL、 pH7,5)で1
0回(合計3m1)洗った。
物if[(1nM、ニューイングランド・ニュークリア
ー〉を緩衝液■中で50−の膜画分と共に、最終体積2
504で、4℃にて30分間インキュベートした。イン
キュベージ3ン期間が終ると、内容物を、ワットマンG
F/Bガラス繊維フィルター(使用前に0.1%ポリエ
チレンイミンにより3時間前処理したもの)によりセル
ハーベスタ−(ブランデルM −245)を用いてすば
やく濾過した。つぎにフィルターを、0℃で、洗浄用緩
衝液(50nM トノスーHCL、 pH7,5)で1
0回(合計3m1)洗った。
バラカードシンブレーションカウンター(バーカード・
トライ−カーブ4530 )を用い、3絨のアクアゾー
ル−2中で放射能をカウントした。
トライ−カーブ4530 )を用い、3絨のアクアゾー
ル−2中で放射能をカウントした。
第4表 ラット脳およびモルモット肺の膜への[3)1
]P物質、の特異的結合の賀S−9326A 。
]P物質、の特異的結合の賀S−9326A 。
WS−9326B、 トリアセチル−WS−9326
Aまたはテトラヒドロ−MS−9326Aによる置換 〈2)モルモットの気管に対するMS−9326Aまた
はテトラヒトry −WS−9326A(7) 作用標
準的手法に従って、ハートレー系雄性成熟アルピノモル
モット(600g)から気管のらせん状条片(ストリッ
プ)を調製し、ジャケットつきの30m11ガラス製器
官バス(浴容器)内に懸垂した。
Aまたはテトラヒドロ−MS−9326Aによる置換 〈2)モルモットの気管に対するMS−9326Aまた
はテトラヒトry −WS−9326A(7) 作用標
準的手法に従って、ハートレー系雄性成熟アルピノモル
モット(600g)から気管のらせん状条片(ストリッ
プ)を調製し、ジャケットつきの30m11ガラス製器
官バス(浴容器)内に懸垂した。
気管条片の張力を、ポリグラフ(バイオピシオグラフ1
80システム、三栄)に接続したトランスデユーサ−に
よって、定量的に測定した。気管条片(幅2mm、長さ
50mm )は、次の組成の酸素付加(95%02:5
%CO□)温(37°C)タイロード液を入れた30m
Qの器官バス内に500mgの静止張力下に懸垂した:
NaC1137mM(8g / 12 ) 、KCI
2.7mM(0,2g/jり、CaC1z ・2H2
01、8mM(0,264g / R)、MgCl26
H201,02mM (0,208g / l )、N
aHCO311,9mM(1g/ 1り、NaHzP0
4 ・2H200−42mM (0,066g/2)お
よびグルコース5.5mM(1g/ l )−組織を9
0分間平衡化させ、つぎに各種の気管支収縮8 − 剤(P物質10 Ml−ユーロキニンA lo−9Mお
よU ニュo * ニンB 10−8M ) c: 対
シテWS−9326A’jl−たはテトラヒドロ−WS
−9326Aを試験した。三乗レクチグラフー85レコ
ーダー(三乗)により張力を記録した。
80システム、三栄)に接続したトランスデユーサ−に
よって、定量的に測定した。気管条片(幅2mm、長さ
50mm )は、次の組成の酸素付加(95%02:5
%CO□)温(37°C)タイロード液を入れた30m
Qの器官バス内に500mgの静止張力下に懸垂した:
NaC1137mM(8g / 12 ) 、KCI
2.7mM(0,2g/jり、CaC1z ・2H2
01、8mM(0,264g / R)、MgCl26
H201,02mM (0,208g / l )、N
aHCO311,9mM(1g/ 1り、NaHzP0
4 ・2H200−42mM (0,066g/2)お
よびグルコース5.5mM(1g/ l )−組織を9
0分間平衡化させ、つぎに各種の気管支収縮8 − 剤(P物質10 Ml−ユーロキニンA lo−9Mお
よU ニュo * ニンB 10−8M ) c: 対
シテWS−9326A’jl−たはテトラヒドロ−WS
−9326Aを試験した。三乗レクチグラフー85レコ
ーダー(三乗)により張力を記録した。
第5表 ニューロキニンA(NKA)、ニューロキニン
B(NKB)およびP物質(SP )により誘発された
モルモット気管の収 縮反応に対するWS−9326Aまたはテトラヒドロ−
WS−93261の影響 く3)ニューロキニンAおよびカブサイシンにより誘発
された気管支収縮に対するMS−9326Aまたはテト
ラドロー賀S−9326Aの影響体fJ300〜500
gのハートレー系雄性モルモットをベントパルビター
ルナトリウム(10mg/動物を腹腔的投与)により麻
酔下に固定した。ニューロキニンA(またはカブサイシ
ン)および薬物投与のため、頚動脈にカニユーレを挿入
した1人工換気のため、カテーテルを気管に挿入した。
B(NKB)およびP物質(SP )により誘発された
モルモット気管の収 縮反応に対するWS−9326Aまたはテトラヒドロ−
WS−93261の影響 く3)ニューロキニンAおよびカブサイシンにより誘発
された気管支収縮に対するMS−9326Aまたはテト
ラドロー賀S−9326Aの影響体fJ300〜500
gのハートレー系雄性モルモットをベントパルビター
ルナトリウム(10mg/動物を腹腔的投与)により麻
酔下に固定した。ニューロキニンA(またはカブサイシ
ン)および薬物投与のため、頚動脈にカニユーレを挿入
した1人工換気のため、カテーテルを気管に挿入した。
小型呼吸ポンプ(バーバードB−34,5鍼/行程、6
0行程/分)により動物に呼吸させた。肺の膨張に対す
る抵抗をコンゼットーレスラー(Konzett−R5
sslar )のオーバーフロー法の変法によって測定
した。
0行程/分)により動物に呼吸させた。肺の膨張に対す
る抵抗をコンゼットーレスラー(Konzett−R5
sslar )のオーバーフロー法の変法によって測定
した。
作用物質を静脈内投与し、拮抗物質(0,1%メチルセ
ルロース−食塩水中に調製)を下記のように静脈内投与
した。
ルロース−食塩水中に調製)を下記のように静脈内投与
した。
l5分
15分
15分
15分
15分
15分
15分
↑
二作用物質にューロキニンAま
たはカブサイシン)
:拮抗物質(WS−9326Aまタハテトラヒドロ−W
S−9326A ) (4〉モルモットでのニューロキニンAmJl?支収縮
に対するMS−9326Aまたはテトラヒドロ−賀S−
9326Aの気管内投与の影響 気管支収縮に対するMS−9326Aまたはテトラヒト
o −MS−9326A吸入の効果を試験するため、W
S−9326Aまたはテトラヒドロ−WS−9326A
をDMSOに溶解し、気管内に投与した。方法は上記と
ほとんど同じである。
S−9326A ) (4〉モルモットでのニューロキニンAmJl?支収縮
に対するMS−9326Aまたはテトラヒドロ−賀S−
9326Aの気管内投与の影響 気管支収縮に対するMS−9326Aまたはテトラヒト
o −MS−9326A吸入の効果を試験するため、W
S−9326Aまたはテトラヒドロ−WS−9326A
をDMSOに溶解し、気管内に投与した。方法は上記と
ほとんど同じである。
第8および9表に示されているように、賀S−9326
Aおよびテトラヒドロ−MS−9326Aは広範囲に有
効であった。
Aおよびテトラヒドロ−MS−9326Aは広範囲に有
効であった。
第8表 ニューロキニンA誘発気管支収縮のシS−93
26A気管内投与による阻止 臀S−9326AをDMSOに溶解した。
26A気管内投与による阻止 臀S−9326AをDMSOに溶解した。
1 nmol/ kg 、 1v
(5)急性毒性
試験化合物を用量を変えて5匹のマウスに単回腹腔内注
射することにより、ddYマウス(5通合、雄)におけ
るWS−9326Aの急性毒性を求めた。
射することにより、ddYマウス(5通合、雄)におけ
るWS−9326Aの急性毒性を求めた。
WS−9326AのLD5−は250mg/kgより大
きく、500mg/kgより小さかった( 500mg
/ kg> LDso > 250mgZkg)。
きく、500mg/kgより小さかった( 500mg
/ kg> LDso > 250mgZkg)。
(6〉鎮痛作用
酢酸ライジング
(1)試験方法
ddY系マウマウス10匹群当りに使用した。0.6%
酢酸(0,2m11710g )をマウスに腹腔内注射
してライジングを発現させた。動物を酢酸注射後3〜1
3分の間観察し、ライジング総数を記録した。薬物(テ
トラヒドロ−IJs−9326A )を酢酸注射15分
前に腹腔内投与した。処理動物のライジング発現頻度を
対照動物の頻度と比較した。
酢酸(0,2m11710g )をマウスに腹腔内注射
してライジングを発現させた。動物を酢酸注射後3〜1
3分の間観察し、ライジング総数を記録した。薬物(テ
トラヒドロ−IJs−9326A )を酢酸注射15分
前に腹腔内投与した。処理動物のライジング発現頻度を
対照動物の頻度と比較した。
(−〉試験結果
ED50 :s、5mg/ kg
(7)モルモット気道浮腫反応
(1〉試験方法
体重275〜420gのモルモットに20mg/ kg
エバンスブルー(EB)及び200IU/ kgヘパ
リンを含む1nmol/kgのサブスタンスP(SP)
生食液あるいは10nmol/kgのニューロキニンA
(NWA)生食液を靜注し、10分後設打して大脳動脈
より放血させてから、肺動脈より5QmQの生食液で潅
流して気管及び主気管支を摘出した。気道重量を測定後
、細かく切り刻みIN水酸化カリウム水溶液o、smx
に浸し1−2日間室温に放置した後、37”06時間イ
ンキュベーションした。0.6Nリン酸:アセトン(5
: 13)4.5mQを加え激しく振盪させてから30
00rpm10−15分遠心し上清の0D62oを測定
して1g組織当りのEB量を求め、浮腫反応の指標とし
た。
エバンスブルー(EB)及び200IU/ kgヘパ
リンを含む1nmol/kgのサブスタンスP(SP)
生食液あるいは10nmol/kgのニューロキニンA
(NWA)生食液を靜注し、10分後設打して大脳動脈
より放血させてから、肺動脈より5QmQの生食液で潅
流して気管及び主気管支を摘出した。気道重量を測定後
、細かく切り刻みIN水酸化カリウム水溶液o、smx
に浸し1−2日間室温に放置した後、37”06時間イ
ンキュベーションした。0.6Nリン酸:アセトン(5
: 13)4.5mQを加え激しく振盪させてから30
00rpm10−15分遠心し上清の0D62oを測定
して1g組織当りのEB量を求め、浮腫反応の指標とし
た。
薬物(テトラヒドロ−ws −9326A )はSPあ
るいはNKA投与の2分前に静脈内投与した。
るいはNKA投与の2分前に静脈内投与した。
(i)
試験結果
ペプチド誘導体(I)の医薬組成物は、外用、腸管内ま
たは非経口適用に適した有機または無機の担体または賦
形剤と混合した形でペプチド誘導体(1)を活性成分と
して含有する医薬製剤の形で、たとえば固体、半固体ま
たは液体の形で使用できる。uI活性成分は、たとえば
、錠剤、ペレット、カプセル、溶液、乳濁液、懸濁液、
吸入剤、点眼剤、点鼻剤、坐剤、ローションパップ剤、
軟膏剤、注射剤、その他使用に適した任意の形態とする
ための通常の、製薬上許容しうる無毒性の担体と混合し
うる。使用しうる担体は、水、グルコース、ラクトース
、アカシアゴム、ゼラチン、マンニトール、でんぷんの
り、三ケイ酸マグネシウム、タルク、とうもろこしでん
ぷん、ケラチン、コロイド性シリカ、ばれいしょでんぷ
ん、尿素、その他、固体、半固体また液体の形の製剤の
製造に当って使用するに適した担体であり、さらに、助
剤、安定剤、増粘剤、着色剤および香料も使用できる。
たは非経口適用に適した有機または無機の担体または賦
形剤と混合した形でペプチド誘導体(1)を活性成分と
して含有する医薬製剤の形で、たとえば固体、半固体ま
たは液体の形で使用できる。uI活性成分は、たとえば
、錠剤、ペレット、カプセル、溶液、乳濁液、懸濁液、
吸入剤、点眼剤、点鼻剤、坐剤、ローションパップ剤、
軟膏剤、注射剤、その他使用に適した任意の形態とする
ための通常の、製薬上許容しうる無毒性の担体と混合し
うる。使用しうる担体は、水、グルコース、ラクトース
、アカシアゴム、ゼラチン、マンニトール、でんぷんの
り、三ケイ酸マグネシウム、タルク、とうもろこしでん
ぷん、ケラチン、コロイド性シリカ、ばれいしょでんぷ
ん、尿素、その他、固体、半固体また液体の形の製剤の
製造に当って使用するに適した担体であり、さらに、助
剤、安定剤、増粘剤、着色剤および香料も使用できる。
活性目的化合物は、疾患の過程または状態に所望の効果
を及ぼすのに十分な量だけ、該医薬組成物に含有させる
。
を及ぼすのに十分な量だけ、該医薬組成物に含有させる
。
ペプチド誘導体(1)の治療に有効な用量は、あ置すべ
き各個の患者の年令および状態により異なり、またそれ
らに依存するが、1日量として約0、01〜1000m
g、好ましくは0.1〜500mg、より好ましくは0
.5〜100mgの有効成分を疾患治療のために与える
のが一般的であり、平均−回用量としては通常約0.5
mg、 1 mg、 5 mg、 10mg、 50m
g、100mg、250mgまたは500mgを投与す
る。
き各個の患者の年令および状態により異なり、またそれ
らに依存するが、1日量として約0、01〜1000m
g、好ましくは0.1〜500mg、より好ましくは0
.5〜100mgの有効成分を疾患治療のために与える
のが一般的であり、平均−回用量としては通常約0.5
mg、 1 mg、 5 mg、 10mg、 50m
g、100mg、250mgまたは500mgを投与す
る。
本明細書において、アミノ酸、ペプチド、保護基などを
、当該分野で慣用されるIUPAC−ILIB (生化
学命名委員会)の略語で示すことがある。
、当該分野で慣用されるIUPAC−ILIB (生化
学命名委員会)の略語で示すことがある。
但、以下の実施例および製造例においては、IUPAC
−IUBの採択する略語以外の他の略語もまた用いる。
−IUBの採択する略語以外の他の略語もまた用いる。
本明細書において用いる略語は以下のとおりである。
Thr : L−トレオニン
5ar : L−セリン
Tyr : L−チロシン
Asn : L−アスパラギン
allo−τhr:L−アロトレオニンD−Phe:
D−フェニルアラニン Leu : L−ロイシン ac zl oC :ベンジルオキシカルボニル :フエナシル :ベンジル :t−ブトキシカルポニル Me:メチル Tea :2,2.2−トリクロロエチルMmp
: 4−メトキシメトキシフェニルSi’
: t−ブチルジメチルシリルAcニアセチル Et:エチル o−Hex : n−ヘキサン 以下に実施例および製造例をあげて、本発明の詳細な説
明する。
D−フェニルアラニン Leu : L−ロイシン ac zl oC :ベンジルオキシカルボニル :フエナシル :ベンジル :t−ブトキシカルポニル Me:メチル Tea :2,2.2−トリクロロエチルMmp
: 4−メトキシメトキシフェニルSi’
: t−ブチルジメチルシリルAcニアセチル Et:エチル o−Hex : n−ヘキサン 以下に実施例および製造例をあげて、本発明の詳細な説
明する。
実施例1
紋薯
可溶性でんぷん(1%〉、スクロース(1%)、グルツ
ース(1%)、綿実粉(1%)、ペプトン(0,5%)
、脱脂大豆粉(0,5%)および炭酸カルシウム(0,
2%)を含有する種培地(160ffL11)(pHは
6N水酸化ナトリウムで7.0に調整)を5001d
容の三角フラスコ20本の各々に注入し、120”Cで
30分間滅菌した。
ース(1%)、綿実粉(1%)、ペプトン(0,5%)
、脱脂大豆粉(0,5%)および炭酸カルシウム(0,
2%)を含有する種培地(160ffL11)(pHは
6N水酸化ナトリウムで7.0に調整)を5001d
容の三角フラスコ20本の各々に注入し、120”Cで
30分間滅菌した。
ストレプトミセス・ビオラセ才二ガーNc 9326の
斜面培養1白金耳を培地の各々に接種し、ロータノーシ
ェーカー(22Orpm、行程5.1cm )上、30
℃で3日間培養した。得られた種培養を、グリセリン(
3%)、脱脂大豆粉(0,5%)、きな粉(1,5%)
、炭酸カルシウム(0,2%)および沃化ナトノウム(
NaI ) (0,001%)を含有する2002ステ
ンレス製ジケーフアーメンター中のあらかじめ滅菌した
生産培地160eに接種した6通気量160(!/分お
よび回転数20Orpm、30℃で3日間、培養した。
斜面培養1白金耳を培地の各々に接種し、ロータノーシ
ェーカー(22Orpm、行程5.1cm )上、30
℃で3日間培養した。得られた種培養を、グリセリン(
3%)、脱脂大豆粉(0,5%)、きな粉(1,5%)
、炭酸カルシウム(0,2%)および沃化ナトノウム(
NaI ) (0,001%)を含有する2002ステ
ンレス製ジケーフアーメンター中のあらかじめ滅菌した
生産培地160eに接種した6通気量160(!/分お
よび回転数20Orpm、30℃で3日間、培養した。
醗酵液中のIJS−9326Aの量を、日立655型ポ
ンプを用いての高速液体クロマトグラフィー(HPLC
)によって定量した。R−ODS−5充填スチールカラ
ム(内径4.6ffi町長さ250mn+) (YMC
−充填力ラム)を流速1.0m/分で使用した。
ンプを用いての高速液体クロマトグラフィー(HPLC
)によって定量した。R−ODS−5充填スチールカラ
ム(内径4.6ffi町長さ250mn+) (YMC
−充填力ラム)を流速1.0m/分で使用した。
使用した移動相は、メタノールと水との混合物(8:2
