JPH03146585A - ガラス研磨用研磨材 - Google Patents
ガラス研磨用研磨材Info
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- JPH03146585A JPH03146585A JP1285436A JP28543689A JPH03146585A JP H03146585 A JPH03146585 A JP H03146585A JP 1285436 A JP1285436 A JP 1285436A JP 28543689 A JP28543689 A JP 28543689A JP H03146585 A JPH03146585 A JP H03146585A
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Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は研磨材に関し、特に、光ディスクや磁気ディス
ク用のガラス基板、アクティブマトリックス型ＬＣＤ、
液晶ＴＶ用カラーフィルター、時計・電卓・カメラ用Ｌ
ＣＤあるいは太陽電池などのデイスプレィ用ガラス基板
、ＬＳＩフォトマスク用ガラス基板、あるいは光学用レ
ンズなどの各種ガラス材料の研磨に好適な研磨材に関す
る。
ク用のガラス基板、アクティブマトリックス型ＬＣＤ、
液晶ＴＶ用カラーフィルター、時計・電卓・カメラ用Ｌ
ＣＤあるいは太陽電池などのデイスプレィ用ガラス基板
、ＬＳＩフォトマスク用ガラス基板、あるいは光学用レ
ンズなどの各種ガラス材料の研磨に好適な研磨材に関す
る。
近年、光ディスクや磁気ディスク、アクティブマトリッ
クス型ＬＣＤ、液晶ＴＶ用カラーフィルターなどに用い
られるガラス基板、あるいは時計・電卓・カメラ用ＬＣ
Ｄあるいは太陽電池などのデイスプレィ用ガラス基板、
ＬＳＩフォトマスクに用いられるガラス基板の用途が増
大している。
クス型ＬＣＤ、液晶ＴＶ用カラーフィルターなどに用い
られるガラス基板、あるいは時計・電卓・カメラ用ＬＣ
Ｄあるいは太陽電池などのデイスプレィ用ガラス基板、
ＬＳＩフォトマスクに用いられるガラス基板の用途が増
大している。
このような用途に用いられるガラス基板は、高精度に表
面研磨することが要求される。
面研磨することが要求される。
従来、これらのガラス基板の表面研磨に用いられている
研磨材としては、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、あ
るいは二酸化ケイ素系の研磨材が通常用いられており、
両面研磨機を用いてこれらの研磨材を循環使用して研磨
を行うのが一般的である。上述した研磨材のうちでも、
酸化セリウムは、酸化ジルコニウムや二酸化ケイ素に比
べて研磨能率が数倍すぐれているという利点があるが、
反面、研磨面の状態（たとえば表面粗さ、スクラッチ、
潜傷の状態）の点からいえば、従来の酸化セリウム系研
磨材は必ずしも充分満足のいくものではないという問題
がある。
研磨材としては、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、あ
るいは二酸化ケイ素系の研磨材が通常用いられており、
両面研磨機を用いてこれらの研磨材を循環使用して研磨
を行うのが一般的である。上述した研磨材のうちでも、
酸化セリウムは、酸化ジルコニウムや二酸化ケイ素に比
べて研磨能率が数倍すぐれているという利点があるが、
反面、研磨面の状態（たとえば表面粗さ、スクラッチ、
潜傷の状態）の点からいえば、従来の酸化セリウム系研
磨材は必ずしも充分満足のいくものではないという問題
がある。
ところで、ガラス研磨用の研磨材としては、砥粒を水な
どの液体に分散させてスラリーの状態で使用するのが一
般的である。しかし、このようなスラリー状の研磨材に
おいては、分散質である砥粒が容易に分離し沈殿すると
いう問題がある。上述したようなガラス研磨においては
、通常、研磨材は循環使用されるため、砥粒自身の粉砕
ならびに研磨対象物であるガラス表面からのアルカリ成
分の溶出に起因して、研磨液がアルカリ性となり、この
ため−旦砥粒が沈殿するとこの沈殿が非常に硬いものに
なってしまうという欠点がある。このような分離沈殿し
た砥粒は研磨パッド上に塗りつぶされて硬くなり、パッ
ドが目詰まり状態となって、研磨対象物の表面に傷を生
じさせる要因となる。また、配管や保存容器内でこのよ
うな硬い沈殿が起こると、研磨砥粒が有効に利用できな
いため、所定濃度のスラリー組成が維持できず、このた
め研磨能率が低下し、特に循環使用下での研磨能率は著
しく低下してしまう。さらに、分離し流動性を失った砥
粒が研磨機や配管内に付着すると、これを除去ないし洗
浄することは困難であり、また時間と労力を要する。
どの液体に分散させてスラリーの状態で使用するのが一
般的である。しかし、このようなスラリー状の研磨材に
おいては、分散質である砥粒が容易に分離し沈殿すると
