JPH03126580A - Erasable optical recording medium - Google Patents

Erasable optical recording medium

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Publication number
JPH03126580A
JPH03126580A JP1264760A JP26476089A JPH03126580A JP H03126580 A JPH03126580 A JP H03126580A JP 1264760 A JP1264760 A JP 1264760A JP 26476089 A JP26476089 A JP 26476089A JP H03126580 A JPH03126580 A JP H03126580A
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JP
Japan
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resin
layer
elasticity
rubbery
laser beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP1264760A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisashi Jo
尚志 城
Takahiro Omichi
高弘 大道
Takeyuki Kawaguchi
武行 川口
Kaoru Iwata
薫 岩田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
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Publication of JPH03126580A publication Critical patent/JPH03126580A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain superior recording/erasing characteristics by a method wherein an expansible layer made of a resin exhibiting rubbery elasticity at room temperature and a coloring matter is laminated on a holding layer made of a resin capable of reversibly turning to a rubbery form at high temperature and a coloring matter. CONSTITUTION:It is required that an expansible layer effectively expands when being heated by a laser beam irradiation and has a high rubbery elasticity for efficiently erasing a bump and returning to the former state. Therefore, it is required that a resin exhibits a high rubbery elasticity and never flow deforms by a laser beam irradiation. A resin used for a holding layer has a role of fixing or releasing a bump caused by a thermal expansion. As the resin, a resin, which is glassy or has a sufficient elasiticity at an ordinary temperature and is rubbery or has a small elasticity at a high temperature, is used: for example, an epoxy resin-cured substance having an elasticity of 80Kg/mm<2> or more at an ordinary temp. and a glass transition temperature of 60-150 deg.C is used. The resin is applied on a substrate and cured after being mixed with a coloring matter.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は熱時の形状変化を利用した消去可能な光記録媒
体に関する。さらに詳しくは、有機ポリマー/色素から
なる記録層の一部が選択されたポリマー男性体であるこ
とを特徴とする光記録媒体およびその製造法に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to an erasable optical recording medium that utilizes shape change upon heating. More specifically, the present invention relates to an optical recording medium characterized in that a portion of the recording layer made of an organic polymer/dye is a selected polymer and a method for producing the same.

背景技術とその問題点 従来、有機色素を用いた光記録媒体は多数提案されてい
る(例えば、特開昭61−163891.61−268
487、62−56191.62−122787.62
−39286および63−72594号各公報)。また
、有機色素と有機ポリマーとを組み合わせて用いた光記
録媒体も多数提案されている(例えば、特開昭62−9
0291.63=62794および63−191691
91691号各公報ながら、これらの記録媒体における
記録原理は、色素が光〈多くはレーザー光)を吸収して
生じる熱による記録媒体の非可逆的な形状変化(多くの
場合、ビット形成)に基づいているため、記録の消去が
きわめて困難であるか不可能であった。すなわち、色素
単独媒体の場合は、色素の気化、離散を伴うビット形成
により記録を行なうため、いったん形成したビットを消
去することは不可能であった。
BACKGROUND TECHNOLOGY AND PROBLEMS Conventionally, many optical recording media using organic dyes have been proposed (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 61-163891.61-268).
487, 62-56191.62-122787.62
-39286 and 63-72594). In addition, many optical recording media using a combination of an organic dye and an organic polymer have been proposed (for example, JP-A-62-9
0291.63=62794 and 63-191691
91691, the recording principle of these recording media is based on the irreversible change in shape of the recording medium (in most cases, bit formation) caused by the heat generated when the dye absorbs light (often laser light). This made erasure of records extremely difficult or impossible. That is, in the case of a dye-only medium, since recording is performed by forming bits accompanied by vaporization and dispersion of the dye, it is impossible to erase the bits once formed.

また、ポリマーと色素の混合系の場合は、ポリマーの流
動変形を伴うビット形成によって記録を行なうため、い
ったん形成した記録ピットを効率的に消去することは困
難であった。また、別の従来技術(特開昭60−698
46.63−136337.63−136338および
63−164042号各公報)によれば、レーザー光照
射により加熱・膨張しドーム状突起部(バンプ)を形成
する膨張層、およびこの形状を保持する保持層とからな
る記録・消去の可能な媒体が提案されている。この媒体
に記録を行なう場合は、あらかじめ膨張層に混合された
色素の吸収波長(λ1)でレーザー光照射を行ない、該
膨張層がバンプを形成し、保持層がこの形状を維持でき
るようにする。また、形成されたバンプの消去を行なう
場合は、予め保持層に混合された色素の吸収波長(λ2
)でレーザー光照射を行い、保持層をそのTg以上に加
熱してバンプ形状の維持が困難となるようにする。
Furthermore, in the case of a mixed system of a polymer and a dye, recording is performed by bit formation accompanied by flow deformation of the polymer, so it is difficult to efficiently erase the recording pits once formed. In addition, another conventional technology (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-698
46.63-136337, 63-136338 and 63-164042), an expansion layer that is heated and expanded by laser beam irradiation to form a dome-shaped protrusion (bump), and a retention layer that maintains this shape. A recording/erasable medium consisting of the following has been proposed. When recording on this medium, laser light is irradiated with the absorption wavelength (λ1) of the dye mixed in the expansion layer in advance so that the expansion layer forms a bump and the retention layer maintains this shape. . In addition, when erasing the formed bumps, the absorption wavelength (λ2
), the holding layer is heated above its Tg to make it difficult to maintain the bump shape.