)であった、 HPLCアッセイ用の試料は次のように
して調製した二等体積のアセトンを醗酵液にはげしく攪
拌しながら加え、1時間放置し、つぎに遠心分離した。
)であった、 HPLCアッセイ用の試料は次のように
して調製した二等体積のアセトンを醗酵液にはげしく攪
拌しながら加え、1時間放置し、つぎに遠心分離した。
上澄みの5JAQを日立655型サンプルインジエクタ
ーに注入した。
ーに注入した。
立身」ムリL彼玉
培養液(15(R1)に攪拌下に等体積のアセトンを加
えた。混合物を室温で1時間放置したのち、濾過した。
えた。混合物を室温で1時間放置したのち、濾過した。
濾液を′lIi圧下にSOI!まで濃縮し、IN塩酸で
pHを7.0に調整し、ついで酢酸エチル80eで抽出
した。抽出液を減圧下に濃縮乾固し、シリカゲルカラム
(キーゼルゲル60.70〜230メツシユ、メルク、
3jりにか(すた、カラムをn−ヘキサン(ION )
、n−ヘキサン−酢酸エチル[1:1](101)、酢
酸エチル(20ffi)で洗い、アセトン(6jりによ
り活性物質をカラムから溶出させた。活性画分を減圧下
に乾燥し、シリカゲル(キーゼルゲル60.70〜23
0メツシユ、メルク、1.21)カラムクロマトグラフ
ィーに付した。カラムをクロロホルム−メタノール[2
0:1](54りで洗い、クロロホルム−メタノール[
10: 1 ]溶液<6 N)で目的物質を溶出した。
pHを7.0に調整し、ついで酢酸エチル80eで抽出
した。抽出液を減圧下に濃縮乾固し、シリカゲルカラム
(キーゼルゲル60.70〜230メツシユ、メルク、
3jりにか(すた、カラムをn−ヘキサン(ION )
、n−ヘキサン−酢酸エチル[1:1](101)、酢
酸エチル(20ffi)で洗い、アセトン(6jりによ
り活性物質をカラムから溶出させた。活性画分を減圧下
に乾燥し、シリカゲル(キーゼルゲル60.70〜23
0メツシユ、メルク、1.21)カラムクロマトグラフ
ィーに付した。カラムをクロロホルム−メタノール[2
0:1](54りで洗い、クロロホルム−メタノール[
10: 1 ]溶液<6 N)で目的物質を溶出した。
この画分を減圧下に乾燥して粉末を得た。この粉末を少
量のメタノールに溶解し、N5ゲル(日本精密、 so
omn )のカラムにかけた。目的物質をメタノール−
水[8:2](2()で溶出し、減圧下に300rnQ
に濃縮し、つぎに酢酸エチル5ooatcで抽出した。
量のメタノールに溶解し、N5ゲル(日本精密、 so
omn )のカラムにかけた。目的物質をメタノール−
水[8:2](2()で溶出し、減圧下に300rnQ
に濃縮し、つぎに酢酸エチル5ooatcで抽出した。
抽出液を減圧下に濃縮乾固して、粉末(5g)を得た。
この粉末(5g)をメタノール10mMに溶解し、D−
0圏−5充填スチールカラム〈内径20mm、長さ25
0mm)(YMC充填カラム)を用いてのHPLCにか
け、メタノールと水との混合物[8:2]により、流速
9、H11/分で溶出した。こうして得た活性画分を威
圧下に濃縮し、つぎに酢酸エチルで抽出した。
0圏−5充填スチールカラム〈内径20mm、長さ25
0mm)(YMC充填カラム)を用いてのHPLCにか
け、メタノールと水との混合物[8:2]により、流速
9、H11/分で溶出した。こうして得た活性画分を威
圧下に濃縮し、つぎに酢酸エチルで抽出した。
抽出液を減圧下に濃縮乾固して、MS−9326Aの純
粋な白色粉末(150mg)を得た。
粋な白色粉末(150mg)を得た。
哀星舅ユ
WS −9326A (300mg )のピリジン(4
,5絨)溶液に、無水酢酸(1,5ffll! ”)お
よび4−ジメチルアミノピリジン(1mg)を加え、反
応混合物を一夜室温で放置した0反応混合物を蒸発乾固
して油状物を得て、これを調製TLC(クロロホルム−
メタノール(10:1))により精製した。
,5絨)溶液に、無水酢酸(1,5ffll! ”)お
よび4−ジメチルアミノピリジン(1mg)を加え、反
応混合物を一夜室温で放置した0反応混合物を蒸発乾固
して油状物を得て、これを調製TLC(クロロホルム−
メタノール(10:1))により精製した。
得られた生成物をジエチルエーテルで粉末化して、トリ
アセチル−MS −9326A (332mg )を無
色の粉末として得た。トリアセチル−WS−9326A
の物理化学的性質は次の通りである。
アセチル−MS −9326A (332mg )を無
色の粉末として得た。トリアセチル−WS−9326A
の物理化学的性質は次の通りである。
(1)形状および色調:無色の粉末
(2)呈色反応:
陽性:硫酸セリウム反応、硫酸反応、
沃素蒸気反応
陰性:ニンヒドリン反応
(3)溶解性:
可#:メタノール、ジメチルスルホキシド
難溶:クロロホルム、ジエデルエーテル不#:n−ヘキ
サン (4〉融点=141〜143℃ (5)比旋光度: [a]23ニー122°(C□1.
O,MeO)I)(6〉紫外線吸収スペクトル: eal λ 283 nm (ε:32.000)ffia
! (7)分子式”60H74N8016 (8)元素分析: 実験値: C60,19,H6,42,N 9.27C
6oH74N8016・2H20としての計算値:C6
0,09,H6,56,N 9.34(9)分子量: FAB−MS : m/z 1163.6 (M+H)
”(10〉薄層クロマトグラフィー: 固定相 展開溶媒 シリカゲル クロロホルム−メタノールプレート 〈メルク 7ート 5715) 歴菫 0、50 酢酸エチル (11)赤外線吸収スペクトル: vKBr= 3350. 3020. 2Q50. 2
920。
サン (4〉融点=141〜143℃ (5)比旋光度: [a]23ニー122°(C□1.
O,MeO)I)(6〉紫外線吸収スペクトル: eal λ 283 nm (ε:32.000)ffia
! (7)分子式”60H74N8016 (8)元素分析: 実験値: C60,19,H6,42,N 9.27C
6oH74N8016・2H20としての計算値:C6
0,09,H6,56,N 9.34(9)分子量: FAB−MS : m/z 1163.6 (M+H)
”(10〉薄層クロマトグラフィー: 固定相 展開溶媒 シリカゲル クロロホルム−メタノールプレート 〈メルク 7ート 5715) 歴菫 0、50 酢酸エチル (11)赤外線吸収スペクトル: vKBr= 3350. 3020. 2Q50. 2
920。
1730、 1650, 1520, 1440。
1230、 1200. 1160. 1100。
1040、 910 cm”
(12)物質の性質:
2850。
1360。
1060。
中性物質
(13) 13C核磁気共鳴スペクトル:(100 M
Hz. CDC13−CD30H174、20 (S)
。
Hz. CDC13−CD30H174、20 (S)
。
(10:t))S
173、23
(S〉。
173、06 (s)。
171、02 (s)。
169、79 (s)。
169、55 (s)。
167、03 (s)。
151、02 (s)。
138、82 (s)。
137、12 (s)。
133、75 (s)。
130、20 (d)。
129、34 (d)。
128、56 (d) x ’l。
128、95 (d)。
126、63 (d)。
122、10 (d) x 2。
70、99 (d)。
63、73 (t>。
56、10 (d)。
52、66 (d)。
49、93 (d)。
171、32 (s)。
170、84 (s)。
169、59 (s)。
168、52 (s)。
166、36 (S)。
140、74 (d)。
138、74 (s)。
135、23 (d)。
131、31 (s)。
129、96 (d) x 2。
129、21 (d) x 2。
127、24 (d)。
128、74 (dン。
126、50 (d)。
121、29 (d)。
69、22 (d)。
68、13 (d)。
53、22 (d)。
52、18 (a>。
39、75 (t)。
39、39 (Qン. 39.06
<をン。
<をン。
35、57 (t)、 30.65 (
t)。
t)。
24、26 (d)、 23.15 (q
)。
)。
22、79 (t)、 21.42 (q)
21、21 (q)、 20.99 (q
)。
21、21 (q)、 20.99 (q
)。
20、83 (q)、 17.05 (
q)。
q)。
16、18 (Q)、 13.82 (q)
。
。
上記スペクトルのチャートを図4に示す。
(14) IH核磁気共鳴スペクトル;(400 MH
z. CDCl2−CD30H (10:l))88、
25 (IH.d.J=8Hz>。
z. CDCl2−CD30H (10:l))88、
25 (IH.d.J=8Hz>。
8、02 (LH.d.J=8Hz)。
7、88 (lH.d.J=16)12)。
7、86 (LH.d.J=8Hz)。
7、70 (1B,d.J=6Hz)。
7、61 (LH.d.J=8Hz)。
7、 45 ( 11. d, J=7Hz
)。
)。
7、32−7.15 (6H.m)。
7、 03 ( 2H. d. J=8Hz
>。
>。
7、00−6.94 (3H,!11)。
6、88−6.79
6.70
6.49
5.76
5.54
5、50−5.45
4.93
4.75
4.65−4.56
4.46
4.31
4.22
4.18
3.56
2.90
2、85−2.80
2.56
2.26
2.00
1.96−1.89
(aH,m>。
(IH,s)。
(IH,d、J=12H2)。
(LH,dt、J=12および7.5Hz)。
(IH,ブロード (broad) s)。
(2H,m)。
<LH,m)。
(IH,m)。
(2H,m)。
(LH,dd、J=5およびIIH2)。
(IH,t、J=6Hz)。
(IH,m)。
(IH,dd、 J=8および11Hz>。
(3H,s>。
(LH,dd、J=6および16Hz ) 。
(2H,!II)。
(LH,dd、J=4および16Hz)。
(3H,s)。
(3H,s)。
(2H,m)。
1.85 (3H,s)。
1.58 (LH,m)。
1.35 (3H,d、J=6Hz>。
1.32−1.20 (3)1.a+)。
1.07 (3H,d、J=6Hz>。
0.84 (IH劃)。
0、72 (3H,d、J=6Hz)。
0.71 (3H,t、J=7.5Hz)。
0.65 (3H,d、J=6Hz)。
上記スペクトルのチャートを図5に示す。
及星豊ユ
蚊菫
可溶性でんぷん(1%〉、スクロース(1%〉、グルコ
ース(1%)、綿実粉(1%)、ペプトン(0,5%)
、脱脂大豆粉(0,5%)および炭酸カルシウム(0,
2%)を含有する種培地(160mQ )を、500
m11三角フラスコ10本の各々に注入し、120”(
1!で30分間滅菌した。
ース(1%)、綿実粉(1%)、ペプトン(0,5%)
、脱脂大豆粉(0,5%)および炭酸カルシウム(0,
2%)を含有する種培地(160mQ )を、500
m11三角フラスコ10本の各々に注入し、120”(
1!で30分間滅菌した。
ストレプトミセス・ピ才うセ才二ガーNc 9326の
斜面培養の1白金耳をそれら培地の各々に接種し、ロー
タリーシェーカー上で(220rpm、行程5、1am
) 30℃にて3日間培養した。
斜面培養の1白金耳をそれら培地の各々に接種し、ロー
タリーシェーカー上で(220rpm、行程5、1am
) 30℃にて3日間培養した。
得られた種培養を、500(ステンレス製ジャーファー
メンタ−中の、可溶性でんぷん(1%)、スクロース(
1%)、グルコース(1%)、綿実粉(1%)、ペプト
ン(0,5%〉、脱脂大豆粉(0,5%)、炭酸カルシ
ウム(0,2%)、アデカノールLG−109(消泡剤
、商標:旭電化)(0,07%)わよびシリコーンKM
−70(消泡剤、商標:信越化学)(0,05%)を含
有する、前もって120℃で30分間滅菌した種培地(
160ffi)に接種した。培養は、通気量160!2
/分および回転数20Orpm、 30℃で1日間実施
した。
メンタ−中の、可溶性でんぷん(1%)、スクロース(
1%)、グルコース(1%)、綿実粉(1%)、ペプト
ン(0,5%〉、脱脂大豆粉(0,5%)、炭酸カルシ
ウム(0,2%)、アデカノールLG−109(消泡剤
、商標:旭電化)(0,07%)わよびシリコーンKM
−70(消泡剤、商標:信越化学)(0,05%)を含
有する、前もって120℃で30分間滅菌した種培地(
160ffi)に接種した。培養は、通気量160!2
/分および回転数20Orpm、 30℃で1日間実施
した。
得られた種培養プロス(60i)を、グリセリン(3,
0%)、脱脂大豆粉(1,0%)、鶏肉骨粉(1,0%
〉、炭酸カルシウム(0,2%)、沃化ナトリウム(0
,001%)、アデカノールLG−109(0,07%
)およびシリコーンKM−70(0,05%)を含有す
る、前もって120℃で30分間滅菌した、4.000
fステンレス製ジャーファーメンタ−中の生産培地に
接種し、通気量3.0OO1/分および回転数1100
rpのもとに30°Cで4日間培養した。
0%)、脱脂大豆粉(1,0%)、鶏肉骨粉(1,0%
〉、炭酸カルシウム(0,2%)、沃化ナトリウム(0
,001%)、アデカノールLG−109(0,07%
)およびシリコーンKM−70(0,05%)を含有す
る、前もって120℃で30分間滅菌した、4.000
fステンレス製ジャーファーメンタ−中の生産培地に
接種し、通気量3.0OO1/分および回転数1100
rpのもとに30°Cで4日間培養した。
醗酵の経過を、日立655型ポンプを用いての高速液体
クロマトグラフィー(HPLC)によりモニターした。
クロマトグラフィー(HPLC)によりモニターした。
逆相シリカゲル’ YMC−充填力ラムR−ODS−5
J (商標、山村化学研究所)を、流速1、QmQ/分
で用いた。使用した移動相は、45%アセトニトリル水
溶液であった。 HPLC検定用サンプルは次のように
して調製したニブロスを激しく攪拌しながら、これに等
体積のアセトンを加え、混合物を1時間放置したのち、
遠心分離した。上澄みの5−を日立655型HPLCの
インジェクターに注入した。
J (商標、山村化学研究所)を、流速1、QmQ/分
で用いた。使用した移動相は、45%アセトニトリル水
溶液であった。 HPLC検定用サンプルは次のように
して調製したニブロスを激しく攪拌しながら、これに等
体積のアセトンを加え、混合物を1時間放置したのち、
遠心分離した。上澄みの5−を日立655型HPLCの
インジェクターに注入した。
盆(」9じ乙隻量
こうして得た培養ブロスを、濾過助剤として珪藻上(パ
ーライト・トブコ#34、商標、昭和化学産業)(15
kg)を使用して濾過した。菌体ケーキを酢酸エチル(
16001で抽出し、抽出液を濾過した。濾液(140
0j2 )を活性炭(白鷺KL、商標、武田薬品工業)
(2004)のカラムにかけた。力ラムを酢酸エチル(
1202)で洗ったのち、酢酸エテル−メタノール[5
:1]により溶出を行った。活性画分(501から10
3of!までの画分)を合せ、減圧下に452まで濃縮
した。得られた溶液に、攪拌下に、n−ヘキサン(12
0j)を加えた。混合物を室温で1時間放置したのち、
シリカ# 600 (中央シリカ)(3kg)を濾過助
剤として濾過した。こうして得たケーキをn−ヘキサン
(L5iで洗い、目的物質をメタノール(20k)で溶
離させた。
ーライト・トブコ#34、商標、昭和化学産業)(15
kg)を使用して濾過した。菌体ケーキを酢酸エチル(
16001で抽出し、抽出液を濾過した。濾液(140
0j2 )を活性炭(白鷺KL、商標、武田薬品工業)
(2004)のカラムにかけた。力ラムを酢酸エチル(
1202)で洗ったのち、酢酸エテル−メタノール[5
:1]により溶出を行った。活性画分(501から10
3of!までの画分)を合せ、減圧下に452まで濃縮
した。得られた溶液に、攪拌下に、n−ヘキサン(12
0j)を加えた。混合物を室温で1時間放置したのち、
シリカ# 600 (中央シリカ)(3kg)を濾過助
剤として濾過した。こうして得たケーキをn−ヘキサン
(L5iで洗い、目的物質をメタノール(20k)で溶
離させた。
溶出液を減圧下に濃縮乾固した。残渣(500g)をメ
タノール−酢酸−ジクロロメタン[1:1:2](4j
りで溶解し、シリカゲル(キーゼルゲル60.70〜2
30メツシユ、701)のカラムにかけた。カラムをメ
タノール−酢酸−ジクロロメタン[1: 1 : 2]
(0,512)オヨびジクロロメタン(2!Mりで展開
した。@的物質をジクロロメタン−メタノール[tO:
1]およびジクロロメタン−メタノール[8:1コで溶
出した。活性画分を合せ、減圧下で濃縮した。残渣をメ
タノール(12〉で溶解した。得られた溶液に攪拌下に
アセトニドノル(9e)を加えた。混合物を室温で1時
間放置し、生じた沈殿を濾取した。この沈殿工程を3回
反復した。こうして得た沈殿をアセトニトリル(I N
)テ洗い、乾燥して、WS−9326A(7)白色粉
末(190g)を得た。これらの沈殿工程から得た濾渣
を合せて、減圧下に濃縮乾固した。残渣(11,7g)
を80%メタノール水溶液で溶解し、得られた溶液を活
性炭(300mQ)のカラムに通した。カラムを80%
メタノール水溶液(12)で洗い、メタノール(62)
で溶出を行った。活性画分を合せ、減圧下に濃縮乾固し
た。残i(3,4g)をメタノール(12mQ)で溶解
した。得られた溶液を、50%含水アセトニトリルで平
衡化した逆相シリカゲルカラム(Y1’IC充填カラム
R−3545−15/30(ODS)、φ50X j!