いう問題がある。上述したようなガラス研磨においては
、通常、研磨材は循環使用されるため、砥粒自身の粉砕
ならびに研磨対象物であるガラス表面からのアルカリ成
分の溶出に起因して、研磨液がアルカリ性となり、この
ため−旦砥粒が沈殿するとこの沈殿が非常に硬いものに
なってしまうという欠点がある。このような分離沈殿し
た砥粒は研磨パッド上に塗りつぶされて硬くなり、パッ
ドが目詰まり状態となって、研磨対象物の表面に傷を生
じさせる要因となる。また、配管や保存容器内でこのよ
うな硬い沈殿が起こると、研磨砥粒が有効に利用できな
いため、所定濃度のスラリー組成が維持できず、このた
め研磨能率が低下し、特に循環使用下での研磨能率は著
しく低下してしまう。さらに、分離し流動性を失った砥
粒が研磨機や配管内に付着すると、これを除去ないし洗
浄することは困難であり、また時間と労力を要する。
上述したような砥粒の沈殿の問題を解決する方法として
、研磨材主成分に第ニリン酸カルシウムを添加すること
によって、砥粒の沈殿を軟らかいもの（すなわち沈殿し
た砥粒を再分散させるのが容易なもの）にすることが提
案されている（特公昭５６−２９７１７号公報）。しか
しながら、本発明者の知見によれば、上述した方法は、
沈殿の硬さを緩和する点においては効果があるが、その
反面、研磨面品質に対しては、潜傷が多く発生し高精度
が要求されるガラス基板には、充分満足のいくものでは
ないという問題がある。
、研磨材主成分に第ニリン酸カルシウムを添加すること
によって、砥粒の沈殿を軟らかいもの（すなわち沈殿し
た砥粒を再分散させるのが容易なもの）にすることが提
案されている（特公昭５６−２９７１７号公報）。しか
しながら、本発明者の知見によれば、上述した方法は、
沈殿の硬さを緩和する点においては効果があるが、その
反面、研磨面品質に対しては、潜傷が多く発生し高精度
が要求されるガラス基板には、充分満足のいくものでは
ないという問題がある。
本発明は上述した従来技術が有する問題点に鑑みてなさ
れたものであり、砥粒の沈殿が軟らかく、しかも研磨能
率が安定かつ高く、研磨特性にすぐれたガラス研磨用研
磨材を提供することを目的としている。
れたものであり、砥粒の沈殿が軟らかく、しかも研磨能
率が安定かつ高く、研磨特性にすぐれたガラス研磨用研
磨材を提供することを目的としている。
上述した目的を達成するために、本発明のガラス研磨用
研磨材は、酸化セリウムを主成分とする研磨材において
、改質成分として塩化マグネシウムを研磨材に対して０
．１〜２０．０重量％含有させてなることを特徴とする
ものである。
研磨材は、酸化セリウムを主成分とする研磨材において
、改質成分として塩化マグネシウムを研磨材に対して０
．１〜２０．０重量％含有させてなることを特徴とする
ものである。
本発明の研磨材は、通常、水などの分散媒に分散させて
スラリーの状態で使用されるが、本発明においてはこの
ようなスラリー状研磨材も本発明の範囲に含まれる。
スラリーの状態で使用されるが、本発明においてはこの
ようなスラリー状研磨材も本発明の範囲に含まれる。
本発明者の研究によれば、酸化セリウム系研磨材におい
て、上記のような塩化マグネシウムを特定の全範囲添加
することによって、研磨砥粒の沈殿が軟らかくなるとい
うすぐれた効果が発現する。
て、上記のような塩化マグネシウムを特定の全範囲添加
することによって、研磨砥粒の沈殿が軟らかくなるとい
うすぐれた効果が発現する。
このため研磨パッド上での目詰まりが解消され、また再
分散が容易であるため研磨液の組成ないし濃度を常に一
定状態に保持することができ、高い゛研磨能率を安定的
に持続させることが可能となる。
分散が容易であるため研磨液の組成ないし濃度を常に一
定状態に保持することができ、高い゛研磨能率を安定的
に持続させることが可能となる。
さらに、研磨機や配管内での沈殿砥粒の付着が生じても
、その洗浄は容易になり作業性は著しく向上する。また
、研磨能率が大幅に上昇するため研磨加工に要する時間
を短縮することができる。さらにまた、上述した改質成
分を用いた場合、潜傷の発生を著しく減少させることが
できるので、研磨加工製品の歩留りを向上させることが
でき、研磨材としてすぐれた特性を有している。
、その洗浄は容易になり作業性は著しく向上する。また
、研磨能率が大幅に上昇するため研磨加工に要する時間
を短縮することができる。さらにまた、上述した改質成
分を用いた場合、潜傷の発生を著しく減少させることが
できるので、研磨加工製品の歩留りを向上させることが
でき、研磨材としてすぐれた特性を有している。
本発明における上記改質成分の添加量の好ましい範囲は
、研磨材（すなわち研磨材の主成分と改質成分との合計
量）に対して０，１〜２０．０重量％であるが、さらに
好ましくは０． ５〜１０．０重量％の範囲である。添
加量が０．１重量％未満では上述したような改質効果の
発現は乏しく、特に砥粒の沈殿が硬くなるので好ましく
