JPH03120085A - Erasable optical recording medium and its manufacture - Google Patents

Erasable optical recording medium and its manufacture

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JPH03120085A
JPH03120085A JP1256993A JP25699389A JPH03120085A JP H03120085 A JPH03120085 A JP H03120085A JP 1256993 A JP1256993 A JP 1256993A JP 25699389 A JP25699389 A JP 25699389A JP H03120085 A JPH03120085 A JP H03120085A
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acrylate
layer
epoxy
resin
irradiated
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尚志 城
Takahiro Omichi
高弘 大道
Takeyuki Kawaguchi
武行 川口
Kaoru Iwata
薫 岩田
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Abstract

PURPOSE:To achieve stabilization of a pigment by a method wherein a resin is principally composed of hardened substance of epoxy(meta)acrylate and/or epoxy-novolac(meta)acrylate having a specified transition temperature and an elastic modulus from a glass state to a rubber state. CONSTITUTION:A resin has a function wherein a bump generated by thermal expansion of an expansion layer (A) by radiation of laser beams is fixed in recording and fixing of the bump is allowed to be released in erasing. Then, epoxy(meta)acrylate, and epoxy-novolac acrylate are used as the resin. Further, its elastic modulus should be necessarily 80kg/mm<2> or higher, and preferably 100kg/mm<2> or higher. Furthermore, a transition temperature at which it varies from a glass state to a rubber state should be necessarily 60-150 deg.C and preferably 70-120 deg.C. Thereby, stabilization of a pigment can be achieved.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は熱時の形状変化を利用した消去可能な光記録媒
体およびその製造法に関する。さらに詳し7くは、有機
ポリマー/色素からなる記録層の一部に例えば紫外線の
如き活性光線での硬化が可能な還択されたポリマーを用
いることを特徴とする光記録媒体およびその製造法に関
するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to an erasable optical recording medium that utilizes shape change upon heating and a method for manufacturing the same. More specifically, it relates to an optical recording medium characterized in that a reduced polymer that can be cured by actinic light such as ultraviolet rays is used as a part of the recording layer made of an organic polymer/dye, and a method for producing the same. It is something.

背景技術とその間圧点 従来、有機色素を用いた光記録媒体は多数提案されてい
る(例えば、特開昭61−163891.61−268
487、62−56191.62−122787.62
−39286および63−72594各号公報参照)。
BACKGROUND TECHNOLOGIES AND THEIR POINTS Conventionally, many optical recording media using organic dyes have been proposed (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 61-163891.61-268
487, 62-56191.62-122787.62
-39286 and 63-72594).

また、有機色素と有機ポリマーとを組み合わせて用いた
光記録媒体も多数提案されているく例えば、特開昭62
−90291.63−62794および63−1916
91各号公報参照)。しかしながら、これらの記録媒体
における記録原理は、色素が光(多くはレーザー光)を
吸収して生じる熱による記録媒体の非可逆的な形状変化
く多くの場合、ピット形成)に基づいているなめ、記録
の消去がきわめて困難であるか不可能であった。すなわ
ち、色素単独媒体の場合は、色素の気化、離散を伴うビ
ット形成により記録を行なうなめ、いったん形成したピ
ットを消去することは不可能であった。また、ポリマー
と色素の混合系の場合は、ポリマーの流動変形によるビ
ット形成によって記録を行なうため、いったん形成した
記録ピットを効率的に消去することは困難であった。ま
た、別の従来技術(特開昭60−69846.63−1
36337.63−136338および63−1640
42各号公報参照)によれば、レーザー光照射により加
熱・膨張しドーム状突起部(バンプ)を形成する膨張層
、およびこの形状を保持する保持層とからなる記録・消
去の可能な媒体が提案されている。この媒体に記録を行
なう場合は、あらかじめ膨張層に混合された色素の吸収
波長(λ1)でレーザー光照射を行い、該膨張層にバン
プを形成させる。すると保持層もこの形状に従って変形
するが、レーザー光照射をせしめると保持層が急冷され
て固まり、この形状を維持できるようになる。次に、記
録されたバンプの消去を行う場合は、予め保持層に混合
された色素の吸収波長(λ2)でレーザー光照射を行い
、保持層をそのTg以上に加熱し、膨張層があまり加熱
されないようにすると膨張層の復元力によってバンプ形
状の維持が困難となるようになる。
Furthermore, many optical recording media using a combination of organic dyes and organic polymers have been proposed.
-90291.63-62794 and 63-1916
(Refer to 91 issues). However, the recording principle of these recording media is based on the irreversible change in shape of the recording medium due to the heat generated when the dye absorbs light (often laser light) (in many cases, pit formation). Records were extremely difficult or impossible to erase. That is, in the case of a dye-only medium, since recording is performed by forming bits accompanied by vaporization and dispersion of the dye, it is impossible to erase pits once formed. Furthermore, in the case of a mixed system of a polymer and a dye, since recording is performed by forming bits by flowing deformation of the polymer, it is difficult to efficiently erase the recording pits once formed. In addition, another prior art (Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-69846.63-1
36337.63-136338 and 63-1640
42 publications), a recordable and erasable medium is made up of an expansion layer that is heated and expanded by laser beam irradiation to form a dome-shaped protrusion (bump), and a retention layer that maintains this shape. Proposed. When recording on this medium, laser light is irradiated at the absorption wavelength (λ1) of the dye mixed in the expansion layer in advance to form bumps on the expansion layer. Then, the holding layer also deforms according to this shape, but when irradiated with laser light, the holding layer is rapidly cooled and solidified, making it possible to maintain this shape. Next, when erasing the recorded bumps, laser light is irradiated with the absorption wavelength (λ2) of the dye mixed in the retention layer in advance, and the retention layer is heated above its Tg. If this is not done, it will become difficult to maintain the bump shape due to the restoring force of the expansion layer.

