JPH03141511A - Semiconductive resin composite - Google Patents

Semiconductive resin composite

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JPH03141511A
JPH03141511A JP27945289A JP27945289A JPH03141511A JP H03141511 A JPH03141511 A JP H03141511A JP 27945289 A JP27945289 A JP 27945289A JP 27945289 A JP27945289 A JP 27945289A JP H03141511 A JPH03141511 A JP H03141511A
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JP
Japan
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layer
semiconductive layer
semiconductive
polymer
weight
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Pending
Application number
JP27945289A
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Japanese (ja)
Inventor
Toraichi Ishikawa
虎一 石川
Mitsutaka Tanida
谷田 光隆
Susumu Takahashi
享 高橋
Kenji Nagai
健二 永井
Mitsuru Igarashi
満 五十嵐
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Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a power cable allowing to be stripped in any direction as much as required, when a semiconductive layer to be stripped from an insulated layer in terminal processing by providing a semiconductive layer consisting of a resin composite, where conductive carbon black is blended with stylene elastomer singly, or blended polymer with ethylene polymer. CONSTITUTION:A periphery of a conductor 1 is coated with an inner semiconductive layer 2. This inner semiconductive layer 2 is a bonded type semiconductive layer. An insulated layer 3 on this inner semiconductive layer 2 is consisting of a resin composite bridged by heating after the pasted coating with polyolefin resin. This insulated layer 3 is coated with an outer semiconductive layer 4 consisting of semiconductive resin composite, a shielding layer 5 and a sheath 6 by turns for being made a power cable. As a resin composite forming the outer semiconductive layer 4, a substance, wherein conductive carbon black 10 to 100wt.% is blended with stylene elastomer simplex, or blended polymer 100wt.% of stylene elastomer and ethylene polymer, is used.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、主として架橋ポリエチレン絶縁ケーブルな
どの電カケープルの半導電層に用いられ、その半導電層
の剥離性を良好とする半導電性樹脂組成物に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductive resin that is mainly used for semiconductive layers of electrical cables such as cross-linked polyethylene insulated cables and that improves the releasability of the semiconductive layer. Regarding the composition.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

架橋ポリエチレン絶縁ケーブル(C■ケーブル)などの
電カケープルにあっては、ケーブル間の接続時などに行
われる端末処理作業を容易にするために、架橋ポリエチ
レンや架橋エチレンプロピレンゴムなどからなる絶縁層
から半導電層を剥ぎ取り易くする必要がある。また、同
時に電カケープルに曲げ外力が加った際に、絶縁層と半
導電層とが界面剥離を起さないことも必要である。よっ
て、半導電層は絶縁層に対して適度の剥離性と適度の密
着性を併せ持つことが必要となる。
For power cables such as cross-linked polyethylene insulated cables (C cables), insulating layers made of cross-linked polyethylene or cross-linked ethylene propylene rubber, etc. are It is necessary to make the semiconductive layer easy to peel off. At the same time, it is also necessary that interfacial separation between the insulating layer and the semiconducting layer does not occur when an external bending force is applied to the power cable. Therefore, the semiconducting layer needs to have both appropriate releasability and appropriate adhesion to the insulating layer.

このため、従来はポリ塩化ビニル、塩素化ポリエチレン
、エチレン−酢酸ビニル共重合体などの極性ポリマーや
フッ素樹脂、シリコーン樹脂などにポリエチレンなどの
ポリオレフィン樹脂を適量配合してベースポリマーとし
、これに導電性カーボンブラックを配合した樹脂組成物
から半導電層を構成し、架橋ポリエチレンや架橋エチレ
ンプロピレンゴムなどのポリオレフィン系樹脂からなる
絶縁層に対して適度の剥離性および密着性が得られるよ
うにしている。
For this reason, conventionally, polar polymers such as polyvinyl chloride, chlorinated polyethylene, and ethylene-vinyl acetate copolymers, fluororesins, silicone resins, etc. are blended with an appropriate amount of polyolefin resins such as polyethylene to form a base polymer, and this is made into a base polymer. The semiconductive layer is made of a resin composition containing carbon black, and is designed to have appropriate peelability and adhesion to an insulating layer made of a polyolefin resin such as crosslinked polyethylene or crosslinked ethylene propylene rubber.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、上記樹脂組成物からなる半導電層にあっ
ては、この樹脂組成物がポリオレフィン樹脂と本来この
ポリオレフィン樹脂に対して相溶性の乏しい極性ポリマ
ーとのブレンド物であることから、混線時に均一に分散
されにく(、したがってこの樹脂組成物から得られる半
導電層を絶縁層から剥離する際には、方向性が発現し、
任意の方向に剥離することができず、電カケープルの端
末処理作業を容易に行うことができない問題があった。
However, in the case of a semiconducting layer made of the above-mentioned resin composition, since this resin composition is a blend of a polyolefin resin and a polar polymer that is inherently poor in compatibility with this polyolefin resin, it is difficult to uniformly conduct wires when cross-wired. It is difficult to disperse (therefore, when the semiconducting layer obtained from this resin composition is peeled from the insulating layer, directionality is expressed,
There was a problem in that the cable could not be peeled off in any direction, and the end treatment of the electrical cable could not be easily performed.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

