JPH03128A - 流動床装置 - Google Patents
流動床装置Info
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- JPH03128A JPH03128A JP1302263A JP30226389A JPH03128A JP H03128 A JPH03128 A JP H03128A JP 1302263 A JP1302263 A JP 1302263A JP 30226389 A JP30226389 A JP 30226389A JP H03128 A JPH03128 A JP H03128A
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/44—Fluidisation grids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2/00—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic
- B01J2/16—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic by suspending the powder material in a gas, e.g. in fluidised beds or as a falling curtain
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/38—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it
- B01J8/384—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it being subject to a circulatory movement only
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Glanulating (AREA)
- Disintegrating Or Milling (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、粒状物質の製造および/または他の処理を行
うため、少なくともほぼ垂直方向の容器軸線に関して少
なくともほぼ回転対称の容器を具え、この容器の内部を 一底部から頂部にガス、特に乾燥空気が移動する人口室
と、 一前記入口室の上方に配面し、材料を流動させる形状の
渦巻室と、 一前記入口室と前記渦巻室との管の上向きガス流にひね
りを与えるリング状に配列した案内プレートと、 一粒状化する材料を渦巻室に導入するノズルとにより構
成した流動床装置に関する。
うため、少なくともほぼ垂直方向の容器軸線に関して少
なくともほぼ回転対称の容器を具え、この容器の内部を 一底部から頂部にガス、特に乾燥空気が移動する人口室
と、 一前記入口室の上方に配面し、材料を流動させる形状の
渦巻室と、 一前記入口室と前記渦巻室との管の上向きガス流にひね
りを与えるリング状に配列した案内プレートと、 一粒状化する材料を渦巻室に導入するノズルとにより構
成した流動床装置に関する。
既知のこの種の流動床装置(ヨーロッパ特許第1038
94号)において、人口室を皿状体により形成し、この
皿状体により容器に垂直方向に配置した浸漬管の下方部
分を包囲している。この皿状体の上方の円筒形内壁部分
に案内プレートを取付け、これら案内プレートを浸漬管
まで半径方向内方に突出させている。これら案内プレー
トの上方において、浸漬管にノズルを上方に指向および
傾斜させて取付け、容器に収容した材料を湿潤させたり
、ラッカー塗布したり、および/またはコーティングし
たりする液体を供給することができる。
94号)において、人口室を皿状体により形成し、この
皿状体により容器に垂直方向に配置した浸漬管の下方部
分を包囲している。この皿状体の上方の円筒形内壁部分
に案内プレートを取付け、これら案内プレートを浸漬管
まで半径方向内方に突出させている。これら案内プレー
トの上方において、浸漬管にノズルを上方に指向および
傾斜させて取付け、容器に収容した材料を湿潤させたり
、ラッカー塗布したり、および/またはコーティングし
たりする液体を供給することができる。
本発明の目的は、上述の装置を更に発展させ、所定寸法
の装置および単位時間当たりの所定ガス流出量で、単位
時間当たりの粒状物質および/または液状物質の量を多