色素/ポリマーからなるこの二層媒体の場合、記録を効
率よく行なう、君い換えればバンプを出来るだけ高くす
るには保持層のポリマーのTgを出来るだけ高くすれば
よい。そうすれば、熱膨張の程度が他界状態で保持層が
ガラス状態になるからである。その半面、消去を効率よ
く行なうなめには逆に保持層のTgが低い方がよい。し
かも、消去可能な媒体を得るなめには、保持層がレーザ
ー光照射により非可逆的な変形、すなわちポリマーの流
動変形が起こることは好ましくない。このような観点か
らは保持層用樹脂としては、三次元架橋ポリマーが好ま
しい。しかしながら、架橋ポリマーを積層するためには
一般に塗工後硬化過程が必要となり、工業的にはこの硬
化を、短時間で行なう必要が生じる。これは、フィルム
基板上に連続コーティングする場合には、必須の要件に
なる。
In the case of this dual layer medium consisting of a dye/polymer, in order to perform recording efficiently, or in other words, to make the bump as high as possible, the Tg of the polymer in the retention layer should be made as high as possible. This is because the holding layer becomes a glass state when the degree of thermal expansion changes. On the other hand, for efficient erasing, it is better for the retention layer to have a lower Tg. Moreover, in order to obtain an erasable medium, it is undesirable that the holding layer undergoes irreversible deformation due to laser beam irradiation, that is, flow deformation of the polymer. From this point of view, three-dimensionally crosslinked polymers are preferable as the resin for the holding layer. However, in order to laminate crosslinked polymers, a post-coating curing process is generally required, and industrially it is necessary to perform this curing in a short period of time. This becomes an essential requirement for continuous coating on film substrates.

本発明者らはこれらの相矛盾する要件を満足する保持層
用樹脂を得るべく鋭意検討の結果、特定の構造を有する
ポリマーが所望の熱的特性を有し、かつ紫外線照射によ
り短時間で光硬化することを見い出し本発明に到達した
The inventors of the present invention conducted intensive studies to obtain a resin for the retention layer that satisfies these contradictory requirements, and found that a polymer with a specific structure has the desired thermal properties and can be irradiated with ultraviolet light in a short time. The present invention was achieved by discovering that it hardens.

本発明の概要 本発明における光記録媒体は、少くとも室温でゴム弾性
を示す樹脂(P工)と色素(Di )とからなる膨張層
(A>と、室温でガラス状B(高弾性状態)、それより
高い温度においてゴム状態に可逆的に変化し得る樹脂(
P2 )と色素(D2 )とからなる保持層(B)とを
基板で支持してなる。
Summary of the Invention The optical recording medium of the present invention comprises an expandable layer (A) consisting of a resin (P) exhibiting rubber elasticity at least at room temperature and a dye (Di), and a glassy B (high elastic state) at room temperature. , a resin that can reversibly change to a rubber state at higher temperatures (
A holding layer (B) consisting of P2) and a dye (D2) is supported by a substrate.

なお、基板に対する膨張層(A)と保持層(B)との関
係は、レーザー入射方向に対応して適宜変更できる。
Note that the relationship between the expansion layer (A) and the holding layer (B) with respect to the substrate can be changed as appropriate depending on the direction of laser incidence.

膨張層(A)は、レーザー照射により加熱した際に効果
的に膨張することが記録特性を高める上で必要である。
In order to improve the recording properties, the expansion layer (A) needs to expand effectively when heated by laser irradiation.

そして、記録により生成したバンプを効率的に消去して
元の状態に戻すためには高いゴム弾性が消去時には要求
される。したがって、樹脂(P1)は高いゴム弾性を示
し、かつレーザー光照射により流動変形を起こさないこ
とが必要である。好適に用いられる樹脂としては、天然
ゴム;スチレン−ブタジェンゴム、ブタジェンゴム、イ
ソプレンゴム、ニトリルゴム、クロロプレンゴム、ブチ
ルゴム、エチレン−プロピレンゴム、ウレタンゴム、シ
リコーンゴムなどの合成ゴム;スチレン系、オレフィン
系、ウレタン系の熱可塑性エラストマー:アミン架橋型
、イソシアネート架橋型、紫外線架橋型のエラストマー
が挙げられる。
In order to efficiently erase bumps generated by recording and restore the original state, high rubber elasticity is required during erasing. Therefore, it is necessary that the resin (P1) exhibits high rubber elasticity and does not undergo flow deformation when irradiated with laser light. Suitable resins include natural rubber; synthetic rubbers such as styrene-butadiene rubber, butadiene rubber, isoprene rubber, nitrile rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, ethylene-propylene rubber, urethane rubber, and silicone rubber; styrene, olefin, and urethane rubbers; Thermoplastic elastomer: Examples include amine crosslinked type, isocyanate crosslinked type, and ultraviolet crosslinked type elastomer.

色素D4およびD2は、それぞれ記録過程および消去過
程においてレーザー光を効率よく吸収して熱に変換する
役割をする。従って、記録用レーザーおよび消去用レー
ザーの発振波長域に合致した吸収を有する色素が運ばれ
る。そして、両レーザー光を選択的に吸収できるように
、それぞれの発振波長域での吸収強度が過度に重ならな
いことが好ましい。また、現状の光記録分野で使用され
ているレーザーが半導体レーザーであることから近赤外
に吸収ピークを有する色素が好ましい。また、読み取り
は媒体の光反射を利用するために、保持層での光反射率
が高いことが要求される。この観点から、色素D2は高
反射率を有することが好ましい。もちろん吸収特性を効
率的に行うために、色素はそれぞれの樹脂に均一分散す
るように2択すべきである。好適な色素り、およびD2
としては、シアニン系色素、ピリリウム系色素、チアピ
リリウム系色素、スクワリリウム系色素、クロコニウム
系色素、アズレニウム系色素などのポリメチン系色素;
フタロシアニンやナフタロシアニンなどのフタロシアニ
ン系色素;ジチオール金属錯体;ナフトキノン、アント
ラキノン系色素;トリフェニルメタン系色素;アミニウ
ム、ジインモニウム系色素が挙げられる。またこれらの
色素を複数混合して用いてもよい。
The dyes D4 and D2 play the role of efficiently absorbing laser light and converting it into heat during the recording and erasing processes, respectively. Therefore, a dye having an absorption matching the oscillation wavelength range of the recording laser and the erasing laser is delivered. In order to selectively absorb both laser beams, it is preferable that the absorption intensities in the respective oscillation wavelength ranges do not overlap excessively. Further, since the laser currently used in the optical recording field is a semiconductor laser, a dye having an absorption peak in the near infrared is preferred. Furthermore, since reading utilizes light reflection from the medium, the holding layer is required to have a high light reflectance. From this point of view, it is preferable that the dye D2 has a high reflectance. Of course, in order to achieve efficient absorption properties, the dyes should be selected in two ways so that they are uniformly dispersed in each resin. Suitable pigmentation and D2
Examples include polymethine dyes such as cyanine dyes, pyrylium dyes, thiapyrylium dyes, squarylium dyes, croconium dyes, and azulenium dyes;
Examples include phthalocyanine dyes such as phthalocyanine and naphthalocyanine; dithiol metal complexes; naphthoquinone and anthraquinone dyes; triphenylmethane dyes; aminium and diimmonium dyes. Further, a plurality of these dyes may be used in combination.

