JP3004288B2 - Erasable optical recording medium and manufacturing method thereof - Google Patents

Erasable optical recording medium and manufacturing method thereof

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JP3004288B2
JP3004288B2 JP1256993A JP25699389A JP3004288B2 JP 3004288 B2 JP3004288 B2 JP 3004288B2 JP 1256993 A JP1256993 A JP 1256993A JP 25699389 A JP25699389 A JP 25699389A JP 3004288 B2 JP3004288 B2 JP 3004288B2
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layer
dye
acrylate
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irradiated
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は熱時の形状変化を利用した消去可能な光記録
媒体およびその製造法に関する。さらに詳しくは、有機
ポリマー/色素からなる記録層の一部に例えば紫外線の
如き活性光線での硬化が可能な選択されたポリマーを用
いることを特徴とする光記録媒体およびその製造法に関
するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an erasable optical recording medium utilizing shape change upon heating and a method for manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to an optical recording medium and a method for producing the same, wherein a selected polymer that can be cured with actinic rays such as ultraviolet rays is used for a part of a recording layer composed of an organic polymer / dye. .

背景技術とその問題点 従来、有機色素を用いた光記録媒体は多数提案されて
いる(例えば、特開昭61−163891,61−268487,62−5619
1,62−122787,62−39286および63−72594号公報参
照)。また、有機色素と有機ポリマーとを組み合わせて
用いた光記録媒体も多数提案されている(例えば、特開
昭62−90291,63−62794および63−191691各号公報参
照)。しかしながら、これらの記録媒体における記録原
理は、色素が光(多くはレーザー光)を吸収して生じる
熱による記録媒体の非可逆的な形状変化(多くの場合、
ピット形成)に基づいているため、記録の消去がきわめ
て困難であるか不可能であった。すなわち、色素単独媒
体の場合は、色素の気化、離散を伴うピット形成により
記録を行なうため、いったん形成したピットを消去する
ことは不可能であった。また、ポリマーと色素の混合系
の場合は、ポリマーの流動変形によるピット形成によっ
て記録を行なうため、いったん形成した記録ピットを効
率的に消去することは困難であった。また、別の従来技
術(特開昭60−69846,63−136337,63−136338および63
−164042各号公報参照)によれば、レーザー光照射によ
り加熱・膨張しドーム状突起部(バンプ)を形成する膨
張層、およびこの形状を保持する保持層とからなる記録
・消去の可能な媒体が提案されている。この媒体に記録
を行なう場合は、あらかじめ膨張層に混合された色素の
吸収波長(λ)でレーザー光照射を行い、該膨張層に
バンプを形成させる。すると保持層もこの形状に従って
変形するが、レーザー光照射をせしめると保持層が急冷
されて固まり、この形状を維持できるようになる。次
に、記録されたバンプの消去を行う場合は、予め保持層
に混合された色素の吸収波長(λ)でレーザー光照射
を行い、保持層をそのTg以上に加熱し、膨脹層があまり
加熱されないようにすると膨脹層の復元力によってバン
プ形状の維持が困難となるようになる。
Background Art and Problems There have been proposed many optical recording media using organic dyes (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-163891, 61-268487, 62-5819).
1, 62-122787, 62-39286 and 63-72594). Also, many optical recording media using a combination of an organic dye and an organic polymer have been proposed (see, for example, JP-A-62-90291, 63-62794 and 63-191691). However, the principle of recording in these recording media is that the irreversible shape change of the recording medium due to heat generated by the dye absorbing light (mostly laser light) (in many cases,
Pit formation), it was extremely difficult or impossible to erase the record. That is, in the case of a dye-only medium, recording is performed by forming pits accompanied by vaporization and separation of the dye, so that it is impossible to erase pits once formed. Further, in the case of a mixed system of a polymer and a dye, since recording is performed by forming pits due to the flow deformation of the polymer, it has been difficult to efficiently erase once formed recording pits. Further, other prior arts (JP-A-60-69846, 63-136337, 63-136338 and
JP-A-164042), a recordable / erasable medium comprising an expansion layer which is heated and expanded by irradiation with a laser beam to form a dome-shaped projection (bump), and a holding layer which retains this shape. Has been proposed. When recording on this medium, laser light irradiation is performed at the absorption wavelength (λ 1 ) of the dye previously mixed in the expansion layer to form a bump on the expansion layer. Then, the holding layer is also deformed according to this shape. However, when the laser beam is irradiated, the holding layer is rapidly cooled and solidified, and this shape can be maintained. Next, when erasing the recorded bumps, the holding layer is irradiated with a laser beam at the absorption wavelength (λ 2 ) of the dye previously mixed in the holding layer, and the holding layer is heated to a temperature equal to or higher than its Tg. If the heating is not performed, it becomes difficult to maintain the bump shape due to the restoring force of the expansion layer.