色素/ポリマーからなるこの二層媒体の場合、記録を効
率よく行う、言い換えればバンプを出来るだけ高くする
には保持層のガラス転移温度(Tg)を出来るだけ高く
すればよい。そうすれば、熱膨張の程度が高い状態で保
持層がガラス状態になるからである。その反面、消去を
効率よく行うためには逆に保持層のTgが低い方がよい
。しかも、消去可能な媒体を得るためには、保持層がレ
ーザー光照射により非可逆的な変形、すなわちポリマー
の流動変形が起こることは好ましくない。したがって、
このような観点からは保持層用樹脂としては、三次元架
橋ポリマーが好ましい。できるだけ流動温度が高く、か
つ溶融粘度が高いことが好ましい。また、当然のことな
がら、保持層は膨張層の収縮力に抗してバンプの形状を
維持す葛役割をになっている。したがって、室温下で高
い弾性が要求される。
In the case of this dual layer medium consisting of dye/polymer, in order to perform recording efficiently, in other words to make the bump as high as possible, the glass transition temperature (Tg) of the holding layer should be made as high as possible. This is because the holding layer becomes a glass state when the degree of thermal expansion is high. On the other hand, in order to perform erasing efficiently, it is better for the retention layer to have a lower Tg. Furthermore, in order to obtain an erasable medium, it is not preferable that the holding layer undergo irreversible deformation due to laser beam irradiation, that is, flow deformation of the polymer. therefore,
From this point of view, three-dimensionally crosslinked polymers are preferable as the resin for the holding layer. It is preferable that the flow temperature is as high as possible and the melt viscosity is as high as possible. Also, as a matter of course, the holding layer plays the role of maintaining the shape of the bump against the contraction force of the expansion layer. Therefore, high elasticity is required at room temperature.

本発明者らはこれらの要件を満足する保持層用樹脂を得
るべく鋭意検討の結果、室温下での弾性率が高く、かつ
Tgが高いエポキシ樹脂硬化体が所望の記録・消去特性
を示すことを見い出し本発明を完成するに到った。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies to obtain a resin for the retention layer that satisfies these requirements, and have found that a cured epoxy resin having a high elastic modulus and a high Tg at room temperature exhibits the desired recording and erasing characteristics. They discovered this and completed the present invention.

本発明の概要 本発明における光記録媒体は、基板上に、少くとも室温
でゴム弾性を示す樹脂(P1)と色素(D1)とからな
る膨張層(A>と、室温でガラス状態、それより高い温
度でゴム状態に可逆的に変化し得る樹脂(P1)と色素
(D2)とからなる保持/I(B)とを、支持積層して
なる。両層の配置はレーザー光入射方式に応じて適宜泗
択される。
Summary of the Invention The optical recording medium of the present invention has an expandable layer (A>) on a substrate, which is composed of a resin (P1) exhibiting rubber elasticity at least at room temperature and a dye (D1), and which is in a glass state at room temperature. It is formed by supporting and laminating a resin (P1) that can reversibly change into a rubber state at high temperature and a retainer/I (B) consisting of a dye (D2).The arrangement of both layers depends on the laser beam incidence method. The selection will be made accordingly.

膨張層(A>は、レーザー光照射により加熱した際に効
果的に膨張することが記録特性を高める上で必要である
。そして、記録により生成したバンプを効率的に消去し
て元の状態に戻すためには高いゴム弾性が要求される。
The expansion layer (A>) is required to expand effectively when heated by laser beam irradiation in order to improve the recording characteristics.The expansion layer (A>) also needs to effectively expand when heated by laser beam irradiation in order to improve the recording characteristics. High rubber elasticity is required in order to restore the elasticity.