300mmx 2 ;メーカー、山村化学研究所)に
かけた、カラムを、ウォーターズHPLC(システム5
00)を用いて、50%含水アセトニトリルで展開した
。 MS−93268を含有する溶出液(32から3.
51までの画分)を合せ、濃縮乾固して、%JS −9
326Bの白色粉末(790mg)を得た。
タノール−酢酸−ジクロロメタン[1:1:2](4j
りで溶解し、シリカゲル(キーゼルゲル60.70〜2
30メツシユ、701)のカラムにかけた。カラムをメ
タノール−酢酸−ジクロロメタン[1: 1 : 2]
(0,512)オヨびジクロロメタン(2!Mりで展開
した。@的物質をジクロロメタン−メタノール[tO:
1]およびジクロロメタン−メタノール[8:1コで溶
出した。活性画分を合せ、減圧下で濃縮した。残渣をメ
タノール(12〉で溶解した。得られた溶液に攪拌下に
アセトニドノル(9e)を加えた。混合物を室温で1時
間放置し、生じた沈殿を濾取した。この沈殿工程を3回
反復した。こうして得た沈殿をアセトニトリル(I N
)テ洗い、乾燥して、WS−9326A(7)白色粉
末(190g)を得た。これらの沈殿工程から得た濾渣
を合せて、減圧下に濃縮乾固した。残渣(11,7g)
を80%メタノール水溶液で溶解し、得られた溶液を活
性炭(300mQ)のカラムに通した。カラムを80%
メタノール水溶液(12)で洗い、メタノール(62)
で溶出を行った。活性画分を合せ、減圧下に濃縮乾固し
た。残i(3,4g)をメタノール(12mQ)で溶解
した。得られた溶液を、50%含水アセトニトリルで平
衡化した逆相シリカゲルカラム(Y1’IC充填カラム
R−3545−15/30(ODS)、φ50X j!
300mmx 2 ;メーカー、山村化学研究所)に
かけた、カラムを、ウォーターズHPLC(システム5
00)を用いて、50%含水アセトニトリルで展開した
。 MS−93268を含有する溶出液(32から3.
51までの画分)を合せ、濃縮乾固して、%JS −9
326Bの白色粉末(790mg)を得た。
亙轟里ま
WS −9326A (100mg )のピリジン(l
絨)溶液に無水酢酸(0,01rnQ)を加え、混合物
を一夜室温で放置した0反応混合物を蒸発乾固して油状
物を得、これを調ILC(クロロホルム−メタノール(
9:1))により精製した。
絨)溶液に無水酢酸(0,01rnQ)を加え、混合物
を一夜室温で放置した0反応混合物を蒸発乾固して油状
物を得、これを調ILC(クロロホルム−メタノール(
9:1))により精製した。
得られた生成物をジエデルエーテルで粉末化して、モ、
i 7−!=?ルーws−9326A(55mg)を無
色の粉末として得た。
i 7−!=?ルーws−9326A(55mg)を無
色の粉末として得た。
モノアセテルーMS−9326Aの物理化学的性質は次
の通りである。
の通りである。
(1)形状および色!II:
無色の粉末
(2)分子式:
%式%
):
)
(0薄層クロマトグラフィー:
ilg−−r溶 #厘
シリカゲル クロロホルム−メタノール 0.17プ
レート (10:1、v/v )(メルク
アート 5715) (5)赤外線吸収スペクトル: vKBr= 3300.2920.1730.1650
.1500゜aX 1960、1190.1170.910 cm−’(6
〉物質の性質: 中性物質 (7) IH核磁気共鳴スペクトル: (400MHz、 CDC13−CD30D (5:1
))上記スペクトルのチャートを図8に示す。
レート (10:1、v/v )(メルク
アート 5715) (5)赤外線吸収スペクトル: vKBr= 3300.2920.1730.1650
.1500゜aX 1960、1190.1170.910 cm−’(6
〉物質の性質: 中性物質 (7) IH核磁気共鳴スペクトル: (400MHz、 CDC13−CD30D (5:1
))上記スペクトルのチャートを図8に示す。
及凰逍1
WS −9326A (LOOrng )のピリジン(
tmn)溶液に無水酢酸(0,03mQ )を加え、混
合物を一夜室温で放置した。混合物を蒸発乾固して油状
物を得、これを調製TLC(クロロホルム−メタノール
(9:1))で精製してジアセチル−MS −9326
A(72mg)を無色粉末として得た。
tmn)溶液に無水酢酸(0,03mQ )を加え、混
合物を一夜室温で放置した。混合物を蒸発乾固して油状
物を得、これを調製TLC(クロロホルム−メタノール
(9:1))で精製してジアセチル−MS −9326
A(72mg)を無色粉末として得た。
ジアセチル−MS−9326Aの物理化学的性質は次の
通りである。
通りである。
(1)形状および色wR:
無色の粉末
(2)分子式:
%式%
):
)
(4)薄層クロマトグラフィーニ
ー旦皇狙−一 展開溶媒 麩蕪シリカ
ゲル クロロホルム−メタノールプレート
(10: 1 、v/v)(メルク 7−) 57
15) (5)赤外線吸収スペクトル: vKB” = 3300. 3020, 2950.
1730. 1650。
ゲル クロロホルム−メタノールプレート
(10: 1 、v/v)(メルク 7−) 57
15) (5)赤外線吸収スペクトル: vKB” = 3300. 3020, 2950.
1730. 1650。
ax
1520、 1500. 1360. 1200. 1
170。
170。
1100、 1040. 980. 910 cm−’
(6)物質の性質: 中性物質 (7) lH核磁気共鳴スペクトル: ( 400 MHz. CDCl2−CD30D (5
:1) )上記スペクトルのチャートを図9に示す。
(6)物質の性質: 中性物質 (7) lH核磁気共鳴スペクトル: ( 400 MHz. CDCl2−CD30D (5
:1) )上記スペクトルのチャートを図9に示す。
実施例6
MS−9326A ( loOmg )をメタノール(
21fl)に溶解し、1気圧の水素の存在下、パラジウ
ム黒(25mg)を用い室温で4時間水素添加する.混
合物をa遇し、濾液を減圧乾固する.得られた生成物を
ジエチルエーテルで粉末化して、テトラヒドロ−MS−
9326A ( 92mg )を無色粉末として得る.
テトラヒドロ−MS−9326Aの物理化学的性質は下
記の通りである。
21fl)に溶解し、1気圧の水素の存在下、パラジウ
ム黒(25mg)を用い室温で4時間水素添加する.混
合物をa遇し、濾液を減圧乾固する.得られた生成物を
ジエチルエーテルで粉末化して、テトラヒドロ−MS−
9326A ( 92mg )を無色粉末として得る.
テトラヒドロ−MS−9326Aの物理化学的性質は下
記の通りである。
(L)形状および色ti1:無色粉末
(2)紫外線吸収スペクトル:
aOH
入 287 nm ( ε =13
.000)ax (3)分子式”54H7。N80、3 (4〉分子ji : FAB−MS : m/z 10
41.6 (M+H)”(5) 13C核磁気共鳴スペ
クトル(100 MHz.CDsOD〉:上記スペクト
ルのチャートを図1Oに示す。
.000)ax (3)分子式”54H7。N80、3 (4〉分子ji : FAB−MS : m/z 10
41.6 (M+H)”(5) 13C核磁気共鳴スペ
クトル(100 MHz.CDsOD〉:上記スペクト
ルのチャートを図1Oに示す。
(6)H核m気共’−% スヘクl− ル(400 M
Hz. CD30D) ’上記スペクトルのチャートを
図11に示す。
Hz. CD30D) ’上記スペクトルのチャートを
図11に示す。
実施例7
テトラヒドo − WS−9326A ( 1100m
g ) (7) ヒ’) シン( tome )溶液に
無水酢酸(3観)および4−ジメデルアミノビリジン(
3mg)を加え、反応混合物を室温で一夜静置する.溶
液を蒸発乾固して油状物を得る.これをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(りaロホルム−メタノール(2
0;1))で精製する。得られた精製物をジエチルエー
テルで粉末化して、テトラヒドロ−トリアセチル−ws
−9326A ( 998mg )を無色粉末として得
る.テトラヒドロ−トリアセチル−νS−93211t
Aの物理化学的性質は下記の通りである。
g ) (7) ヒ’) シン( tome )溶液に
無水酢酸(3観)および4−ジメデルアミノビリジン(
3mg)を加え、反応混合物を室温で一夜静置する.溶
液を蒸発乾固して油状物を得る.これをシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(りaロホルム−メタノール(2
0;1))で精製する。得られた精製物をジエチルエー
テルで粉末化して、テトラヒドロ−トリアセチル−ws
−9326A ( 998mg )を無色粉末として得
る.テトラヒドロ−トリアセチル−νS−93211t
Aの物理化学的性質は下記の通りである。
(1)形状および色調:無色粉末
(2)紫外線吸収スペクトル:
λ ”OH 280 nm ( t :13.00
0)aX (3)分子式”60’78N8o16 (4) 元素分析: 実験値: C 61.03. H 6.70. N 9
.41計算値(c60H78N8o16”2oとしテノ
〉:C 60.80. H 6.80, N 9.45
(5〉 (6) 分子量: m/z 1167、6 (M+H)”13C
核磁気共鳴スペクトル: (100 MHz. CDC13) 173、30 (s)。
0)aX (3)分子式”60’78N8o16 (4) 元素分析: 実験値: C 61.03. H 6.70. N 9
.41計算値(c60H78N8o16”2oとしテノ
〉:C 60.80. H 6.80, N 9.45
(5〉 (6) 分子量: m/z 1167、6 (M+H)”13C
核磁気共鳴スペクトル: (100 MHz. CDC13) 173、30 (s)。
172、96 (S)。
172、90 (s)。
172、81 (s)。
170、87 (s)。
170、56 (s)。
170、50 (5)。
169、46 (s)。
169、16 (s)。
168、48 (s)。
167、99 (s)。
165、52 (s)。
δ
129、23 (d)。
128、95 (d) x 2。
128、61 (d) x 2。
128、52 (d)。
126、80 (d)。
126、07 (d)。
126、01 (d)。
125、85 (d)。
121、87 (d) x 2。
70、46 (d)。
69、10 (d)。
63、32 (t)。
(7〉
150.70 (s)、 58.28140
.84 (s)、 56.19138.93
(s)、 52.63138.58 (s)
、 52.07136.83 (s)、
51.83131.04 (s)、 49
.23129.71 (d) x 2. 39.3
039.17 (q)、 22.5038.3
1 (t)、 21.4636.52 (t
)、 21.0035.22 (t)、
20.7432.60 (t)、 2
G、6331.77 (t)、 16.77
30.74 (t)、 16.2227.
66 (t)、 13.9724.08 (
d)。
.84 (s)、 56.19138.93
(s)、 52.63138.58 (s)
、 52.07136.83 (s)、
51.83131.04 (s)、 49
.23129.71 (d) x 2. 39.3
039.17 (q)、 22.5038.3
1 (t)、 21.4636.52 (t
)、 21.0035.22 (t)、
20.7432.60 (t)、 2
G、6331.77 (t)、 16.77
30.74 (t)、 16.2227.