色素/ポリマーからなるこの二層媒体の場合、記録を
効率よく行なう、言い換えればバンプを出来るだけ高く
するには保持層のポリマーのTgを出来るだけ高くすれば
よい。そうすれば、熱膨張の程度が高い状態で保持層が
ガラス状態になるからである。その半面、消去を効率よ
く行なうためには逆に保持層のTgが低い方がよい。しか
も、消去可能な媒体を得るためには、保持層がレーザー
光照射により非可逆的な変形、すなわちポリマーの流動
変形が起こることは好ましくない。このような観点から
は保持層用樹脂としては、三次元架橋ポリマーが好まし
い。しかしながら、架橋ポリマーを積層するためには一
般に塗工後硬化過程が必要となり、工業的にはこの硬化
を、短時間で行なう必要が生じる。これは、フイルム基
板上に連続コーティングする場合には、必須の要件にな
る。
In the case of this two-layered medium composed of a dye / polymer, recording can be performed efficiently, in other words, in order to make the bumps as high as possible, the Tg of the polymer in the holding layer should be as high as possible. Then, the holding layer is in a glassy state with a high degree of thermal expansion. On the other hand, in order to perform erasing efficiently, it is better that the Tg of the holding layer is low. Moreover, in order to obtain an erasable medium, it is not preferable that the holding layer undergoes irreversible deformation by laser beam irradiation, that is, flow deformation of the polymer. From such a viewpoint, a three-dimensional crosslinked polymer is preferable as the resin for the holding layer. However, in order to laminate a crosslinked polymer, a curing process after coating is generally required, and industrially, it is necessary to perform this curing in a short time. This is an essential requirement for continuous coating on a film substrate.

本発明者らはこれらの相矛盾する要件を満足する保持
層用樹脂を得るべく鋭意検討の結果、特定の構造を有す
るポリマーが所望の熱的特性を有し、かつ紫外線照射に
より短時間で光硬化することを見い出し本発明に到達し
た。
The present inventors have conducted intensive studies to obtain a resin for a holding layer that satisfies these contradictory requirements, and as a result, a polymer having a specific structure has desired thermal characteristics and is irradiated with ultraviolet light in a short time. The present invention was found to cure and reached the present invention.

本発明の概要 本発明における光記録媒体は、少くとも室温でゴム弾
性を示す樹脂(P1)と色素(D1)とからなる膨張層
(A)と、室温でガラス状態(高弾性状態)、それより
高い温度においてゴム状態に可逆的に変化し得る樹脂
(P2)と色素(D2)とからなる保持層(B)とを基板で
支持してなる。なお、基板に対する膨張層(A)と保持
層(B)との関係は、レーザー入射方向に対応して適宜
変更できる。
SUMMARY OF THE INVENTION The optical recording medium of the present invention comprises an expansion layer (A) comprising a resin (P 1 ) and a dye (D 1 ) exhibiting rubber elasticity at least at room temperature, and a glassy state (high elastic state) at room temperature. A supporting layer (B) made of a resin (P 2 ) and a dye (D 2 ) which can be reversibly changed to a rubber state at a higher temperature is supported by a substrate. Note that the relationship between the expansion layer (A) and the holding layer (B) with respect to the substrate can be appropriately changed according to the laser incident direction.

膨張層(A)は、レーザー照射により加熱した際に効
果的に膨張することが記録特性を高める上で必要であ
る。そして、記録により生成したバンプを効率的に消去
して元の状態に戻すためには高いゴム弾性が消去時には
要求される。したがって、樹脂(P1)は高いゴム弾性を
示し、かつレーザー光照射により流動変形を起こさない
ことが必要である。好適に用いられる樹脂としては、天
然ゴム;スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、
イソプレンゴム、ニトリルゴム、クロロプレンゴム、ブ
チルゴム、エチレン−プロピレンゴム、ウレタンゴム、
シリコーンゴムなどの合成ゴム;スチレン系、オレフィ
ン系、ウレタン系の熱可塑性エラストマー;アミン架橋
型、イソシアネート架橋型、紫外線架橋型のエラストマ
ーが挙げられる。
The expansion layer (A) needs to expand effectively when heated by laser irradiation in order to enhance the recording characteristics. In order to efficiently erase the bumps generated by recording and return to the original state, high rubber elasticity is required at the time of erasing. Therefore, it is necessary that the resin (P 1 ) has high rubber elasticity and does not undergo flow deformation by laser beam irradiation. Suitable resins include natural rubber; styrene-butadiene rubber, butadiene rubber,
Isoprene rubber, nitrile rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, ethylene-propylene rubber, urethane rubber,
Synthetic rubbers such as silicone rubber; styrene-based, olefin-based, urethane-based thermoplastic elastomers; and amine-crosslinked, isocyanate-crosslinked, and ultraviolet-crosslinkable elastomers.