この発明では、半導電層をなす樹脂組成物として、スチ
レン系エラストマー単体又はスチレン系エラストマーと
エチレン系ポリマーとのブレンドポリマー100重量部
に対して、導電性カーボンブラック10〜100重量部
を配合したものを使用することによって、上記問題点を
解決するようにした。
In this invention, the resin composition forming the semiconductive layer is a composition in which 10 to 100 parts by weight of conductive carbon black is blended with 100 parts by weight of a styrene elastomer alone or a blend polymer of a styrene elastomer and an ethylene polymer. The above problem was solved by using .

以下、この発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

第1図は、この発明に係る半導電性樹脂組成物を半導電
層に用いた電カケープルの一例を示すもので、図中符号
lは導体である。この導体lの外周には内部半導電層2
が被覆されている。この内部半導電層2は、ボンドタイ
プの半導電層であり、本発明の剥離性良好な半導電性樹
脂組成物とタイプが異なるものである。さらにこの内部
半導電層2上には、絶縁層3が被覆されている。この絶
縁層3は、架橋ポリエチレン、架橋エチレンプロピレン
ゴムなどのポリオレフィン樹脂を押出被覆したのち加熱
して架橋させた樹脂組成物から構成されている。さらに
この絶縁層3上には、本発明の半導電性樹脂組成物から
なる外部半導電層4、遮蔽層5およびシース6が順次被
覆されて電カケープルとされている。
FIG. 1 shows an example of an electrical cable in which the semiconductive resin composition according to the present invention is used as a semiconductive layer, and the reference numeral 1 in the figure represents a conductor. An internal semiconducting layer 2 is formed on the outer periphery of this conductor l.
is covered. This internal semiconductive layer 2 is a bond type semiconductive layer, and is different in type from the semiconductive resin composition of the present invention having good releasability. Furthermore, this internal semiconducting layer 2 is coated with an insulating layer 3. The insulating layer 3 is made of a resin composition obtained by extrusion coating a polyolefin resin such as crosslinked polyethylene or crosslinked ethylene propylene rubber, and then crosslinking it by heating. Further, on this insulating layer 3, an external semiconductive layer 4 made of the semiconductive resin composition of the present invention, a shielding layer 5, and a sheath 6 are sequentially coated to form a power cable.

外部半導電層4は、スチレン系エラストマー単独あるい
はこの共重合体5重量%以上とエチレン系ポリマー95
重量%以下とのブレンドポリマー100重量部に対して
導電性カーボンブラック10〜100重量部を配合した
樹脂組成物を絶縁層3上に押出被覆して形成されたもの
である。 上記外部半導電層に用いられる半導電性樹脂
組成物を構成するベースポリマーの一方の成分であるス
チレン系エラストマーは、次のようなものである。
The outer semiconductive layer 4 is composed of 5% by weight or more of a styrene elastomer alone or a copolymer thereof and 95% of an ethylene polymer.
It is formed by extrusion coating the insulating layer 3 with a resin composition in which 10 to 100 parts by weight of conductive carbon black is blended with 100 parts by weight of the blended polymer. The styrenic elastomer, which is one component of the base polymer constituting the semiconductive resin composition used for the external semiconductive layer, is as follows.