したがって、樹脂(P1)は高いゴム弾性を示し、かつ
、レーザー光照射により流動変形を起こさないことが必
要である。好適に用いられる樹脂としては、天然ゴム;
スチレン−ブタジェンゴム、ブタジェンゴム、イソプレ
ンゴム、ニトリルゴム、クロロブレンゴム、ブチルゴム
、エチレン−プロピレンゴム;スチレン系、オレフィン
系、ウレタン系の熱可塑性エラストマー;アミン架橋型
、インシアネート架橋型、ポリオール架橋型、紫外線架
橋型のエラストマーが挙げられる。
Therefore, the resin (P1) must exhibit high rubber elasticity and must not undergo flow deformation due to laser beam irradiation. As the resin suitably used, natural rubber;
Styrene-butadiene rubber, butadiene rubber, isoprene rubber, nitrile rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, ethylene-propylene rubber; styrene-based, olefin-based, urethane-based thermoplastic elastomers; amine crosslinked type, incyanate crosslinked type, polyol crosslinked type, ultraviolet rays Examples include crosslinked elastomers.

本発明において用いられる樹脂(P1)は、熱膨張によ
り生成したバンプの固定、解除する役割を担っている。
The resin (P1) used in the present invention plays a role in fixing and releasing bumps generated by thermal expansion.

従って、両作用を効率的に行なうなめに、常温ではガラ
ス状態すなわちバンプを保持するに充分な弾性率を有し
、高温ではゴム状態すなわち8M層の熱膨張に対して障
害にならない程度に弾性率が小さい樹脂である必要があ
る。本発明において用いられる樹脂は、(1)常温での
弾性率が80Kg/mm2以上であり、かつ(2)ガラ
ス転移温度が60〜150℃であるエポキシ樹脂硬化体
である。弾性率は、前述の如く膨張層の収縮力に抗して
バンプを固定するために高い必要があり、引っ張り弾性
率が、80Kg/mm2以上、好ましくは100Kg/
mm2以上の範囲が用いられる。それ以下では、バンプ
形状を十分に維持できなくなる。ガラス転移温度は、前
述の理由から、60〜150°C5好ましくは70〜1
20℃の範囲が用いられる。具体的なエポキシ化合物と
して、下記一般式: 「式中、Gはグリシジル基、Xは炭素数1〜10の二価
の鎖状または環状炭化水素基またはSO2であり、Yは
水素原子またはハロゲン原子、nはθ〜20の整数であ
る」 で示されるものが挙げられる。好適に挙げられる具体例
として、Xがメチレン、2,2−プロピレン、1.1−
シクロヘキシレン、SO2であり、Yが水素原子または
臭素原子のエポキシ樹脂が挙げられる。
Therefore, in order to perform both functions efficiently, it must have an elastic modulus sufficient to maintain the glass state, that is, the bump, at room temperature, and a rubber state, that is, the elastic modulus to the extent that it does not impede the thermal expansion of the 8M layer at high temperatures. It is necessary to use a resin with a small size. The resin used in the present invention is a cured epoxy resin having (1) an elastic modulus of 80 Kg/mm2 or more at room temperature, and (2) a glass transition temperature of 60 to 150°C. As mentioned above, the elastic modulus needs to be high in order to fix the bump against the contraction force of the expansion layer, and the tensile elastic modulus is 80 Kg/mm2 or more, preferably 100 Kg/mm2 or more.
A range of mm2 or more is used. If it is less than that, the bump shape cannot be maintained sufficiently. For the reasons mentioned above, the glass transition temperature is 60 to 150°C, preferably 70 to 1
A range of 20°C is used. As a specific epoxy compound, the following general formula: "In the formula, G is a glycidyl group, X is a divalent chain or cyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or SO2, and Y is a hydrogen atom or a halogen atom. , n is an integer of θ to 20.” Preferred specific examples include methylene, 2,2-propylene, 1,1-
Examples include epoxy resins such as cyclohexylene and SO2, in which Y is a hydrogen atom or a bromine atom.

nはθ〜20、好適には0〜15が挙げられる。n is θ to 20, preferably 0 to 15.

もう一つのエポキシ樹脂としては、次式で示されるエポ
キシノボラックが挙げられる。
Another epoxy resin includes epoxy novolak represented by the following formula.

「式中:Gはグリシジル基、mは5〜20の整数、Rは
水素原子またはメチル基を表わす」本発明においてはこ
れらのエポキシ樹脂は単独で用いてもよいし、複数の混
合物として用いてもよい。
"In the formula: G is a glycidyl group, m is an integer of 5 to 20, and R is a hydrogen atom or a methyl group." In the present invention, these epoxy resins may be used alone or as a mixture of two or more. Good too.

本発明において用いられるエポキシ樹脂の硬化物の物膜
および硬化反応性は硬化剤に依存する。
The film and curing reactivity of the cured product of the epoxy resin used in the present invention depend on the curing agent.