色素D1およびD2は、それぞれ記録過程および消去過程
においてレーザー光を効率よく吸収して熱に変換する役
割をする。従って、記録用レーザーおよび消去用レーザ
ーの発振波長域に合致した吸収を有する色素が選ばれ
る。そして、両レーザー光を選択的に吸収できるよう
に、それぞれの発振波長域での吸収強度が過度に重なら
ないことが好ましい。また、現状の光記録分野で使用さ
れているレーザーが半導体レーザーであることから近赤
外に吸収ピークを有する色素が好ましい。また、読み取
りは媒体の光反射を利用するために、保持層での光反射
率が高いことが要求される。この観点から、色素D2は高
反射率を有することが好ましい。もちろん吸収特性を効
率的に行うために、色素はそれぞれの樹脂に均一分散す
るように選択すべきである。好適な色素D1およびD2とし
ては、シアニン系色素、ピリリウム系色素、チアピリリ
ウム系色素、スクワリリウム系色素、クロコニウム系色
素、アズレニウム系色素などのポリメチン系色素;フタ
ロシアニンやナフタロシアニンなどのフタロシアニン系
色素;ジチオール金属媒体;ナフトキノン、アントラキ
ノン系色素;トリフェニルメタン系色素;アミニウム、
ジインモニウム系色素が挙げられる。またこれらの色素
を複数混合して用いてもよい。
Dye D 1 and D 2 absorbs efficiently the laser beam in each recording process and erasing process serves to convert into heat. Therefore, a dye having an absorption that matches the oscillation wavelength range of the recording laser and the erasing laser is selected. Then, it is preferable that the absorption intensities in the respective oscillation wavelength ranges do not excessively overlap so that both laser beams can be selectively absorbed. Further, a dye having an absorption peak in the near infrared is preferable since a laser currently used in the field of optical recording is a semiconductor laser. In addition, reading uses the light reflection of the medium, so that the light reflectance of the holding layer is required to be high. In this respect, the dye D 2 preferably has a high reflectivity. Of course, for efficient absorption properties, the dyes should be selected to be uniformly dispersed in each resin. Suitable dyes D 1 and D 2, cyanine dyes, pyrylium dyes, thiapyrylium dyes, squarylium dyes, croconium dyes, polymethine dyes such as azulenium dyes; phthalocyanine pigments such as phthalocyanine and naphthalocyanine; Dithiol metal medium; naphthoquinone, anthraquinone dye; triphenylmethane dye; aminium;
And diimmonium dyes. A plurality of these dyes may be used as a mixture.

本発明において、保持層(B)に用いられる樹脂
(P2)は、記録時にはレーザー光照射により膨張層
(A)が熱膨張することにより生成したバンプを固定
し、消去時にはバンプの固定の解除を許容する機能を担
っている。従って、両作用を効果的に行うために、高温
ではゴム状態、常温ではガラス状態、すなわち高い弾性
を有する状態になる樹脂である必要がある。すなわち、
高温では膨張層(A)の熱膨張に伴いバンプを形成する
ために、弾性率が低いことが必要である。常温では膨張
層(A)の収縮力に抗してバンプを固定するために高い
引っ張り弾性率が必要であり、80kg/mm2以上、好ましく
は100kg/mm2以上であることが必要である。それ以下で
はバンプの形状を十分に維持できなくなり、記録特性お
よび記録安定性が低下する。また、効率的な記録および
消去のためには、ガラス状態からゴム状態に変化する温
度(ガラス転移温度Tg)も重要になる。その意味から、
転移温度60〜150℃、好ましくは70〜120℃が挙げられ
る。これ以下であれば形成したバンプの高さが低く記録
特性において好ましくなく、また記録安定性においても
好ましくない。これ以上では、消去時に消去残が残り好
ましくない。本発明において用いられる樹脂P2としては
エポキシ(メタ)アクリレート、エポキシノボラック
(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの樹脂は、
活性光線、熱等で架橋することにより所望のTgを有する
塗膜を得ることができる。
In the present invention, the resin (P 2 ) used for the holding layer (B) fixes bumps generated by the thermal expansion of the expansion layer (A) by laser beam irradiation during recording, and releases the bumps during erasing. It is responsible for the function that allows. Therefore, in order to effectively perform both functions, the resin must be in a rubber state at a high temperature and a glass state at a normal temperature, that is, a resin having a high elasticity. That is,
At a high temperature, the elastic modulus is required to be low in order to form a bump with the thermal expansion of the expansion layer (A). At room temperature, a high tensile modulus is required to fix the bump against the contraction force of the expansion layer (A), and it is required to be 80 kg / mm 2 or more, preferably 100 kg / mm 2 or more. Below this, the shape of the bump cannot be sufficiently maintained, and the recording characteristics and the recording stability deteriorate. Further, for efficient recording and erasing, the temperature at which the glass state changes to the rubber state (glass transition temperature Tg) is also important. In that sense,
The transition temperature is 60 to 150 ° C, preferably 70 to 120 ° C. Below this, the height of the formed bump is low, which is not preferable in recording characteristics, and is also not preferable in recording stability. Above this, unerased residues remain at the time of erasing, which is not preferable. As the resin P 2 for use in the present invention is an epoxy (meth) acrylate, epoxy novolac (meth) acrylate. These resins are
A coating film having a desired Tg can be obtained by crosslinking with actinic rays, heat, or the like.

エポキシ(メタ)アクリレートは下記一般式: 「式中、Yは炭素数1〜5のアルキレン基、Rが(メ
タ)アクリロイル基、nが1〜20の整数である」で表わ
される化合物である。該式中、Yがメチレン基、2,2−
プロピレン基であるエポキシアクリレートが、高いTgを
有するので消去特性の低下をまねかず記録特性が高く出
来るので好ましい。一方、エポキシノボラックアクリレ
ートは、下記一般式 「式中、Rは (R′はメチル基または水素原子)、mは炭素数1〜20
の整数であり、Xは水素原子またはメチル基である。」
で示される化合物である。また、アクリレートの方がメ
タアクリレートより反応性が高く好ましい。
Epoxy (meth) acrylate has the following general formula: In the formula, Y is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, R is a (meth) acryloyl group, and n is an integer of 1 to 20. In the formula, Y is a methylene group, 2,2-
Epoxy acrylate, which is a propylene group, is preferable because it has a high Tg and can improve the recording characteristics without causing a decrease in the erasing characteristics. On the other hand, epoxy novolac acrylate has the following general formula "Where R is (R 'is a methyl group or a hydrogen atom), and m is a carbon number of 1-20.
And X is a hydrogen atom or a methyl group. "
It is a compound shown by these. In addition, acrylate is preferred because it has higher reactivity than methacrylate.