すなわち、第1表にスチレン系エラストマーの構造区分
、第2図(a )(b ’)、第3図Ca )(b )
に、それぞれL 1nearタイプ、Radialタイ
プの構造概念を示すように、スチレン系エラストマーは
、ハードセグメントとしてポリスチレンの結晶相を有し
、ソフトセグメントとしてポリブタジェン、又はポリイ
ソプレンがブロック的に共重合されており、その結合様
式も、ポリスチレン部分とポリブタジェン部分がL 1
nearな結合様式をとるタイプ(代表例ニジニル社の
カリフレックス)と、ブタジェン部分同志をカップリン
グしたRadialタイプ(代表例:フィリップス社、
ツルプレン)に大別される。
That is, Table 1 shows the structural classification of styrenic elastomers, Figure 2 (a) (b'), Figure 3 Ca) (b)
As shown in the structural concepts of L1near type and Radial type, respectively, styrenic elastomer has a polystyrene crystal phase as a hard segment, and polybutadiene or polyisoprene is block copolymerized as a soft segment. , the bonding mode is also that the polystyrene part and polybutadiene part are L 1
A type that takes a near bonding style (typical example: Nijinil's Califlex) and a radial type that couples butadiene moieties together (typical example: Philips, Inc.)
It is roughly divided into two types (Tsurprene).

5EBSは、シェルケミカル社が、唯一企業化、生産し
ているもので、前記SBS系のブタジェン部分を高度に
水添することにより、主鎖中の二重結合部分を飽和させ
たものである。
5EBS is commercialized and produced only by Shell Chemical Company, and is obtained by highly hydrogenating the butadiene portion of the SBS system to saturate the double bond portion in the main chain.

第   1   表 但し、SBS:スチレン−ブタジェン−スチレンブロッ
クコポリマー818:スチレン−イソプレン−スチレン
ブロックコポリマ−8EBS:スチレン−エチレン−ブ
チレン−スチレンブロックコポリマー SBS、5EBSともにスチレン部とブタジェン部の割
合は、スチレン部が全体の概略40%以下であり、ブタ
ジェン部が連続相を有している構造が基本である。スチ
レン部が増大すると、機械的強度は大きくなるが、硬度
が高くなり、ゴム弾性を失う方向となり、逆に減少する
と、その反対の傾向を持つ。スチレン部40%以下とい
うことは、これらの関連性により決定されている。ポリ
スチレン部分とポリブタジェン部分は互いに不相溶であ
り、そのため、ポリスチレン部分が明確なドメイン構造
を形成することが容易となり、ポリブタジェンの海の中
に均一にポリスチレン相が分散できる。常温では、この
ポリスチレン部分が、ブタジェン部分の末端を固定して
、一種の物理的架橋構造を形成するが、高温では、ポリ
スチレンドメインが溶融し、熱可塑性を示す。
Table 1 However, SBS: Styrene-butadiene-styrene block copolymer 818: Styrene-isoprene-styrene block copolymer-8EBS: Styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer In both SBS and 5EBS, the ratio of styrene part to butadiene part is styrene part. is approximately 40% or less of the total, and the basic structure is that the butadiene portion has a continuous phase. When the styrene portion increases, the mechanical strength increases, but the hardness increases and the rubber elasticity tends to be lost.On the other hand, when the styrene portion decreases, the opposite tendency occurs. The styrene content of 40% or less is determined by these relationships. The polystyrene portion and the polybutadiene portion are incompatible with each other, so that the polystyrene portion can easily form a clear domain structure, and the polystyrene phase can be uniformly dispersed in the polybutadiene sea. At room temperature, this polystyrene moiety fixes the end of the butadiene moiety, forming a kind of physical crosslinking structure, but at high temperatures, the polystyrene domain melts and exhibits thermoplasticity.