本発明において、保持層(B)に用いられる樹脂(P2
)は、記録時にはレーザー光照射により膨張層(A>が
熱膨張することにより生成したバンプを固定し、消去時
にはバンプの固定の解除を許容する機能を担っている。
In the present invention, the resin (P2
) has the function of fixing bumps generated by thermal expansion of the expansion layer (A>) by laser beam irradiation during recording, and allowing the bumps to be unfixed during erasing.

従って、創作用を効果的に行うなめに、高温ではゴム状
態、常温ではガラス状態、すなわち高い弾性を有する状
態になる樹脂である必要がある。すなわち、高温では膨
張層(A>の熱膨張に伴いバンプを形成するなめに、弾
性率が低いことが必要である。常温では膨張層(A)の
収縮力に抗してバンプを固定するなめに高い引っ張り弾
性率が必要であり、80Kg/mm2以上、好ましくは
100Kg /mm2以上であることが必要である。そ
れ以下ではバンプの形状を十分に維持できなくなり、記
録時性および記録安定性が低下する。また、効率的な記
録および消去のためには、ガラス状態からゴム状態に変
化する温度(ガラス転移温度Tg>も重要になる。その
意味から、転移温度60〜150℃、好ましくは70〜
120°Cが挙げられる。これ以下であれば形成したバ
ンプの高さが低く記録特性において好ましくなく、また
記録安定性においても好ましくない。これ以上では、消
去時に消去残が残り好ましくない。本発明において用い
られる樹脂P2としてはエポキシ(メタ〉アクリレート
エポキシノボラック(メタ〉アクリレートが挙げられる
。これらの樹脂は、活性光線、熱等で架橋することによ
り所望のTge有する塗膜を得ることができる。
Therefore, in order to effectively perform creative purposes, the resin must be in a rubber state at high temperatures and a glass state at room temperature, that is, a resin with high elasticity. In other words, at high temperatures, the elastic modulus needs to be low in order to form bumps due to the thermal expansion of the expansion layer (A).At room temperature, the elastic modulus must be low to resist the contraction force of the expansion layer (A) and fix the bumps. A high tensile modulus is required, and it is necessary to have a tensile modulus of 80 Kg/mm2 or more, preferably 100 Kg/mm2 or more.If it is less than that, the shape of the bump cannot be maintained sufficiently, and the recording performance and recording stability will deteriorate. In addition, for efficient recording and erasing, the temperature at which the glass state changes to the rubber state (glass transition temperature Tg>) is also important. From this point of view, the transition temperature is 60 to 150 °C, preferably 70 °C. ~
An example is 120°C. If it is less than this, the height of the formed bump will be low, which is unfavorable in terms of recording characteristics, and also unfavorable in terms of recording stability. If the amount is more than this, an erased residue will remain during erasing, which is undesirable. Examples of the resin P2 used in the present invention include epoxy (meth)acrylate and epoxy novolac (meth)acrylate.These resins can be crosslinked with actinic rays, heat, etc. to obtain a coating film having a desired Tge. .

エポキシくメタ〉アクリレートは下記−最大:「式中、
Yは炭素数1〜5のアルキレン基、Rが(メタ)アクリ
ロイル基、nが1〜20の整数である」で表わされる化
合物である。該式中、Yがメチレン基、2.2−プロピ
レン基であるエポキシアクリレートが、高いTgを有す
るので消去特性の低下をまねかず記録特性が高く出来る
ので好ましい。
Epoxy meta> acrylate is as follows - maximum: "In the formula,
Y is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, R is a (meth)acryloyl group, and n is an integer of 1 to 20. Epoxy acrylate in which Y is a methylene group or a 2,2-propylene group is preferred because it has a high Tg and can improve recording characteristics without deteriorating erasing characteristics.

一方、エポキシノボラックアクリレートは、下記−最大
: %式% 「式中、Rは <R’はメチル基または水素原子)、mは炭素数1〜2
0の整数であり、Xは水素原子またはメチル基である。
On the other hand, epoxy novolak acrylate has the following - maximum: % formula % "In the formula, R is <R' is a methyl group or a hydrogen atom), m is a carbon number of 1 to 2
is an integer of 0, and X is a hydrogen atom or a methyl group.

」で示される化合物である。また、アクリレートの方が
メタアクリレートより反応性が高く好ましい。
This is a compound represented by Further, acrylate is preferable because it has higher reactivity than methacrylate.

本発明においてはこれらの化合物を単独で用いても良い
し、複数の混合物として用いてもよい。
In the present invention, these compounds may be used alone or as a mixture of a plurality of them.

また、本発明のだ旨を損なわない30重量%以下の範囲
でその他の多官能のアクリレートを併用してもよい。こ
れは、反応性を高めたり、Tgを制御したり、あるいは
膜の力学的特性を上げたり、まな色素との相溶性を上げ
る上で有効である。好適に用いられる多官能(メタ)ア
クリレートとしては、エチレンジ(メタ)アクリレート
、テトラメチレンジ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリくメタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラくメタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ(メタ)アクリレート、多官能ウレタン
アクリレートが挙げられる。
Further, other polyfunctional acrylates may be used in combination within a range of 30% by weight or less without impairing the spirit of the invention. This is effective in increasing the reactivity, controlling Tg, increasing the mechanical properties of the film, and increasing the compatibility with other dyes. Preferred polyfunctional (meth)acrylates include ethylene di(meth)acrylate, tetramethylene di(meth)acrylate, trimethylolpropane trimeth)acrylate, pentaerythritol tetrameth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate. ) acrylate, polyfunctional urethane acrylate.

