JPH03121756A - Tool cleaning device for inner lead bonder - Google Patents

Tool cleaning device for inner lead bonder

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JPH03121756A
JPH03121756A JP25814289A JP25814289A JPH03121756A JP H03121756 A JPH03121756 A JP H03121756A JP 25814289 A JP25814289 A JP 25814289A JP 25814289 A JP25814289 A JP 25814289A JP H03121756 A JPH03121756 A JP H03121756A
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JP
Japan
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tool
bonding
cleaning
inner lead
cleaning device
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Yoichiro Maehara
前原 洋一郎
Tatsuro Mihashi
龍郎 三橋
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide possibility of making next bonding with no await time after cleaning by keeping a grinding wheel to clean the surface of a tool at a specified temp., and thereby preventing the heat of tool from running off to the grinding wheel during cleaning. CONSTITUTION:When bonding is repeated in several tens of passes, a cylinder for cleaning of the surface of a bonding tool 7 is operated to locate a cleaning device 10 at an open window alozgside a guide rail. When a bonding tool 7 is sunk, the surface of the tool 7 is ground by a grinding wheel 15 in rotating, and foreign matters, etc., attached to the tool surface are torn off. The grinding time is approx. 10sec, but the temp. of the tool 7 will not fall during grinding because the wheel 15 has been heated by a heater 17 to a temp. equal to the tool 7, and if the cleaning cycle is finished, the next bonding is made with no await time interposed.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) この発明は、半導体素子の電極とキャリアテープのイン
ナリードとをボンディングするインナリードボンダにお
いて、ボンディングを行なうツールのツール面をクリー
ニングするツールクリーニング装置に関する。
Detailed Description of the Invention [Purpose of the Invention (Industrial Application Field) The present invention provides an inner lead bonder for bonding an electrode of a semiconductor element and an inner lead of a carrier tape. The present invention relates to a tool cleaning device for cleaning.

(従来の技術) 半導体製造工程における半導体素子の電極とキャリアテ
ープのインナリードとをボンディングするインナリード
ボンダに用いるツールは、一般に硬い材質で形成され、
カートリッジヒータ等で高温に加熱されている。したが
って、ツールは磨耗することは少なく、むしろ高温のた
めに種々の異物が接合の際に表面に付着する。ツールは
高温度(400〜500℃)に加熱されているため、表
面に付着した異物が硬化しやすく、ツールの熱を゛イン
ナリード、半導体素子に伝えにくくする性質を持ってい
る。
(Prior Art) A tool used for an inner lead bonder that bonds the electrode of a semiconductor element and the inner lead of a carrier tape in a semiconductor manufacturing process is generally made of a hard material.
It is heated to a high temperature by a cartridge heater, etc. Therefore, the tool is less likely to wear out, but rather, due to the high temperature, various foreign substances adhere to the surface during welding. Since the tool is heated to a high temperature (400 to 500° C.), foreign matter adhering to the surface tends to harden, making it difficult to transmit the heat of the tool to the inner leads and semiconductor elements.

このよJうに、インナリードボンダは、ボンディングを
繰り返すことによってツール面に酸化物等の汚れが堆積
する。ツール面のクリーニングをせずにそのまま接合を
続けると、ツール表面の熱伝導効率が悪くなり、インナ
リードと半導体素子との接合、状態が悪くなる。
In this way, when the inner lead bonder repeats bonding, dirt such as oxides accumulates on the tool surface. If bonding is continued without cleaning the tool surface, the heat conduction efficiency of the tool surface will deteriorate, and the bonding condition between the inner lead and the semiconductor element will deteriorate.

そこで、従来においては、例えば特開昭63−1695
6号公報に示すように、インナリードのボンディングを
行なうボンディング位置の近傍にクリーニングテーブル
を回転自在に支承し、このクリーニングテーブルに回転
台を設け、この回転台の上面に砥石を設けている。そし
て、ボンディングを例えば数千回繰り返したら、ツール
面を前記砥石の表面に接合し、ツール面を研磨してツー
ル面に付着した酸化物等を取り除いている。
Therefore, in the past, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 63-1695
As shown in Japanese Patent No. 6, a cleaning table is rotatably supported near a bonding position where inner leads are bonded, a rotary table is provided on the cleaning table, and a grindstone is provided on the upper surface of the rotary table. After the bonding is repeated, for example, several thousand times, the tool surface is bonded to the surface of the grindstone, and the tool surface is polished to remove oxides and the like attached to the tool surface.

