JPH0313811A - 曲率半径測定方法 - Google Patents
曲率半径測定方法Info
- Publication number
- JPH0313811A JPH0313811A JP14671189A JP14671189A JPH0313811A JP H0313811 A JPH0313811 A JP H0313811A JP 14671189 A JP14671189 A JP 14671189A JP 14671189 A JP14671189 A JP 14671189A JP H0313811 A JPH0313811 A JP H0313811A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- stage
- curvature
- measured
- radius
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 abstract 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 241001422033 Thestylus Species 0.000 description 1
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分計〉
本発明は、レンズの曲率半径を高精度で測定できる曲率
半径測定装置に関する。
半径測定装置に関する。
〈従来の技術〉
従来、レンズの曲率半径を測定するための技術としては
、ニュートンゲージ法が知られている。この方法では、
第３図に示すように、被測定球面３１上に、曲率半径Ｒ
０のニュートンゲージ３２を重ね合せ、この上から光を
照射するようにする。このとき、被測定球面３１とニュ
ートンゲージ３２との間に生じたすきＩ！Ｉ３３内の空
気の層により干渉現象が生じ、被測定球面３１の面形状
に応じた干渉縞が観察できろ、これにより、被測定球面
３１の曲率半径Ｒとニュートンゲージ３２の曲率半径Ｒ
０との相違を知り、被測定球面３１の曲率半径Ｒ４！求
めることができる。
、ニュートンゲージ法が知られている。この方法では、
第３図に示すように、被測定球面３１上に、曲率半径Ｒ
０のニュートンゲージ３２を重ね合せ、この上から光を
照射するようにする。このとき、被測定球面３１とニュ
ートンゲージ３２との間に生じたすきＩ！Ｉ３３内の空
気の層により干渉現象が生じ、被測定球面３１の面形状
に応じた干渉縞が観察できろ、これにより、被測定球面
３１の曲率半径Ｒとニュートンゲージ３２の曲率半径Ｒ
０との相違を知り、被測定球面３１の曲率半径Ｒ４！求
めることができる。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、前述した二、−トンゲージ法によると、
ニュートンゲージ３２の曲率半径Ｒ０は被測定球面３１
の曲率半径に近くなければならず、且つ高精度でなけれ
ばならない。
ニュートンゲージ３２の曲率半径Ｒ０は被測定球面３１
の曲率半径に近くなければならず、且つ高精度でなけれ
ばならない。
したがって、任意の曲率半径を有する被検体を容易に測
定することはできない。
定することはできない。
また、得られる信号が干渉縞であり、ある程度の幅を有
するため、その干渉縞の中心を求める等の画像処理が必
要となる。
するため、その干渉縞の中心を求める等の画像処理が必
要となる。
さらに、ニュートンゲージ３２と被検体の被測定球面３
１とは線接触することとなるため、被測定球面３１に黴
細な傷が生じる可能性がある。
１とは線接触することとなるため、被測定球面３１に黴
細な傷が生じる可能性がある。
本発明はこのような事情に鑑み、任意の曲率半径を有す
る被測定球面の曲率半径を高精度で容易に測定しうろ曲
率半径測定装置を提供することを目的とする。
る被測定球面の曲率半径を高精度で容易に測定しうろ曲
率半径測定装置を提供することを目的とする。
＜！ｌＩ題を解決するための手段〉
前記目的を達成する本発明に係る曲率半径測定方法は、
特定軸と直交する特定断面の外縁形状が該特定軸と該特
定断面との交点を中心とする円又は円の一部となる被検
体を回転ステージ上にその回転軸と当該特定軸とが平行
となるように搭載し、この回転ステージの回転軸と直交
する一方向におけろ上記被検体の外縁形状の位置を当該
回転ステージを回転しながら測定し、このときの各回転