また、本発明に係る半導電性樹脂組成物のベースポリマ
ーの他方の成分であるエチレン系ポリマーとしては、エ
チレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン−1共
i[合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体などのエチレン−α−オレ
フィン共重合体ならびにこれらの2種以上のブレンドポ
リマーがあげられるが、なかでもエチレン−酢酸ビニル
共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体が特
に好適である。エチレン−酢酸ビニル共重合体としては
、その酢酸ビニル含量がlO〜35重量%程度のもので
、かつメルトフロレートが1〜20のものが好ましい。
Further, as the ethylene polymer which is the other component of the base polymer of the semiconductive resin composition according to the present invention, ethylene-propylene copolymer, ethylene-butene-1 copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, etc. Examples include ethylene-α-olefin copolymers such as ethylene-vinyl acetate copolymers, and blend polymers of two or more of these, including ethylene-vinyl acetate copolymers and ethylene-ethyl acrylate copolymers. is particularly suitable. The ethylene-vinyl acetate copolymer preferably has a vinyl acetate content of about 10 to 35% by weight and a melt fluoride of 1 to 20.

このエチレン−酢酸ビニル共重合体は、ベースポリマー
の加工性を良好とし、かつベースポリマー中へのカーボ
ンブラックの分散を容易とするものである。また、エチ
レンー二チルアクリレート共重合体としては、そのエチ
ルアクリレート含量がlO〜25重量%程度のものがベ
ースポリマーに適度の柔軟性を付与する点で好ましい。
This ethylene-vinyl acetate copolymer improves the processability of the base polymer and facilitates the dispersion of carbon black into the base polymer. Further, as the ethylene-dityl acrylate copolymer, one having an ethyl acrylate content of about 10 to 25% by weight is preferable since it imparts appropriate flexibility to the base polymer.

また、ベースポリマーとして上記スチレン系エラストマ
ーとエチレン系ポリマーとのブレンドポリマーを用いる
場合の混合割合は、スチレン系エラストマーが5重量%
以上で、ポリオレフィン系ポリマー95重量%以下の割
合とされ、好ましくはスチレン系エラストマーが30重
量%以上で、エチレン系ポリマーが70重量%以下とさ
れる。
In addition, when using a blend polymer of the above-mentioned styrene-based elastomer and ethylene-based polymer as the base polymer, the mixing ratio is 5% by weight of the styrene-based elastomer.
In the above, the proportion of the polyolefin polymer is 95% by weight or less, preferably the styrene elastomer is 30% by weight or more, and the ethylene polymer is 70% by weight or less.

スチレン系エラストマーが5重量%未満では外部半導電
層4の絶縁層3からの剥離が困難となって不都合を生じ
る。
If the styrene elastomer content is less than 5% by weight, it will be difficult to separate the outer semiconducting layer 4 from the insulating layer 3, resulting in inconvenience.

このようなベースポリマーに導電性を付与するための導
電性カーボンブラックが添加される。ここでの導電性カ
ーボンブラックとしては、アセチレンブラック、ファー
ネスブラック等の周知のカーボンブラックが使用できる
。導電性カーボンブラックのベースポリマーに対する混
合量は、外部半導電層4に要求される導電性を考慮して
定められ、ベースポリマー100重量部に対して10〜
100重量部の範囲で決められる。
Conductive carbon black is added to such a base polymer to impart conductivity. As the conductive carbon black here, well-known carbon blacks such as acetylene black and furnace black can be used. The amount of conductive carbon black to be mixed with the base polymer is determined in consideration of the conductivity required for the outer semiconductive layer 4, and is 10 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the base polymer.
It can be determined within a range of 100 parts by weight.

また、上記ベースポリマーとカーボンブラックとの混合
物よりなる樹脂組成物には、必要に応じて架橋剤、架橋
助剤、老化防止剤等を加えることができる。架橋剤とし
ては、ジクミルパーオキサイド(DCP) 、2.5−
ジメチル−2,5−ジ(1−ブチルパーオキシ)ヘキシ
ン−3等の通常の過酸化物架橋剤が好適に使用できる。
Further, a crosslinking agent, a crosslinking aid, an anti-aging agent, etc. can be added to the resin composition made of the mixture of the base polymer and carbon black, if necessary. As a crosslinking agent, dicumyl peroxide (DCP), 2.5-
Common peroxide crosslinking agents such as dimethyl-2,5-di(1-butylperoxy)hexyne-3 can be suitably used.