本発明において用いられるこれらの樹脂は、色素と混合
した上で基板上に塗工・硬化される。使用する基板は特
に限定はないが、一般にはポリカーボネート、ポリメチ
ルメタクリレート、ガラスなどのディスク状基板やポリ
エステルなどのフィルム状基板が用いられる。色素/樹
脂の比率は、色素の吸光度、膜厚にも依存するが一般に
は0.05〜0.4  (wt/wt)、好ましくは0
.1〜0.3 (wt/wt)である。膨張層の膜厚は
一般には、0.5〜10μm、好ましくは1.0〜5.
0μmが用いられ、保持層の膜厚は0.1〜3.0 μ
m 、好ましくはOj 〜2.0μmが用いられる。塗
工法は特に限定はないが、スピンコード法、流延法、バ
ーコード法、ドクターナイフ法、グラビヤコート法など
が用いられる。
These resins used in the present invention are mixed with a pigment and then applied onto a substrate and cured. The substrate used is not particularly limited, but generally a disk-shaped substrate made of polycarbonate, polymethyl methacrylate, glass, etc., or a film-shaped substrate made of polyester, etc. is used. The dye/resin ratio depends on the dye absorbance and film thickness, but is generally 0.05 to 0.4 (wt/wt), preferably 0.
.. 1 to 0.3 (wt/wt). The thickness of the expansion layer is generally 0.5 to 10 μm, preferably 1.0 to 5 μm.
0 μm is used, and the thickness of the holding layer is 0.1 to 3.0 μm.
m, preferably Oj to 2.0 μm. The coating method is not particularly limited, but a spin code method, a casting method, a bar code method, a doctor knife method, a gravure coating method, etc. are used.

その際使用される好適な溶媒としては、ヘキサン、ヘプ
タン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン
、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;メタノー
ル、エタノール、ブタノールなどのアルコール類;クロ
ロホルム、塩化メチレンなどのハロアルカン類;酢酸エ
チル、酢酸ブチルなどのエステル類;アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノンなどのケトン類;エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどの
グライム類;テトラヒドロフラン、ジオキンなどのエー
テル類、ニトロメタン、アセトニトリルおよびそれらの
混合物が挙げられる。
Suitable solvents used in this case include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; alcohols such as methanol, ethanol, and butanol; chloroform, methylene chloride, etc. haloalkanes; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; glymes such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; ethers such as tetrahydrofuran and dioquine; Mention may be made of nitromethane, acetonitrile and mixtures thereof.

硬化法としては、熱硬化法、紫外線硬化法、電子線照射
法が用いられる。熱硬化の場合は通常ラジカル開始剤の
共存下で加熱することにより三次元架橋される。開始剤
は特に限定はしないが一般には、アゾビスイソブチロニ
トロリ(AIBN)、ベンゾイルパーオキシド<BPO
)、クメンヒドロペルオキシド、第三ブチルヒドロペル
オキシド5過酸化ラウロイルなどが挙げられる。加熱温
度は一般には50〜150°C1好ましくは70〜12
0’Cが採用される。それ以上では基板および色素が劣
化し好ましくない。硬化時間は一般には5分から10時
間、好ましくは10分〜5時間の範囲で行われる。
As the curing method, a thermosetting method, an ultraviolet curing method, and an electron beam irradiation method are used. In the case of thermosetting, three-dimensional crosslinking is usually achieved by heating in the presence of a radical initiator. The initiator is not particularly limited, but generally includes azobisisobutyronitrile (AIBN), benzoyl peroxide<BPO
), cumene hydroperoxide, tert-butyl hydroperoxide 5, lauroyl peroxide, and the like. The heating temperature is generally 50 to 150°C, preferably 70 to 12°C.
0'C is adopted. If it is more than that, the substrate and dye will deteriorate, which is not preferable. The curing time is generally 5 minutes to 10 hours, preferably 10 minutes to 5 hours.

一方、紫外線硬化法の場合は、光開始剤の共存下で紫外
線を照射することにより行われる。光開始剤としては、
ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなどのベンゾフェノ
ン系開始削;ベンジル、フェニルメトキシジケトンなど
のジケトン系開始剤;ベンゾインエチルエーテル、ベン
ジルジメチルケタールなどのベンゾイン系開始剤;2,
4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系開
始剤、2−メチルアントラキノン、カンファーキノンな
どのキノン系開始剤などが好ましく用いられる。
On the other hand, in the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays are irradiated in the presence of a photoinitiator. As a photoinitiator,
Benzophenone-based initiators such as benzophenone and Michler's ketone; diketone-based initiators such as benzyl and phenylmethoxydiketone; benzoin-based initiators such as benzoin ethyl ether and benzyl dimethyl ketal; 2.
Thioxanthone initiators such as 4-diethylthioxanthone, quinone initiators such as 2-methylanthraquinone and camphorquinone, and the like are preferably used.

必要に応じてアミン系促進剤などの促進剤の併用も可能
である。使用する紫外線としては、低圧水銀灯、中圧水
銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプなどが好適に
用いられている。抗原のパワーは、1mW/−〜1kW
/cfllが用いられる。照射時間は光源のパワーおよ
び光反応速度に依存するが、1秒〜1時間、好ましくは
10秒〜10分の間で行われる。
If necessary, it is also possible to use a promoter such as an amine promoter. As the ultraviolet light to be used, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc. are suitably used. Antigen power is 1mW/- to 1kW
/cfll is used. The irradiation time depends on the power of the light source and the photoreaction rate, but is performed for 1 second to 1 hour, preferably 10 seconds to 10 minutes.