量に容器に噴射し、かつ容器内に制御不能に材料が堆積
したり、容認できないほど物質が付着することがないよ
うにする流動床装置を得るにある。
の装置および単位時間当たりの所定ガス流出量で、単位
時間当たりの粒状物質および/または液状物質の量を多
量に容器に噴射し、かつ容器内に制御不能に材料が堆積
したり、容認できないほど物質が付着することがないよ
うにする流動床装置を得るにある。
この目的を達成するため、本発明装置は、−前記容器軸
線の方向に見て案内プレートを互いにオーバーラツプさ
せ、 一前記案内プレート間において槍状部材を前記容器軸線
に対して少なくともほぼ半径方間に配置し、各槍状部材
に少なくとも1個のノズルをガスの流れの方向に指向さ
せて配置した ことを特徴とする。
線の方向に見て案内プレートを互いにオーバーラツプさ
せ、 一前記案内プレート間において槍状部材を前記容器軸線
に対して少なくともほぼ半径方間に配置し、各槍状部材
に少なくとも1個のノズルをガスの流れの方向に指向さ
せて配置した ことを特徴とする。
案内プレートまたはバッフルプレートをオーバーラツプ
させたことにより、これらプレート管を通過するガスは
、個別のほぼ層流状のサブ流に分割され、これらサブ流
の方向は案内プレートの配列により固定され、はぼ正確
に最適ノズル方向を規定する。これらガスのサブ流の少
なくとも若干において、本発明による槍状部材を配置し
、これらサブ流にベンチュリ効果を与える。このことは
、槍状部材の風下側において、部分的な真空状態が生じ
、この真空状態が、粒状物質および/または液状物質を
渦巻室に均等に分散させるノズルの補助を行う。既に渦
巻室に含まれているまたは噴射された物質から形成され
ている流動材料は、サブ流の強力ツイストにより完全に
しかも穏やかに撹拌混合される。この結果仕上げ処理材
料は特に均質になる。本発明流動床装置の詳細形態に基
づいて処理はバッチ処理または連続処理とすることがで
きる。
させたことにより、これらプレート管を通過するガスは
、個別のほぼ層流状のサブ流に分割され、これらサブ流
の方向は案内プレートの配列により固定され、はぼ正確
に最適ノズル方向を規定する。これらガスのサブ流の少
なくとも若干において、本発明による槍状部材を配置し
、これらサブ流にベンチュリ効果を与える。このことは
、槍状部材の風下側において、部分的な真空状態が生じ
、この真空状態が、粒状物質および/または液状物質を
渦巻室に均等に分散させるノズルの補助を行う。既に渦
巻室に含まれているまたは噴射された物質から形成され
ている流動材料は、サブ流の強力ツイストにより完全に
しかも穏やかに撹拌混合される。この結果仕上げ処理材
料は特に均質になる。本発明流動床装置の詳細形態に基
づいて処理はバッチ処理または連続処理とすることがで
きる。
次に、図面につき本発明の好適な実施例を説明する。
図示のすべての実施例において、本発明装置の目的は、
粒状材料10を崩れ易い物質および/または液状物質の
できればスタータ核から製造し、更に、このような材料
を例えば、コーティングのために処理することにある。
粒状材料10を崩れ易い物質および/または液状物質の
できればスタータ核から製造し、更に、このような材料
を例えば、コーティングのために処理することにある。
この目的を達成するため容器12を設け、この容器を、
少なくともほぼ垂直なコンテナ軸線Aに対して少なくと
もほぼ回転対称になるよう構成する。
少なくともほぼ垂直なコンテナ軸線Aに対して少なくと
もほぼ回転対称になるよう構成する。
第1および6図の実施例においては、容器12は円筒形
の本体14を有し、第3〜5図の実施例においては、容
器12はほぼ球形の本体を有し、上方球形セグメント1
6と下方球形セグメント18とにより構成する。容器1
2は環状の底部20を有する。第1〜5図の実施例にお
いては、底部は中心の垂直管22に開口し、この垂直管
22を垂直方向に調整自在のストッパ24により完全に
または部分的に封鎖できるようにし、また逆に開放して
容器12を空にすることもできるようにする。第1.2
.6および7図の実施例においては、容器12の本体1
4および底部20は断熱材26を介在させた二重壁とす
る。
の本体14を有し、第3〜5図の実施例においては、容
器12はほぼ球形の本体を有し、上方球形セグメント1
6と下方球形セグメント18とにより構成する。容器1
2は環状の底部20を有する。第1〜5図の実施例にお
いては、底部は中心の垂直管22に開口し、この垂直管
22を垂直方向に調整自在のストッパ24により完全に
または部分的に封鎖できるようにし、また逆に開放して