66 (t)、 13.9724.08 (
d)。
22.82 (q)。
1H核磁気共鳴スペクトル
(400MHz、 CDC13) 88、18
(11,d、J=8Hz)。
(11,d、J=8Hz)。
(d)。
(d〉。
(d〉。
(d)。
(d)。
(d)。
〈t)。
(t〉。
(q)。
(q)。
(q)。
(q)。
(q)。
(q〉。
〈q)。
7.66
65
7.29
7.22
7.15−7.02
6.96
6.67
6.21
5.51
5.43
5.36
4.85−4.75
4.66−4.58
4.40
4.34
4.23
07
3.53
3.04−2.84
2、75−2.50
(LH,d、J=88Z)。
(LH,d、J=8H2)。
(2H,d、J’8Hz)。
(LH,d、J=8Hz>。
(12H,m)。
(LH,d、J=7Hz>。
(lH,s)。
(1H,(ロード s>。
(IH,ブロード s〉。
(IH,ffi>。
(IH,ブロード d J=8Hz)。
(2H,m)。
(2H,m)。
(LH,dd、J=L1
(IH,m)。
(IH,dd、J=11
(IH,m)。
(3H,s)。
(5H,m)。
(4H劃)。
および
および
6Hz ) 。
9Hz)。
2.46 (1)1.dd、J=16および5Hz
> 。
> 。
2.28 (3H,s)。
1.9G1 (3H,a)。
1.87 (3)1.s)。
1.66−1.50 (3H,m)。
1.37−1.27 (4H,m)。
1.27 (3H,d、、C7Hz)。
1.19 (IH,m)。
1.03 (3H,d、J=7Hz>。
0.88 (IH,m)。
0、86 (3H,t、 J=6Hz )。
0、72 (3H,d、 J=6Hz )。
0.65 (3H,d、J=6Hz)。
失10艷互
トリアセチル−MS−9326A (100mg )を
メタノール(3111Q)に溶解し、1気圧の水素の存
在下、パラジウム黒(35mg)を用い室温で3時間水
素添加する。
メタノール(3111Q)に溶解し、1気圧の水素の存
在下、パラジウム黒(35mg)を用い室温で3時間水
素添加する。
混合物を濾過し、濾液を減圧下に蒸発乾固する。
残虐ヲジエテルエーテルで粉末化して、無色粉末(90
mg )を得る。
mg )を得る。
この化合物は実施例7で得られたテトラヒドロ−トリア
セチル−賀S−9326Aと全く同一である。
セチル−賀S−9326Aと全く同一である。
ヒ記の物理化学的性質ならびに化学構造決定を目的とす
る諸研究の結果として、前記トリアセチル−貼−932
6A、モノアセチル−MS−9326A、ジアセチル−
賀S−9326A、テトラヒドロー賢S−9326Aお
よびテトラヒドロ−トリアセチル−MS−9326Aの
各化学構造を以下の如く決定した。
る諸研究の結果として、前記トリアセチル−貼−932
6A、モノアセチル−MS−9326A、ジアセチル−
賀S−9326A、テトラヒドロー賢S−9326Aお
よびテトラヒドロ−トリアセチル−MS−9326Aの
各化学構造を以下の如く決定した。
トリアセデル−MS−9326A
R−:(E)−3−[:2−((Z)−1−ペン5−ニ
ル)フェニル]プロペノイル モノアセf ルーWS−9326A R−:(E)−3−[2−((Z)−1−ペンテニル)
フェニルコプロペノイル R−:(E)−3−[2−((Z)−1−ペンテニル)
フェニル]プロペノイル テトラヒ ドロ−MS−9326A 〔 3−(2−ペンデルフェニル)プロパノイル]R−: 3−(2−ペンチルフェニル)プロパノイル 実施例9 出発化合物(a) ↓ 目的化合物(1) 出発化合物(a)(3,24g )のジクロロメタン(
1000雌)溶液にトリエチルアミン(3sos )お
よび1−エトキシカルボニル−2−エトキシ−1,2−
ジヒドロキノリン(a、t7g)を室温で加える。度合
物を室温で24時間攪拌後、溶媒を留去する。残渣にク
ロロホルムを加え、混合物を水、IN塩酸、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄する。混合物を
硫酸マグネシウムで乾燥し濾過後、溶媒を留去する。残
渣を「口/<−カラム、(サイズC)クロマトグラフィ
ーにイオし、3%メタノール−クロロホルムで溶出する
。
ル)フェニル]プロペノイル モノアセf ルーWS−9326A R−:(E)−3−[2−((Z)−1−ペンテニル)
フェニルコプロペノイル R−:(E)−3−[2−((Z)−1−ペンテニル)
フェニル]プロペノイル テトラヒ ドロ−MS−9326A 〔 3−(2−ペンデルフェニル)プロパノイル]R−: 3−(2−ペンチルフェニル)プロパノイル 実施例9 出発化合物(a) ↓ 目的化合物(1) 出発化合物(a)(3,24g )のジクロロメタン(
1000雌)溶液にトリエチルアミン(3sos )お
よび1−エトキシカルボニル−2−エトキシ−1,2−
ジヒドロキノリン(a、t7g)を室温で加える。度合
物を室温で24時間攪拌後、溶媒を留去する。残渣にク
ロロホルムを加え、混合物を水、IN塩酸、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄する。混合物を
硫酸マグネシウムで乾燥し濾過後、溶媒を留去する。残
渣を「口/<−カラム、(サイズC)クロマトグラフィ
ーにイオし、3%メタノール−クロロホルムで溶出する
。
目的化合物を含む画分を蒸発して、目的化合物(1)(
1,06g )を得る。
1,06g )を得る。
18 。
[α]D ・−95,30°(C=0.33. C)t
c13)1 1R(CHCL3) ’ 166G、 1600.15
10 amNMR(CDC13,8) =0.88 (
3H0d、J=6Hz>、0.93(3H,d、J=6
Hz)、 1.09 <3H,d、J=6.5Hz)
、 1.37(3H,d、J=6.5Hz)、 2.
82 (3H,s)、 4.87 (2H。
c13)1 1R(CHCL3) ’ 166G、 1600.15
10 amNMR(CDC13,8) =0.88 (
3H0d、J=6Hz>、0.93(3H,d、J=6
Hz)、 1.09 <3H,d、J=6.5Hz)
、 1.37(3H,d、J=6.5Hz)、 2.
82 (3H,s)、 4.87 (2H。
s)、 6.93 (2Ld、J:8Hz)塞」畳艷
四 出発化合物(a) 出発化合物(a> (42mg )をジクロロメタン(
4mll )およびN、N−ジメチルホルムアミド(0
,1鍼)に溶解し、これにN−ヒドロキシサクシンイミ
ド(20,4mg )および水溶性カルボジイミド塩酸
塩(8,2mg)を加える。室温で15時間攪拌後、こ
の混合物に水溶性カルボジイミド塩酸塩(4mg)を1
.5時間間隔で出発化合物(a)が消失するまで加える
。減圧下に溶媒を除去し、残渣を酢酸エチル(10mQ
)に溶解後、希塩酸および水で洗浄する。
四 出発化合物(a) 出発化合物(a> (42mg )をジクロロメタン(
4mll )およびN、N−ジメチルホルムアミド(0
,1鍼)に溶解し、これにN−ヒドロキシサクシンイミ
ド(20,4mg )および水溶性カルボジイミド塩酸
塩(8,2mg)を加える。室温で15時間攪拌後、こ
の混合物に水溶性カルボジイミド塩酸塩(4mg)を1
.5時間間隔で出発化合物(a)が消失するまで加える
。減圧下に溶媒を除去し、残渣を酢酸エチル(10mQ
)に溶解後、希塩酸および水で洗浄する。
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、残
渣をトリフルオロ酢酸(IIIIN)およびアニソール
(0,1m2)に溶解する。室温で30分間84!拌後
、溶媒を減圧下に留去する。残渣をN、N−ジメチルホ
ルムアミド(2+112)に溶解し、混合物をピリジン
(4QmQ )に加える。室温で16時間攪拌後、溶媒
を111!圧下に留去する。残渣を分取薄層クロマトグ
ラフィー(Merck 5744 )に付し、クロロホ
ルム−メタノール(10:1)で展開して、目的化合物
(L ) (15,2mg )を得る。
渣をトリフルオロ酢酸(IIIIN)およびアニソール
(0,1m2)に溶解する。室温で30分間84!拌後
、溶媒を減圧下に留去する。残渣をN、N−ジメチルホ
ルムアミド(2+112)に溶解し、混合物をピリジン
(4QmQ )に加える。室温で16時間攪拌後、溶媒
を111!圧下に留去する。残渣を分取薄層クロマトグ
ラフィー(Merck 5744 )に付し、クロロホ
ルム−メタノール(10:1)で展開して、目的化合物
(L ) (15,2mg )を得る。
IR(KBr) : 1e35.1510 cm−’N
MR(CD30D、δ) : 6.24 (s、LH)
20 。
MR(CD30D、δ) : 6.24 (s、LH)
20 。
[αコ 、 18.0’ (C=O5L Me
OH)塞1d艷■ 出発化合物(a) 土 e 目的化金物(1) 出発化合物(a) (240mg )をギ酸およびメタ
ノール(1:24.10絨)の混液中でパラジウム(2
00mg)を用い4 psiで7時間水素添加する。混
合物を濾過し、′a液を蒸発させて、目的化合物(1)
(140mg)を得る。
OH)塞1d艷■ 出発化合物(a) 土 e 目的化金物(1) 出発化合物(a) (240mg )をギ酸およびメタ
ノール(1:24.10絨)の混液中でパラジウム(2
00mg)を用い4 psiで7時間水素添加する。混
合物を濾過し、′a液を蒸発させて、目的化合物(1)
(140mg)を得る。
IR(KBr) ’ 1730. 1650. 1
510 cm−’[α コg’ : −21,0
4° (C=0.1. MaOH)XIU九す 出発化合物(a) 土 出発化合物(a) (22mg )をフ・ン化水素−ピ
リジン(Q、gmll)およびアニソール(0,2mQ
) (7)溶液に窒素ガスバッグ中で溶解する。室温
で1時間攪拌後、氷を数個この混合物に加え、溶液を炭
酸水素ナトリウム水溶液でpH8に調整する。混合物を
ダイヤイオンHP−20(lomm )カラムにのせ、
水洗する。生成物をメタノールで溶出し、薄層クロマト
グラフィー(Merck 5715、クロロホルム−メ
タノール−水(3: 1 :0.1 v/v) )で精
製して、目的化合物(1)(13,0mg)を得る。
510 cm−’[α コg’ : −21,0
4° (C=0.1. MaOH)XIU九す 出発化合物(a) 土 出発化合物(a) (22mg )をフ・ン化水素−ピ
リジン(Q、gmll)およびアニソール(0,2mQ
) (7)溶液に窒素ガスバッグ中で溶解する。室温
で1時間攪拌後、氷を数個この混合物に加え、溶液を炭
酸水素ナトリウム水溶液でpH8に調整する。混合物を
ダイヤイオンHP−20(lomm )カラムにのせ、
水洗する。生成物をメタノールで溶出し、薄層クロマト
グラフィー(Merck 5715、クロロホルム−メ
タノール−水(3: 1 :0.1 v/v) )で精
製して、目的化合物(1)(13,0mg)を得る。
IR(KBr) ’ 1635.1510 cm””■
NMR(CD30D、δ) : 7.05 (!1.1
!()[α コ乙0 : −90,6° (C=0
.1. Mail)TLC: Rf−0,35[Me
rek Art 5715. CHCL3−MeOH−
H2O(3:t:o、t)] 大1u艷東 出発化合物(a) R:(E) 3−[2−((Z)−1−ペンチニル)
フェニル]プロペノイル 出発化合物(a) (6,0mg )をジクロロメタン
(195mQ)、ビス(ジメチルシリル)アセトアミド
(3〇−)およpN、N−ジメチルホルムアミド(0,
3醋)に溶解し、これに出発化合物(b)の0.02M
m液(0,4fflQ)を加える。室温で1時間攪拌
後、この漉合物に4−′;メチルアミノピリジン(0,
1mg)を加える。この混合物に出発化合物(b)を3
0分間間隔で出発化合物(a)が消失するまで加える。
NMR(CD30D、δ) : 7.05 (!1.1
!()[α コ乙0 : −90,6° (C=0
.1. Mail)TLC: Rf−0,35[Me
rek Art 5715. CHCL3−MeOH−
H2O(3:t:o、t)] 大1u艷東 出発化合物(a) R:(E) 3−[2−((Z)−1−ペンチニル)
フェニル]プロペノイル 出発化合物(a) (6,0mg )をジクロロメタン
(195mQ)、ビス(ジメチルシリル)アセトアミド
(3〇−)およpN、N−ジメチルホルムアミド(0,
3醋)に溶解し、これに出発化合物(b)の0.02M
m液(0,4fflQ)を加える。室温で1時間攪拌
後、この漉合物に4−′;メチルアミノピリジン(0,
1mg)を加える。この混合物に出発化合物(b)を3
0分間間隔で出発化合物(a)が消失するまで加える。
これに希塩酸を加え、有機層を水洗する。減圧蒸留後、
残渣を分取薄層クロマトグラフィー(1(arck57
15 ’) j、: 付し、クロロホルム−メタノール
−水(65: 25: 4V/V)で展開して、目的化
合物(1)を得る。この化合物は実施例1で得られたM
S−9326Aと同一である。
残渣を分取薄層クロマトグラフィー(1(arck57
15 ’) j、: 付し、クロロホルム−メタノール
−水(65: 25: 4V/V)で展開して、目的化
合物(1)を得る。この化合物は実施例1で得られたM
S−9326Aと同一である。
叉1u4u
出発化合物(a)
R−、ステアロイノしくオクタデカノイル)出発化合物
(a) (11mg )のピリジン(1m11)溶液に
出発化合物(b)のジクロロメタン(0,6+nQ )
中0、02M溶液を加える。室温で1時間攪拌後、こ
の混合物に出発化合物(b)を1時間間隔で出発化合物
(a)が消失するまで加える。この混合物にメタノール
(2mQ)を加え、溶媒を減圧留去する。残漬を酢酸エ
チル(10mQ )に溶解し、希塩酸および水で洗浄す
る。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。
(a) (11mg )のピリジン(1m11)溶液に
出発化合物(b)のジクロロメタン(0,6+nQ )
中0、02M溶液を加える。室温で1時間攪拌後、こ
の混合物に出発化合物(b)を1時間間隔で出発化合物
(a)が消失するまで加える。この混合物にメタノール
(2mQ)を加え、溶媒を減圧留去する。残漬を酢酸エ
チル(10mQ )に溶解し、希塩酸および水で洗浄す
る。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。
残渣を分取薄層クロマトグラフ イー (Merck
5715 )に付し、クロロホルム−メタノール−水(
3:1:0.1v/v)で展開して、目的化合物(t)
(z、omg)を得る。
5715 )に付し、クロロホルム−メタノール−水(
3:1:0.1v/v)で展開して、目的化合物(t)
(z、omg)を得る。
IR(KBr) ’ 1640.1510 cm’X及
盟豆 e 出発化合物(a) 目的化合物(1) R−:(E)−3−[2((Z)−1−ヘンテニル)フ
ェニル]プロペノイル 出発化合物(a) (49,7mg )のピリジン(1
絨)mj&に出発化合物(b)のジクロロメタン(1,
2111N)中0.1M溶戒を窒素雰囲気中で加え、混
合物を室温で35時間攪拌する0反応混合物に酢酸エチ
ルを加え、混合物を水、7%酢酸、水および飽和食塩水
で洗浄する。@酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒
を留去し、残渣を分取薄層クロマトグラフ((0,5m
nX2)に付し、20%メタノール−クロロホルムで展
開して、目的化合物(1)(20,8mg)を得る。こ
の化合物は実施例3で得られたw5−9326Bと同一
である。
盟豆 e 出発化合物(a) 目的化合物(1) R−:(E)−3−[2((Z)−1−ヘンテニル)フ
ェニル]プロペノイル 出発化合物(a) (49,7mg )のピリジン(1
絨)mj&に出発化合物(b)のジクロロメタン(1,
2111N)中0.1M溶戒を窒素雰囲気中で加え、混
合物を室温で35時間攪拌する0反応混合物に酢酸エチ
ルを加え、混合物を水、7%酢酸、水および飽和食塩水
で洗浄する。@酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒
を留去し、残渣を分取薄層クロマトグラフ((0,5m
nX2)に付し、20%メタノール−クロロホルムで展
開して、目的化合物(1)(20,8mg)を得る。こ
の化合物は実施例3で得られたw5−9326Bと同一
である。
衷」己4」
実施例15と同様にして下記化合物を得る。
e
(1)R−:ベンゾイル
[α コo” −4s、so (C=0.74.