かくして得られた二層媒体の記録法・再生・消去は二社
類のレーザー光を照射することにより行なう。その際使
用するレーザーは、ヘリウムネオンレーザ−、アルゴン
レーザー、半導体レーザーなどが用いられるが、小型で
安価な半導体レーザーがより好ましい。以下、膨張層色
素D1が840nm近傍に吸収を示し、保持層色素D2
が780nm近傍に吸収を示す媒体を例にとって説明す
る。記録は、840nmのレーザー光を照射することに
より行う。この際、主としてW3張層が光を吸収してバ
ンブを形成する。再生は、840nmの弱いレーザー光
を照射し、記録部と未記録部との反射率の差を読み取る
ことにより行われる。消去は、780nmのレーザー光
を照射することにより行われる。一般的に、記録は、5
〜30mW、好ましくは7〜20mWのパワーで5〜0
.1μ秒照射する。再生は0.5〜31′llW、好ま
しくは0.7〜2. QmWのパワーで5〜0.1μ秒
照射する。消去は、1〜20mW、好ましくは3〜12
mWのパワーで0.1〜20秒照射する。
Recording, reproduction, and erasing of the thus obtained two-layer medium are carried out by irradiating it with laser light from two companies. The laser used in this case may be a helium neon laser, an argon laser, a semiconductor laser, etc., but a small and inexpensive semiconductor laser is more preferable. Hereinafter, the expansion layer dye D1 shows absorption near 840 nm, and the retention layer dye D2 shows absorption near 840 nm.
This will be explained by taking as an example a medium that exhibits absorption in the vicinity of 780 nm. Recording is performed by irradiating a laser beam of 840 nm. At this time, the W3 tension layer mainly absorbs light and forms bumps. Reproduction is performed by irradiating a weak laser beam of 840 nm and reading the difference in reflectance between the recorded area and the unrecorded area. Erasing is performed by irradiating with 780 nm laser light. Generally, the record is 5
~30mW, preferably 5-0 with a power of 7-20mW
.. Irradiate for 1 μsec. Regeneration is from 0.5 to 31'llW, preferably from 0.7 to 2. Irradiate for 5 to 0.1 μsec with a power of QmW. Erasing is from 1 to 20 mW, preferably from 3 to 12
Irradiate for 0.1 to 20 seconds with a power of mW.

本発明によるとバンプの形成と消滅による反射率の変化
を読み取ることを基本原理とする記録媒体において優れ
た記録・消去特性が得られる。それとともに、製膜が低
温・高速で行なえるために、基板や使用色素の劣化を起
こすことなく塗工・硬化が行なえ、かつ媒体コストが安
価になるという工業上の利点も有している。
According to the present invention, excellent recording and erasing characteristics can be obtained in a recording medium whose basic principle is to read changes in reflectance due to the formation and disappearance of bumps. At the same time, since film formation can be performed at low temperatures and high speeds, coating and curing can be performed without causing deterioration of the substrate or the dye used, and the cost of the media is low, which is an industrial advantage.

以下に、本発明を実施例においてさらに詳しく説明する
The present invention will be explained in more detail in Examples below.

実施例1 下記構造式で表わされるビスフェノールA型エポキシア
クリレート樹脂(以下BP−1と略す)に対して1 p
hrのペンジルジメトキシケクール(BDMK)および
1 phrのアゾビスイソブチロニトリル<AIBN)
を添加したBP−1のクロロホルム溶液をガラス板上に
バーコード法によって厚み100μmに塗布し、紫外光
を照射した後、80°Cのオーブンで1時間加熱し硬化
した。ガラス板からこの薄膜を剥離し、引っ張り弾性率
をインストロン4302 <インストロン社)により測
定したところ常温では176 Kg/mm2.120℃
では0.5Kg/mm2であった。また、ガラス転移点
は72°Cであった。
Example 1 1 p for bisphenol A type epoxy acrylate resin (hereinafter abbreviated as BP-1) represented by the following structural formula
hr of pendyldimethoxykecur (BDMK) and 1 phr of azobisisobutyronitrile <AIBN)
A chloroform solution of BP-1 added with was applied onto a glass plate to a thickness of 100 μm using a barcode method, irradiated with ultraviolet light, and then heated in an oven at 80° C. for 1 hour to cure. This thin film was peeled off from the glass plate and its tensile modulus was measured using an Instron 4302 (Instron Inc.) and found to be 176 Kg/mm at room temperature at 2.120°C.
It was 0.5Kg/mm2. Moreover, the glass transition point was 72°C.

−CH2CHCH2トrOCOCH□CH208m=6 P−1 ウレタンアクリレートであるNKエステルU−122A
 (新中村化学工業9朱)に対して1(lphrの下記
構造式で示されるポリメチン系色素lR820および2
phrのイルガキュアー907(チバガイギー■)を添
加したNKエステルυ−122Aのメチルエチルケトン
(MEK)溶液をガラス基板上にバーコード法によって
厚み3μmに塗布し、紫外光を照射することによって膨
張層を形成した。BR−1に対して10phrの下記構
造のシアニン色素NK−125(日本感光色素vA>お
よびlphr(7)BDMKを添加したBP−1のクロ
ロホルム溶液を膨張層上に流延、乾燥し、窒素雰囲気下
で紫外光照射し0.8μmの保持層を形成した。
-CH2CHCH2trOCOCH□CH208m=6 P-1 NK ester U-122A which is urethane acrylate
(Shin Nakamura Chemical Industry 9 Vermilion) to 1 (polymethine dye lR820 and 2 shown by the following structural formula of lphr)
A methyl ethyl ketone (MEK) solution of NK ester υ-122A added with phr Irgacure 907 (Ciba Geigy ■) was applied to a thickness of 3 μm on a glass substrate by the barcode method, and an expansion layer was formed by irradiating it with ultraviolet light. . A chloroform solution of BP-1 to which 10 phr of cyanine dye NK-125 (Japanese Photosensitive Dyes vA> and lphr(7) BDMK with the following structure was added to BR-1 was cast on the expanded layer, dried, and placed in a nitrogen atmosphere. A holding layer of 0.8 μm was formed by irradiating with ultraviolet light.