それらは、エポキシ樹脂の種類と硬化物のTgや弾性率
を勘案して選択される。また、混合する色素との相溶性
も選択基準と重要である。−船釣に硬化剤としては、ア
ミン類と酸無水物が用いられる。
They are selected in consideration of the type of epoxy resin and the Tg and elastic modulus of the cured product. In addition, compatibility with the dye to be mixed is also an important selection criterion. - Amines and acid anhydrides are used as curing agents for boat fishing.

アミン類としては、ジエチレントリアミン、トリエチレ
ンテトラミン、デトラエチレンペンタミン、ジアミノシ
クロヘキサン、メチレンジアニリン、オキシジアニリン
、トリレンジアミンなどの脂肪族、脂環族芳香族ポリア
ミン類が好適に用いられる。また、ポリアミドアミン、
パーサミドや次式で示されるスピロ環を含んだジアミン
などのようにヘテロ原子を含んだアミンも好ましく用い
られる。
As the amines, aliphatic and alicyclic aromatic polyamines such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, detraethylenepentamine, diaminocyclohexane, methylenedianiline, oxydianiline, and tolylenediamine are preferably used. Also, polyamide amine,
Amines containing heteroatoms such as persamide and diamines containing a spiro ring represented by the following formula are also preferably used.

一方、酸無水物系硬化剤としてはマレイン酸酸無水物、
コハク酸酸無水物、フタル酸酸無水物、テトラヒドロフ
タル酸酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸酸無水物
、ピロメリト酸酸無水物、グルタル酸酸無水物、トリメ
リド酸酸無水物、メチルナデック酸酸無水物、クロレン
ディック酸酸無水物などの脂肪族、脂環族、芳香族酸酸
無水物が好適に用いられる。
On the other hand, as acid anhydride curing agents, maleic acid anhydride,
Succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, glutaric anhydride, trimellidic anhydride, methylnadecic anhydride , aliphatic, alicyclic, and aromatic acid anhydrides such as chlorendic acid anhydride are preferably used.

これらの硬化剤の配合比は、エポキシ化合物のエポキシ
価に合わせて決定される。
The blending ratio of these curing agents is determined according to the epoxy value of the epoxy compound.

本発明において用いられる色素D1およびD2は、それ
ぞれ記録過程および消去過程においてレーザー光を効率
よく吸収して熱に変換する役割をする。従って、記録用
レーザーおよび消去用レーザーの発振波長域に合致して
いる色素が選ばれる。
The dyes D1 and D2 used in the present invention function to efficiently absorb laser light and convert it into heat during the recording and erasing processes, respectively. Therefore, a dye is selected that matches the oscillation wavelength range of the recording laser and the erasing laser.

そして、両レーザー光を選択的に吸収できるように、そ
れぞれの発振波長行きでの吸収強度が過度に重ならない
ことが好ましい。また、読み取りは媒体表面の光反射を
利用するために、保持層での光反射率が高いことが要求
される。この観点がら、色素D2は高反射率を有するこ
とが好ましい。もちろん吸収特性を効率的に行なうなめ
に、色素はそれぞれの樹脂に均一分散するように選択す
べきである。好適な色素D1およびD2としては、シア
ニン系色素、ピリリウム系色素、チアピリリウム系色素
、スクワリリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素などのポリメチレン系色素;フタロシアニ
ンやナフタロシアニンなどのフタロシアニン系色素;ジ
チオールニッケル錯体などのジチオール金属錯体;ナフ
トキノン、アントラキノン系色素;トリフェニルメタン
系色素;アミニウム、ジインモニウム系色素が挙げられ
る。
In order to selectively absorb both laser beams, it is preferable that the absorption intensities at each oscillation wavelength do not overlap excessively. Furthermore, since reading utilizes light reflection on the surface of the medium, the holding layer is required to have a high light reflectance. From this point of view, it is preferable that the dye D2 has a high reflectance. Of course, for efficient absorption properties, the dyes should be selected to be uniformly dispersed in the respective resin. Suitable dyes D1 and D2 include polymethylene dyes such as cyanine dyes, pyrylium dyes, thiapyrylium dyes, squarylium dyes, croconium dyes, and azulenium dyes; phthalocyanine dyes such as phthalocyanine and naphthalocyanine; dithiol nickel. Examples include dithiol metal complexes such as complexes; naphthoquinone and anthraquinone dyes; triphenylmethane dyes; aminium and diimmonium dyes.

また、これらの色素を複数個混合して用いてもf14わ
ない。
Further, even if a plurality of these dyes are used in combination, f14 does not occur.