ない。一方、２０．０重量％を超えて添加すると、研磨
能率が低下するので望ましくない。
、研磨材（すなわち研磨材の主成分と改質成分との合計
量）に対して０，１〜２０．０重量％であるが、さらに
好ましくは０． ５〜１０．０重量％の範囲である。添
加量が０．１重量％未満では上述したような改質効果の
発現は乏しく、特に砥粒の沈殿が硬くなるので好ましく
ない。一方、２０．０重量％を超えて添加すると、研磨
能率が低下するので望ましくない。
上述した主成分ならびに改質成分の粒径は、用途や使用
目的に応じて適宜選択され得るが、通常のガラス基数を
対象とした場合、０．１〜１０．０μｍの範囲が望まし
い。
目的に応じて適宜選択され得るが、通常のガラス基数を
対象とした場合、０．１〜１０．０μｍの範囲が望まし
い。
本発明の研磨材による研磨対象となる材料は、主として
高精度研磨が要請されるガラス材である。
高精度研磨が要請されるガラス材である。
具体的には光ディスクや磁気ディスク用のガラス基板、
アクティブマトリックス型ＬＣＤ％液晶ＴＶ用カラーフ
ィルター、時計・電卓・カメラ用ＬＣＤあるいは太陽電
池などのデイスプレィ用ガラス基板、ＬＳＩフォトマス
ク用ガラス基板、あるいは光学用レンズなどの研磨にお
いてすぐれた効果を発揮する。
アクティブマトリックス型ＬＣＤ％液晶ＴＶ用カラーフ
ィルター、時計・電卓・カメラ用ＬＣＤあるいは太陽電
池などのデイスプレィ用ガラス基板、ＬＳＩフォトマス
ク用ガラス基板、あるいは光学用レンズなどの研磨にお
いてすぐれた効果を発揮する。
以下、本発明を実施例ならびに比較例に基づいてさらに
具体的に説明する。
具体的に説明する。
実施例１
下記第１表に示すような各種添加剤を用意し、主成分と
しての酸化セリウムに対して５重量％各々添加してスラ
リー状の研磨材を調製した。
しての酸化セリウムに対して５重量％各々添加してスラ
リー状の研磨材を調製した。
このようにして得られた各種研磨材を用いてガラスディ
スクの研磨効果を調べた。結果を併せて第１表に示す。
スクの研磨効果を調べた。結果を併せて第１表に示す。
研磨方法としては、アルミディスク基板の研磨に使用さ
れるテスト装置を用い、以下のような条件で行った。研
磨効果の評価方法も下記に示す。
れるテスト装置を用い、以下のような条件で行った。研
磨効果の評価方法も下記に示す。
く研磨条件〉
使用ガラス材 ＝５１ハ”ガラスサブストレートポリシ
ングマシン二両面研磨機（９Ｂ−５Ｐ）ポリレンズクロ
ス：５ｕｒｆｉｎ２００（合成スウェードクロス） スラリー砥粒率： Ｃｅ Ｏ２１００ｇ ／ １スラリ
ー供給率：１５０ｃｃ／分 ボリレング圧カニ７０ｇ／ｃｊ 下定盤回転数：６０ｒｐｍ く研磨効果の評価方法〉 研磨能率： 研磨前と研磨後の重量減により換算し、１分間当たりの
研磨能率を算出した。
ングマシン二両面研磨機（９Ｂ−５Ｐ）ポリレンズクロ
ス：５ｕｒｆｉｎ２００（合成スウェードクロス） スラリー砥粒率： Ｃｅ Ｏ２１００ｇ ／ １スラリ
ー供給率：１５０ｃｃ／分 ボリレング圧カニ７０ｇ／ｃｊ 下定盤回転数：６０ｒｐｍ く研磨効果の評価方法〉 研磨能率： 研磨前と研磨後の重量減により換算し、１分間当たりの
研磨能率を算出した。
沈殿の硬さニ
スラリ−を静置して下方に沈殿した砥粒の硬さを５段階
で評価した。この場合、「１」が最も軟らかい沈殿であ
り、「５」は最も硬い沈殿であることを示す。
で評価した。この場合、「１」が最も軟らかい沈殿であ
り、「５」は最も硬い沈殿であることを示す。
潜傷ニ
ガラスディスクを１％ＨＦ溶液で１５０秒間エツチング
処理を施したのち、純水で洗浄し、乾燥させる。そのデ
ィスクを暗室下にて集光ランプを当てるとスクラッチを
見つけることができ、そのスクラッチの本数を数える。
処理を施したのち、純水で洗浄し、乾燥させる。そのデ
ィスクを暗室下にて集光ランプを当てるとスクラッチを
見つけることができ、そのスクラッチの本数を数える。
５枚のディスクの潜傷の本数の合計を５で割った数をデ
ィスク１枚当たりの潜傷数とした。
ィスク１枚当たりの潜傷数とした。
第１表
上記第１表に示すように、塩化マグネシウムを悉加した
研磨材は、沈殿が軟らかく、かつ潜傷が少なく、しかも
研磨能率においても比較的すぐれていることが分かる。
研磨材は、沈殿が軟らかく、かつ潜傷が少なく、しかも
研磨能率においても比較的すぐれていることが分かる。
実施例２
実施例１と同じ研磨条件で、今度は添加剤（改質成分）
の添加量を変化させたものを種々調製して、研磨能率と
改質成分の添加量との関係を調べた。結果を第１図に示
す。
の添加量を変化させたものを種々調製して、研磨能率と
改質成分の添加量との関係を調べた。結果を第１図に示
す。
第１図に示すように、改質成分の添加量が研磨材に対し
て０．１〜２０．０重量％の範囲においては、いずれの
改質成分であっても良好な研磨能率が得られ、特に０．
５〜１０．０重量％の範囲において比較的良好な効果
が得られることが分かる。また、添加量が少ないと砥粒