本発明においてはこれらの化合物を単独で用いても良
いし、複数の混合物として用いてもよい。また、本発明
の趣旨を損なわない30重量%以下の範囲でその他の多官
能のアクリレートを併用してもよい。これは、反応性を
高めたり、Tgを制御したり、あるいは膜の力学的特性を
上げたり、また色素との相溶性を上げる上で有効であ
る。好適に用いられる多官能(メタ)アクリレートとし
ては、エチレンジ(メタ)アクリレート、テトラメチレ
ンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパント
リ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、多官能ウレタンアクリレートが
挙げられる。
In the present invention, these compounds may be used alone or as a mixture of two or more. Further, other polyfunctional acrylates may be used in combination within a range of 30% by weight or less without impairing the purpose of the present invention. This is effective in increasing the reactivity, controlling the Tg, increasing the mechanical properties of the film, and increasing the compatibility with the dye. Suitable polyfunctional (meth) acrylates include ethylene di (meth) acrylate, tetramethylene di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. A) acrylates and polyfunctional urethane acrylates.

本発明において用いられるこれらの樹脂は、色素と混
合した上で基板上に塗工・硬化される。使用する基板は
特に限定はないが、一般にはポリカーボネート、ポリメ
チルメタクリレート、ガラスなどのディスク状基板やポ
リエステルなどのフイルム状基板が用いられる。色素/
樹脂の比率は、色素の吸光度、膜厚にも依存するが一般
には0.05〜0.4(wt/wt)、好ましくは0.1〜0.3(wt/w
t)である。膨張層の膜厚は一般には、0.5〜10μm、好
ましくは1.0〜5.0μmが用いられ、保持層の膜厚は0.1
〜3.0μm、好ましくは0.3〜2.0μmが用いられる。塗
工法は特に限定はないが、スピンコート法、流延法、バ
ーコート法、ドクターナイフ法、グラビヤコート法など
が用いられる。その際使用される好適な溶媒としては、
ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化
水素;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素;メタノール、エタノール、ブタノールなどのアル
コール類;クロロホルム、塩化メチレンなどのハロアル
カン類;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類;ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン類;エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルなどのグライム類;テトラヒドロフラン、ジ
オキンなどのエーテル類、ニトロメタン、アセトニトリ
ルおよびそれらの混合物が挙げられる。
These resins used in the present invention are applied and cured on a substrate after being mixed with a dye. The substrate to be used is not particularly limited, but a disk-shaped substrate such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, or glass, or a film-shaped substrate such as polyester is generally used. Dye /
Although the ratio of the resin depends on the absorbance and the film thickness of the dye, it is generally 0.05 to 0.4 (wt / wt), preferably 0.1 to 0.3 (wt / w).
t). The thickness of the expansion layer is generally 0.5 to 10 μm, preferably 1.0 to 5.0 μm, and the thickness of the holding layer is 0.1 to 10 μm.
To 3.0 μm, preferably 0.3 to 2.0 μm. The coating method is not particularly limited, but a spin coating method, a casting method, a bar coating method, a doctor knife method, a gravure coating method, or the like is used. Suitable solvents used at that time include
Aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; alcohols such as methanol, ethanol and butanol; haloalkanes such as chloroform and methylene chloride; ethyl acetate and butyl acetate Esters; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; glymes such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; ethers such as tetrahydrofuran and diquine; nitromethane; acetonitrile; and mixtures thereof.

硬化法としては、熱硬化法、紫外線硬化法、電子線照
射法が用いられる。熱硬化の場合は通常ラジカル開始剤
の共存下で加熱することにより三次元架橋される。開始
剤は特に限定はしないが一般には、アゾビスイソブチロ
ニトロリ(AIBN)、ベンゾイルパーオキシド(BPO)、
クメンヒドロペルオキシド、第三ブチルヒドロペルオキ
シド、過酸化ラウロイルなどが挙げられる。加熱温度は
一般には50〜150℃、好ましくは70〜120℃が採用され
る。それ以上では基板および色素が劣化し好ましくな
い。硬化時間は一般には5分から10時間、好ましくは10
分〜5時間の範囲で行われる。
As the curing method, a thermal curing method, an ultraviolet curing method, and an electron beam irradiation method are used. In the case of heat curing, three-dimensional crosslinking is usually performed by heating in the presence of a radical initiator. The initiator is not particularly limited, but is generally azobisisobutyronitroli (AIBN), benzoyl peroxide (BPO),
Cumene hydroperoxide, tert-butyl hydroperoxide, lauroyl peroxide and the like. The heating temperature is generally 50 to 150 ° C, preferably 70 to 120 ° C. Above that, the substrate and the dye deteriorate, which is not preferable. The curing time is generally from 5 minutes to 10 hours, preferably 10 minutes.
It is performed in a range of minutes to 5 hours.