容器12を空にすることもできるようにする。第1.2
.6および7図の実施例においては、容器12の本体1
4および底部20は断熱材26を介在させた二重壁とす
る。
図示のすべての実施例において、容器の底部20は入口
28を有し、この入口から比較的乾燥した加熱処理空気
を入口室30に接線方向に導入する。代案として第1お
よび2図の実施例において、第3〜5図の実施例と同様
に、ストッパ24を僅かに上昇させたとき必要な処理空
気を中心の管22から入口室30に導入することもでき
る。
28を有し、この入口から比較的乾燥した加熱処理空気
を入口室30に接線方向に導入する。代案として第1お
よび2図の実施例において、第3〜5図の実施例と同様
に、ストッパ24を僅かに上昇させたとき必要な処理空
気を中心の管22から入口室30に導入することもでき
る。
入口室30は、プロペラ状のしかし、回転しないリング
状に配列した案内プレート34により容器12の上方の
渦巻室32から分離する。図示の各実施例において、1
2個の案内プレート34を設け、第5図によれば、各案
内プレートを容器軸線Aに対して半径方向に延びる回動
軸線Bの周りに回動調整できるようにする。案内プレー
トの作用位置において、第1および3図の案内プレート
34は容器軸線Aに対して約75°の角度の傾斜を有す
る。隣接の案内プレートは、第2および4図に示すよう
に互いにオーバーラツプする。案内プレート34が容器
軸vAAに対してより少ない角度例えば、65°傾斜さ
せても隣接の案内プレート間にオーバーラツプを生ずる
。
状に配列した案内プレート34により容器12の上方の
渦巻室32から分離する。図示の各実施例において、1
2個の案内プレート34を設け、第5図によれば、各案
内プレートを容器軸線Aに対して半径方向に延びる回動
軸線Bの周りに回動調整できるようにする。案内プレー
トの作用位置において、第1および3図の案内プレート
34は容器軸線Aに対して約75°の角度の傾斜を有す
る。隣接の案内プレートは、第2および4図に示すよう
に互いにオーバーラツプする。案内プレート34が容器
軸vAAに対してより少ない角度例えば、65°傾斜さ
せても隣接の案内プレート間にオーバーラツプを生ずる
。
すべての案内プレート34は回動輪線Bの周りに回動し
て、第5図に示す休止位置をとることができ、この休止
位置では容器軸線Aに対して約90゜傾斜し、互いにほ
ぼ封鎖接触する。この休止位置において、例えば、スク
ータ各を渦巻室32に導入し、材料10が人口室30に
落下することがほぼなく材料10を形成することができ
る。
て、第5図に示す休止位置をとることができ、この休止
位置では容器軸線Aに対して約90゜傾斜し、互いにほ
ぼ封鎖接触する。この休止位置において、例えば、スク
ータ各を渦巻室32に導入し、材料10が人口室30に
落下することがほぼなく材料10を形成することができ
る。
作用位置において、案内プレート34相互間において、
異なる幅の通路36.38を生ずる。第2または4図の
平面図のうちの一方において、はぼ時計の腕の12時の
位置からスタートし、1時の位置を回ったあたりまで延
在する案内プレート34を第1案内プレートと規定する
と、第1案内プレートと第2プレートとの間および第2
プレートと第3プレートとの間に狭い通路36を形成し
、第3プレートと第4プレートとの間に広い通路38を
形成する。
異なる幅の通路36.38を生ずる。第2または4図の
平面図のうちの一方において、はぼ時計の腕の12時の
位置からスタートし、1時の位置を回ったあたりまで延
在する案内プレート34を第1案内プレートと規定する
と、第1案内プレートと第2プレートとの間および第2
プレートと第3プレートとの間に狭い通路36を形成し
、第3プレートと第4プレートとの間に広い通路38を
形成する。
この順次の配列をすべての4個の象限で繰り返し、図示
の12個の案内プレート34で8個の狭い通路36と4
個の広い通路38を設ける。
の12個の案内プレート34で8個の狭い通路36と4
個の広い通路38を設ける。
各広い通路38において、槍状部材40を配置し、この
部材40は容器軸線Aに対して半径方向に延びる縦方向
軸線Cを有し、この縦方向軸線の周りに回転調整できる
ようにする。図示の実施例において、4個の槍状部材4
0の各々は、はぼ船体の横断面のような流線形をなし、
この槍状部材が位置する通路38を相当狭ばめ、この通
路38を狭ばめる度合は槍状部材の下側よりも上側の方
を大きくする。
部材40は容器軸線Aに対して半径方向に延びる縦方向
軸線Cを有し、この縦方向軸線の周りに回転調整できる