本発明において用いられるこれらの樹脂は、色素と混合
した上で基板上に塗工・硬化される。使用する基板は特
に限定はないが、−mにはポリカーボネート、ポリメチ
ルメタクリレート、ガラスなどのディスク状基板やポリ
エステルなどのフィルム状基板が用いられる。色素/樹
脂の比率は、色素の吸光度、膜厚にも依存するが一般に
は0.05〜0.4、好ましくは1.0〜0.3である
。膨脹層の膜厚は一般には、0.5〜10μm、好まし
くは1.0〜5.0μmが用いられ、保持層の膜厚は0
.1〜3.0μm、好ましくは0.3〜2.0μmが用
いられる。塗工法は特に限定はないが、スピンコード法
、流延法、バーコード法、ドクターナイフ法、グラビヤ
コート法などが用いられる。その際使用される好適な溶
媒としては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなど
の脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素;メタノール、エタノール、ブタノー
ルなどのアルコール類;クロロホルム、塩化メチレンな
どのハロアルカン類;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエ
ステル類;アセトン、メチルエチルケトン;メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノブチルエーテルなどのグライム類;テトラヒドロ
フラン、ジオキサンなどのエーテル類;ニトロメタン、
アセトニトリルおよびそれらの混合物が挙げられる。
These resins used in the present invention are mixed with a pigment and then applied onto a substrate and cured. The substrate used is not particularly limited, but -m may be a disk-shaped substrate made of polycarbonate, polymethyl methacrylate, glass, or the like, or a film-shaped substrate made of polyester or the like. The ratio of dye/resin is generally 0.05 to 0.4, preferably 1.0 to 0.3, although it depends on the absorbance of the dye and the film thickness. The thickness of the expansion layer is generally 0.5 to 10 μm, preferably 1.0 to 5.0 μm, and the thickness of the retention layer is 0.5 to 10 μm, preferably 1.0 to 5.0 μm.
.. 1 to 3.0 μm, preferably 0.3 to 2.0 μm is used. The coating method is not particularly limited, but a spin code method, a casting method, a bar code method, a doctor knife method, a gravure coating method, etc. are used. Suitable solvents used in this case include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; alcohols such as methanol, ethanol, and butanol; chloroform, methylene chloride, etc. haloalkanes; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; acetone, methyl ethyl ketone; ketones such as methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; glymes such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; nitromethane,
Mention may be made of acetonitrile and mixtures thereof.

膨脹層において用いられる架橋型エラストマーの場合は
、塗工後架橋硬化する必要がある。効果法としては、熱
硬化法、紫外線硬化法が用いられる。熱硬化の場合は加
熱することにより三次元架橋硬化される。加熱温度は一
般には50〜150℃、好ましくは70〜120℃、特
に80〜120℃が採用される。一方紫外線硬化法の場
合は、光開始剤の共存下で紫外線を照射することにより
行なわれる。
In the case of a crosslinked elastomer used in the expansion layer, it is necessary to crosslink and cure it after coating. As the effect method, a thermosetting method and an ultraviolet curing method are used. In the case of thermosetting, three-dimensional crosslinking and curing is achieved by heating. The heating temperature is generally 50 to 150°C, preferably 70 to 120°C, particularly 80 to 120°C. On the other hand, in the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays are irradiated in the presence of a photoinitiator.

光開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン
などのベンゾフェノン系開始剤;ベンジル、フェニルメ
トキシジケトンなどのジゲトン系開始剤;ベンゾインエ
チルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾ
イン系開始剤;2,4−ジエチルチオキサントンなどの
チオキサントン系開始剤、2−メチルアントラキノン、
カンファーキノンなどのキノン系開始剤などが好ましく
用いられる。使用する紫外線としては、低圧水銀灯、中
圧水銀灯、高圧水銀灯などが好適に用いられている。
Examples of photoinitiators include benzophenone initiators such as benzophenone and Michler's ketone; digetone initiators such as benzyl and phenylmethoxydiketone; benzoin initiators such as benzoin ethyl ether and benzyl dimethyl ketal; and 2,4-diethylthioxanthone. Thioxanthone initiator, 2-methylanthraquinone,
Quinone-based initiators such as camphorquinone are preferably used. As the ultraviolet light to be used, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, etc. are suitably used.

一方、保持層の場合は塗工後、加熱架橋する。On the other hand, in the case of a retaining layer, heat crosslinking is performed after coating.

加熱温度は、硬化剤の種類にも依存するが、一般的には
、50〜200℃、好ましくは70〜150℃の範囲が
用いられる。それ以上では、基板や色素の劣化を起こす
ために好ましくない。また、それ以下では硬化反応が十
分に進行していないなめに好ましくない。また、硬化時
間は、−mには1分〜lO時間、好ましくは3分〜5時
間の範囲で行なわれる。
Although the heating temperature depends on the type of curing agent, it is generally in the range of 50 to 200°C, preferably 70 to 150°C. If it is more than that, it is not preferable because it causes deterioration of the substrate and the dye. Further, if it is less than that, the curing reaction does not proceed sufficiently, which is not preferable. The curing time for -m is 1 minute to 10 hours, preferably 3 minutes to 5 hours.