位置における測定点が一定になるよう当該被検体を回転
ステージ上で平行移動させて当該回転ステージの回転軸
と上記特定軸とを一致させることにより上記特定断面の
曲率半径を測定することを特徴とする。
特定軸と直交する特定断面の外縁形状が該特定軸と該特
定断面との交点を中心とする円又は円の一部となる被検
体を回転ステージ上にその回転軸と当該特定軸とが平行
となるように搭載し、この回転ステージの回転軸と直交
する一方向におけろ上記被検体の外縁形状の位置を当該
回転ステージを回転しながら測定し、このときの各回転
位置における測定点が一定になるよう当該被検体を回転
ステージ上で平行移動させて当該回転ステージの回転軸
と上記特定軸とを一致させることにより上記特定断面の
曲率半径を測定することを特徴とする。
〈作 用〉
特定軸と直交する特定断面の外縁形状が該特定軸と該特
定断面との交点を中心とする円又は円の一部となる被検
体を回転ステージ上にその回転軸と当該特定軸とが平行
となるように搭載すると、回転軸と特定軸とはずれてい
る。よって、回転ステージを回転しながら回転軸と直交
する一方向においての上記特定断面の外縁形状の位置を
測定すると、各回転位置毎の測定点が異なる。この測定
点のずれを補正して常に測定点が一致するように被検体
を平行移動したときに、その特定軸は回転軸に一致する
ことになる。このときの測定点と回転軸との距離が当該
特定断面の曲率半径となる。
定断面との交点を中心とする円又は円の一部となる被検
体を回転ステージ上にその回転軸と当該特定軸とが平行
となるように搭載すると、回転軸と特定軸とはずれてい
る。よって、回転ステージを回転しながら回転軸と直交
する一方向においての上記特定断面の外縁形状の位置を
測定すると、各回転位置毎の測定点が異なる。この測定
点のずれを補正して常に測定点が一致するように被検体
を平行移動したときに、その特定軸は回転軸に一致する
ことになる。このときの測定点と回転軸との距離が当該
特定断面の曲率半径となる。
上述したような特定断面を有する被検体としては球若し
くはその一部を切りとったもの又は円筒若しくはその一
部を切りとったものを代表として挙げることができる。
くはその一部を切りとったもの又は円筒若しくはその一
部を切りとったものを代表として挙げることができる。
これら被検体をその特定軸と回転軸とが平行となるよう
に回転ステージに搭載するには、球若しくはその一部を
切りとったものの場合には特にその向きは限定されない
が、円筒若しくはその一部を切りとったものの場合には
その軸と回転軸とが平行となるようにする必要がある。
に回転ステージに搭載するには、球若しくはその一部を
切りとったものの場合には特にその向きは限定されない
が、円筒若しくはその一部を切りとったものの場合には
その軸と回転軸とが平行となるようにする必要がある。
また、被検体が球若しくはその一部を切りとったものの
場合、その球の曲率半径を求めるには、上述した特定断
面の曲率半径の測定を、さらに当該被検体を回転軸（特
定軸）方向に亘って移動させながら行い、その最大値を
求める必要がある。
場合、その球の曲率半径を求めるには、上述した特定断
面の曲率半径の測定を、さらに当該被検体を回転軸（特
定軸）方向に亘って移動させながら行い、その最大値を
求める必要がある。
く実 施 例〉
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
第１図には本実施例のための曲率半径測定装置の構成を
示す。同図に示すように、架台１に上下方向移動自在に
設けられた第１のステージ２には回転ステージ３が設け
られている。この回転ステージ３の回転軸は第１のステ
ージ２の上下移動方向と平行となり、その回転位置はロ
ータリーエンコーダ４により正確に計測できろようにな
っている。この回転ステージ３上にはその回転軸と直交
する方向移動自在となる直進ステージ５ａとこの直進ス
テージ５ａの移動方向とは直交する移動方向を有する直
進ステージ５ｂとが組合さってなる２軸直進ステージ５
が搭載され、各ステージ５ ａ、 ５ ｂの位置はリニ
アエンコーダ６ ａ。
示す。同図に示すように、架台１に上下方向移動自在に
設けられた第１のステージ２には回転ステージ３が設け
られている。この回転ステージ３の回転軸は第１のステ
ージ２の上下移動方向と平行となり、その回転位置はロ
ータリーエンコーダ４により正確に計測できろようにな
っている。この回転ステージ３上にはその回転軸と直交