K−125 R820 この2層媒体に波長840 nm、10mW、パルス幅
5μ秒のレーザー光を照射したところ直径1μmのバン
プの形成が認められた。このバンプに波長780nm 
、7mWのレーザー光をデフォーカスし1(bz秒照射
したところ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消失しな。
K-125 R820 When this two-layer medium was irradiated with a laser beam having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μsec, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. This bump has a wavelength of 780 nm.
When a 7 mW laser beam was defocused and irradiated for 1 (bz seconds), the bumps did not disappear within the range of microscopic observation.

実施例2 下記構造式で示されるエポキシアクリレート〈以下BP
−2と略す)に対して1 phrのペンジルジメトキシ
ケクール(BDMK)および1 phrのアゾビスイソ
ブチロニトリル(AIBN)を添加したBP−2のME
K溶液をガラス板上にバーコード法によって厚み100
μmに塗布し、紫外光を照射し、80℃のオーブンで1
時間加熱し硬化した。ガラス板からこの薄膜を剥離し、
引っ張り弾性率をインストロン4302 <インストロ
ン社)により測定したところ常温では149 Kg/m
m2.120°Cでは3.2Kg/mm2であった。ま
た、ガラス転移点は70℃であった。
Example 2 Epoxy acrylate represented by the following structural formula (hereinafter referred to as BP)
ME of BP-2 with the addition of 1 phr of pendyldimethoxykecool (BDMK) and 1 phr of azobisisobutyronitrile (AIBN) to
Apply the K solution to a thickness of 100 mm on a glass plate using the barcode method.
μm, irradiated with ultraviolet light, and placed in an oven at 80℃ for 1 hour.
It was cured by heating for an hour. Peel this thin film from the glass plate,
The tensile modulus was measured using Instron 4302 (Instron Inc.) and found to be 149 Kg/m at room temperature.
m2.At 120°C, it was 3.2Kg/mm2. Moreover, the glass transition point was 70°C.

−0C82C)lcH20COCH=CHz1 H 3P−2 NKエステルU−122A <新中村化学工業■)に対
して10phrのlR820および2phrのイルガキ
ュアー907  (チバガイギー@)を添加したNKエ
ステルυ−122AのMEK溶液をガラス基板上にバー
コード法によって厚み3μmに塗布し、紫外光を照射す
ることによって膨張層を形成した。BR−2に対して1
0phrのNK−125および1 phrのBDMKを
添加したBP−2のMEK溶液を膨張層上に流延、乾燥
し、窒素雰囲気下で紫外光照射し保持層を形成した。こ
の2層媒体に波長840 nm、10mW、パルス幅5
μ秒のレーザー光を照射したところ直径1μmのバンプ
の形成が認められた。このバンプに波長780nm 、
 7mWのレーザー光をデフォーカスし10μ秒照射し
たところ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消失した。
-0C82C) lcH20COCH=CHz1 H 3P-2 MEK solution of NK ester υ-122A with 10 phr of 1R820 and 2 phr of Irgacure 907 (Ciba Geigy @) added to NK ester U-122A <Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. It was coated onto a glass substrate to a thickness of 3 μm using a barcode method, and an expansion layer was formed by irradiating it with ultraviolet light. 1 for BR-2
A MEK solution of BP-2 to which 0 phr of NK-125 and 1 phr of BDMK were added was cast onto the expansion layer, dried, and irradiated with ultraviolet light under a nitrogen atmosphere to form a retention layer. A wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 were applied to this two-layer medium.
When irradiated with a μ second laser beam, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. This bump has a wavelength of 780 nm,
When a 7 mW laser beam was defocused and irradiated for 10 μs, the bumps disappeared within the range of microscopic observation.

実施例3 下記構造式のビスフェノールF型エポキシアクリレート
(以下BP−3と略す)に対して1 phrのベンジl
kジメトキシケクール(BDMK)およびl phrの
アゾビスイソブチロニトリル(A I BN)を添加し
たBP−3のクロロホルム溶液をガラス板上にバーコー
ド法によって厚み100μmに塗布し、紫外光を照射し
、80℃のオーブンで1時間加熱し硬化した。ガラス板
からこの薄膜を剥離し、引っ張り弾性率をインストロン
4302 (インストロン社)により測定しなところ常
温では102 Kg/mm2.120℃では3.2 K
g/+n+++2であった。また、ガラス転移点は78
℃であった。
Example 3 1 phr of benzyl for bisphenol F type epoxy acrylate (hereinafter abbreviated as BP-3) having the following structural formula
A chloroform solution of BP-3 to which K dimethoxykecool (BDMK) and l phr azobisisobutyronitrile (AI BN) were added was applied onto a glass plate to a thickness of 100 μm using the barcode method, and irradiated with ultraviolet light. Then, it was cured by heating in an oven at 80°C for 1 hour. This thin film was peeled off from the glass plate and its tensile modulus was measured using an Instron 4302 (Instron Corporation).It was 102 Kg/mm at room temperature and 3.2 K at 120°C.
g/+n+++2. Also, the glass transition point is 78
It was ℃.

一0CH2CHCH20COC)I=CH2H P−3 NKエステルU−122A (新中村化学工業v7J)
に対して10phrのlR820および2 phrのイ
ルガキュアー907  (チバガイギー■)を添加した
NKエステルU−122AのMEK溶液をガラス基板上
にバーコード法によって厚み3μmに塗布し、紫外光を
照射することによって膨張層を形成した。BR−3に対
して10phrのNK−125および1 phrのBD
MKを添加したBP−3のクロロホルム溶液を膨張層上
に流延、乾燥し、窒素雰囲気下で紫外光照射し保持層を
形成した。この2層媒体に波長840 nm、10mW
、パルス幅5μ秒のレーザー光を照射しなところ直径1
μmのバンプの形成が認められた。このバンプに波長7
80nm 、7mWのレーザー光をデフォーカスし10
μ秒照射したところ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消失
した。
10CH2CHCH20COC) I=CH2H P-3 NK ester U-122A (Shin Nakamura Chemical Industry v7J)
A MEK solution of NK ester U-122A to which 10 phr of IR820 and 2 phr of Irgacure 907 (Ciba Geigy) were added was coated on a glass substrate to a thickness of 3 μm using the barcode method, and irradiated with ultraviolet light. An expanded layer was formed. 10 phr NK-125 and 1 phr BD for BR-3
A chloroform solution of BP-3 containing MK was cast onto the expanded layer, dried, and irradiated with ultraviolet light under a nitrogen atmosphere to form a retaining layer. This two-layer medium has a wavelength of 840 nm and a power of 10 mW.
, the diameter is 1 when irradiated with laser light with a pulse width of 5 μs.
Formation of μm bumps was observed. This bump has wavelength 7
80nm, 7mW laser light is defocused and 10
When irradiated for microseconds, the bumps disappeared within the range of microscopic observation.