架橋剤の配合量はベースポリマー100重量部に対して
0゜2〜3重量部程度とされる。また、架橋助剤として
は、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレ
ート、テトラアリルオキシエタン、NlN’−m−フ二
二しンビスマレイミド、p、pジベンゾイルキノンジオ
キシム、p−キノンジオキシム等が使用でき、ベースポ
リマー100重量部に対し0.5〜3重量部程度配合で
きる。これらの架橋剤および架橋助剤は両者を併用する
か、またいずれかが単独で使用される。架橋助剤を単独
で使用する場合には、絶縁体中の架橋剤が一部半導電層
に架橋時移行してこの移行架橋剤と反応して架橋する。
The blending amount of the crosslinking agent is approximately 0.2 to 3 parts by weight per 100 parts by weight of the base polymer. In addition, as a crosslinking aid, triallyl isocyanurate, triallyl cyanurate, tetraallyloxyethane, NlN'-m-phinidine bismaleimide, p, p dibenzoylquinone dioxime, p-quinone dioxime etc., and can be blended in an amount of about 0.5 to 3 parts by weight per 100 parts by weight of the base polymer. These crosslinking agents and crosslinking aids may be used in combination, or either one may be used alone. When a crosslinking aid is used alone, a portion of the crosslinking agent in the insulator migrates to the semiconductive layer during crosslinking and reacts with the migrated crosslinking agent to cause crosslinking.

また、老化防止剤としては、4゜4°−チオビス(6−
t−ブチル−3−メチルフェノール)等が使用でき、そ
の他必要に応じてステアリン酸亜鉛、酸化亜鉛、マグネ
シアなどを添加することもできる。
In addition, as an anti-aging agent, 4°4°-thiobis(6-
t-butyl-3-methylphenol), etc., and zinc stearate, zinc oxide, magnesia, etc. can also be added as required.

そして、このような半導電性樹脂組成物を用いて外部半
導電層4を形成するには、従来方法と同様に押出被覆法
を適用見て行うことができる。この押出被覆時の押出温
度は120〜140°C程度とされる。
In order to form the outer semiconductive layer 4 using such a semiconductive resin composition, an extrusion coating method can be applied in the same manner as the conventional method. The extrusion temperature during this extrusion coating is approximately 120 to 140°C.

このような電カケープルにあっては、外部半導電層4が
、スチレン系エラストマー或いはスチレン系エラストマ
ーとエチレン系ポリマーを主体とした樹脂組成物からな
るため、架橋ポリエチレンや’ARIAエチレンプロピ
レンゴムなどからなる絶縁層3に対して、適度の密着性
と適度の剥離性とを備えるとともに、ベースポリマー自
体が均−分散系となり、半導電層剥離の際に、特定の方
向に剥離しやすいなどの不都合が生じず、任意の方向に
必要なだけ容易に剥離することができる。 以下、実施
例を示してこの発明の作用効果を明確にする。
In such an electric cable, the outer semiconductive layer 4 is made of a styrene elastomer or a resin composition mainly composed of a styrene elastomer and an ethylene polymer, so it may be made of crosslinked polyethylene or 'ARIA ethylene propylene rubber. In addition to having appropriate adhesion and appropriate peelability to the insulating layer 3, the base polymer itself becomes a uniformly dispersed system, and there are no inconveniences such as easy peeling in a specific direction when peeling the semiconductive layer. It can be easily peeled off in any direction as needed. Hereinafter, the effects of this invention will be clarified by showing examples.

〔実施例〕〔Example〕

第2表に示す配合の樹脂組成物を外部半導電層として用
意した。導体(500+n+a”)上に、内部半導電層
(厚さIInI+1)、絶縁層(架橋ポリエチレン、厚
さll■)、外部半導電層(厚さ0 、5111m)を
3層間時押出被覆によって被覆し、ついで遮蔽層、シー
スを順次施して電カケープルを製造した。
A resin composition having the formulation shown in Table 2 was prepared as an outer semiconductive layer. The conductor (500+n+a") was coated with an inner semiconducting layer (thickness IInI+1), an insulating layer (cross-linked polyethylene, thickness ll), and an outer semiconducting layer (thickness 0, 5111 m) by three-layer extrusion coating. Then, a shielding layer and a sheath were sequentially applied to produce an electric cable.