する方向移動自在となる直進ステージ５ａとこの直進ス
テージ５ａの移動方向とは直交する移動方向を有する直
進ステージ５ｂとが組合さってなる２軸直進ステージ５
が搭載され、各ステージ５ ａ、 ５ ｂの位置はリニ
アエンコーダ６ ａ。
６ｂにより正確に計測されるようになっている。そして
、この２軸直進ステージ５の上に被検体７が搭載される
ようになっており、この被検体７は回転軸を中心に回転
移動されると共にその回転軸に直交する一平面内で任意
に移動されろ。
、この２軸直進ステージ５の上に被検体７が搭載される
ようになっており、この被検体７は回転軸を中心に回転
移動されると共にその回転軸に直交する一平面内で任意
に移動されろ。
一方、第１のステージ２の上方には第２のステージ８が
固定されておゆ、このステージ８の下面に設けらえｔこ
直進ステージ９には微小変位を測定する光触針計１０が
搭載されている。この光触針計１０により変位が測定で
きろ方向は上記回転ステージ３の回転軸と直交するよう
になっており、まｔこ、直進ステージ９の移動方向もこ
れと一致している。なお、この直進ステージ９の位置は
リニアエンコーダー１１により正確に計測されるように
なっている。
固定されておゆ、このステージ８の下面に設けらえｔこ
直進ステージ９には微小変位を測定する光触針計１０が
搭載されている。この光触針計１０により変位が測定で
きろ方向は上記回転ステージ３の回転軸と直交するよう
になっており、まｔこ、直進ステージ９の移動方向もこ
れと一致している。なお、この直進ステージ９の位置は
リニアエンコーダー１１により正確に計測されるように
なっている。
ここで、光触針計１０としては、臨界角プリズムを用い
たもの、非点収差を利用したものなどを用いればよく、
これらは−収約には分割検出器よりの出力の差信号が変
位量に対してリニア傾向を示す特性を示すので、この出
力信号レベルにより、被検体７０表面の位置を知ること
ができるものである。なお、光触針計１０の動作範囲は
限定される（例えば臨界角プリズムを用いた方法を採っ
た場合の動作範囲に±１μｍ程度である）ため、被検体
７の表面の位置が大きく変動した場合に追従するために
、光触針計１０を直進ステージ９上に搭載しである。す
なわち、この直進ステージ９により被検体７の表面位置
が光触針計１０の動作範囲内となるようにし、表面位置
をリニアエンコーダ１１の出力と光触針計１０の出力と
の和として求めるようにしている。
たもの、非点収差を利用したものなどを用いればよく、
これらは−収約には分割検出器よりの出力の差信号が変
位量に対してリニア傾向を示す特性を示すので、この出
力信号レベルにより、被検体７０表面の位置を知ること
ができるものである。なお、光触針計１０の動作範囲は
限定される（例えば臨界角プリズムを用いた方法を採っ
た場合の動作範囲に±１μｍ程度である）ため、被検体
７の表面の位置が大きく変動した場合に追従するために
、光触針計１０を直進ステージ９上に搭載しである。す
なわち、この直進ステージ９により被検体７の表面位置
が光触針計１０の動作範囲内となるようにし、表面位置
をリニアエンコーダ１１の出力と光触針計１０の出力と
の和として求めるようにしている。
このような装置を用いて曲率半径を測定するには、まず
、被検体７を２軸直進ステージ５上に固定する。被検体
７としては、特定軸と直交する特定断面の外縁形状が該
特定軸と該特定断面との交点を中心とする円又は円の一
部となるもの、具体的には例えば球又は円筒の一部を切
り取ったレンズ等を挙げることができろ。なお球体の一
部をなす被検体の場合には固定する方向は特に限定され
ず、測定したい表面を光触針計１０の方向に向ければよ
い。また円筒の一部をなす被検体の場合には該円筒の軸
が回転ステージ３の回転軸と平行になるよう固定する必
要がある。
、被検体７を２軸直進ステージ５上に固定する。被検体
７としては、特定軸と直交する特定断面の外縁形状が該
特定軸と該特定断面との交点を中心とする円又は円の一
部となるもの、具体的には例えば球又は円筒の一部を切
り取ったレンズ等を挙げることができろ。なお球体の一
部をなす被検体の場合には固定する方向は特に限定され
ず、測定したい表面を光触針計１０の方向に向ければよ
い。また円筒の一部をなす被検体の場合には該円筒の軸
が回転ステージ３の回転軸と平行になるよう固定する必
要がある。
次に、回転ステージ３の回転軸と被検体７の上記特定軸
とを一致させるように、直進ステージ５ａ、５ｂを移動