かくして得られた二層媒体の記録法・再生・消去は二種
類のレーザー光を照射することにより行う。その際使用
するレーザーは、ヘリウムネオンレーザ−、アルゴンレ
ーザー、半導体レーザーなどが用いられるが、小型で安
価な半導体レーザーがより好ましい。以下、膨張層色素
D1が840nm近傍に吸収を示し、保持層色素D2が
780nm近傍に吸収を示す媒体を例にとって説明する
。記録は、780nmのレーザー光を照射することによ
り行う。
Recording, reproduction, and erasing of the thus obtained two-layer medium are performed by irradiating it with two types of laser beams. The laser used in this case may be a helium neon laser, an argon laser, a semiconductor laser, etc., but a small and inexpensive semiconductor laser is more preferable. Hereinafter, an example of a medium in which the expansion layer dye D1 exhibits absorption in the vicinity of 840 nm and the retention layer dye D2 exhibits absorption in the vicinity of 780 nm will be described. Recording is performed by irradiating a laser beam of 780 nm.

この際、主として膨張層が光を吸収してバンプを形成す
る。再生は、840nmの弱いレーザー光を照射し、記
録部と未記録部との反射率の差を読み取ることにより行
われる。消去は、780nmのレーザー光を照射するこ
とにより行われる。一般的に、記録は、5〜30mW、
好ましくは7〜20mWのパワーで5〜0.1μ秒照射
する。再生は0.5〜3mW 、好ましくは0.7〜2
.0mWのパワーで5〜0,1μ秒照射する。消去は、
1〜20mW、好ましくは3〜12mWのパワーで0.
1〜20m秒照射する。
At this time, the expansion layer mainly absorbs light to form bumps. Reproduction is performed by irradiating a weak laser beam of 840 nm and reading the difference in reflectance between the recorded area and the unrecorded area. Erasing is performed by irradiating with 780 nm laser light. Generally, recording is performed at 5 to 30 mW,
Preferably, the irradiation is performed at a power of 7 to 20 mW for 5 to 0.1 μsec. Regeneration is 0.5-3mW, preferably 0.7-2
.. Irradiate for 5 to 0.1 μsec with a power of 0 mW. The erasure is
0.0 with a power of 1-20 mW, preferably 3-12 mW.
Irradiate for 1 to 20 msec.

本発明によるバンプの形成と消滅による反射率の変化を
読み取ることを基本原理とする記録媒体において優れた
記録・消去特性が得られる。
According to the present invention, excellent recording and erasing characteristics can be obtained in a recording medium whose basic principle is to read changes in reflectance due to the formation and disappearance of bumps.

実施例1 ビスフェノールA型エポキシであるエピコート828(
油化シェルエポキシ■)に官能基当量が等量のエボメー
トN−002を混合したクロロホルム溶液をガラス板上
にバーコード法によって厚み100μmに塗布し、80
℃2時間加熱し硬化した。ガラス板からこの薄膜を剥離
し弾性率を測定したところ300 Kg/mm2であっ
た。また、ガラス転移点は73℃であった。
Example 1 Epicote 828 (bisphenol A epoxy)
A chloroform solution in which Evomate N-002 with the same functional group equivalent was mixed with oil-based shell epoxy (■) was coated on a glass plate to a thickness of 100 μm using the barcode method.
It was cured by heating at °C for 2 hours. When this thin film was peeled off from the glass plate and its elastic modulus was measured, it was found to be 300 Kg/mm2. Moreover, the glass transition point was 73°C.

末端に水酸基を有するクロロブレンゴムPH050く電
気化学工業■)と多官能インシアネートであるコロネー
トLを水酸基量とインシアネート量が等量になるように
混合し、さらに10phrのIRDlool (白木化
成■)を添加し、バーコード法によって厚み3μmに塗
布し、120℃で1時間加熱し硬化することによって膨
脹層を形成した。官能基当量が等量になるように調製し
たエピコート828とエボメートN−002に対して1
0phrのTV−IR−2く三井東圧■)を添加し膨張
層上に流延、乾燥し、80℃3時間加熱し1μmの保持
層を形成した。この2層媒体に波長840nm 、10
mW、パルス幅5μ秒のレーザー光を照射したところ直
径1μmのバンプの形成が認められた。このバンプに波
長780nm、7mWのレーザー光をデフォーカスし1
0μ秒照射しなところ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消
失した。
Mix chloroprene rubber PH050 (Denki Kagaku Kogyo ■) with a hydroxyl group at the end and Coronate L, a polyfunctional incyanate, so that the amount of hydroxyl groups and the amount of incyanate are equal, and then add 10 phr of IRDlool (Shiraki Kasei ■). was added, applied to a thickness of 3 μm using a barcode method, and heated at 120° C. for 1 hour to cure, thereby forming an expanded layer. 1 for Epicote 828 and Evomate N-002, which were prepared so that the functional group equivalents were equal.
0 phr of TV-IR-2 (Mitsui Toatsu) was added and cast onto the expanded layer, dried, and heated at 80° C. for 3 hours to form a 1 μm thick retaining layer. This two-layer medium has a wavelength of 840 nm and 10
When irradiated with laser light of mW and pulse width of 5 μs, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. A laser beam with a wavelength of 780 nm and a power of 7 mW is defocused on this bump.
After irradiation for 0 μs, the bumps disappeared within the range of microscopic observation.