MeOH)mp ’ 176−178℃ TLC: Rf=0.48 [Merck Art 5
715. CHCL3−MeOH〈5:lンコ IR(KBr) ’ 1720 (ショルダー)
、 1655. 1640 cm−’(2)R−:
2−(2−チエニル)アセチル[al乙3ニー16.8
°(C=0.73. MeOH)mp : 160
−163℃ TLC: Rf=0.24 [Merck Art 5
715. CHCL3−MeO)I(5:l)] IR(KBr) : 1720 (シ3−ルダ−
ン、 165(l am−’(3ンR−、アセチル CCI ]o” ’ −37,4’ (C=0.721
MeOH)mp : 231−233°C TLC: Rf=0.41 [Merck Art 5715゜ CHC13−MeOH (5:1)] IR(KBr) : 1720 (シ1−ルダー
)、 1650 aml叉」饗lば 出発化合物(a) 目的化合物〈1〉 出発化合物(a) (100mg )のピリジン(1+
1111)溶液に無水酢酸(o4 )を加え、混合物を
室温で一夜静置する。
MeOH)mp ’ 176−178℃ TLC: Rf=0.48 [Merck Art 5
715. CHCL3−MeOH〈5:lンコ IR(KBr) ’ 1720 (ショルダー)
、 1655. 1640 cm−’(2)R−:
2−(2−チエニル)アセチル[al乙3ニー16.8
°(C=0.73. MeOH)mp : 160
−163℃ TLC: Rf=0.24 [Merck Art 5
715. CHCL3−MeO)I(5:l)] IR(KBr) : 1720 (シ3−ルダ−
ン、 165(l am−’(3ンR−、アセチル CCI ]o” ’ −37,4’ (C=0.721
MeOH)mp : 231−233°C TLC: Rf=0.41 [Merck Art 5715゜ CHC13−MeOH (5:1)] IR(KBr) : 1720 (シ1−ルダー
)、 1650 aml叉」饗lば 出発化合物(a) 目的化合物〈1〉 出発化合物(a) (100mg )のピリジン(1+
1111)溶液に無水酢酸(o4 )を加え、混合物を
室温で一夜静置する。
混合物を蒸発乾固して油状物を得る。これを分取薄層ク
ロマトグラフィー(CHCla−MeOH(9: 1
))で精製して、目的化合物(1)(52mg)を得る
。
ロマトグラフィー(CHCla−MeOH(9: 1
))で精製して、目的化合物(1)(52mg)を得る
。
τLC: Rf=0.17 [Merck Art 5
715. C)IcI3−MgO2((111)] IR(スジ3−ル) : 3300. 1760.
1730. 1650. 1530゜1510、12
G0.1160.1070゜910 cm−” 宜」を生す 出発化合物(a) R−:3−(2−ペンチルフェニル)プロノくノイル 出発化合物(a) (100mg )のピリジン1m1
l)溶液に無水酢酸(254)を加え、混合物を室温で
1夜静置する。
715. C)IcI3−MgO2((111)] IR(スジ3−ル) : 3300. 1760.
1730. 1650. 1530゜1510、12
G0.1160.1070゜910 cm−” 宜」を生す 出発化合物(a) R−:3−(2−ペンチルフェニル)プロノくノイル 出発化合物(a) (100mg )のピリジン1m1
l)溶液に無水酢酸(254)を加え、混合物を室温で
1夜静置する。
混合物を蒸発乾燥して油状物を得る。これを分取薄層ク
ロマトグラフィー(CHCL3−MaOH(,9: 1
))に付して、目的化合物<1)(78mg)を得る
。
ロマトグラフィー(CHCL3−MaOH(,9: 1
))に付して、目的化合物<1)(78mg)を得る
。
TLC: Rf=6.36 [Merck Art 5
715. CHCla−MeOH(10:1)1 1R(スジフール) : 3300. 1760.
1740. 1650. 1540゜1510゜ 1300゜ 1220゜ 1200゜ 1170゜ 1050゜ 920 am″″l 実施例19 出発化合物(a) 土 目的化合物(1) R−:3−(2−ペンチルフェニル)プロパノイル 出発化合物(a)(0,21g )のメタノール(3醋
)溶液にジアゾメタンのジエチルエーテル溶液(,3I
Q )を加える。5分間攪拌後、溶媒を減圧下に留去す
る。残渣を分取薄層クロマトグラフィー(Merck
5744 )に付し、20%メタノール−クロロホルム
で展開して、目的化合物(1)(45mg)を得る。
715. CHCla−MeOH(10:1)1 1R(スジフール) : 3300. 1760.
1740. 1650. 1540゜1510゜ 1300゜ 1220゜ 1200゜ 1170゜ 1050゜ 920 am″″l 実施例19 出発化合物(a) 土 目的化合物(1) R−:3−(2−ペンチルフェニル)プロパノイル 出発化合物(a)(0,21g )のメタノール(3醋
)溶液にジアゾメタンのジエチルエーテル溶液(,3I
Q )を加える。5分間攪拌後、溶媒を減圧下に留去す
る。残渣を分取薄層クロマトグラフィー(Merck
5744 )に付し、20%メタノール−クロロホルム
で展開して、目的化合物(1)(45mg)を得る。
IR(スジョール) : 3300. 1730.
1645. 1530゜1510 cll 失」畳艷象 出発化合物(a) R−:3−(2−ペンチルフェニル)プロノくノイル 出発化合物(a)(1,0g )のメタノール(15m
11 )溶液にIN−水酸化ナトリウム(smu)を0
°Cで加える。1時間攪拌後、これにIN−塩酸(sm
u )を加える0m媒を減圧下に留去し、残渣を酢酸エ
チル(20mQ )および希塩# (30+1111
)の混合物に溶解する。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧下に蒸発させる。得られた
固形物を酢酸エチルで洗浄して、目的化合物(1)(0
,95g )を得る。
1645. 1530゜1510 cll 失」畳艷象 出発化合物(a) R−:3−(2−ペンチルフェニル)プロノくノイル 出発化合物(a)(1,0g )のメタノール(15m
11 )溶液にIN−水酸化ナトリウム(smu)を0
°Cで加える。1時間攪拌後、これにIN−塩酸(sm
u )を加える0m媒を減圧下に留去し、残渣を酢酸エ
チル(20mQ )および希塩# (30+1111
)の混合物に溶解する。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧下に蒸発させる。得られた
固形物を酢酸エチルで洗浄して、目的化合物(1)(0
,95g )を得る。
IR(スy++−x) : 3300. 1710
(シジールダー)、 16451510 cm−
’ 実−流側21 e 出発化合物(a) 土 R−:3−(2−ペンチルフェニル)プロパノイル 出発化合物(a)(1,0g )をメタノール(2−)
および酢酸エチル(20m1! )に溶解し、これに1
0%トリメチルシリルジアゾメタンのn−ヘキサン溶液
(2IIII2)を加える。5分間攪拌後、溶媒を減圧
下に留去する。残漬をシリカゲル(1(erck 77
34 )(20g)カラムにのせ、クロロホルム−メタ
ノール(10: 1 、v/v)で溶出して、目的化合
物〈1)(0,55g)を固形物として得る。
(シジールダー)、 16451510 cm−
’ 実−流側21 e 出発化合物(a) 土 R−:3−(2−ペンチルフェニル)プロパノイル 出発化合物(a)(1,0g )をメタノール(2−)
および酢酸エチル(20m1! )に溶解し、これに1
0%トリメチルシリルジアゾメタンのn−ヘキサン溶液
(2IIII2)を加える。5分間攪拌後、溶媒を減圧
下に留去する。残漬をシリカゲル(1(erck 77
34 )(20g)カラムにのせ、クロロホルム−メタ
ノール(10: 1 、v/v)で溶出して、目的化合
物〈1)(0,55g)を固形物として得る。
IR(スジ5−4) ’ 3300. 1735.
1645. 1530゜1510 am”” 型10乱1 Z−Thr−〉Z−Thr−OPac Pa化合物(a) 目的化合物(1)出発化
合物(a)(2,53g )、メタノール(tome)
および水(3mu)の溶液に炭酸セシウム(1,63g
)を加える。76媒を除去後、残渣をN、N−ジメチル
ホルムアミドに溶解し、渇合物を臭化フェナシル(1,
92g )に加える。混合物を室温で30分間攪拌する
。溶媒を留去し、残漬を酢酸エチルに溶解し、本院する
。混合物を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を
留去して、目的化合物(1〉(3,7g)の結晶を得る
。
1645. 1530゜1510 am”” 型10乱1 Z−Thr−〉Z−Thr−OPac Pa化合物(a) 目的化合物(1)出発化
合物(a)(2,53g )、メタノール(tome)
および水(3mu)の溶液に炭酸セシウム(1,63g
)を加える。76媒を除去後、残渣をN、N−ジメチル
ホルムアミドに溶解し、渇合物を臭化フェナシル(1,
92g )に加える。混合物を室温で30分間攪拌する
。溶媒を留去し、残漬を酢酸エチルに溶解し、本院する
。混合物を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を
留去して、目的化合物(1〉(3,7g)の結晶を得る
。
20、−
[α]、20.3′″(C=1. CHCl3)IR(
スジ3−ル) ’ 1745. 1670. 15
45 cm−’製10」主 zl Z−Thr−OPac + BoC
−5er出発化合物(a) 出発化合物(b
)目的化合物(1) 出発化合物(a)(1,48; )および出発化合物(
b)(2,5g)をジクロロメタン(go+nu )に
溶解し、これに1−エチル−3−(3−ジメチルアミノ
プロビル)カルボジイミド塩酸塩(0,764g )
オヨび4−ジメチルアミノピリジン(0,488g )
をo ”cで加える。6時間攪拌後、溶媒を留去する。
スジ3−ル) ’ 1745. 1670. 15
45 cm−’製10」主 zl Z−Thr−OPac + BoC
−5er出発化合物(a) 出発化合物(b
)目的化合物(1) 出発化合物(a)(1,48; )および出発化合物(
b)(2,5g)をジクロロメタン(go+nu )に
溶解し、これに1−エチル−3−(3−ジメチルアミノ
プロビル)カルボジイミド塩酸塩(0,764g )
オヨび4−ジメチルアミノピリジン(0,488g )
をo ”cで加える。6時間攪拌後、溶媒を留去する。
残清を酢酸エチルに溶解し、混合物を水、1N塩酸、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄する。硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去して、目的
化合物(1)(2,58g )を得る。
和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄する。硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去して、目的
化合物(1)(2,58g )を得る。
[α コ乙0 : +9.76° (C=0.3.
CHCl3)1 1R(CHCl3) ’ 1755.1720,170
5.1505 amNMR(CDCI 3. δ ン
: 1.37 (3)!、dJ=6Hz)、 1
.45(9H,s)、 3.70 (IH,m)、 3
.88 (IH,m)、 4.52(2H,m>、 4
.23 (IH,m)、 5.17 (2H,s)、
5.37(2H,s) 製造例3 出発化合物(a) 目的化合物(1)出発
化合物(a)を90%酢酸水溶液(100mQ)に溶解
し、これに亜鉛粉末(l1g)を攪拌下に加え、混合物
を水冷下に2時間、室温で1時間攪拌する。混合物を濾
過後、′a液を濃縮し、クエン酸でpH2に調整後、酢
酸エチルで抽出する。抽出物を硫酸マグネシウム乾燥し
、濾過後、溶媒を留去する。残渣を石油エーテルで洗浄
して、目的化合物、(1)(5,4g )を得る。
CHCl3)1 1R(CHCl3) ’ 1755.1720,170
5.1505 amNMR(CDCI 3. δ ン
: 1.37 (3)!、dJ=6Hz)、 1
.45(9H,s)、 3.70 (IH,m)、 3
.88 (IH,m)、 4.52(2H,m>、 4
.23 (IH,m)、 5.17 (2H,s)、
5.37(2H,s) 製造例3 出発化合物(a) 目的化合物(1)出発
化合物(a)を90%酢酸水溶液(100mQ)に溶解
し、これに亜鉛粉末(l1g)を攪拌下に加え、混合物
を水冷下に2時間、室温で1時間攪拌する。混合物を濾
過後、′a液を濃縮し、クエン酸でpH2に調整後、酢
酸エチルで抽出する。抽出物を硫酸マグネシウム乾燥し
、濾過後、溶媒を留去する。残渣を石油エーテルで洗浄
して、目的化合物、(1)(5,4g )を得る。
NMR(CDC13,S ) ’ 1.3(1(3H,
d、J=6Hz>、 1.40(9)1.s)、 3.
60 (IH,m>、 3.82 (IH,m)出発化
合物(a) 目的化合物(1)出発化合物
(a>(7,7g >のジクロロメタン<60rm )
溶液に2.2.2−1−ジクロロエタノール(2,10
5mQ )、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプ
ロピル)カルボジイミド塩酸塩(4,2g)および4−
ジメチルアミノピリジン(244mg)を攪拌下0°C
で加え、混合物を同温で1時間攪拌後、蒸発させる。残
渣を酢酸エチルに溶解し、水、IN塩階、水および飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄する。混合物を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濾過後、濾液を蒸発させて、目的
化合物(1)(9,37g〉を得る。
d、J=6Hz>、 1.40(9)1.s)、 3.
60 (IH,m>、 3.82 (IH,m)出発化
合物(a) 目的化合物(1)出発化合物
(a>(7,7g >のジクロロメタン<60rm )
溶液に2.2.2−1−ジクロロエタノール(2,10
5mQ )、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプ
ロピル)カルボジイミド塩酸塩(4,2g)および4−
ジメチルアミノピリジン(244mg)を攪拌下0°C
で加え、混合物を同温で1時間攪拌後、蒸発させる。残
渣を酢酸エチルに溶解し、水、IN塩階、水および飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄する。混合物を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濾過後、濾液を蒸発させて、目的
化合物(1)(9,37g〉を得る。
[α貼9ニー29.84°(C=0.4. CHCl3
)IR(CHCl3) : 1755.1690.16
10.1510 am−’製造例5 出発化合物(a> 目的化合物(1)出発
化合物(a)(9,3g )を0℃に冷却し、トリフル
オロ酢酸(151+1Q )に加える。混合物を0℃で
30分間攪拌し、蒸発させる。残渣を酢酸エチルに溶解
し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄
する。硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去
して、目的化合物(6g)を得る。
)IR(CHCl3) : 1755.1690.16
10.1510 am−’製造例5 出発化合物(a> 目的化合物(1)出発
化合物(a)(9,3g )を0℃に冷却し、トリフル
オロ酢酸(151+1Q )に加える。混合物を0℃で
30分間攪拌し、蒸発させる。残渣を酢酸エチルに溶解
し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄
する。硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去
して、目的化合物(6g)を得る。
NMR(CDCI3.8 ) : 2.45 (3H,
s>、 3.03 (2H,m)。
s>、 3.03 (2H,m)。
3.62 (IH,t、J=7Hz>、 4.75 (
2H,m)、 5.06(2H,s)、 6.94 (
2H,d、J=8)1z)、 7.15 (2H,d。
2H,m)、 5.06(2H,s)、 6.94 (
2H,d、J=8)1z)、 7.15 (2H,d。
J=8Hz)、 7.3−7.5 (5H,m)製造例
6 出発化合物(a) 出発化合物(b) 目的化合物 出発化合物(a)(4,07g )および出発化合物(
b)(4,70g)のジクロロメタン(4011Q )
溶液に1−エトキシカルボニル−2−エトキシ−1,2
−ジヒドロキノリン(2,8g)を加え、混合物を室温
で24時間攪拌する。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル
に溶解後、1NacH1水、飽和炭酸水素ナトノウム水
溶液および水で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過後、溶媒を留去して、目的化合物(1)(4,35
g )を得る。
6 出発化合物(a) 出発化合物(b) 目的化合物 出発化合物(a)(4,07g )および出発化合物(
b)(4,70g)のジクロロメタン(4011Q )
溶液に1−エトキシカルボニル−2−エトキシ−1,2
−ジヒドロキノリン(2,8g)を加え、混合物を室温
で24時間攪拌する。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル
に溶解後、1NacH1水、飽和炭酸水素ナトノウム水
溶液および水で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過後、溶媒を留去して、目的化合物(1)(4,35
g )を得る。
[α]20ニー27.88°(C=0.12. CHC
l)3 IR(CHCI ) ’ 1750.1710.165
5.1510 cm’NMR (CDC13,l; ) ’ 1.18 (3H,d、
J=6Hz>、 1.36(9H,s)、 2.92
(3H,s)、 4.69 (2H,s)、 4
.91(2H,s)、 5.01 (2H,s)、
6.80 (2H,d、J=8Hz)。
l)3 IR(CHCI ) ’ 1750.1710.165
5.1510 cm’NMR (CDC13,l; ) ’ 1.18 (3H,d、
J=6Hz>、 1.36(9H,s)、 2.92
(3H,s)、 4.69 (2H,s)、 4
.91(2H,s)、 5.01 (2H,s)、
6.80 (2H,d、J=8Hz)。
7.02 <2H,d、J=8Hz)
出発化合物(a)
土
目的化合物(1)
出発化合物(a)(4,35g )をOoCに冷却し、
トリプルオロ酢酸(20all )に加える。混合物を
OoCで45分間攪拌後、溶媒を留去する。残渣を酢酸
エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および
水で洗浄する。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
後、溶媒を留去する。残渣をジクロロメタ> (loo
mll)に溶解する。この溶液にBoc−Asn(1,
2g)、■−エチルー3−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミド塩酸塩(990mg )および1−
ヒドロキシベンゾトリアゾール(700mg)を加える
。混合物を0℃で4時間攪拌し、IN塩酸、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄後、溶媒を留去
して、目的化合物(L)(4,75g)を得る。
トリプルオロ酢酸(20all )に加える。混合物を
OoCで45分間攪拌後、溶媒を留去する。残渣を酢酸
エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および
水で洗浄する。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
後、溶媒を留去する。残渣をジクロロメタ> (loo
mll)に溶解する。この溶液にBoc−Asn(1,
2g)、■−エチルー3−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミド塩酸塩(990mg )および1−
ヒドロキシベンゾトリアゾール(700mg)を加える
。混合物を0℃で4時間攪拌し、IN塩酸、水、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄後、溶媒を留去
して、目的化合物(L)(4,75g)を得る。
[(X ]:’ : −’15.7” (C
=0.1. C)IcI3)IR(KBr) 二
1740. 1690. 1645. 1510 c
m−’NMR(CDC13,8ン ’ 1.25
(3H,d、J=6)1z)、 1.43(9H,s
)、 3.00 (3H,s)、 2.55 (IH,
m>、 2.80(IH,m)、 3.05 (
18,m)、 3.37 (IH,m)、
3.62(IH,m)、 3.82 <LH,m
)、 6.88 (2H,d。
=0.1. C)IcI3)IR(KBr) 二
1740. 1690. 1645. 1510 c
m−’NMR(CDC13,8ン ’ 1.25
(3H,d、J=6)1z)、 1.43(9H,s
)、 3.00 (3H,s)、 2.55 (IH,
m>、 2.80(IH,m)、 3.05 (
18,m)、 3.37 (IH,m)、
3.62(IH,m)、 3.82 <LH,m
)、 6.88 (2H,d。
J=8.5H2)、 7.09 (21(、d、J
=8.5Hz>虹盟負1 土 目的化合物(1〉 製造例7と同様にして出発化合物(a)を反応させて目
的化合物(1)を得る。
=8.5Hz>虹盟負1 土 目的化合物(1〉 製造例7と同様にして出発化合物(a)を反応させて目
的化合物(1)を得る。
[α貼2ニー13.04°(C=0.11. CHCl
3)IR(KBr) : 1740.1700.165
5.1510 cm−’NMR(CDCl2.6 )
: 1.18.1.27 (それぞれ3H。
3)IR(KBr) : 1740.1700.165
5.1510 cm−’NMR(CDCl2.6 )
: 1.18.1.27 (それぞれ3H。
d、J=6)1z)、 1.43 (9H,s)、 2
.52 (IH,m)。
.52 (IH,m)。
2.80 (11,m)、 3.00 (3H,s)、
3.36 (IH,m)。
3.36 (IH,m)。
4.99 (2H,s)、 6.87 (2H,d、J
=8Hz)、 7.10(2H,d、J=8Hz) 梨」l艷l 出発化合物(a) ↓ 目的化合物(1) 製造例7と同様にして出発化合物(a)を反応させて目
的化合物(1)を得る。
=8Hz)、 7.10(2H,d、J=8Hz) 梨」l艷l 出発化合物(a) ↓ 目的化合物(1) 製造例7と同様にして出発化合物(a)を反応させて目
的化合物(1)を得る。
[α]” ニー15.19°(C=0.1. CHCl
ン3 IR(KBr) : 1740.1650.1635.