得られた電カケープルについて、外部半導電層の剥離の
際の方向性の有無について検討した。また、別にこの樹
脂組成物と架橋ポリエチレンからなる二層構造のシート
片を押出成形し、これの剥離力を求めた。
Regarding the obtained electrical cable, the presence or absence of directionality during peeling of the external semiconductive layer was investigated. Separately, a sheet piece with a two-layer structure made of this resin composition and crosslinked polyethylene was extruded and its peel force was determined.

結果を第2表に併せて示した。The results are also shown in Table 2.

第2表から明らかなように、この発明の半導電性樹脂組
成物によって外側半導電層がつくられている電カケープ
ルにあっては、半導電層の剥離時において方向性がなく
、任意の方向に剥離できることがわかり、かつ絶縁層に
対する剥離力と密着力とがバランスしていることがわか
る。
As is clear from Table 2, in the case of the electric capule in which the outer semiconductive layer is made of the semiconductive resin composition of the present invention, there is no directionality when the semiconductive layer is peeled off, and it can be peeled off in any direction. It can be seen that the film can be peeled off quickly, and that the peeling force and adhesion force to the insulating layer are well balanced.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、電カケープルは、スチレン系エラ
ストマー単独またはエチレン系ポリマーとのブレンドポ
リマー100重量部に対して、導電性カーボンブラック
10〜100ffi!1部を配合した樹脂組成物からな
る半導電層を有するものであるので、端末処理作業等に
おいて絶縁層から半導電層を剥離する際に任意の方向に
必要なだけ剥離することができ、したがって端末処理作
業を容易に行うことができる。また、この半導電層は架
橋ポリエチレンなどからなる絶縁層に対して、適度の密
着性と適度の剥離性を有するものとなる。
As explained above, the electrical capule contains 10 to 100 ffi of conductive carbon black per 100 parts by weight of a styrene elastomer alone or a blend polymer with an ethylene polymer. Since it has a semiconductive layer made of a resin composition containing 1 part of the semiconductive layer, it can be peeled off as much as necessary in any direction when peeling the semiconductive layer from the insulating layer during terminal processing work, etc. Terminal processing work can be easily performed. Further, this semiconductive layer has appropriate adhesiveness and appropriate releasability to an insulating layer made of crosslinked polyethylene or the like.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の電カケープルの一例を示す概略断面
図、第2図(a)(b)、第3図(a )(b )は構
造概念を示す図で、第2図(a )(b )はポリスチ
レン部分とポリブタジェン部分がL 1nearな結合
様式をとるタイプの図、第3図(a )(b )はブタ
ジェン部分同志をカップリングしたタイプの図である。 4・・・・・・外部半導電層。
Fig. 1 is a schematic sectional view showing an example of the electric cable of the present invention, Figs. (b) is a diagram of a type in which the polystyrene moiety and polybutadiene moiety take an L 1near bonding mode, and FIGS. 3(a) and (b) are diagrams of a type in which butadiene moieties are coupled together. 4...Outer semiconducting layer.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)スチレン系エラストマー単独、もしくはスチレン
系エラストマーとエチレン系ポリマーとのブレンドポリ
マー100重量部に対して、導電性カーボンブラック1
0〜100重量部配合してなる半導電性樹脂組成物。
(1) 1 part by weight of conductive carbon black per 100 parts by weight of styrene elastomer alone or a blend of styrene elastomer and ethylene polymer
A semiconductive resin composition containing 0 to 100 parts by weight.
(2)スチレン系エラストマーとエチレン系ポリマーと
のブレンドポリマーが、スチレン系エラストマーが5重
量%以上、ポリオレフィン系ポリマー95重量%以下の
ブレンドポリマーである請求項(1)記載の半導電性樹
脂組成物。
(2) The semiconductive resin composition according to claim (1), wherein the blend polymer of a styrene elastomer and an ethylene polymer is a blend polymer containing 5% by weight or more of the styrene elastomer and 95% by weight or less of the polyolefin polymer. .
JP27945289A 1989-10-26 1989-10-26 Semiconductive resin composite Pending JPH03141511A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002179854A (en) * 2000-12-11 2002-06-26 Du Pont Mitsui Polychem Co Ltd Resin composition

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JP2002179854A (en) * 2000-12-11 2002-06-26 Du Pont Mitsui Polychem Co Ltd Resin composition

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