実施例4 実施例1のBP−1の代わりにVR77(昭和高分子■
)を用い、実施例1と同様に膨張層/保持層からなる2
層媒体を形成した。この2層媒体に波長840 nm、
10mW、パルス幅5μ秒のレーザー光を照射したとこ
ろ直径1μmのバンプの形成が認められた。このバンプ
に波長780nm 、7mWのレーザー光をデフォーカ
スし10μ秒照射したところ、顕微鏡観察の範囲でバン
プが消失した。
Example 4 VR77 (Showa Kobunshi ■) was used instead of BP-1 in Example 1.
), and as in Example 1, 2 consisting of an expansion layer/retention layer was used.
A layered medium was formed. This two-layer medium has a wavelength of 840 nm,
When irradiated with laser light of 10 mW and pulse width of 5 μs, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. When this bump was irradiated with a defocused laser beam of 7 mW and a wavelength of 780 nm for 10 μs, the bump disappeared within the range of microscopic observation.

実施例5 実施例1のBP−1の代わりにVR90(昭和高分子■
)を用い、実施例1と同様に膨張層/保持層からなる2
層媒体を形成した。この2層媒体に波長840 nm、
10mW、パルス幅5μ秒のレーザー光を照射したとこ
ろ直径1μmのバンプの形成が認められな。このバンプ
に波長780nm 、7mWのレーザー光をデフォーカ
スし10μ秒照射したところ、顕微鏡観察の範囲でバン
プが消失した。
Example 5 VR90 (Showa Kobunshi ■) was used instead of BP-1 in Example 1.
), and as in Example 1, 2 consisting of an expansion layer/retention layer was used.
A layered medium was formed. This two-layer medium has a wavelength of 840 nm,
When irradiated with laser light of 10 mW and pulse width of 5 μs, no bumps with a diameter of 1 μm were observed. When this bump was irradiated with a defocused laser beam of 7 mW and a wavelength of 780 nm for 10 μs, the bump disappeared within the range of microscopic observation.

実施例6 実施例1のBP−1の代わりに下記構造のエポキシノボ
ラックアクリレート(以下BP−4と略す)を用い、実
施例1と同様に膨張層/保持層からなる2層媒体を形成
した。この2層媒体に波長840 nm、10mW、パ
ルス幅5μ秒ル−ザー光を照射したところ直径1μmの
バンプの形成が認められた。このバンプに波長780o
m 、7mWのレーザー光をデフォーカスしlOμ秒照
耐照射ところ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消失した。
Example 6 In place of BP-1 in Example 1, an epoxy novolak acrylate (hereinafter abbreviated as BP-4) having the following structure was used to form a two-layer medium consisting of an expansion layer/retention layer in the same manner as in Example 1. When this two-layer medium was irradiated with laser light having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 .mu.sec, the formation of bumps with a diameter of 1 .mu.m was observed. This bump has a wavelength of 780o.
When a 7 mW laser beam was defocused and irradiated for 10 μ seconds, the bumps disappeared within the range of microscopic observation.

P−4 実施例7 実施例1のN K 125の代わりに下記構造のナフタ
ロシアニン色素を用い、実施例1と同様に膨張層/保持
層からなる2層媒体を形成しな。
P-4 Example 7 A naphthalocyanine dye having the following structure was used in place of N K 125 in Example 1, and a two-layer medium consisting of an expansion layer/retention layer was formed in the same manner as in Example 1.

H3 R=−3i−0−(CH2CH20−)−3C2H3H
3 この2層媒体に波長840 nm、10mW、パルス@
5μ秒のレーザー光を照射しなところ直径1μmのバン
プの形成が認められた。このバンプに波長78Qnm 
、7mWのレーザー光をデフォーカスし10μ秒照射し
なところ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消失した。
H3 R=-3i-0-(CH2CH20-)-3C2H3H
3 In this two-layer medium, a wavelength of 840 nm, 10 mW, pulse @
When the laser beam was not irradiated for 5 μs, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. This bump has a wavelength of 78Qnm.
When a 7 mW laser beam was defocused and irradiated for 10 μs, the bumps disappeared within the range of microscopic observation.

実施例8 末端に水酸基を有するクロロブレンF)1050  (
電気化学工業仔朱)と多官能イソシアネートであるコロ
ネートLを、水酸基量とイソシアネート量が等量になる
ように混合し、さらに10phrのIRDlooI(山
水化成■)を添加し、バーコード法によって厚み3μm
に塗布し、120℃で1時間加熱し硬化することによっ
て膨張層を形成した。BR−1に対して10phrのN
K−125および1 phrのBDMKを添加したBP
−1のクロロホルム溶液を膨張層上に流延、乾燥し、窒
素雰囲気下で紫外光照射し0.8μmの保持層を形成し
な。この2層媒体に波長840 nm、10mW、パル
ス幅5μ秒のレーザー光を照射しなところ直径1μmの
バンプの形成が認められた。このバンプに波長780n
m 、 7mWのレーザー光をデフォーカスし10μ秒
照射したところ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消失しな
Example 8 Chlorobrene F) 1050 (having a hydroxyl group at the end)
Denki Kagaku Kogyo Zashu) and Coronate L, a polyfunctional isocyanate, were mixed so that the amount of hydroxyl groups and the amount of isocyanate were equal, and 10 phr of IRDloo I (Sansui Kasei ■) was added, and a thickness of 3 μm was obtained using the barcode method.
The expansion layer was formed by applying the mixture to the substrate and heating it at 120° C. for 1 hour to cure it. 10 phr N for BR-1
BP supplemented with K-125 and 1 phr BDMK
A chloroform solution of -1 was cast onto the expanded layer, dried, and irradiated with ultraviolet light under a nitrogen atmosphere to form a 0.8 μm retaining layer. When this two-layer medium was irradiated with a laser beam having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μs, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. This bump has a wavelength of 780n.
m, When a 7 mW laser beam was defocused and irradiated for 10 μs, the bumps did not disappear within the range of microscopic observation.