1510 cm−lNMR(CDCl2. δ )
: 1.11 (3)1.d、J:6)1z)、
1.27(3H,d、J=6Hz)、 1.33
<98.s)、 3.01 <3H,s)。
ン3 IR(KBr) : 1740.1650.1635.
1510 cm−lNMR(CDCl2. δ )
: 1.11 (3)1.d、J:6)1z)、
1.27(3H,d、J=6Hz)、 1.33
<98.s)、 3.01 <3H,s)。
4.72 (2H,s)、 4.98 <28.s)、
6.87 (2H,d。
6.87 (2H,d。
J=8Hz)、 7.10 (2H,d、J=8Hz>
製造例10 土 目的化合物(1) 製造例7と同様にして出発化合物(a)を反応させて目
的化合物(1)を得る。
製造例10 土 目的化合物(1) 製造例7と同様にして出発化合物(a)を反応させて目
的化合物(1)を得る。
[ff コニ1 : −19,07” (C2
0,1,CHCl3)IR(KBr) : 1740.
1635.1510 cm−1HMR(CDC1a−8
) ’ 0.81 (6H1m)、1.13,1.28
(それぞれ3H,d、J:6Hz)、 1.40 (9
H,s)。
0,1,CHCl3)IR(KBr) : 1740.
1635.1510 cm−1HMR(CDC1a−8
) ’ 0.81 (6H1m)、1.13,1.28
(それぞれ3H,d、J:6Hz)、 1.40 (9
H,s)。
3.02 (3H,s)、 4.96 (2H,s)、
6.87.7.09(それぞれ21(、d、J−8H
z> 製10艷■ 出発化合物(a) 土 目的化合物(1) 出発化合物(a)(4,2g )を90%酢酸水溶液(
80mQ )に溶解し、これに亜鉛粉末(9g)を0°
Cで加え、混合物を0℃で2時間、室温で1時間攪拌す
る。混合物を濾過後、濾液を濃縮する。残渣にクロロホ
ルムを加え、混合物をIN塩酸および水で洗浄する。混
合物を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去
する。残渣をシリカゲル(150g)カラムクロマトグ
ラフィーに付し、2%メタノール−クロロホルム、次い
で8%メタノール−クロロホルムで溶出する。目的化合
物を含む両分を蒸発させて、目的化合物(1)(3,4
g )を得る。
6.87.7.09(それぞれ21(、d、J−8H
z> 製10艷■ 出発化合物(a) 土 目的化合物(1) 出発化合物(a)(4,2g )を90%酢酸水溶液(
80mQ )に溶解し、これに亜鉛粉末(9g)を0°
Cで加え、混合物を0℃で2時間、室温で1時間攪拌す
る。混合物を濾過後、濾液を濃縮する。残渣にクロロホ
ルムを加え、混合物をIN塩酸および水で洗浄する。混
合物を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去
する。残渣をシリカゲル(150g)カラムクロマトグ
ラフィーに付し、2%メタノール−クロロホルム、次い
で8%メタノール−クロロホルムで溶出する。目的化合
物を含む両分を蒸発させて、目的化合物(1)(3,4
g )を得る。
[α]21・
IR(KBr)
−23,42゜
: 1635゜
(C20,1,MeOH>
1510 cm−’
出発化合物(a)
土
目的化合物(1)
出発化合物(a)(3,4g)を0℃に冷却後、トリフ
ルオロ酢# (201d )に加える。混合物を0℃で
1時間攪拌後、溶媒を留去する。残渣を塩化水素のジオ
キサン溶液に溶解し、ついで蒸発させる。
ルオロ酢# (201d )に加える。混合物を0℃で
1時間攪拌後、溶媒を留去する。残渣を塩化水素のジオ
キサン溶液に溶解し、ついで蒸発させる。
残渣をクロロホルムに溶解し、水洗する。溶液を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去して、目的化
合物(1)(3,27,)を得る。
グネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去して、目的化
合物(1)(3,27,)を得る。
[αコ” : −18,87” (C20,12
,MeOH)IR(KBr) : 1650.1510
cm−1製造例13 水酸化カリウム(26,8g)のエタノール(500戚
)溶液にグリシン(14,6g)および4−メトキシメ
トキシベンズアルデヒド(48,5g)を室温で加える
。19時間攪拌後、溶媒を減圧下に留去する。残渣を水
に溶解し、塩酸で酸性にする。溶液を酢酸エチルで洗浄
し、炭酸水素ナトリウムで坪6.0に調整する。析出す
る白色固形物を集めて、O−メトキシメチル−β−ヒド
ロキシチロシン(9,2g)を得る。
,MeOH)IR(KBr) : 1650.1510
cm−1製造例13 水酸化カリウム(26,8g)のエタノール(500戚
)溶液にグリシン(14,6g)および4−メトキシメ
トキシベンズアルデヒド(48,5g)を室温で加える
。19時間攪拌後、溶媒を減圧下に留去する。残渣を水
に溶解し、塩酸で酸性にする。溶液を酢酸エチルで洗浄
し、炭酸水素ナトリウムで坪6.0に調整する。析出す
る白色固形物を集めて、O−メトキシメチル−β−ヒド
ロキシチロシン(9,2g)を得る。
mp : 164−166°C
IR(KBr) ’ 1610 cm−’製造側14
0−メトキシメチル−β−ヒドロキシチロシン(2L、
Og)の1N水酸化ナトリウム(250絨)溶液に硫酸
ジメチル(16,5g)を加える。90℃で20分間攪
拌後、溶液を水浴中希塩酸で酸性にする。
Og)の1N水酸化ナトリウム(250絨)溶液に硫酸
ジメチル(16,5g)を加える。90℃で20分間攪
拌後、溶液を水浴中希塩酸で酸性にする。
この酸性溶液をジエチルエーテルで洗浄し、1N水酸化
ナトリウムでpH6,0に調整する。蒸発後、固形物を
濾取して、O−メトキシメチル−N−メチル−β−ヒド
ロキシプロジン(5,2g)を得る。
ナトリウムでpH6,0に調整する。蒸発後、固形物を
濾取して、O−メトキシメチル−N−メチル−β−ヒド
ロキシプロジン(5,2g)を得る。
mp : 177−178℃
IR(KBr) i 3100.1600 am−1製
」U艷■ O−メトキシメチル−N−メチル−β−ヒドロキシチロ
シン(15,1g)およびビス(トリメチルシリル)ア
セトアミド(25fflll )のジクロロメタン(1
501111! )溶液に塩化2−ニトロフェニルスル
フェニル(11,2g )のジクロロメタン(50+1
111 ) 溶液を加える。0℃で2時間攪拌後、この
溶液にビス(トリメチルシリル)アセトアミド(10m
11 )および塩化2−ニトロフェニルスルフェニル(
5,6g)を加える。混合物を室温で3時間攪拌後、I
N−水酸化ナトリウム(2001Q )に加える。有機
層を水(300mQ ) i’5!、 L、水溶液を合
わせる。水溶液を希塩酸で酸性にし、酢酸エチル(30
0m1l )で抽出する。抽出物を水(100mllX
3)洗し、溶液を硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧下に留去して、0−メトキシメチル−N−メチル−N
−(2−ニトロフェニルチオ)−β−ヒドロキシチロシ
ン(20,5g)を得る。
」U艷■ O−メトキシメチル−N−メチル−β−ヒドロキシチロ
シン(15,1g)およびビス(トリメチルシリル)ア
セトアミド(25fflll )のジクロロメタン(1
501111! )溶液に塩化2−ニトロフェニルスル
フェニル(11,2g )のジクロロメタン(50+1
111 ) 溶液を加える。0℃で2時間攪拌後、この
溶液にビス(トリメチルシリル)アセトアミド(10m
11 )および塩化2−ニトロフェニルスルフェニル(
5,6g)を加える。混合物を室温で3時間攪拌後、I
N−水酸化ナトリウム(2001Q )に加える。有機
層を水(300mQ ) i’5!、 L、水溶液を合
わせる。水溶液を希塩酸で酸性にし、酢酸エチル(30
0m1l )で抽出する。抽出物を水(100mllX
3)洗し、溶液を硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧下に留去して、0−メトキシメチル−N−メチル−N
−(2−ニトロフェニルチオ)−β−ヒドロキシチロシ
ン(20,5g)を得る。
mp i 59−60℃
IR(KBr) : 3400.1700 am’毀量
里旦 O−メトキシメチル−N−メチル−N−(2−ニトロフ
ェニルチオ)−β−ヒドロキシチロシン(20,0g)
の酢酸エチル(100m党)溶液にジアゾメタン−ジエ
チルエーテル(80mQ )を加える。10分間攪拌後
、溶媒を減圧下に留去する。残渣をシノ力ゲル力ラム(
Merck 7734 : 500g )にのせ、クロ
ロホルムで溶出して、O−メトキシメチル−N−メチル
−N−(2−ニトロフェニルチオ)−β−ヒドロキシプ
ロジンメチルエステル[スレオ(threo )体:8
.82g、エリスo (erythro )体:6.6
3g]を得る。
里旦 O−メトキシメチル−N−メチル−N−(2−ニトロフ
ェニルチオ)−β−ヒドロキシチロシン(20,0g)
の酢酸エチル(100m党)溶液にジアゾメタン−ジエ
チルエーテル(80mQ )を加える。10分間攪拌後
、溶媒を減圧下に留去する。残渣をシノ力ゲル力ラム(
Merck 7734 : 500g )にのせ、クロ
ロホルムで溶出して、O−メトキシメチル−N−メチル
−N−(2−ニトロフェニルチオ)−β−ヒドロキシプ
ロジンメチルエステル[スレオ(threo )体:8
.82g、エリスo (erythro )体:6.6
3g]を得る。
王と工装
置R(液膜) + 3500.2950.1735 c
m−11LC: Rf=0.40 [Merck Ar
t 5715. Ac0Et−nHax(t:1)] 三」二しミ佳 IR(液膜) : 3500.2950.1735 c
m−1TLC: Rf=0.31 [:Marck A
rt 5715. Ac0Et−nHex(1:l)
] 製JJLば O−メトキシメゾルーN−メチル−N−(2−ニトロフ
ェニルチオ)−β−ヒドロキシチロシンメチルエステル
(1930体) (3,85g )のジクロロメタン(
30+1111 )溶液にトリエチルアミン(1,38
g)、4−ジメチルアミノピリジン(0,45g)およ
び塩化ベンゾイル(1,92g)を加える。
m−11LC: Rf=0.40 [Merck Ar
t 5715. Ac0Et−nHax(t:1)] 三」二しミ佳 IR(液膜) : 3500.2950.1735 c
m−1TLC: Rf=0.31 [:Marck A
rt 5715. Ac0Et−nHex(1:l)
] 製JJLば O−メトキシメゾルーN−メチル−N−(2−ニトロフ
ェニルチオ)−β−ヒドロキシチロシンメチルエステル
(1930体) (3,85g )のジクロロメタン(
30+1111 )溶液にトリエチルアミン(1,38
g)、4−ジメチルアミノピリジン(0,45g)およ
び塩化ベンゾイル(1,92g)を加える。
室温で16時間攪拌後、この混合物に3−ジメチルアミ
ノプロピルアミン(3,3g)を加え、溶媒を減圧下に
留去する。残渣を酢酸エチル(3011LII )に溶
解し、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液および水でf
lc浄する。蒸発後、残漬をシリカゲル(Merck
7734.150g )のカラムにのせ、Q−ヘキサン
−酢酸エチル(5:2v/v)で溶出して、0−メトキ
シメチル−N−メチル−N−(2−ニトロフェニルチオ
)−β−ベンゾイルオキシチロシンメチルエステル(1
930体) (4,49g ) ヲ得る。
ノプロピルアミン(3,3g)を加え、溶媒を減圧下に
留去する。残渣を酢酸エチル(3011LII )に溶
解し、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液および水でf
lc浄する。蒸発後、残漬をシリカゲル(Merck
7734.150g )のカラムにのせ、Q−ヘキサン
−酢酸エチル(5:2v/v)で溶出して、0−メトキ
シメチル−N−メチル−N−(2−ニトロフェニルチオ
)−β−ベンゾイルオキシチロシンメチルエステル(1
930体) (4,49g ) ヲ得る。
IR(液膜) : 2950.1740 cm−1TL
C; Rf=0.23 (Merck Art 571
5.酢酸エチル:n−ヘキサン=1 =2) 型」I建す 製造例17と同様にして下記化合物を得る。o−メトキ
シメチル−N−メチル−N−(2−ニトロフェニルチオ
)−β−ベンゾイルオキシチロシンメチルエステル(ス
レオ体) mp 114(15℃ IR(CHCI ) ’ 2950.1740 cm−
’TLC: Rf=0.26 (Merck Art
5715.酢酸エチル:n−ヘキサン=1 :2) 製造例19 0−メトキシメゾルーN−メチル−N−(2−二トロフ
ェニルテ才)−β−ベンゾイルオキシチロシンメチルエ
ステル(スレオ体) (4,94g )のジクロロメタ
ン(5QnlQ )溶液にチオフェノール(4,3m1
)およびトリフルオロ酢酸(2,5絨)を0°Cで加え
る。30分間攪拌後、この混合物に炭酸水素ナトリウム
水溶液を加える。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液お
よび食塩水で洗浄する。蒸発後、残渣をシリカゲル(M
erck 7734.100g )のカラムにのせ、5
%メタノール−クロロホルム溶出して、O−メトキシメ
チル−N−メチル−β−ベンゾイルオキシチロシンメチ
ルエステル(スレオ体) ( 0.32g )を得る。
C; Rf=0.23 (Merck Art 571
5.酢酸エチル:n−ヘキサン=1 =2) 型」I建す 製造例17と同様にして下記化合物を得る。o−メトキ
シメチル−N−メチル−N−(2−ニトロフェニルチオ
)−β−ベンゾイルオキシチロシンメチルエステル(ス
レオ体) mp 114(15℃ IR(CHCI ) ’ 2950.1740 cm−
’TLC: Rf=0.26 (Merck Art
5715.酢酸エチル:n−ヘキサン=1 :2) 製造例19 0−メトキシメゾルーN−メチル−N−(2−二トロフ
ェニルテ才)−β−ベンゾイルオキシチロシンメチルエ
ステル(スレオ体) (4,94g )のジクロロメタ
ン(5QnlQ )溶液にチオフェノール(4,3m1
)およびトリフルオロ酢酸(2,5絨)を0°Cで加え
る。30分間攪拌後、この混合物に炭酸水素ナトリウム
水溶液を加える。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液お
よび食塩水で洗浄する。蒸発後、残渣をシリカゲル(M
erck 7734.100g )のカラムにのせ、5
%メタノール−クロロホルム溶出して、O−メトキシメ
チル−N−メチル−β−ベンゾイルオキシチロシンメチ
ルエステル(スレオ体) ( 0.32g )を得る。
TLC : Rf=0.31 (M@rck Art
5715. AcOEt :n −Hex=1:1) 製造例20 製造例19と同様にして下記化合物を得る。
5715. AcOEt :n −Hex=1:1) 製造例20 製造例19と同様にして下記化合物を得る。
0−メトキシメチル−N−メチル−β−ベンゾイルオキ
シチロシンメチルエステル(2930体)TLC :
Rf二0.25 (Merck Art 57
15.AcOfJ :n −Hex=1 : 1 ) 製造例21 N−ベンジルオキシカルボニル−L−トレオニン(3.