ようにする。図示の実施例において、4個の槍状部材4
0の各々は、はぼ船体の横断面のような流線形をなし、
この槍状部材が位置する通路38を相当狭ばめ、この通
路38を狭ばめる度合は槍状部材の下側よりも上側の方
を大きくする。
従って、各広い通路38を通過する処理空気は、主に下
側を通過し、槍状部材の上側はほんの少ししか通過しな
い。
側を通過し、槍状部材の上側はほんの少ししか通過しな
い。
第1乃至5図の実施例においては、槍状部材40を本体
14または底部20に設けた孔から外側から内側に半径
方向に挿入する。各槍状部材40には、複数個の、図示
の実施例では2個のノズル42を設け、これらノズルを
、隣接案内プレート34間を通過する処理空気の流れの
方向にほぼ沿うよう上向きにする。案内プレート34の
回動位置に基づいて、各杭状部材40は案内プレート3
4により動作がカバーされ、上方からは部分的にしか見
えない。これに対し、ノズル42は案内プレートにカバ
ーされず自由であるため、処理空気の流れが所要のもの
よりも弱い場合でもノズルの上方の案内プレート34に
吹きつけることはない。
14または底部20に設けた孔から外側から内側に半径
方向に挿入する。各槍状部材40には、複数個の、図示
の実施例では2個のノズル42を設け、これらノズルを
、隣接案内プレート34間を通過する処理空気の流れの
方向にほぼ沿うよう上向きにする。案内プレート34の
回動位置に基づいて、各杭状部材40は案内プレート3
4により動作がカバーされ、上方からは部分的にしか見
えない。これに対し、ノズル42は案内プレートにカバ
ーされず自由であるため、処理空気の流れが所要のもの
よりも弱い場合でもノズルの上方の案内プレート34に
吹きつけることはない。
図示の実施例において、ノズル42は2材料ノズルとし
、噴射空気で霧状にした液体を噴霧する。
、噴射空気で霧状にした液体を噴霧する。
従って、各杭状部材40は、縦方向軸線Cに平行であり
、可撓管46を介してまた第1乃至5図の実施例におい
ては管状通路48を介して液体源に接続した液体通路4
4を有する。管状通路48は底部リング50に形成し、
この底部リングは底部20に下方から押し付けて封鎖す
る。更に、各杭状部材40には、やはり縦方向軸線Cに
平行な噴霧空気通路52を設け、この通路52を可撓管
54を介してまた第1乃至5図の実施例においては、底
部リング50の管状の第2通路56を介して圧縮空気源
に接続する。
、可撓管46を介してまた第1乃至5図の実施例におい
ては管状通路48を介して液体源に接続した液体通路4
4を有する。管状通路48は底部リング50に形成し、
この底部リングは底部20に下方から押し付けて封鎖す
る。更に、各杭状部材40には、やはり縦方向軸線Cに
平行な噴霧空気通路52を設け、この通路52を可撓管
54を介してまた第1乃至5図の実施例においては、底
部リング50の管状の第2通路56を介して圧縮空気源
に接続する。
第1乃至5図の実施例においては、各杭状部材40は円
形フランジ58を有し、このフランジを容器12の外部
に配置したクランプ装置60により杭状部材40の選択
した回転角度位置で容器にクランプする。フランジ5日
には、スケールを設けて成る回転角度をセットしやすく
し、このことは杭状部材40にとって有利なことである
。クランプUt6oは回動自在にし、杭状部材40を容
器12から半径方向外方に引き出すことができるように
する。杭状部材40を引き出すと、案内プレートを第5
図に示す休止位置に回動するとき自由空間が得られる。
形フランジ58を有し、このフランジを容器12の外部
に配置したクランプ装置60により杭状部材40の選択
した回転角度位置で容器にクランプする。フランジ5日
には、スケールを設けて成る回転角度をセットしやすく
し、このことは杭状部材40にとって有利なことである
。クランプUt6oは回動自在にし、杭状部材40を容
器12から半径方向外方に引き出すことができるように
する。杭状部材40を引き出すと、案内プレートを第5
図に示す休止位置に回動するとき自由空間が得られる。
第1.2.6および7図の実施例において、渦巻室32
内には、上方に頂点が指向する円錐形の移動体62を容
器12に同軸状に配置する。
内には、上方に頂点が指向する円錐形の移動体62を容
器12に同軸状に配置する。
第3乃至5図の実施例においては、やはり移動体を設け
るが、容器の上方から同軸状に容器12に挿入する浸漬
管64とし、この浸漬管64をストッパ24の近傍まで
突出させる。この実施例の処理空気は浸漬管64から導
入し、ストッパ24の湾曲した上面により入口室30に