実施例2 ビスフェノールA型エポキシであるエピコート1007
 (油化シェルエポキシ■)に官能基当量が等量のエボ
メートN−002を混合したクロロホルム溶液をガラス
板上にバーコード法によって厚み100μmに塗布し、
80’C3時間加熱し硬化1な。ガラス板からこの薄膜
を剥離し弾性率を測定したところ290 Kg/mm2
であった。また、ガラス転移点は96℃であった。
Example 2 Epicote 1007, a bisphenol A epoxy
A chloroform solution in which Evomate N-002 having an equivalent functional group equivalent was mixed with (Oilized Shell Epoxy ■) was coated on a glass plate to a thickness of 100 μm using the barcode method.
Heat at 80'C for 3 hours and harden 1. When this thin film was peeled off from the glass plate and the elastic modulus was measured, it was 290 Kg/mm2.
Met. Moreover, the glass transition point was 96°C.

末端に水酸基を有するクロロプレンゴムPH050(電
気化学工業■)と多官能インシアネートであるコロネー
トLを、水酸基量とイソシアネート量が等量になるよう
に混合し、さらに10phrのIRDlool (白木
化成0朱)を添加し、バーコード法によって厚み3μm
に塗布し、120°Cで1時間加熱し硬化することによ
って膨脹層を形成した。官能基当量が等量になるように
混合したエピコート1007ととエボメートN−002
に対して10phrのTY−IR−2(三井東圧■)を
添加し膨張層上に流延、乾燥し、80℃3時間加熱し1
μmの保持層を形成した。この2層媒体に波長840n
m 、 10mW、パルス幅5μ秒のレーザー光を照射
しなところ直径1μmのバンプの形成が認められた。こ
のバンプに波長780nm、7mWのレーザー光をデフ
ォーカスし10μ秒照射しなところ、顕微鏡観察の範囲
でバンプが消失しな。
Chloroprene rubber PH050 (Denki Kagaku Kogyo ■) having a hydroxyl group at the end and Coronate L, a polyfunctional incyanate, were mixed so that the amount of hydroxyl groups and the amount of isocyanate were equal, and then 10 phr of IRDlool (Shiraki Kasei 0 Vermilion) was added. 3μm thick by barcode method.
An expanded layer was formed by applying the mixture to the substrate and heating it at 120°C for 1 hour to cure it. Epicote 1007 and Evomate N-002 mixed so that the functional group equivalents are equal
10 phr of TY-IR-2 (Mitsui Toatsu ■) was added to the mixture, and the mixture was cast onto the expanded layer, dried, and heated at 80°C for 3 hours.
A holding layer of μm was formed. This two-layer medium has a wavelength of 840n.
When a laser beam of 10 mW and a pulse width of 5 μsec was not applied, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. When this bump was irradiated with a defocused laser beam of 7 mW and a wavelength of 780 nm for 10 μs, the bump did not disappear within the range of microscopic observation.

実施例3 実施例2のエボメートN−002の代わりに4.4’ 
−ジアミノジフェニルメタンを用いた。この樹脂の常温
における弾性率は175 Kg/mm2であった。また
、ガラス転移点は105℃であった。実施例2と同様に
膨脂層/保持層からなる2層媒体を形成した。この2層
媒体に波長840nm 、 10mW、パルス幅5μ秒
のレーザー光を照射したところ直径1μmのバンプの形
成が認められた。このバンプに波長780nm 、7m
Wのレーザー光をデフォーカスし10μ秒照射したとこ
ろ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消失した。
Example 3 4.4' instead of Ebomate N-002 in Example 2
- Diaminodiphenylmethane was used. The elastic modulus of this resin at room temperature was 175 Kg/mm2. Moreover, the glass transition point was 105°C. A two-layer medium consisting of a fat-swollen layer/retention layer was formed in the same manner as in Example 2. When this two-layer medium was irradiated with a laser beam having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μs, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. This bump has a wavelength of 780 nm and a wavelength of 7 m.
When the W laser beam was defocused and irradiated for 10 μs, the bumps disappeared within the range of microscopic observation.