一方、紫外線硬化法の場合は、光開始剤の共存下で紫
外線を照射することにより行われる。光開始剤として
は、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなどのベンゾフ
ェノン系開始剤;ベンジル、フェニルメトキシジケトン
などのジケトン系開始剤;ベンゾインエチルエーテル、
ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系開始剤;
2,4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系
開始剤、2−メチルアントラキノン、カンファーキノン
などのキノン系開始剤などが好ましく用いられる。必要
に応じてアミン系促進剤などの促進剤の併用も可能であ
る。使用する紫外線としては、低圧水銀灯、中圧水銀
灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプなどが好適に用
いられている。光源のパワーは、1mW/cm2〜1kW/cm2が用
いられる。照射時間は光源のパワーおよび光反応速度に
依存するが、1秒〜1時間、好ましくは10秒〜10分の間
で行われる。
On the other hand, in the case of the ultraviolet curing method, it is performed by irradiating ultraviolet rays in the presence of a photoinitiator. Examples of the photoinitiator include benzophenone initiators such as benzophenone and Michler's ketone; diketone initiators such as benzyl and phenylmethoxydiketone; benzoin ethyl ether;
Benzoin based initiators such as benzyl dimethyl ketal;
Thioxanthone-based initiators such as 2,4-diethylthioxanthone and quinone-based initiators such as 2-methylanthraquinone and camphorquinone are preferably used. If necessary, an accelerator such as an amine accelerator may be used in combination. As the ultraviolet rays to be used, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and the like are suitably used. The power of the light source is 1 mW / cm 2 to 1 kW / cm 2 . The irradiation time depends on the power of the light source and the photoreaction speed, but is carried out for 1 second to 1 hour, preferably for 10 seconds to 10 minutes.

かくして得られた二層媒体の記録法・再生・消去は二
種類のレーザー光を照射することにより行なう。その際
使用するレーザーは、ヘリウムネオンレーザー、アルゴ
ンレーザー、半導体レーザーなどが用いられるが、小型
で安価な半導体レーザーがより好ましい。以下、膨張層
色素D1が840nm近傍に吸収を示し、保持層色素D2が780nm
近傍に吸収を示す媒体を例にとって説明する。記録は、
840nmのレーザー光を照射することにより行う。この
際、主として膨張層が光を吸収してバンプを形成する。
再生は、840nmの弱いレーザー光を照射し、記録部と未
記録部との反射率の差を読み取ることにより行われる。
消去は、780nmのレーザー光を照射することにより行わ
れる。一般的に、記録は、5〜30mW、好ましくは7〜20
mWのパワーで5〜0.1μ秒照射する。再生は0.5〜3mW、
好ましくは0.7〜2.0mWのパワーで5〜0.1μ秒照射す
る。消去は、1〜20mW、好ましくは3〜12mWのパワーで
0.1〜20秒照射する。
The recording method, reproduction and erasure of the thus obtained two-layer medium are performed by irradiating two kinds of laser beams. As a laser used at this time, a helium neon laser, an argon laser, a semiconductor laser, or the like is used, and a small and inexpensive semiconductor laser is more preferable. Hereinafter, the expanding layer dye D 1 shows absorption around 840 nm, and the retaining layer dye D 2 has a wavelength of 780 nm.
A description will be given by taking a medium exhibiting absorption in the vicinity as an example. The record is
Irradiation with 840 nm laser light is performed. At this time, the expansion layer mainly absorbs light to form a bump.
Reproduction is performed by irradiating a weak laser beam of 840 nm and reading a difference in reflectance between a recorded portion and an unrecorded portion.
Erasing is performed by irradiating 780 nm laser light. Generally, the recording is 5-30 mW, preferably 7-20 mW.
Irradiate for 5 to 0.1 microseconds with a power of mW. Reproduction is 0.5-3mW,
Preferably, irradiation is performed at a power of 0.7 to 2.0 mW for 5 to 0.1 μsec. Erasing is performed at a power of 1 to 20 mW, preferably 3 to 12 mW.
Irradiate for 0.1-20 seconds.

本発明によるとバンプの形成と消滅による反射率の変
化を読み取ることを基本原理とする記録媒体において優
れた記録・消去特性が得られる。それとともに、製膜が
低温・高速で行なえるために、基板や使用色素の劣化を
起こすことなく塗工・硬化が行なえ、かつ媒体コストが
安価になるという工業上の利点も有している。
According to the present invention, excellent recording / erasing characteristics can be obtained in a recording medium whose fundamental principle is to read the change in reflectance due to the formation and disappearance of bumps. At the same time, since the film can be formed at a low temperature and at a high speed, there is an industrial advantage that coating and curing can be performed without deteriorating the substrate and the dye used, and the medium cost is reduced.

以下に、本発明を実施例においてさらに詳しく説明す
る。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

実施例1 下記構造式で表わされるビスフェノールA型エポキシ
アクリレート樹脂(以下BP−1と略す)に対して1phrの
ベンジルメトキシケタール(BDMK)および1phrのアゾビ
スイソブチロニトリル(AIBN)を添加したBP−1のクロ
ロホルム溶液をガラス板上にバーコート法によって厚み
100μmに塗布し、紫外光を照射した後、80℃のオーブ
ンで1時間加熱し硬化した。ガラス板からこの薄膜を剥
離し、引っ張り弾性率をインストロン4302(インストン
ロン社)により測定したところ常温では176Kg/mm2、120
℃では0.5Kg/mm2であった。また、ガラス転移点は72℃
であった。
Example 1 BP obtained by adding 1 phr of benzyl methoxy ketal (BDMK) and 1 phr of azobisisobutyronitrile (AIBN) to a bisphenol A type epoxy acrylate resin (hereinafter abbreviated as BP-1) represented by the following structural formula. -1 chloroform solution on glass plate by bar coating method
It was applied to 100 μm, irradiated with ultraviolet light, and then cured by heating in an oven at 80 ° C. for 1 hour. The thin film was peeled from the glass plate, and the tensile modulus was measured with an Instron 4302 (Inston Ron Co.). At room temperature, 176 kg / mm 2 , 120
At 0 ° C, it was 0.5 kg / mm 2 . The glass transition point is 72 ℃
Met.