する。この調整は次のようにして行う。
とを一致させるように、直進ステージ５ａ、５ｂを移動
する。この調整は次のようにして行う。
第１図の■−■矢視図である第２図に示すように、回転
ステージの回転軸をＰｏ、被検体７の特定断面の曲率中
心をＯとした場合、０を原点としたときのＰ。の座標（
ΔＺ、ΔＸ）は、（ｒｏｃｍθ。、 ｒ０ｉｍθ。）で
表される。なお、ｒｏはＯとＰｏとの距離、θ。はＯＰ
とＺ軸とのなす角である。
ステージの回転軸をＰｏ、被検体７の特定断面の曲率中
心をＯとした場合、０を原点としたときのＰ。の座標（
ΔＺ、ΔＸ）は、（ｒｏｃｍθ。、 ｒ０ｉｍθ。）で
表される。なお、ｒｏはＯとＰｏとの距離、θ。はＯＰ
とＺ軸とのなす角である。
ここで、回転ステージ３をＰｏを中心に回転したときに
光触針計１０により測定される被検体７表面の各測定点
Ｐ（のは、回転軸Ｐ０との関係より近似的に、 Ｐ（θ）＝ΔＺ＋Ｒ−ΔＺ−ｃｍθ−ΔＸ−０４１Ｎθ
１．、■で表される。ここでＲはθ＝ＯのときＰ（θ）
を示す。また、 Ｐ（−〇）＝ΔＺ＋Ｒ−ΔＺ−（ト）θ＋△Ｘ・ρ−θ
■となる。しｔ二がって、 となる。すなわち、回転ステージ３のロータリーエンコ
ーダ４の出力が−θ、０．θの場合におけろ被検体７の
表面の各測定点Ｐ（−の。
光触針計１０により測定される被検体７表面の各測定点
Ｐ（のは、回転軸Ｐ０との関係より近似的に、 Ｐ（θ）＝ΔＺ＋Ｒ−ΔＺ−ｃｍθ−ΔＸ−０４１Ｎθ
１．、■で表される。ここでＲはθ＝ＯのときＰ（θ）
を示す。また、 Ｐ（−〇）＝ΔＺ＋Ｒ−ΔＺ−（ト）θ＋△Ｘ・ρ−θ
■となる。しｔ二がって、 となる。すなわち、回転ステージ３のロータリーエンコ
ーダ４の出力が−θ、０．θの場合におけろ被検体７の
表面の各測定点Ｐ（−の。
ｐ（ｏ）、ｐ（θ）を、それぞれ先触針計１０及びリニ
アエンコーダ９の出力の和として求めることにより、Δ
Ｘ、ΔＺを求めることができろ。
アエンコーダ９の出力の和として求めることにより、Δ
Ｘ、ΔＺを求めることができろ。
このΔＸ、ΔＺに応じて直進ステージ５ａ。
５ｂを移動することにより被検体７の特定断面の曲率中
心Ｏを回転軸Ｐ０に一致させることができ、このときの
測定点Ｐ（０）とＰｏとの距離が当該特定断面の曲率半
径となる。
心Ｏを回転軸Ｐ０に一致させることができ、このときの
測定点Ｐ（０）とＰｏとの距離が当該特定断面の曲率半
径となる。
但し、上記■、■式は近似式であるため、上述した操作
を１回行っても、曲率中心０と回転軸Ｐとは完全には一
致しないので、Ｐ（−の。
を１回行っても、曲率中心０と回転軸Ｐとは完全には一
致しないので、Ｐ（−の。
ｐ（ｏ）、ｐ（θ）の測定並びにこれによろΔＸ、ΔＺ
の値に応じたステージ５ａ、５ｂの移動を複数回繰り返
す必要がある。
の値に応じたステージ５ａ、５ｂの移動を複数回繰り返
す必要がある。
以上の操作で特定断面の曲率半径は測定できるが、被検
体７が球又はその一部を切りとっｔこレンズなどの場合
には、特定断面がその球の中心を通らないと球の曲率半
径は測定できない。このような場合には、ステージ２を
上下方向（回転軸方向）に移動しながら各移動位置にお
ける特定断面の曲率半径を測定し、その最大値を求めれ
ばよい。
体７が球又はその一部を切りとっｔこレンズなどの場合
には、特定断面がその球の中心を通らないと球の曲率半
径は測定できない。このような場合には、ステージ２を
上下方向（回転軸方向）に移動しながら各移動位置にお
ける特定断面の曲率半径を測定し、その最大値を求めれ
ばよい。
以上述べた方法によれば、従来のニュートンゲージのよ
うな基準ゲージを用いろことなく、任意の曲率半径を有
する被検体の曲率半径を精度よく測定することが可能で
ある。
うな基準ゲージを用いろことなく、任意の曲率半径を有
する被検体の曲率半径を精度よく測定することが可能で
ある。
ここで、上記実施例の装置における測定精度について検
討すると、この精度を決定する主な要因には次の３点を
挙げろことができる。
討すると、この精度を決定する主な要因には次の３点を
挙げろことができる。
■ 回転ステージ３の回転時の軸ぷれ精度■ 先触針計
１０の感度 ■ リニアエンコーダ１１の精度 したがって、測定精度を向上させろためにはこれら３点
の精度を向上させればよいことになる。
１０の感度 ■ リニアエンコーダ１１の精度 したがって、測定精度を向上させろためにはこれら３点
の精度を向上させればよいことになる。
すなわち、■の精度を向上させるためには例えばエアベ