7g)および0−メトキシメチル−N−メチル−β−ベ
ンゾイルオキシチロシンメチルエステル(スレオイ本)
(3.11g >のジクロロメタン(50mQ )溶
液に1.2−ジヒドロ−2−エトキシ−1−キノリンカ
ルボン酸エチル(2.9g)を加える。
シチロシンメチルエステル(2930体)TLC :
Rf二0.25 (Merck Art 57
15.AcOfJ :n −Hex=1 : 1 ) 製造例21 N−ベンジルオキシカルボニル−L−トレオニン(3.
7g)および0−メトキシメチル−N−メチル−β−ベ
ンゾイルオキシチロシンメチルエステル(スレオイ本)
(3.11g >のジクロロメタン(50mQ )溶
液に1.2−ジヒドロ−2−エトキシ−1−キノリンカ
ルボン酸エチル(2.9g)を加える。
室温で20時間攪拌後、溶媒を減圧下で留去する。
残渣を酢酸エチル( 50mQ )に溶解し、希塩酸、
炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄する。蒸発後
、残渣をシリカゲル( Merck 7734. 10
0 & )カラムにのせ、n−ヘキサン−酢酸エチル(
1:1 v/v)で溶出して、N−(N−ベンジルオ
キシカルボニル−L−トレオニル)−〇ーメトキシメチ
ルーNーメゾルーβ−ベンゾイルオキンチロシンメチル
エステル(スレオ体) (2.04g >ヲ得る。
炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄する。蒸発後
、残渣をシリカゲル( Merck 7734. 10
0 & )カラムにのせ、n−ヘキサン−酢酸エチル(
1:1 v/v)で溶出して、N−(N−ベンジルオ
キシカルボニル−L−トレオニル)−〇ーメトキシメチ
ルーNーメゾルーβ−ベンゾイルオキンチロシンメチル
エステル(スレオ体) (2.04g >ヲ得る。
IR (液膜) : 3400. 2950.
1740 (シ1−ルダー)。
1740 (シ1−ルダー)。
1720 am’
TLC : Rf=0.36 (Merck Art
5715. MaOH : CHCI3=3:97) 製造例22 製造例21と同様にして下記化合物を得る.N−(N−
ベンジルオキシカルボニル−L−トレ才二ル)−〇ーメ
トキシメチ)レーNーメチルーβーベンゾイルオキシチ
ロシンメチルエステル(2930体) IR C液膜) : 2950. 1740.
1730 (シーールダー) cllTLC :
Rf=0.23 (Marck Art 5715.
AcOEt :n −Hax=1 :2) 製造例23 e 目的化合物(1) β−ベンゾイルオキシ−N−(N−ベンジルオキシカル
ボニル−L−トレ才二ル)−〇ーメトキシメゾルーNー
メチルテロシンメデルエステルC7.し才f本) (1
.20g )(7)トルエン(20mM)溶液に1.8
−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7ーエン(
0.30g)を加える,室温で0.5時間攪拌後、これ
に7%塩#( 10mf! )を加える.有機層を水お
よび炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄する.有機層を硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を威圧下に留去して、目
的化合物(1)( 0.95g )を得る。
5715. MaOH : CHCI3=3:97) 製造例22 製造例21と同様にして下記化合物を得る.N−(N−
ベンジルオキシカルボニル−L−トレ才二ル)−〇ーメ
トキシメチ)レーNーメチルーβーベンゾイルオキシチ
ロシンメチルエステル(2930体) IR C液膜) : 2950. 1740.
1730 (シーールダー) cllTLC :
Rf=0.23 (Marck Art 5715.
AcOEt :n −Hax=1 :2) 製造例23 e 目的化合物(1) β−ベンゾイルオキシ−N−(N−ベンジルオキシカル
ボニル−L−トレ才二ル)−〇ーメトキシメゾルーNー
メチルテロシンメデルエステルC7.し才f本) (1
.20g )(7)トルエン(20mM)溶液に1.8
−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデク−7ーエン(
0.30g)を加える,室温で0.5時間攪拌後、これ
に7%塩#( 10mf! )を加える.有機層を水お
よび炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄する.有機層を硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を威圧下に留去して、目
的化合物(1)( 0.95g )を得る。
IR (液膜) : 3400. 2950. 172
0 am−1Ca コ22 : −7.7’ (
C=0.64. MeOH)また、β−ベンゾイルオ
キシ−N−(N−ベンジルオキシカルボニル−L−1し
オニル)−0−メトキンメチル−N−メチルチロシンメ
チルエステル(スレオ体)を用いる代わりにβ−ベンゾ
イルオキシ−N−(N−ベンジルオキシカルボニルL−
hレオニル)−〇ーメトキシメチルーNーメチルチロシ
ンメチルエステル(2930体)全反応させても目的化
合物(1〉を得る。
0 am−1Ca コ22 : −7.7’ (
C=0.64. MeOH)また、β−ベンゾイルオ
キシ−N−(N−ベンジルオキシカルボニル−L−1し
オニル)−0−メトキンメチル−N−メチルチロシンメ
チルエステル(スレオ体)を用いる代わりにβ−ベンゾ
イルオキシ−N−(N−ベンジルオキシカルボニルL−
hレオニル)−〇ーメトキシメチルーNーメチルチロシ
ンメチルエステル(2930体)全反応させても目的化
合物(1〉を得る。
袈1目生ハ
Me
出発化合物(a)
↓
目的化合物(1)
出発化合物(a)(1,0g )のN、N−ジメチルホ
ルムアミド(10mQ)溶液に塩化t−ブチルジメチル
シリル(0,75g)およびイミダゾール(0,34g
>を加える。室温で16時間攪拌後、これに酢酸エチ
ル(30m1) )および氷(50g)を加える。有機
層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄
する0m媒を減圧下に留去する。残渣をシリカゲル(M
erck 7734.30g )のカラムにのせ、クロ
ホルムで溶出して、目的化合物(1)(1,21gを得
る。
ルムアミド(10mQ)溶液に塩化t−ブチルジメチル
シリル(0,75g)およびイミダゾール(0,34g
>を加える。室温で16時間攪拌後、これに酢酸エチ
ル(30m1) )および氷(50g)を加える。有機
層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄
する0m媒を減圧下に留去する。残渣をシリカゲル(M
erck 7734.30g )のカラムにのせ、クロ
ホルムで溶出して、目的化合物(1)(1,21gを得
る。
IR(液膜) : 2950.1720 am−’[α
コ22 : −55,9° (Cm0.56. M
eOH)製造例2S ) 出発化合物(aン ↓ Me 目的化合物(1) 出発化合物(a)(0,95g )溶液に1N*酸化ナ
トリウム水溶液(4,8111)を加える。30℃で2
日間攪拌後、溶媒を減圧下に留去する。残漬を酢酸エチ
ル(20mQ )に溶解し、希塩酸および水で洗浄する
。蒸発させて、目的化合物(1)(0,81g )を得
る。
コ22 : −55,9° (Cm0.56. M
eOH)製造例2S ) 出発化合物(aン ↓ Me 目的化合物(1) 出発化合物(a)(0,95g )溶液に1N*酸化ナ
トリウム水溶液(4,8111)を加える。30℃で2
日間攪拌後、溶媒を減圧下に留去する。残漬を酢酸エチ
ル(20mQ )に溶解し、希塩酸および水で洗浄する
。蒸発させて、目的化合物(1)(0,81g )を得
る。
IR(液膜) i 3300.2950.1720゜1
700 (’ta−Lダー) Cm1[α コ22
: −82,9° (C□1.06. MeOH
)製1裏艷躾 出発化合物(a) 出発化合物(b) ie 目的化合物(1) 出発化合物(a)(1,60g )および出発化合物(
b)(5,50g)のジクロロメタン(50111Q
)中温合物にトリエチルアミン(1,25g)および1
.2−ジヒドロ−2−エトキシ−1−キノリンカルボン
酸エチル(3,04g)を加える。室温で15時間攪拌
後、白色固形物を濾去し、a渣に出発化合物(b)(2
,23g)、トリエチルアミン(0,50g)および1
.2−ジヒドロ−2−エトキシ−1−キノリンカルボン
酸エチル(1,24g)を加える。混合物を18時間攪
拌し、溶媒を減圧下に留去する。残渣を酢酸エチル(5
0mN )に溶解し、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶
液および水で洗浄する。減圧下に蒸発後、残漬をシリカ
ゲル(Merck 7734.100g )のカラムに
のせ、n−ヘキサン−酢酸エチル(2:1v/v )で
溶出して、目的化合物(1)(0,87g )を得る。
700 (’ta−Lダー) Cm1[α コ22
: −82,9° (C□1.06. MeOH
)製1裏艷躾 出発化合物(a) 出発化合物(b) ie 目的化合物(1) 出発化合物(a)(1,60g )および出発化合物(
b)(5,50g)のジクロロメタン(50111Q
)中温合物にトリエチルアミン(1,25g)および1
.2−ジヒドロ−2−エトキシ−1−キノリンカルボン
酸エチル(3,04g)を加える。室温で15時間攪拌
後、白色固形物を濾去し、a渣に出発化合物(b)(2
,23g)、トリエチルアミン(0,50g)および1
.2−ジヒドロ−2−エトキシ−1−キノリンカルボン
酸エチル(1,24g)を加える。混合物を18時間攪
拌し、溶媒を減圧下に留去する。残渣を酢酸エチル(5
0mN )に溶解し、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶
液および水で洗浄する。減圧下に蒸発後、残漬をシリカ
ゲル(Merck 7734.100g )のカラムに
のせ、n−ヘキサン−酢酸エチル(2:1v/v )で
溶出して、目的化合物(1)(0,87g )を得る。
IR(液膜) : 2950. 1760. 17
40 (ショールダー)。
40 (ショールダー)。
1720、1660 am””1
[αコ” : −31,5° (C□1.07.
MeOH)製造例27 Me 出発化合物(a) 土 目的化合物(1) 出発化合物(a)(0,85g )をトルエン(LOO
mll )およびアセトン(10m1l )に溶解し、
これに紫外線ランプ(100V )を用いて0℃で1.
5時間照射する。蒸発後、残渣をシリカゲル(Merc
k 7734.50g)のカラムにのせ、n−ヘキサン
−酢酸エチル(2:1v/v)で溶出して、目的化合物
(1)(0,18g)を得る。
MeOH)製造例27 Me 出発化合物(a) 土 目的化合物(1) 出発化合物(a)(0,85g )をトルエン(LOO
mll )およびアセトン(10m1l )に溶解し、
これに紫外線ランプ(100V )を用いて0℃で1.
5時間照射する。蒸発後、残渣をシリカゲル(Merc
k 7734.50g)のカラムにのせ、n−ヘキサン
−酢酸エチル(2:1v/v)で溶出して、目的化合物
(1)(0,18g)を得る。
TLC:
Rf=0.22
(Merck Art 5715゜
n−Hex :
Ac0Et=2:1)
IR(KBr) : 3300. 1740 (
ショールダー)、 1640 cm−1製造例28 出発化合物(a) ↓ Me 目的化合物(1) 出発化合物(a)(0,17g )を67%酢酸水溶液
(10mM)に溶解する。25°Cで28時間攪拌後、
溶媒を減圧下に留去する。残渣を酢酸エチル(20mm
)に溶解し、炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗
浄する。濃縮後、残渣をn−ヘキサンで洗浄し、溶媒を
威圧下に留去して、目的化合物(1)(0,15g )
を得る。
ショールダー)、 1640 cm−1製造例28 出発化合物(a) ↓ Me 目的化合物(1) 出発化合物(a)(0,17g )を67%酢酸水溶液
(10mM)に溶解する。25°Cで28時間攪拌後、
溶媒を減圧下に留去する。残渣を酢酸エチル(20mm
)に溶解し、炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗
浄する。濃縮後、残渣をn−ヘキサンで洗浄し、溶媒を
威圧下に留去して、目的化合物(1)(0,15g )
を得る。
IR(KBr) : 3250. 1740 (
シ普−ルダー>、 1635 cm71TLC:
Rf=0.18 (Merck Ar上5715. n
−)1ex :Ac0Et=l :1 ) 出発化合物(a) 出発化合物(b) 目的化合物(1) 出発化合物(a)(0,14g )のジクロロメタン(
5ml+)1g液に出発化合物(b)(0,tOg )
、水溶性カルボジイミド塩酸塩(65mg )および4
−ジメチルアミノピリジン(4mg)を加える。室温で
12時間攪拌後、この混合物にN、N−ジメチルアミノ
プロピルアミン(50mg )を加え、減圧下に溶媒を
留去する。残渣を酢酸エチル(20mM )に溶解し、
希塩酸および水で洗浄する。蒸発後、残渣をシリカゲル
(Merck 7734.10g )カラムにのせ、n
−ヘキサン−mMエチル(1:1v/v)で溶出して、
目的化合物(1) (0,16g )を得る。
シ普−ルダー>、 1635 cm71TLC:
Rf=0.18 (Merck Ar上5715. n
−)1ex :Ac0Et=l :1 ) 出発化合物(a) 出発化合物(b) 目的化合物(1) 出発化合物(a)(0,14g )のジクロロメタン(
5ml+)1g液に出発化合物(b)(0,tOg )
、水溶性カルボジイミド塩酸塩(65mg )および4
−ジメチルアミノピリジン(4mg)を加える。室温で
12時間攪拌後、この混合物にN、N−ジメチルアミノ
プロピルアミン(50mg )を加え、減圧下に溶媒を
留去する。残渣を酢酸エチル(20mM )に溶解し、
希塩酸および水で洗浄する。蒸発後、残渣をシリカゲル
(Merck 7734.10g )カラムにのせ、n
−ヘキサン−mMエチル(1:1v/v)で溶出して、
目的化合物(1) (0,16g )を得る。
IR(KBr) : 3300.1700.1640.
