JPH03122532U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH03122532U JPH03122532U JP3091490U JP3091490U JPH03122532U JP H03122532 U JPH03122532 U JP H03122532U JP 3091490 U JP3091490 U JP 3091490U JP 3091490 U JP3091490 U JP 3091490U JP H03122532 U JPH03122532 U JP H03122532U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air supply
- reaction tube
- exhaust
- boat
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Furnace Details (AREA)
Description
第１図は、実施例の概略説明図、第２図は、実
施例の部分横断面図、第３図は、給気管と排気管
の拡大説明図である。 １…縦型熱処理装置、２…反応管、３…加熱器
、４…ボート、５…回転機構、６…給気管、７…
排気管、８…ガス供給部、９…排気ダクト、１０
…給気孔、１１…排気孔、２０…ウエハ（被処理
体）、Ｘ…回転軸。
施例の部分横断面図、第３図は、給気管と排気管
の拡大説明図である。 １…縦型熱処理装置、２…反応管、３…加熱器
、４…ボート、５…回転機構、６…給気管、７…
排気管、８…ガス供給部、９…排気ダクト、１０
…給気孔、１１…排気孔、２０…ウエハ（被処理
体）、Ｘ…回転軸。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 縦置きにした反応管と、 前記反応管の周囲に設けた加熱器と、 被処理体を収納するものであつて、前記反応管
に対し遊挿自在に設けたボートと、 前記ボートに接続した回転機構と、 前記反応管の内部に設けた給気管と、 前記給気管に形成した複数の給気孔と、 前記給気管に接続したガス供給部と、 前記ボートの収納部を介して前記給気管に対向
する位置でかつ前記反応管の内部に設けた排気管
と、 前記排気管に形成した複数の排気孔と、 前記排気管に接続した排気部とにより成ること
を特徴とする縦型熱処理装置。 (2) 前記給気孔を前記ボートの回転軸に対して
直角方向に形成するとともに、前記排気孔を前記
給気孔に対向させてかつ前記給気孔と同一高さに
形成したことを特徴とする請求項１記載の縦型熱
処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3091490U JPH03122532U (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3091490U JPH03122532U (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03122532U true JPH03122532U (ja) | 1991-12-13 |
Family
ID=31533636
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3091490U Pending JPH03122532U (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03122532U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1012559A (ja) * | 1996-06-07 | 1998-01-16 | Samsung Electron Co Ltd | 半導体製造用化学気相蒸着装置 |
| US6953739B2 (en) | 1997-04-22 | 2005-10-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method for manufacturing a semiconductor device having hemispherical grains at very low atmospheric pressure using first, second, and third vacuum pumps |
-
1990
- 1990-03-26 JP JP3091490U patent/JPH03122532U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1012559A (ja) * | 1996-06-07 | 1998-01-16 | Samsung Electron Co Ltd | 半導体製造用化学気相蒸着装置 |
| US6953739B2 (en) | 1997-04-22 | 2005-10-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method for manufacturing a semiconductor device having hemispherical grains at very low atmospheric pressure using first, second, and third vacuum pumps |