アリングを採用すればよく、市販のエアベアリングにお
いては回転軸精度０．０５μｍが保証されているものが
ある。また、■の点については、例えば臨界角プリズム
を用いた光触針計を用いればよ（、これによりｌｎｍ８
度の検出感度が得られろ。また、■の点については、例
えばレーザリニアエンコーダを用いればよく、これによ
り読取り分屏能Ｑ、Ｏ１μｍ、Ｘトローク１５０ｍｍに
おけろ絶対精度±０．３μｍ８達成することが可能であ
る。
アリングを採用すればよく、市販のエアベアリングにお
いては回転軸精度０．０５μｍが保証されているものが
ある。また、■の点については、例えば臨界角プリズム
を用いた光触針計を用いればよ（、これによりｌｎｍ８
度の検出感度が得られろ。また、■の点については、例
えばレーザリニアエンコーダを用いればよく、これによ
り読取り分屏能Ｑ、Ｏ１μｍ、Ｘトローク１５０ｍｍに
おけろ絶対精度±０．３μｍ８達成することが可能であ
る。
さら（こ、これらとは別に、測定値の絶対較正を行うた
めに、予め外径寸法が既知のマスターを準備してその外
径を水袋Ｊで上述したように測定し、測定値の値づけを
行うのが好ましい。この場合、マスターとしては、例え
ば市販の真円度測定器のチエツク用として利用されてい
る超精密基準球（マスターボール）を用ればよい。
めに、予め外径寸法が既知のマスターを準備してその外
径を水袋Ｊで上述したように測定し、測定値の値づけを
行うのが好ましい。この場合、マスターとしては、例え
ば市販の真円度測定器のチエツク用として利用されてい
る超精密基準球（マスターボール）を用ればよい。
なお、上記実施例では、微小変位を測定するものとして
光触針計を用いたが、被検体が導体や半導体のものであ
れば静電容量センサなどを用いろことができる。また、
接触式の触針計、例えばダイヤモンド触針を用いる触針
計を用いてもよいが、この場合には触針が被検体表面に
微細な傷をつけろ可能性があるので片息が必要である。
光触針計を用いたが、被検体が導体や半導体のものであ
れば静電容量センサなどを用いろことができる。また、
接触式の触針計、例えばダイヤモンド触針を用いる触針
計を用いてもよいが、この場合には触針が被検体表面に
微細な傷をつけろ可能性があるので片息が必要である。
〈発明の効果〉
以上述べたように本発明方法によると、任意の曲率半径
を有する被検体の曲率半径を高精度に測定することが可
能である。
を有する被検体の曲率半径を高精度に測定することが可
能である。
特に被検体がレンズの場合には実施例のような非接触の
光触針計を用いることによりレンズ表面に傷をつけろお
それもなく、又、リニアエンコーダを併用する場合、読
取り分解能０．０１μｍ１有効長２００ｍｍ程度のリニ
アエンコーダが入手可能であるので、実用上はとんどの
レンズについて測定が可能となる。
光触針計を用いることによりレンズ表面に傷をつけろお
それもなく、又、リニアエンコーダを併用する場合、読
取り分解能０．０１μｍ１有効長２００ｍｍ程度のリニ
アエンコーダが入手可能であるので、実用上はとんどの
レンズについて測定が可能となる。
第１図は本発明の一実施例に用いる曲率半径制定装置の
構成図、第２図はそのＩ−ＩＴ斜視図、第３図は従来技
術に係るニューＩ−ンゲージ法を示す説明図である。 図 面 中、 １は架台、 ２は第１のステー ジ、 ３（よ回転ステージ、 ４はロータリーエンコーダ、 ５ａ、５ｂは直進ステージ、 ｆｉａ、６ｈはリニアエンコーダ、 ７は被検体、 ８は第２のステージ、 ９（よ直進ステージ・ １０は光触針計、 １ １はリニアエンコーダである。 特 許 出 願 人 住友電気工業株式会社 代 理 人
構成図、第２図はそのＩ−ＩＴ斜視図、第３図は従来技
術に係るニューＩ−ンゲージ法を示す説明図である。 図 面 中、 １は架台、 ２は第１のステー ジ、 ３（よ回転ステージ、 ４はロータリーエンコーダ、 ５ａ、５ｂは直進ステージ、 ｆｉａ、６ｈはリニアエンコーダ、 ７は被検体、 ８は第２のステージ、 ９（よ直進ステージ・ １０は光触針計、 １ １はリニアエンコーダである。 特 許 出 願 人 住友電気工業株式会社 代 理 人
Claims (1)
- 特定軸と直交する特定断面の外縁形状が該特定軸と該特
定断面との交点を中心とする円又は円の一部となる被検
体を回転ステージ上にその回転軸と当該特定軸とが平行
となるように搭載し、この回転ステージの回転軸と直交
する一方向における上記被検体の外縁形状の位置を当該