向かって上方に転向する。
るが、容器の上方から同軸状に容器12に挿入する浸漬
管64とし、この浸漬管64をストッパ24の近傍まで
突出させる。この実施例の処理空気は浸漬管64から導
入し、ストッパ24の湾曲した上面により入口室30に
向かって上方に転向する。
第6および7図の実施例において、案内プレート34お
よび杭状部材40は中心容器インサート66に取付ける
。この容器インサート66は垂直方向下方に延在し、容
器の底部20の案内ブシュ68に案内して上下動できる
管とする。この調整移動のため、軸線に平行なピストン
−シリンダユニット70を設け、このユニット70を容
器底部20に懸垂し、またユニット70に支持リング7
2を担持し、この支持リング72に容器インサート66
を支持する。容器インサート66は更に、接線方向のピ
ストン−シリンダユニット74によって支持リング72
に連結して回転自在する。2個のピストン−シリンダユ
ニット70.74を同期作動させることにより、容器イ
ンサート66は螺旋状に移動し、第6図の実線で示す作
動位置または点線で示す休止位置を選択的にとることが
できる。休止位置では、本体14は、案内プレート34
およびノズル42になんら損傷を与えずに取り外すこと
ができる。作動位置では、本体14は容器12のベース
20に対して膨張可能シール78によりシールすること
ができる。
よび杭状部材40は中心容器インサート66に取付ける
。この容器インサート66は垂直方向下方に延在し、容
器の底部20の案内ブシュ68に案内して上下動できる
管とする。この調整移動のため、軸線に平行なピストン
−シリンダユニット70を設け、このユニット70を容
器底部20に懸垂し、またユニット70に支持リング7
2を担持し、この支持リング72に容器インサート66
を支持する。容器インサート66は更に、接線方向のピ
ストン−シリンダユニット74によって支持リング72
に連結して回転自在する。2個のピストン−シリンダユ
ニット70.74を同期作動させることにより、容器イ
ンサート66は螺旋状に移動し、第6図の実線で示す作
動位置または点線で示す休止位置を選択的にとることが
できる。休止位置では、本体14は、案内プレート34
およびノズル42になんら損傷を与えずに取り外すこと
ができる。作動位置では、本体14は容器12のベース
20に対して膨張可能シール78によりシールすること
ができる。
図示しないが、第3および6図の特徴を組み合わせた変
更実施例も可能であり、この場合、中心容器インサート
66に浸漬管64を設け、この浸漬管64を介して加熱
空気または他のガスを上方から入口室30に導入するこ
とができる。
更実施例も可能であり、この場合、中心容器インサート
66に浸漬管64を設け、この浸漬管64を介して加熱
空気または他のガスを上方から入口室30に導入するこ
とができる。
第1図は、本発明の装置の第1実施例の作動状態の縦断
面図、 第2図は、第1図のn−II綿線上横断面図、第3図は
、本発明装置の第2の実施例の作動状態の縦断面図、 第4図は、第3図のIV−IV綿線上横断面図、第5図
は、第3図の装置の休止状態を示す部分縦断面図、 第6図は、本発明装置の第3の実施例の縦断面図、 第7図は、第6図の■−■線上の横断面図である。 10・・・粒状材料 12・・・容器14・・
・本体 16・・・上方球形セグメント1
8・・・下方球形セグメント 20・・・底部 24・・・ストッパ 28・・・入口 32・・・渦巻室 36、38・・・通路 42・・・ノズル 46、54・・・可撓管 50・・・底部リング 56・・・第2通路 60・・・クランプ装置 64・・・浸漬管 68・・・案内ブシュ 70、74・・・ピストン 72・・・支持リング 22・・・垂直管 26・・・断熱材 30・・・入口室 34・・・案内プレート 40・・・杭状部材 44・・・流体通路 48・・・管状通路 52・・・噴霧空気通路 58・・・円形フランジ 62・・・移動体 66・・・容器インサート シリンダユニット 7日・・・膨張可能シール FIG、5 FIG、 7 A 手 続 補 正 書(方式) %式% 1、事件の表示 平成1年特許願第3(12263号 2発明の名称 流動床装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 氏名 ヘルベルト ヒュットリン 4、代理人 明 細 書 10発明の名称 流動床装置 2、特許請求の範囲 1、 粒状物質(10)の製造および/または他の処理
を行うため、少なくともほぼ垂直方向の容器軸線(A)
に関して少なくともほぼ回転対称の容器(12を具え、