1495 cm−”TLC: Rf=0.38 (Me
rck Art 5715. n−Hex :Ac0E
t=1:1) 製造例30 出発化合物(a) 出発化合物(a) (145mg )をジオキサン(3
mm)とアニソール(0,1m11)の漉液に溶解した
4N塩化水素溶液に溶解する。室温で30分間攪拌後、
減圧下に溶媒を留去する。残渣をジクロロメタン(3m
m )に溶解する。この溶液にN−t−ブトキシカルボ
ニル−L−アスパラギン(35mg)、hリエチルアミ
ン(13mg)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(
18mg)および水溶性カルボジイミド塩酸塩(29m
g)を加える。室温で1時間攪拌後、このd合物に7%
塩MC51M)を加える。有機層を水洗する。蒸発後、
残渣を分取薄層クロマトグラフィー CMerck 5
744)に付し、6%メタノール−クロロホルムで展開
して、目的化合物m(tt。
1495 cm−”TLC: Rf=0.38 (Me
rck Art 5715. n−Hex :Ac0E
t=1:1) 製造例30 出発化合物(a) 出発化合物(a) (145mg )をジオキサン(3
mm)とアニソール(0,1m11)の漉液に溶解した
4N塩化水素溶液に溶解する。室温で30分間攪拌後、
減圧下に溶媒を留去する。残渣をジクロロメタン(3m
m )に溶解する。この溶液にN−t−ブトキシカルボ
ニル−L−アスパラギン(35mg)、hリエチルアミ
ン(13mg)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(
18mg)および水溶性カルボジイミド塩酸塩(29m
g)を加える。室温で1時間攪拌後、このd合物に7%
塩MC51M)を加える。有機層を水洗する。蒸発後、
残渣を分取薄層クロマトグラフィー CMerck 5
744)に付し、6%メタノール−クロロホルムで展開
して、目的化合物m(tt。
mg)を得る。
IR(KBr) : 3300.1650.1505
am−1τLC: Rf=0.44 (Marck A
rt 5715. CHCl3: MeOH=10i1
) 製造例31 出発化合物(a) 上 出発化合物(a) (105mg )をジオキサン(3
mm)とアニソール(o、1mgの混液に溶解した4N
塩化水素溶液に溶解する。室温で30分間攪拌後、減圧
下に溶媒を留去する。残渣をジクロロメタン(3mml
に溶解する。この溶液にN−t−ブトキ/カルボニル− リエチルアミン(9mg)、L−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール(12mg)および水溶性カルボジイミド塩酸
塩(19mg)を加える。室温で8時間攪拌後、この混
合物に7%塩酸(5眠)を加える。有機層を水洗する。
am−1τLC: Rf=0.44 (Marck A
rt 5715. CHCl3: MeOH=10i1
) 製造例31 出発化合物(a) 上 出発化合物(a) (105mg )をジオキサン(3
mm)とアニソール(o、1mgの混液に溶解した4N
塩化水素溶液に溶解する。室温で30分間攪拌後、減圧
下に溶媒を留去する。残渣をジクロロメタン(3mml
に溶解する。この溶液にN−t−ブトキ/カルボニル− リエチルアミン(9mg)、L−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール(12mg)および水溶性カルボジイミド塩酸
塩(19mg)を加える。室温で8時間攪拌後、この混
合物に7%塩酸(5眠)を加える。有機層を水洗する。
蒸発後、残渣を分取薄層クロマトグラフ < − (
Merck 5744 )に付し、6%メタノール−ク
ロロホルムで展開して、目的化合物<1>を得る。
Merck 5744 )に付し、6%メタノール−ク
ロロホルムで展開して、目的化合物<1>を得る。
TLC : Rf=0.73 (Merck Art
5715, CHCl3:MeOH:5:1) IR (KBr) : 3300, 1740
(シタールダー)、 t6so。
5715, CHCl3:MeOH:5:1) IR (KBr) : 3300, 1740
(シタールダー)、 t6so。
1500 am−1
製造例32
出発化合物(a)
土
出発化合物(a) (58,5rng )を90%酢酸
水溶液CIIIIQ)に溶解し、これに亜鉛粉末(30
mg)を加える。室温で9時間攪拌後、この混合物に亜
鉛粉末(30mg)を1時間々隔で出発化合物(a)が
消失するまで加える。濾過後、減圧下に溶媒を留去する
。残渣を酢酸エチル(towQ)に溶解し、水洗後、減
圧下に蒸発させる。残渣を分取薄層クロマトグラフィー
(Merck 5744 )に付し、酢酸エチル−アセ
トン−酢酸−水(6:3:1:lv/v)で展開して、
目的化合物(1) (43,5mg )を得る。
水溶液CIIIIQ)に溶解し、これに亜鉛粉末(30
mg)を加える。室温で9時間攪拌後、この混合物に亜
鉛粉末(30mg)を1時間々隔で出発化合物(a)が
消失するまで加える。濾過後、減圧下に溶媒を留去する
。残渣を酢酸エチル(towQ)に溶解し、水洗後、減
圧下に蒸発させる。残渣を分取薄層クロマトグラフィー
(Merck 5744 )に付し、酢酸エチル−アセ
トン−酢酸−水(6:3:1:lv/v)で展開して、
目的化合物(1) (43,5mg )を得る。
IR(KBr) : 3330.1650.1505
am−’TLC: Rf:0.16 [Merck A
rt 5715. CHCL3−MeOH−AcOH(
1(C11,1>] 製造例33 フタルアルデヒド(6,7g)のジクロロメタン(3o
mu )溶液にエトキシカルボニルメチレントリフェニ
ルホスホラン(17,42g )を加え、混合物を室温
で30分間攪拌する。溶媒を留去し、残渣をジエチルエ
ーテルに溶解する。混合物を濾過後、濾液を蒸発させる
。残渣を減圧蒸留(125℃、06mmHg )に付し
て、(E)−3−(2−ホルミルフェニル)プロペン酸
エチルエステル(6g)を得る。
am−’TLC: Rf:0.16 [Merck A
rt 5715. CHCL3−MeOH−AcOH(
1(C11,1>] 製造例33 フタルアルデヒド(6,7g)のジクロロメタン(3o
mu )溶液にエトキシカルボニルメチレントリフェニ
ルホスホラン(17,42g )を加え、混合物を室温
で30分間攪拌する。溶媒を留去し、残渣をジエチルエ
ーテルに溶解する。混合物を濾過後、濾液を蒸発させる
。残渣を減圧蒸留(125℃、06mmHg )に付し
て、(E)−3−(2−ホルミルフェニル)プロペン酸
エチルエステル(6g)を得る。
NMR(CDCl2.8 > : 1.24 (3H,
t、J=6.58Z)、 4.19(2H,q、J=6
.5Hz)、 6.28 (LH,d、J=15Hz>
。
t、J=6.58Z)、 4.19(2H,q、J=6
.5Hz)、 6.28 (LH,d、J=15Hz>
。
7.5 (3H,m)、 7.77 (IH,n+)、
8.43 (LH,d。
8.43 (LH,d。
J=15Hz)、 10.18 (IH,s)艷圭盟□
ブチルトリフェニルホスホニウム−プロミド(3,2g
)(7)テトラヒドロフラン(50ffIQ)m液ニ
チン素雰囲気下にカリウムt−ブトキシド(900mg
)を加え、混合物を室温で30分間攪拌する。
)(7)テトラヒドロフラン(50ffIQ)m液ニ
チン素雰囲気下にカリウムt−ブトキシド(900mg
)を加え、混合物を室温で30分間攪拌する。
(E)−3−<2−ホルミルフェニル)プロペン酸エチ
ルエステル(2,0g)のテトラヒドロフラン(30m
11 )溶液をこの混合物に加え、1時間攪拌する。溶
媒を留去後、残渣をジエチルエーテルに溶解し、食塩水
および水で洗浄する。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し
、濾過後、蒸発させる。残漬をシリカゲル(100g)
カラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸
エチルの混合溶媒(3:1)で溶出する。目的化合物を
含む画分を蒸発させて、(E)−3−[2−((Z)−
1−ペンテニル)フェニル]プロペン酸エチルエステル
(2,00g)を得る。
ルエステル(2,0g)のテトラヒドロフラン(30m
11 )溶液をこの混合物に加え、1時間攪拌する。溶
媒を留去後、残渣をジエチルエーテルに溶解し、食塩水
および水で洗浄する。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し
、濾過後、蒸発させる。残漬をシリカゲル(100g)
カラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサンと酢酸
エチルの混合溶媒(3:1)で溶出する。目的化合物を
含む画分を蒸発させて、(E)−3−[2−((Z)−
1−ペンテニル)フェニル]プロペン酸エチルエステル
(2,00g)を得る。
NMR(CDC13,8) ’ 0.88 (3H,t
、J=7Hz>、 1−34(3H,t、J=6.5H
z)、 1.42 (2H,m)、 2.05 (2H
。
、J=7Hz>、 1−34(3H,t、J=6.5H
z)、 1.42 (2H,m)、 2.05 (2H
。
m)、 4.27 (2H,qj=6.5Hz>、 5
.85 (IH,d、t。
.85 (IH,d、t。
J=7.11Hz)、 6.39 (IH,d、JJ6
Hz)、 6.56(IH,d、J:11Hz>、 7
.3 (3H,+n)、 7.61 (LH,m)。
Hz)、 6.56(IH,d、J:11Hz>、 7
.3 (3H,+n)、 7.61 (LH,m)。
7.92 (IH,d、J=16Hz)4表皿量
(E)−3−[2−((Z)−1−ペンテニル)フェニ
ル]プロペン酸エチルエステル(2&)を20%メタノ
ール水溶液に溶解し、これに水酸化カリウム(2,3g
)を加える。混合物を60°Cで2時間攪拌し、塩酸で
p)IIに調整後、酢酸エチルで抽出する。抽出物を硫
酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去する。残
渣をn−ヘキサ〉と酢酸エチルの混合物(4:1)に溶
解する。
ル]プロペン酸エチルエステル(2&)を20%メタノ
ール水溶液に溶解し、これに水酸化カリウム(2,3g
)を加える。混合物を60°Cで2時間攪拌し、塩酸で
p)IIに調整後、酢酸エチルで抽出する。抽出物を硫
酸マグネシウムで乾燥し、濾過後、溶媒を留去する。残
渣をn−ヘキサ〉と酢酸エチルの混合物(4:1)に溶
解する。
溶液をノシクロヘキシルアミン(1,63m11 )に
加えて結晶を得る。これを酢酸エチルに溶解し、IN硫
酸で洗浄する。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
後、蒸発させて、(E)−3−[2−(Z)−1−ペン
テニル)フェニル]プロペン酸(0,92g)を得る。
加えて結晶を得る。これを酢酸エチルに溶解し、IN硫
酸で洗浄する。溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
後、蒸発させて、(E)−3−[2−(Z)−1−ペン
テニル)フェニル]プロペン酸(0,92g)を得る。
IR(スy9−J ’ 1690. 1680.
1620 cm−”製造例36 (、E)−3−[2−((Z)−1−ペンテニル)フェ
ニルコプロペンH(1,08g ) ヲジクロロメタン
(10mu)、塩化オキサリル(Q、5mQ)およびN
、 N −ツメチルホルムアミド< o、 osmQ
)の混合物に溶解する。デノ素雰囲気下室温で1時間攪
拌後、溶媒を留去する。残渣をn−ヘキサンに溶解し、
混合物を濾過する。濾液を蒸発させて、(E)−3−[
2−((Z)−1−ペンテニル)フェニルコプロペノイ
ルークロリド(1,15g)を得る。
1620 cm−”製造例36 (、E)−3−[2−((Z)−1−ペンテニル)フェ
ニルコプロペンH(1,08g ) ヲジクロロメタン
(10mu)、塩化オキサリル(Q、5mQ)およびN
、 N −ツメチルホルムアミド< o、 osmQ
)の混合物に溶解する。デノ素雰囲気下室温で1時間攪
拌後、溶媒を留去する。残渣をn−ヘキサンに溶解し、
混合物を濾過する。濾液を蒸発させて、(E)−3−[
2−((Z)−1−ペンテニル)フェニルコプロペノイ
ルークロリド(1,15g)を得る。
IR(ニー)) : 1750. 1730.
1605. 1585 am−1HMR(CDC
l2.8) : 0.88 (3H,t、J=6.5H
z)、 1.45(2H,m>、 2.06 (2H,
m)、 5.95 (IH,dtに11゜7Hz>、
6.58 (IH,d、J=11Hz)、 6.66
(IH,d。
1605. 1585 am−1HMR(CDC
l2.8) : 0.88 (3H,t、J=6.5H
z)、 1.45(2H,m>、 2.06 (2H,
m)、 5.95 (IH,dtに11゜7Hz>、
6.58 (IH,d、J=11Hz)、 6.66
(IH,d。
J:16Hz)、 7.4 (3H,m)、 7.69
(18,m)、 8.12(IH,d、J=16Hz
) 実施例22 実施例14と同様にして下記化合物を得る。
(18,m)、 8.12(IH,d、J=16Hz
) 実施例22 実施例14と同様にして下記化合物を得る。
R−:3−(2−ペンチルフェニル)ブロパノイ ル
分子量: FAB−MS + m/z 1041.6
(M+H)”
(M+H)”
図1はWS−9326Aの赤外線吸収スペクトルを表わ
す。 図2はMS−9326Aの13C核磁気共鳴スペクトル
を表わす。 図3はMS−9326Aの1H核磁気共鳴スペクトルを
表わす。 図4はトリアセチル−賀S−9326Aの13C核磁気
共鳴スペクトルを表わす。 図5はトリアセチル−IJS−9326AのIH核磁気
共鳴スペクトルを表わす。 図6はMS−9326Bの13c核磁気共鳴スペクトル
を表わす。 図7はWS−9326Bの1H核磁気共鳴スペクトルを
表わす。 図8はモノアセチル−WS−9326AのLH核磁気共
鳴スペクトルを表わす。 図9はジアセチル−MS−9326AのIH核磁気共鳴
スペクトルを表わす。 図10はテトラヒドロ−%JS −9326Aの13C
核磁気共鳴スペクトルを表わす。 図11はテトラヒドロ−MS−9326AのIH核磁気
共鳴スペクトルを表わす。
す。 図2はMS−9326Aの13C核磁気共鳴スペクトル
を表わす。 図3はMS−9326Aの1H核磁気共鳴スペクトルを
表わす。 図4はトリアセチル−賀S−9326Aの13C核磁気
共鳴スペクトルを表わす。 図5はトリアセチル−IJS−9326AのIH核磁気
共鳴スペクトルを表わす。 図6はMS−9326Bの13c核磁気共鳴スペクトル
を表わす。 図7はWS−9326Bの1H核磁気共鳴スペクトルを
表わす。 図8はモノアセチル−WS−9326AのLH核磁気共
鳴スペクトルを表わす。 図9はジアセチル−MS−9326AのIH核磁気共鳴
スペクトルを表わす。 図10はテトラヒドロ−%JS −9326Aの13C
核磁気共鳴スペクトルを表わす。 図11はテトラヒドロ−MS−9326AのIH核磁気
共鳴スペクトルを表わす。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式; ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素またはアシル基であり、R^2は
水酸基、R^3はカルボキシ基または保護されたカルボ
キシ基であるか、またはR^2とR^3とが互いに結合
して式▲数式、化学式、表等があります▼の基を表わし
、 R^4は水酸基または保護された水酸基、R^5は水酸
基または保護された水酸基、R^6は水酸基、保護され
た水酸基または低級アルコキシ基、■は単結合または二
重結合である)で示される化合物または医薬として許容
されるその塩を有効成分として含有する鎮痛剤。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US41747089A | 1989-10-05 | 1989-10-05 | |
US417470 | 1989-10-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03148227A true JPH03148227A (ja) | 1991-06-25 |
Family
ID=23654167
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2267946A Pending JPH03148227A (ja) | 1989-10-05 | 1990-10-04 | 鎮痛剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03148227A (ja) |
-
1990
- 1990-10-04 JP JP2267946A patent/JPH03148227A/ja active Pending
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