回転ステージを回転しながら測定し、このときの各回転
位置における測定点が一定になるよう当該被検体を回転
ステージ上で平行移動させて当該回転ステージの回転軸
と上記特定軸とを一致させることにより上記特定断面の
曲率半径を測定することを特徴とする曲率半径測定方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14671189A JPH0313811A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 曲率半径測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14671189A JPH0313811A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 曲率半径測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0313811A true JPH0313811A (ja) | 1991-01-22 |
Family
ID=15413812
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14671189A Pending JPH0313811A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 曲率半径測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0313811A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1892522A2 (de) * | 2006-08-25 | 2008-02-27 | Carl Zeiss MicroImaging GmbH | Drehvorrichtung für einen optischen Tomographen und optischer Tomograph mit einer Drehvorrichtung |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5135358A (en) * | 1974-09-20 | 1976-03-25 | Nippon Seiko Kk | Hisokuteibutsunoen oyobi enkotonokeijoosokuteisuruhoho oyobi sochi |
| JPS589012A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-19 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 円弧形状測定装置 |
-
1989
- 1989-06-12 JP JP14671189A patent/JPH0313811A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5135358A (en) * | 1974-09-20 | 1976-03-25 | Nippon Seiko Kk | Hisokuteibutsunoen oyobi enkotonokeijoosokuteisuruhoho oyobi sochi |
| JPS589012A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-19 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 円弧形状測定装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1892522A2 (de) * | 2006-08-25 | 2008-02-27 | Carl Zeiss MicroImaging GmbH | Drehvorrichtung für einen optischen Tomographen und optischer Tomograph mit einer Drehvorrichtung |