ウレタンアクリレートであるNKエステルU−122A(新
中村化学工業(株))に対して10phrの下記構造式で示
されるポリメチン系色素IR820および2phrのイルガキュ
アー907(チバガイギー(株))を添加したNKエステル
U−122Aのメチルエチルケトン(MEK)溶液をガラス基
板上にバーコート法によって厚み3μmに塗布し、紫外
光を照射することによって膨張層を形成した。BR−1に
対して10phrの下記構造のシアニン色素NK−125(日本感
光色素(株))および1phrのBDMKを添加したBP−1のク
ロロホルム溶液を膨張層上に流延、乾燥し、窒素雰囲気
下で紫外光照射し0.8μmの保持層を形成した。
NK ester obtained by adding 10 phr of a polymethine dye IR820 represented by the following structural formula and 2 phr of Irgacure 907 (Ciba Geigy) to NK ester U-122A (Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) which is a urethane acrylate A U-122A methyl ethyl ketone (MEK) solution was applied on a glass substrate to a thickness of 3 μm by a bar coating method, and irradiated with ultraviolet light to form an expansion layer. A chloroform solution of BP-1 to which BR-1 was added with 10 phr of a cyanine dye NK-125 having the following structure (Nippon Kosoku Dye Co., Ltd.) and 1 phr of BDMK was cast on the expanded layer, dried, and nitrogen atmosphere was added. Irradiation with ultraviolet light was performed below to form a 0.8 μm holding layer.

この2層媒体に波長840nm、10mW、パルス幅5μ秒の
レーザー光を照射したところ直径1μmのバンプの形成
が認められた。このバンプに波長780nm、7mWのレーザー
光をデフォーカスし10μ秒照射したところ、顕微鏡観察
の範囲でバンプが消失した。
When this two-layer medium was irradiated with laser light having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μs, formation of a bump having a diameter of 1 μm was recognized. When the laser beam having a wavelength of 780 nm and 7 mW was defocused and irradiated to the bump for 10 μs, the bump disappeared within the range of microscopic observation.

実施例2 下記構造式で示されるエポキシアクリレート(以下BP
−2と略す)に対して1phrのベンジルジメトキシケター
ル(BDMK)および1phrのアゾビスイソブチロニトリル
(AIBN)を添加したBP−2のMEK溶液をガラス板上にバ
ーコート法によって厚み100μmに塗布し、紫外光を照
射し、80℃のオーブンで1時間加熱し硬化した。ガラス
板からこの薄膜を剥離し、引っ張り弾性率をインストロ
ン4302(インストロン社)により測定したところ常温で
は149Kg/mm2、120℃では3.2Kg/mm2であった。また、ガ
ラス転移点は70℃であった。
Example 2 An epoxy acrylate represented by the following structural formula (hereinafter BP)
BP-2 MEK solution containing 1 phr of benzyldimethoxyketal (BDMK) and 1 phr of azobisisobutyronitrile (AIBN) applied to a glass plate to a thickness of 100 μm by a bar coating method. Then, the mixture was irradiated with ultraviolet light and heated in an oven at 80 ° C. for 1 hour to be cured. Peeling the thin film from the glass plate at normal temperature was measured by a tensile modulus Instron 4302 (Instron Co.) was 149 kg / mm 2, at 120 ℃ 3.2Kg / mm 2. The glass transition point was 70 ° C.

NKエステルU−122A(新中村化学工業(株))に対し
て10phrのIR820および2phrのイルガキュアー907(チバ
ガイギー(株))を添加したNKエステルU−122AのMEK
溶液をガラス基板上にバーコート法によって厚み3μm
に塗布し、紫外光を照射することによって膨張層を形成
した。BR−2に対して10phrのNK−125および1phrのBDMK
を添加したBP−2のMEK溶液を膨張層上に流延、乾燥
し、窒素雰囲気下で紫外光照射し保持層を形成した。こ
の2層媒体に波長840nm、10mW、パルス幅5μ秒のレー
ザー光を照射したところ直径1μmのバンプの形成が認
められた。このバンプに波長780nm、7mWのレーザー光を
デフォーカスし10μ秒照射したところ、顕微鏡観察の範
囲でバンプが消失した。
MEK of NK ester U-122A obtained by adding 10 phr of IR820 and 2 phr of Irgacure 907 (Ciba Geigy) to NK ester U-122A (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
The solution was applied on a glass substrate by a bar coating method to a thickness of 3 μm.
And irradiating it with ultraviolet light to form an expansion layer. 10 phr NK-125 and 1 phr BDMK for BR-2
The MEK solution of BP-2 to which was added was cast on the expansion layer, dried, and irradiated with ultraviolet light under a nitrogen atmosphere to form a holding layer. When this two-layer medium was irradiated with laser light having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μs, formation of a bump having a diameter of 1 μm was recognized. When the laser beam having a wavelength of 780 nm and 7 mW was defocused and irradiated to the bump for 10 μs, the bump disappeared within the range of microscopic observation.