(発明が解決しようとする課題) ところが、前述のように構成されたインナリードボンダ
のツールクリーニング装置は、常温の砥石に400〜5
00℃に保持されているツールのツール面を押し付けて
、前記砥石を約10秒間回転させ、かつツールを移動さ
せることによってクリーニングを行なっている。したが
って、クリーニング中にツールの熱が砥石に逃げてしま
い、ツールが元の温度(400〜500℃)に復帰する
のに時間がかかるという問題がある。
(Problem to be Solved by the Invention) However, the tool cleaning device for the inner lead bonder configured as described above has a grindstone of 400 to 500
Cleaning is performed by pressing the tool surface of the tool held at 00° C., rotating the grindstone for about 10 seconds, and moving the tool. Therefore, there is a problem that heat from the tool escapes to the grindstone during cleaning, and it takes time for the tool to return to its original temperature (400 to 500° C.).

また、最近、チップの大型化に伴いツールの表面積も大
きくなり、その度合いがますます大きくなっている。例
えば、1辺が13m+aの正方形のツール面を10秒間
クリーニングを行なった場合、ツール温度は500℃か
ら470℃に温度降下し、復帰するのに約16秒かかる
。ボンディングのタクトタイムを約4秒とすると、この
間に4個ボンディングできることになり、このロスタイ
ムは非常に大きい。
In addition, recently, as chips have become larger, the surface area of tools has also become larger, and the degree of surface area has become larger. For example, when cleaning a square tool surface with sides of 13 m+a for 10 seconds, the tool temperature drops from 500° C. to 470° C., and it takes about 16 seconds to return to normal. If the bonding takt time is about 4 seconds, then 4 pieces can be bonded during this time, and this loss time is very large.

この発明は前記事情に着目してなされたもので、その目
的とするところは、ツール面のクリーニング中にツール
の温度が降下すること・はなく、待ち時間がなく、能率
的なボンディングができるインナリードボンダのツール
クリーニング装置を提供することにある。
This invention was made with attention to the above-mentioned circumstances, and its purpose is to provide an inner material that does not cause the temperature of the tool to drop during cleaning of the tool surface, eliminates waiting time, and allows efficient bonding. An object of the present invention is to provide a lead bonder tool cleaning device.

[発明の構成] (課題を解決するための手段および作用)この発明は、
前記目的を達成するために、ツール面をクリーニングす
るための砥石と、この砥石を駆動する駆動機構と、前記
砥石を所定温度に保温する保温機構とからなるインナリ
ードボンダのツールクリーニング装置を構成する。
[Structure of the invention] (Means and effects for solving the problem) This invention has the following features:
In order to achieve the above object, a tool cleaning device for an inner lead bonder is composed of a grindstone for cleaning the tool surface, a drive mechanism for driving the grindstone, and a heat retention mechanism for keeping the grindstone at a predetermined temperature. .

ツールの温度とほぼ等しい温度に保温された砥石に対し
てツールのツール面が接触するため、ツールの熱が砥石
に逃げることはなく、クリーニング後に待ち時間なしで
次のボンディングができる。
Since the tool surface of the tool comes into contact with the grindstone, which is kept at a temperature approximately equal to the temperature of the tool, the heat of the tool does not escape to the grindstone, and the next bonding can be performed without waiting time after cleaning.

(実施例) 以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説明する。(Example) Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

第1図はクリーニング装置を示し、第3図はクリーニン
グ装置を備えたインナリードボンディング装置を示すも
のである。第3図に示す1はキャリアテープであり、こ
の表面にはインナリードaが設けられている。キャリア
テープ1はスプロケット2.3によって一方向に搬送さ
れるようになっており、スプロケット2.3間にはボン
ディング部4が設けられている。このボンディング部4
にはキャリアテープ1を案内するガイドブレート5が設
けられ、このガイドブレート5の一部にはキャリアテー
プ1上の1つのインナリードaを表出する開口窓6が設
けられている。
FIG. 1 shows a cleaning device, and FIG. 3 shows an inner lead bonding device equipped with the cleaning device. 1 shown in FIG. 3 is a carrier tape, and an inner lead a is provided on the surface of the carrier tape. The carrier tape 1 is conveyed in one direction by sprockets 2.3, and a bonding portion 4 is provided between the sprockets 2.3. This bonding part 4
A guide plate 5 is provided for guiding the carrier tape 1, and a part of the guide plate 5 is provided with an opening window 6 for exposing one inner lead a on the carrier tape 1.