この容器α力の内部を一底部から頂部にガス、特に乾燥
空気が移動する入口室(30)と、 一前記入口室(30)の上方に配置し、材料αO)を流
動させる形状の渦巻室(32)と、 −前記入口室(30)と渦巻室(32)との管の上向き
ガス流にひねりを与えるリング状に配列した案内プレー
ト(34)と、 一粒状化を行う材料を渦巻室(32)に導入するノズル
(42)と により構成した流動床装置において、 −前記容器軸線(A)の方向に見て案内プレート (3
4)を互いにオーバーラツプさせ、−前記案内プレート
(34)間において杭状部材(40)を前記容器軸線(
A)に対して少なくともほぼ半径方向に配置し、各杭状
部材(40)に少なくとも1個のノズル(42)をガス
の流れの方向に指向させて配置した ことを特徴とする流動床装置。 2、 容器軸線(A)の方向に上方から見た各杭状部材
(40)は、この杭状部材の上方に位置する案内プレー
ト(34)により部分的にカバーされる構成とした請求
項1記載の流動床装置。 3、 各案内プレート (34)を、半径方向回動軸線
(B)の周りに作動位置から渦巻室(32)を入口室(
30)から分離する休止位置に回動自在にした請求項1
または2記載の流動床装置。 4、 案内プレート (34)を、作動位置では容器軸
線(A)に対して65°から85°の範囲の角度だけ傾
斜させた請求項3記載の流動床装置。 5、 杭状部材(40)を、この杭状部材の縦方向軸線
(C)の周りに回転調整可能に構成した請求項1乃至4
のうちのいずれか一項に記載の流動床装置。 6、 前記杭状部材(40)を共通のポット状容器底部
(20)に取付けた請求項1乃至5のうちのいずれか一
項に記載の流動床装置。 7、 前記杭状部材(40)を、容器αりに同軸状に配
置しかつ入口室(30)にガスを導入する浸漬管(64
)の少なくとも近傍まで突出させた請求項6記載の流動
床装置。 8、 前記杭状部材(40)および案内プレート(34
)を中心容器インサート(66)に取付けた請求項1乃
至7のうちのいずれか一項に記載の流動床装置。 9、入口室(30)にガスを導入する浸漬管(64)を
前記中心容器インサート (66)に設けた請求項8記
載の流動床装置。 10、前記ノズル(42)を多物質ノズルとした請求項
1乃至9のうちのいずれか一項に記載の流動床装置。 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕
面図、 第2図は、第1図のn−II綿線上横断面図、第3図は
、本発明装置の第2の実施例の作動状態の縦断面図、 第4図は、第3図のIV−IV綿線上横断面図、第5図
は、第3図の装置の休止状態を示す部分縦断面図、 第6図は、本発明装置の第3の実施例の縦断面図、 第7図は、第6図の■−■線上の横断面図である。 10・・・粒状材料 12・・・容器14・・
・本体 16・・・上方球形セグメント1
8・・・下方球形セグメント 20・・・底部 24・・・ストッパ 28・・・入口 32・・・渦巻室 36、38・・・通路 42・・・ノズル 46、54・・・可撓管 50・・・底部リング 56・・・第2通路 60・・・クランプ装置 64・・・浸漬管 68・・・案内ブシュ 70、74・・・ピストン 72・・・支持リング 22・・・垂直管 26・・・断熱材 30・・・入口室 34・・・案内プレート 40・・・杭状部材 44・・・流体通路 48・・・管状通路 52・・・噴霧空気通路 58・・・円形フランジ 62・・・移動体 66・・・容器インサート シリンダユニット 7日・・・膨張可能シール FIG、5 FIG、 7 A 手 続 補 正 書(方式) %式% 1、事件の表示 平成1年特許願第3(12263号 2発明の名称 流動床装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 氏名 ヘルベルト ヒュットリン 4、代理人 明 細 書 10発明の名称 流動床装置 2、特許請求の範囲 1、 粒状物質(10)の製造および/または他の処理
を行うため、少なくともほぼ垂直方向の容器軸線(A)
に関して少なくともほぼ回転対称の容器(12を具え、
この容器α力の内部を一底部から頂部にガス、特に乾燥
空気が移動する入口室(30)と、 一前記入口室(30)の上方に配置し、材料αO)を流
動させる形状の渦巻室(32)と、 −前記入口室(30)と渦巻室(32)との管の上向き
ガス流にひねりを与えるリング状に配列した案内プレー
ト(34)と、 一粒状化を行う材料を渦巻室(32)に導入するノズル