| EP1892522A3 (de) * | 2006-08-25 | 2008-04-02 | Carl Zeiss MicroImaging GmbH | Drehvorrichtung für einen optischen Tomographen und optischer Tomograph mit einer Drehvorrichtung |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Takatsuji et al. | The first measurement of a three-dimensional coordinate by use of a laser tracking interferometer system based on trilateration | |
| US7634128B2 (en) | Stereoscopic three-dimensional metrology system and method | |
| US5955661A (en) | Optical profilometer combined with stylus probe measurement device | |
| US20040174537A1 (en) | Method for measuring surface properties and co-ordinate measuring device | |
| US20010008047A1 (en) | Traverse linearity compensation method and rotational accuracy compensation method of measuring device | |
| KR20020092838A (ko) | 형상 측정 장치 및 방법, 및 피측정물의 제조 방법 | |
| Brand et al. | Development of a special CMM for dimensional metrology on microsystem components | |
| Huang et al. | Development of a novel laser-based measuring system for the thread profile of ballscrew | |
| US6351313B1 (en) | Device for detecting the position of two bodies | |
| JP6388722B2 (ja) | 干渉非接触光プローブおよび測定 | |
| JPH0313811A (ja) | 曲率半径測定方法 | |
| Lewis | Fully traceable miniature CMM with submicrometer uncertainty | |
| JP2005172810A (ja) | ３次元形状測定方法及び３次元形状測定装置 | |
| JP2001165629A (ja) | 形状測定装置及び形状測定方法 | |
| Elmelegy | Methods of Union Jack and XY-Grid in Surface Plate Measurements | |
| JP4922905B2 (ja) | 回転中心線の位置変動測定方法および装置 | |
| JPH04268433A (ja) | 非球面レンズ偏心測定装置 | |
| JP2579726B2 (ja) | 接触式プローブ | |
| JP3940819B2 (ja) | 半導体ウェーハの表面形状測定装置および表面形状測定方法 | |
| JPH08233686A (ja) | 非球面の偏心測定方法および測定装置 | |
| Yang et al. | Measurement technology for precision machines | |
| Lee et al. | An Investigation of Cosine Error for Scanning Probe Measurements of Freeform Surfaces | |
| Williams | A scanning gauge for measuring the form of spherical and aspherical surfaces | |
| Li et al. | Research and application of large size measurement calibration technology | |
| JP2012002607A (ja) | 円錐面測定装置 |