の沈殿が硬くなり、添加量が多いと研磨能率が低下する
傾向が見られることが分かる。
て０．１〜２０．０重量％の範囲においては、いずれの
改質成分であっても良好な研磨能率が得られ、特に０．
５〜１０．０重量％の範囲において比較的良好な効果
が得られることが分かる。また、添加量が少ないと砥粒
の沈殿が硬くなり、添加量が多いと研磨能率が低下する
傾向が見られることが分かる。
第１図は、改質成分の添加量と研磨能率との関係を示す
グラフである。
グラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、酸化セリウムを主成分とする研磨材において、改質
成分として塩化マグネシウムを研磨材に対して０．１〜
２０．０重量％含有させてなることを特徴とする、ガラ
ス研磨用研磨材。 ２、前記研磨材が、液体に分散されてスラリーを構成し
ている、請求項１に記載のガラス研磨用研磨材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1285436A JP2783330B2 (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | ガラス研磨用研磨材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1285436A JP2783330B2 (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | ガラス研磨用研磨材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03146585A true JPH03146585A (ja) | 1991-06-21 |
| JP2783330B2 JP2783330B2 (ja) | 1998-08-06 |
Family
ID=17691501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1285436A Expired - Lifetime JP2783330B2 (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | ガラス研磨用研磨材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2783330B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994002562A1 (en) * | 1992-07-28 | 1994-02-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive grain, method of making same and abrasive products |
| US5352254A (en) * | 1992-07-28 | 1994-10-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive grain, method of making same and abrasive products |
| JPH06330025A (ja) * | 1993-05-18 | 1994-11-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | ガラス研磨用研磨材 |
| WO2002031079A1 (fr) | 2000-10-06 | 2002-04-18 | Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. | Matière abrasive |
| WO2002048279A1 (fr) | 2000-12-12 | 2002-06-20 | Showa Denko K.K. | Abrasif, boue abrasive, et procede de fabrication d'un abrasif |
| WO2003080757A1 (fr) | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. | Materiau abrasif a base de cerium et procede de preparation de ce materiau |
| WO2007119775A1 (ja) * | 2006-04-14 | 2007-10-25 | Showa Denko K.K. | ガラス基板の加工方法及びガラス基板加工用リンス剤組成物 |
| JP2009007186A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 研磨材およびそれを用いた板ガラスの研磨方法 |