前記ガイドプレート5の上方にはボンディングツール7
が上下方向(Z方向)およびXY力方向移動自在に設け
られ、下方には半導体素子すの載置台8が設けられてい
る。そして、キャリアテープ1上のインナリードaが開
口窓6に対向する位置に位置決めされ、裁置台8上の半
導体素子すがインナリードaと位置決めされた後、キャ
リアテープ1上で待機しているボンディングツール7が
下降してインナリードaと半導体素子すとがボンディン
グされるようになっている。すなわち、ボンディングツ
ール7は400〜500℃に加熱されており、インナリ
ードaと半導体素子すとが熱圧着される。
Above the guide plate 5 is a bonding tool 7.
is provided to be movable in the vertical direction (Z direction) and in the XY force directions, and a mounting table 8 for semiconductor elements is provided below. After the inner lead a on the carrier tape 1 is positioned to face the opening window 6 and the semiconductor element on the processing table 8 is positioned with the inner lead a, the bonding material waiting on the carrier tape 1 is The tool 7 is lowered to bond the inner lead a and the semiconductor element. That is, the bonding tool 7 is heated to 400 to 500[deg.] C., and the inner lead a and the semiconductor element are bonded together by thermocompression.

さらに、前記ボンディング部4の近傍に位置する前記ガ
イドプレート5の下部にはキャリアテープ1の走行方向
に沿ってガイドレール9が設けられている。そして、こ
のガイドレール9にはクリーング装置10が搭載されて
いて、このクリーニング装置10はシリンダ11によっ
て移動できるようになっている。
Furthermore, a guide rail 9 is provided along the running direction of the carrier tape 1 at the lower part of the guide plate 5 located near the bonding section 4 . A cleaning device 10 is mounted on the guide rail 9, and the cleaning device 10 can be moved by a cylinder 11.

クリーニング装置10について説明すると、第1図に示
す、12は駆動機構としてのモータであり、このモータ
12の回転軸13には砥石ホルダ14が設けられている
。この砥石ホルダ14には円盤状の砥石15が固定され
ている。さらに、砥石15を含む砥石ホルダ14はヒー
タブロック16によって囲繞されており、ヒータブロッ
ク16の内部で砥石15が回転するようになっている。
To explain the cleaning device 10, as shown in FIG. 1, 12 is a motor as a drive mechanism, and a whetstone holder 14 is provided on a rotating shaft 13 of this motor 12. A disc-shaped grindstone 15 is fixed to this grindstone holder 14. Further, the whetstone holder 14 including the whetstone 15 is surrounded by a heater block 16, so that the whetstone 15 rotates inside the heater block 16.

ヒータブロック16には保温機構としての電気ヒータ1
7が埋設され、この電気ヒータ17は制御装置18を介
して電源19に接続されている。
The heater block 16 includes an electric heater 1 as a heat retention mechanism.
7 is buried, and this electric heater 17 is connected to a power source 19 via a control device 18.

また、前記ヒータブロック16には熱電対20が設けら
れ、この熱雷対20による温度検出信号は制御装置18
に入力され、電気ヒータ17を制御することによって砥
石15の温度をボンディングツール7の温度、例えば4
00〜500℃に保つように構成されている。
Further, the heater block 16 is provided with a thermocouple 20, and a temperature detection signal from the thermocouple 20 is sent to the control device 18.
By controlling the electric heater 17, the temperature of the grinding wheel 15 is adjusted to the temperature of the bonding tool 7, e.g.
It is configured to maintain the temperature at 00 to 500°C.

次に、前述のように構成されたインナリードボンダのク
リーニング装置の作用について説明する。
Next, the operation of the inner lead bonder cleaning device configured as described above will be explained.

クリーニング装置10の電気ヒータ17は常時通電され
、ヒータブロック16は加熱されている。
The electric heater 17 of the cleaning device 10 is always energized, and the heater block 16 is heated.

ヒータブロック16の温度は熱電対20によって検出さ
れ、この温度検出信号は制御装置18に入力され、電気
ヒータ17を制御しているため、砥石15の温度はボン
ディングツール7の温度、例えば400〜500℃に保
たれている。
The temperature of the heater block 16 is detected by a thermocouple 20, and this temperature detection signal is input to the control device 18 to control the electric heater 17, so that the temperature of the grinding wheel 15 is the same as the temperature of the bonding tool 7, for example 400 to 500. It is kept at ℃.

一方、インナリードボンディング装置のキャリアテープ
1が1ピツチづつ走行し、インナリードaが開口窓6に
対向する位置に位置決めされ、載置台8上の半導体素子
すがインナリードaと位置決めされる。次に、キャリア
テープ1上で待機しているボンディングツール7が下降
すると、ボンディングツール7は400〜500℃に加
熱されているため、インナリードaと半導体素子すとが
熱圧着される。1回のボンディングが終了すると、ボン
ディングツール7は上昇するとともに、載置台8は横方
向に移動して開口窓6から退避する。
On the other hand, the carrier tape 1 of the inner lead bonding apparatus runs one pitch at a time, and the inner lead a is positioned at a position facing the opening window 6, and the semiconductor element on the mounting table 8 is positioned with the inner lead a. Next, when the bonding tool 7 waiting on the carrier tape 1 is lowered, since the bonding tool 7 is heated to 400 to 500[deg.] C., the inner lead a and the semiconductor element are bonded by thermocompression. When one bonding process is completed, the bonding tool 7 rises, and the mounting table 8 moves laterally to retreat from the opening window 6.