(42)と により構成した流動床装置において、 −前記容器軸線(A)の方向に見て案内プレート (3
4)を互いにオーバーラツプさせ、−前記案内プレート
(34)間において杭状部材(40)を前記容器軸線(
A)に対して少なくともほぼ半径方向に配置し、各杭状
部材(40)に少なくとも1個のノズル(42)をガス
の流れの方向に指向させて配置した ことを特徴とする流動床装置。 2、 容器軸線(A)の方向に上方から見た各杭状部材
(40)は、この杭状部材の上方に位置する案内プレー
ト(34)により部分的にカバーされる構成とした請求
項1記載の流動床装置。 3、 各案内プレート (34)を、半径方向回動軸線
(B)の周りに作動位置から渦巻室(32)を入口室(
30)から分離する休止位置に回動自在にした請求項1
または2記載の流動床装置。 4、 案内プレート (34)を、作動位置では容器軸
線(A)に対して65°から85°の範囲の角度だけ傾
斜させた請求項3記載の流動床装置。 5、 杭状部材(40)を、この杭状部材の縦方向軸線
(C)の周りに回転調整可能に構成した請求項1乃至4
のうちのいずれか一項に記載の流動床装置。 6、 前記杭状部材(40)を共通のポット状容器底部
(20)に取付けた請求項1乃至5のうちのいずれか一
項に記載の流動床装置。 7、 前記杭状部材(40)を、容器αりに同軸状に配
置しかつ入口室(30)にガスを導入する浸漬管(64
)の少なくとも近傍まで突出させた請求項6記載の流動
床装置。 8、 前記杭状部材(40)および案内プレート(34
)を中心容器インサート(66)に取付けた請求項1乃
至7のうちのいずれか一項に記載の流動床装置。 9、入口室(30)にガスを導入する浸漬管(64)を
前記中心容器インサート (66)に設けた請求項8記
載の流動床装置。 10、前記ノズル(42)を多物質ノズルとした請求項
1乃至9のうちのいずれか一項に記載の流動床装置。 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、粒状物質(10)の製造および/または他の処理を
行うため、少なくともほぼ垂直方向の容器軸線(A)に
関して少なくともほぼ回転対称の容器(12)を具え、
この容器(12)の内部を−底部から頂部にガス、特に
乾燥空気が移動する入口室(30)と、 −前記入口室(30)の上方に配置し、材料(10)を
流動させる形状の渦巻室(32)と、 −前記入口室(30)と渦巻室(32)との管の上向き
ガス流にひねりを与えるリング状に配列した案内プレー
ト(34)と、 −粒状化を行う材料を渦巻室(32)に導入するノズル
(42)と により構成した流動床装置において、 −前記容器軸線(A)の方向に見て案内プレート(34
)を互いにオーバーラップさせ、−前記案内プレート(
34)間において槍状部材(40)を前記容器軸線(A
)に対して少なくともほぼ半径方向に配置し、各槍状部
材(40)に少なくとも1個のノズル(42)をガスの
流れの方向に指向させて配置した ことを特徴とする流動床装置。 2、容器軸線(A)の方向に上方から見た各槍状部材(
40)は、この槍状部材の上方に位置する案内プレート
(34)により部分的にカバーされる構成とした請求項
1記載の流動床装置。 3、各案内プレート(34)を、半径方向回動軸線(B
)の周りに作動位置から渦巻室(32)を入口室(30
)から分離する休止位置に回動自在にした請求項1また
は2記載の流動床装置。 4、案内プレート(34)を、作動位置では容器軸線(
A)に対して65゜から85゜の範囲の角度だけ傾斜さ
せた請求項3記載の流動床装置。 5、槍状部材(40)を、この槍状部材の縦方向軸線(
C)の周りに回転調整可能に構成した請求項1乃至4の
うちのいずれか一項に記載の流動床装置。 6、前記槍状部材(40)を共通のポット状容器底部(
20)に取付けた請求項1乃至5のうちのいずれか一項
に記載の流動床装置。 7、前記槍状部材(40)を、容器(12)に同軸状に
配置しかつ入口室(30)にガスを導入する浸漬管(6
4)の少なくとも近傍まで突出させた請求項6記載の流
動床装置。8、前記槍状部材(40)および案内プレー
ト(34)を中心容器インサート(66)に取付けた請
求項1乃至7のうちのいずれか一項に記載の流動床装置
。 9、入口室(30)にガスを導入する浸漬管(64)を
前記中心容器インサート(66)に設けた請求項8記載
の流動床装置。 10、前記ノズル(42)を多物質ノズルとした請求項
1乃至9のうちのいずれか一項に記載の流動床装置。
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