実施例9 実施例6のBP−4の代わりにECHO−302(エコ
ーレジン アンド ラボラトリ−社)を用い、実施例1
と同様に膨張層/保持層からなる2層媒体を形成した。
Example 9 Using ECHO-302 (Echo Resin and Laboratory Co., Ltd.) in place of BP-4 in Example 6, Example 1
A two-layer medium consisting of an expansion layer/retention layer was formed in the same manner as in Example 1.

この2層媒体に波長840 nm、10mW、パルス幅
5μ秒のレーザー光を照射したところ直径1μmのバン
プの形成が認められた。このバンプに波長780cm 
、7mWのレーザー光をデフォーカスし10μ秒照射し
たところ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消失しな。
When this two-layer medium was irradiated with a laser beam having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μs, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. This bump has a wavelength of 780 cm.
When a 7 mW laser beam was defocused and irradiated for 10 μs, the bumps did not disappear within the range of microscopic observation.

発明の効果 本発明によるとバンプの形成と消失による反射率の変化
を読み取ることを基本原理とする記録媒体において優れ
た記録・消去特性が得られる。それとともに製膜が低温
・高速で行なえるなめに、基板や使用する色素の劣化を
起こすことなく塗工・効果が行なえ、かつ媒体コストが
安価になるという工業上の利点も有している。
Effects of the Invention According to the present invention, excellent recording and erasing characteristics can be obtained in a recording medium whose basic principle is to read changes in reflectance due to the formation and disappearance of bumps. At the same time, because the film can be formed at low temperatures and high speeds, coating and effects can be achieved without deteriorating the substrate or the pigments used, and the cost of the medium is low, which is an industrial advantage.

手 続 補 正 書 1、事件の表示 特願平 56993 2、発明の名称 消去可能な光記録媒体およびその製造法(3001 帝人株式会社 (1)明細書第4頁第15行の「他界状態」を「高い状
態」と訂正する。
Procedural Amendment 1, Indication of Case Patent Application No. 56993 2, Name of Invention Erasable Optical Recording Medium and Method for Manufacturing the Same (3001 Teijin Ltd. (1) Paragraph 4 of the Specification, Line 15 of “Other State” "High condition," he corrected.

(2)明細書第9頁第6行の「(メタ)アクリレートエ
ポキシノボラック(メタ)jを「(メタ)アクリレート
、エポキシノボラック(メタ)」と訂正する。
(2) On page 9, line 6 of the specification, "(meth)acrylate epoxy novolac (meth)j" is corrected to "(meth)acrylate, epoxy novolak (meth)."

(3)明細書第14頁第1行の「抗原」を「光源」と訂
正する。
(3) "Antigen" in the first line of page 14 of the specification is corrected to "light source."

(4)明細書第22頁第7行の「子(株))を用い、実
施例1」を「子(株))を用い、100μmのフィルム
を実施例1と同様に作成したところ、引っ張り弾性率は
140 kg/nwn2.ガラス転移点は71℃であっ
た。さらに実施例1」と訂正する。
(4) When a 100 μm film was prepared in the same manner as in Example 1 using “Toko Co., Ltd.” in Example 1 using “Toko Co., Ltd.” on page 22, line 7 of the specification, it was found that The elastic modulus was 140 kg/nwn2. The glass transition point was 71° C. Furthermore, the following is corrected as “Example 1.”

(5)明細書第23頁第8行の[を用い、実施例IJ[
を用い、90μmのフィルムを実施例1と同様に作成し
なところ引っ張り弾性率は210 kg/画2.ガラス
転移点は115℃であった。さらに実施例1」と訂正す
る。
(5) Using [ in page 23, line 8 of the specification, Example IJ [
A 90 μm film was prepared in the same manner as in Example 1 using a 90 μm film, and the tensile modulus was 210 kg/image 2. The glass transition point was 115°C. Furthermore, it is corrected to ``Example 1''.

以上that's all

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)少くとも室温でゴム弾性を示す樹脂(P_1)と
色素(D_1)とからなる膨張層(A)と、室温でガラ
ス状態(高弾性状態)、それより高い温度においてゴム
状態に可逆的に変化し得る樹脂(P_2)と色素(D_
2)とからなる保持層(B)とを記録層に有する光記録
媒体において、該樹脂P_2が (a)ガラス状態からゴム状態への転移温度が60〜1
50℃の範囲にあり、 (b)室温での弾性率が80Kg/mm^2以上である
、エポキシ(メタ)アクリレートおよび/またはエポキ
シノボラック(メタ)アクリレートの硬化物から主とし
てなることを特徴とする消去可能な光記録媒体。
(1) An expansion layer (A) consisting of a resin (P_1) and a dye (D_1) that exhibits rubber elasticity at least at room temperature, and a glass state (highly elastic state) at room temperature, which is reversible to a rubber state at higher temperatures. Resin (P_2) and pigment (D_
2) in which the resin P_2 has a transition temperature from a glass state to a rubber state of 60 to 1
50°C, and (b) mainly consists of a cured product of epoxy (meth)acrylate and/or epoxy novolak (meth)acrylate, which has an elastic modulus of 80 Kg/mm^2 or more at room temperature. Erasable optical recording medium.
(2)上記第1項記載の保持層を、エポキシ(メタ)ア
クリレートおよび/またはエポキシノボラック(メタ)
アクリレートと色素とを含む混合物を塗工した後活性光
線を照射することにより硬化することにより形成するこ
とを特徴とする消去可能な光記録媒体の製造法。
(2) The retaining layer described in item 1 above is made of epoxy (meth)acrylate and/or epoxy novolac (meth)
1. A method for producing an erasable optical recording medium, which comprises coating a mixture containing an acrylate and a dye and then curing the medium by irradiating it with actinic light.
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