そして、キャリアテープ1の走行に伴って次のインナリ
ードaが開口窓6に対向すると、前述と同様の作用を繰
り返してボンディングを行う。
Then, when the next inner lead a faces the opening window 6 as the carrier tape 1 travels, bonding is performed by repeating the same actions as described above.

このようなボンディングを数千回繰り返したところで、
ボンディングツール7のツール面7a(第2図参照)を
クリーニングを行うために、シリンダ11を作動させて
クリーニング装置1oをガイドレール9に沿って開口窓
6に位置決めする。
After repeating this type of bonding several thousand times,
In order to clean the tool surface 7a (see FIG. 2) of the bonding tool 7, the cylinder 11 is operated to position the cleaning device 1o at the opening window 6 along the guide rail 9.

そして、ボンディングツール7を下降させると、ボンデ
ィングツール7のツール面7aは回転する砥石15によ
って研磨され、ツール面7aに付着している異物等は削
り取られる。この研磨時間は10秒程度であるが、砥石
15はボンディングツール7と等しい温度に加熱されて
いるため、研磨中にボンディングツール7の温度が降下
することはなく、クリーニングが終了したら、待ち時間
なしで次のボンディングができる。
Then, when the bonding tool 7 is lowered, the tool surface 7a of the bonding tool 7 is polished by the rotating grindstone 15, and foreign matter adhering to the tool surface 7a is scraped off. This polishing time is about 10 seconds, but since the grindstone 15 is heated to the same temperature as the bonding tool 7, the temperature of the bonding tool 7 does not drop during polishing, and there is no waiting time after cleaning is completed. The next bonding can be done.

なお、前記一実施例においては、ボンディングツールを
下降して回転している砥石の上面に接触させることによ
り、クリーニングを行うようにしたが、ボンディングツ
ールを横方向に往復運動させてもよく、また砥石を回転
させることなく、高速に往復運動させてクリーニングし
てもよい。
In the above embodiment, cleaning was performed by lowering the bonding tool and bringing it into contact with the upper surface of the rotating grindstone, but the bonding tool may also be moved laterally and reciprocally. Cleaning may be performed by reciprocating the grindstone at high speed without rotating it.

[発明の効果] 以上説明したように、この発明によれば、ツールのツー
ル面をクリーニングするための砥石を所定温度に保温す
るようにしたから、クリーニング中にツールの熱が砥石
に逃げることはなく、クリーニング後に待ち時間なしで
次のボンディングができる。したがって、従来ようなロ
スタイムがなく、能率的なボンディングが可能となると
いう効果がある。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, since the grindstone for cleaning the tool surface of the tool is kept at a predetermined temperature, the heat of the tool is prevented from escaping to the grindstone during cleaning. After cleaning, you can perform the next bonding without waiting. Therefore, there is no loss time as in the conventional method, and there is an effect that efficient bonding is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の一実施例を示すクリーニング装置の
縦断側面図、第2図は同じくボンディングツールの側面
図、第3図は同じくクリーニング装置を備えたボンディ
ング装置の斜視図である。 7・・・ツール、7a・・・ツール面、12・・・モー
タ(駆動機構)、15・・・砥石、17・・・電気ヒー
タ(保温装置)。
FIG. 1 is a longitudinal sectional side view of a cleaning device showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view of a bonding tool, and FIG. 3 is a perspective view of a bonding device equipped with the cleaning device. 7... Tool, 7a... Tool surface, 12... Motor (drive mechanism), 15... Grinding stone, 17... Electric heater (heat retention device).

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] XYおよびZ方向に移動自在に設けられたツールでイン
ナリードの接合を行なうボンダに設けられ、所定回数の
ボンディングを行なった後、前記ツールのツール面をク
リーニングするインナリードボンダのツールクリーニン
グ装置において、前記ツール面をクリーニングするため
の砥石と、この砥石を駆動する駆動機構と、前記砥石を
所定温度に保温する保温機構とを具備したことを特徴と
するインナリードボンダのツールクリーニング装置。
In a tool cleaning device for an inner lead bonder, which is installed in a bonder that performs bonding of inner leads with a tool provided movably in XY and Z directions, and which cleans the tool surface of the tool after performing bonding a predetermined number of times, A tool cleaning device for an inner lead bonder, comprising: a grindstone for cleaning the tool surface; a drive mechanism for driving the grindstone; and a heat retention mechanism for keeping the grindstone at a predetermined temperature.
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JP2007088150A (en) * 2005-09-21 2007-04-05 Shibaura Mechatronics Corp Mounting device of electronic component, and cleaning method therefor

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