実施例4 フェノールノボラック型エポキシであるエピコート15
4(油化シェルエポキシ■)に官能基当量が等量のトリ
メリド酸酸無水物を添加し、実施例1と同様に形成した
膨張層上に流延、乾燥し、125°C6時間加熱し保持
層を形成しな。この2層媒体に波長840nm 、 1
0mW、パルス幅5μ秒のレーザー光を照射したところ
直径1μmのバンプの形成が認められた。このバンプに
波長780nm 、7mWのレーザー光をデフォーカス
し10μ秒照射したところ、顕微鏡観察の範囲でバンプ
が消失した。
Example 4 Epicote 15, a phenolic novolac type epoxy
Trimelidic acid anhydride having the same functional group equivalent was added to 4 (oiled shell epoxy ■), and the mixture was cast onto an expanded layer formed in the same manner as in Example 1, dried, heated at 125°C for 6 hours, and held. Don't form layers. This two-layer medium has a wavelength of 840 nm, 1
When irradiated with laser light of 0 mW and pulse width of 5 μs, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. When this bump was irradiated with a defocused laser beam of 7 mW and a wavelength of 780 nm for 10 μs, the bump disappeared within the range of microscopic observation.

実施例5 実施例4のTY−IR−2の代わりにNK125  (
日本感光色素@)を用いて実施例4と同様に膨脂層/保
持層からなる2層媒体を形成しな。この2層媒体に波長
840nm 、 10mW、パルス幅5μ秒のレーザー
光を照射したところ直径1μmのバンプの形成が認めら
れた。このバンプに波長780nm 、7mWのレーザ
ー光をデフォーカスし10μ秒照射しなところ、顕微鏡
!F!!察の範囲でバンプが消失した。
Example 5 NK125 (
A two-layer medium consisting of a fat-swollen layer/retaining layer was formed in the same manner as in Example 4 using Japanese photosensitive dye @). When this two-layer medium was irradiated with a laser beam having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μs, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. A defocused laser beam of 7mW with a wavelength of 780nm is irradiated onto this bump for 10μ seconds, and a microscope! F! ! The bump disappeared within the range of my knowledge.

実施例6 実施例1のTY−IR−2の代わりに下記構造のナフタ
ロシアニン色素を用い、実施例1と同様に膨張N/保持
層からなる2層媒体を形成した。
Example 6 A naphthalocyanine dye having the following structure was used in place of TY-IR-2 in Example 1, and a two-layer medium consisting of expanded N/retention layer was formed in the same manner as in Example 1.

この2層媒体に波長840nm 、10mW、パルス幅
5μ秒のレーザー光を照射したところ直径1μmのバン
プの形成が認められた。このバンプに波長780nm 
、7mWのレーザー光をデフォーカスし10μ秒照射し
たところ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消失した。
When this two-layer medium was irradiated with a laser beam having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μsec, the formation of bumps with a diameter of 1 μm was observed. This bump has a wavelength of 780 nm.
When a 7 mW laser beam was defocused and irradiated for 10 μs, the bumps disappeared within the range of microscopic observation.

発明の効果 本発明によるとバンプの形成と消滅による反射率の変化
を読み取ることを基本原理とする記録媒体において優れ
た記録・消去特性が得られる。
Effects of the Invention According to the present invention, excellent recording/erasing characteristics can be obtained in a recording medium whose basic principle is to read changes in reflectance due to the formation and disappearance of bumps.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  基板上に、少くとも室温でゴム弾性を示す樹脂(P_
1)と色素(D_1)とからなる膨張層(A)と、室温
でガラス状態、それより高い温度でゴム状態に可逆的に
変化し得る樹脂(P_2)と色素(D_2)とからなる
保持層(B)とを、支持積層してなる光記録媒体におい
て、該樹脂P_2が、(1)室温での弾性率が80Kg
/mm^2以上であり(2)ガラス転移温度が60〜1
50℃であるエポキシ樹脂硬化体であることを特徴とす
る消去可能な光記録媒体。
A resin (P_
1) and a dye (D_1), and a retaining layer consisting of a resin (P_2) that can reversibly change into a glass state at room temperature and a rubber state at a higher temperature and a dye (D_2). In the optical recording medium formed by supporting and laminating (B), the resin P_2 has (1) an elastic modulus of 80 kg at room temperature.
/mm^2 or more, and (2) the glass transition temperature is 60 to 1.
An erasable optical recording medium characterized in that it is an epoxy resin cured at 50°C.
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