| WO2013099148A1 (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-04 | コニカミノルタ株式会社 | Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法 |
| CN103382369A (zh) * | 2012-11-07 | 2013-11-06 | 有研稀土新材料股份有限公司 | 一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法 |
-
1989
- 1989-11-01 JP JP1285436A patent/JP2783330B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994002562A1 (en) * | 1992-07-28 | 1994-02-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive grain, method of making same and abrasive products |
| US5352254A (en) * | 1992-07-28 | 1994-10-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive grain, method of making same and abrasive products |
| JPH06330025A (ja) * | 1993-05-18 | 1994-11-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | ガラス研磨用研磨材 |
| US6824578B2 (en) | 2000-10-06 | 2004-11-30 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | Abrasive material |
| WO2002031079A1 (fr) | 2000-10-06 | 2002-04-18 | Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. | Matière abrasive |
| WO2002048279A1 (fr) | 2000-12-12 | 2002-06-20 | Showa Denko K.K. | Abrasif, boue abrasive, et procede de fabrication d'un abrasif |
| WO2003080757A1 (fr) | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. | Materiau abrasif a base de cerium et procede de preparation de ce materiau |
| EP1491605A4 (en) * | 2002-03-22 | 2009-02-11 | Mitsui Mining & Smelting Co | CER-BASED ABRASIVE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
| WO2007119775A1 (ja) * | 2006-04-14 | 2007-10-25 | Showa Denko K.K. | ガラス基板の加工方法及びガラス基板加工用リンス剤組成物 |
| JP2009007186A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 研磨材およびそれを用いた板ガラスの研磨方法 |
| WO2013099148A1 (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-04 | コニカミノルタ株式会社 | Ｈｄｄ用ガラス基板の製造方法 |
| CN103382369A (zh) * | 2012-11-07 | 2013-11-06 | 有研稀土新材料股份有限公司 | 一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法 |
| CN103382369B (zh) * | 2012-11-07 | 2015-07-29 | 有研稀土新材料股份有限公司 | 一种氧化铈基复合抛光粉及其制备方法 |
| US9725620B2 (en) | 2012-11-07 | 2017-08-08 | Grirem Advanced Materials Co., Ltd. | Cerium oxide based composite polishing powder and preparation method thereof |
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