実施例3 下記構造式のビスフェノールF型エポキシアクリレー
ト(以下BP−3と略す)に対して1phrのベンジルジメト
キシケタール(BDMK)および1phrのアゾビスイソブチロ
ニトリル(AIBN)を添加したBP−3のクロロホルム溶液
をガラス板上にバーコート法によって厚み100μmに塗
布し、紫外光を照射し、80℃のオーブンで1時間加熱し
硬化した。ガラス板からこの薄膜を剥離し、引っ張り弾
性率をインストロン4302(インストロン社)により測定
したところ常温では102Kg/mm2、120℃では3.2Kg/mm2
あった。また、ガラス転移点は78℃であった。
Example 3 Bisphenol F type epoxy acrylate of the following structural formula (hereinafter abbreviated as BP-3) was added with 1 phr of benzyldimethoxy ketal (BDMK) and 1 phr of azobisisobutyronitrile (AIBN). The chloroform solution was applied to a thickness of 100 μm on a glass plate by a bar coating method, irradiated with ultraviolet light, and cured by heating in an oven at 80 ° C. for 1 hour. The thin film was peeled off from the glass plate, and the tensile modulus was measured by Instron 4302 (Instron) to be 102 kg / mm 2 at room temperature and 3.2 kg / mm 2 at 120 ° C. The glass transition point was 78 ° C.

NKエステルU−122A(新中村化学工業(株))に対し
て10phrのIR820および2phrのイルガキュアー907(チバ
ガイギー(株))を添加したNKエステルU−122AのMEK
溶液をガラス基板上にバーコート法によって厚み3μm
に塗布し、紫外光を照射することによって膨張層を形成
した。BR−3に対して10phrのNK−125および1phrのBDMK
を添加したBP−3のクロロホルム溶液を膨張層上に流
延、乾燥し、窒素雰囲気下で紫外光照射し保持層を形成
した。この2層媒体に波長840nm、10mW、パルス幅5μ
秒のレーザー光を照射したところ直径1μmのバンプの
形成が認められた。このバンプに波長780nm、7mWのレー
ザー光をデフォーカスし10μ秒照射したところ、顕微鏡
観察の範囲でバンプが消失した。
MEK of NK ester U-122A obtained by adding 10 phr of IR820 and 2 phr of Irgacure 907 (Ciba Geigy) to NK ester U-122A (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
The solution was applied on a glass substrate by a bar coating method to a thickness of 3 μm.
And irradiating it with ultraviolet light to form an expansion layer. 10 phr NK-125 and 1 phr BDMK for BR-3
A chloroform solution of BP-3 to which was added was cast on the expansion layer, dried, and irradiated with ultraviolet light under a nitrogen atmosphere to form a holding layer. Wavelength 840nm, 10mW, pulse width 5μ
When a laser beam was irradiated for 2 seconds, formation of a bump having a diameter of 1 μm was recognized. When the laser beam having a wavelength of 780 nm and 7 mW was defocused and irradiated to the bump for 10 μs, the bump disappeared within the range of microscopic observation.

実施例4 実施例1のBP−1の代わりにVR77(昭和高分子
(株))を用い、100μmのフィルムを実施例1と同様
に作成したところ、引っ張り弾性率は140kg/mm2,ガラス
転移点は71℃であった。さらに実施例1と同様に膨張層
/保持層からなる2層媒体を形成した。この2層媒体に
波長840nm、10mW、パルス幅5μ秒のレーザー光を照射
したところ直径1μmのバンプの形成が認められた。こ
のバンプに波長780nm、7mWのレーザー光をデフォーカス
し10μ秒照射したところ、顕微鏡観察の範囲でバンプが
消失した。
Example 4 A 100 μm film was prepared in the same manner as in Example 1 by using VR77 (Showa Kogaku Co., Ltd.) instead of BP-1 in Example 1, and the tensile modulus was 140 kg / mm 2 and the glass transition was The point was 71 ° C. Further, in the same manner as in Example 1, a two-layer medium composed of the expansion layer / holding layer was formed. When this two-layer medium was irradiated with laser light having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μs, formation of a bump having a diameter of 1 μm was recognized. When the laser beam having a wavelength of 780 nm and 7 mW was defocused and irradiated to the bump for 10 μs, the bump disappeared within the range of microscopic observation.

実施例5 実施例1のBP−1の代わりにVR90(昭和高分子
(株))を用い、実施例1と同様に膨張層/保持層から
なる2層媒体を形成した。この2層媒体に波長840nm、1
0mW、パルス幅5μ秒のレーザー光を照射したところ直
径1μmのバンプの形成が認められた。このバンプに波
長780nm、7mWのレーザー光をデフォーカスし10μ秒照射
したところ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消失した。
Example 5 In the same manner as in Example 1 except that VR90 (Showa Kogaku Co., Ltd.) was used in place of BP-1 in Example 1, a two-layer medium composed of an expansion layer and a holding layer was formed. The wavelength of 840 nm, 1
When a laser beam of 0 mW and a pulse width of 5 μs was irradiated, the formation of a bump having a diameter of 1 μm was recognized. When the laser beam having a wavelength of 780 nm and 7 mW was defocused and irradiated to the bump for 10 μs, the bump disappeared within the range of microscopic observation.

実施例6 実施例1のBP−1の代わりに下記構造のエポキシノボ
ラックアクリレート(以下BP−4と略す)を用い、90μ
mのフィルムを実施例1と同様に作成したところ引っ張
り弾性率は210kg/mm2,ガラス転移点は115℃であった。
さらに実施例1と同様に膨張層/保持層からなる2層媒
体を形成した。この2層媒体に波長840nm、10mW、パル
ス幅5μ秒のレーザー光を照射したところ直径1μmの
バンプの形成が認められた。このバンプに波長780nm、7
mWのレーザー光をデフォーカスし10μ秒照射したとこ
ろ、顕微鏡観察の範囲でバンプが消失した。
Example 6 An epoxy novolac acrylate (hereinafter abbreviated as BP-4) having the following structure was used in place of BP-1 in Example 1,
When a film of m was prepared in the same manner as in Example 1, the tensile elastic modulus was 210 kg / mm 2 and the glass transition point was 115 ° C.
Further, in the same manner as in Example 1, a two-layer medium composed of the expansion layer / holding layer was formed. When this two-layer medium was irradiated with laser light having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μs, formation of a bump having a diameter of 1 μm was recognized. Wavelength 780 nm, 7
When the laser beam of mW was defocused and irradiated for 10 μs, the bumps disappeared within the range of microscopic observation.

実施例7 実施例1のNK125の代わりに下記構造のナフタロシア
ニン色素を用い、実施例1と同様に膨張層/保持層から
なる2層媒体を形成した。
Example 7 In the same manner as in Example 1, a two-layer medium composed of an expansion layer and a holding layer was formed using a naphthalocyanine dye having the following structure in place of NK125 of Example 1.

この2層媒体に波長840nm、10mW、パルス幅5μ秒の
レーザー光を照射したところ直径1μmのバンプの形成
が認められた。このバンプに波長780nm、7mWのレーザー
光をデフォーカスし10μ秒照射したところ、顕微鏡観察
の範囲でバンプが消失した。
When this two-layer medium was irradiated with laser light having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μs, formation of a bump having a diameter of 1 μm was recognized. When the laser beam having a wavelength of 780 nm and 7 mW was defocused and irradiated to the bump for 10 μs, the bump disappeared within the range of microscopic observation.

実施例8 末端に水酸基を有するクロロプレンFHO50(電気化学
工業(株))と多官能イソシアネートであるコロネート
Lを、水酸基量とイソシアネート量が等量になるように
混合し、さらに10phrのIRD1001(山本化成(株))を添
加し、バーコート法によって厚み3μmに塗布し、120
℃で1時間加熱し硬化することによって膨張層を形成し
た。BR−1に対して10phrのNK−125および1phrのBDMKを
添加したBP−1のクロロホルム溶液を膨張層上に流延、
乾燥し、窒素雰囲気下で紫外光照射し0.8μmの保持層
を形成した。この2層媒体に波長840nm、10mW、パルス
幅5μ秒のレーザー光を照射したところ直径1μmのバ
ンプの形成が認められた。このバンプに波長780nm、7mW
のレーザー光をデフォーカスし10μ秒照射したところ、
顕微鏡観察の範囲でバンプが消失した。
Example 8 A chloroprene FHO50 having a hydroxyl group at a terminal (Electrochemical Industry Co., Ltd.) and coronate L, which is a polyfunctional isocyanate, were mixed so that the amount of hydroxyl group and the amount of isocyanate became equal, and 10 phr of IRD1001 (Yamamoto Kasei Co., Ltd.), and applied to a thickness of 3 μm by a bar coating method.
An expansion layer was formed by heating and curing at 1 ° C. for 1 hour. A chloroform solution of BP-1 to which BR-1 was added with 10 phr of NK-125 and 1 phr of BDMK was cast on the expansion layer,
It was dried and irradiated with ultraviolet light under a nitrogen atmosphere to form a 0.8 μm holding layer. When this two-layer medium was irradiated with laser light having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μs, formation of a bump having a diameter of 1 μm was recognized. Wavelength 780nm, 7mW
When defocused and irradiated for 10 microseconds,
The bump disappeared within the scope of microscopic observation.

実施例9 実施例6のBP−4の代わりにECHO−302(エコーレン
ジ アンド ラボラトリー社)を用い、実施例1と同様
に膨張層/保持層からなる2層媒体を形成した。この2
層媒体に波長840nm、10mW、パルス幅5μ秒のレーザー
光を照射したところ直径1μmのバンプの形成が認めら
れた。このバンプに波長780nm、7mWのレーザー光をデフ
ォーカスし10μ秒照射したところ、顕微鏡観察の範囲で
バンプが消失した。
Example 9 ECHO-302 (Echo Range and Laboratory) was used in place of BP-4 of Example 6 to form a two-layer medium composed of an expansion layer and a holding layer in the same manner as in Example 1. This 2
When the layer medium was irradiated with laser light having a wavelength of 840 nm, 10 mW, and a pulse width of 5 μs, formation of a bump having a diameter of 1 μm was recognized. When the laser beam having a wavelength of 780 nm and 7 mW was defocused and irradiated to the bump for 10 μs, the bump disappeared within the range of microscopic observation.

発明の効果 本発明によるとバンプの形成と消失による反射率の変
化を読み取ることを基本原理とする記録媒体において優
れた記録・消去特性が得られる。それとともに製膜が低
温・高速で行なえるために、基板や使用する色素の劣化
を起こすことなく塗工・効果が行なえ、かつ媒体コスト
が安価になるという工業上の利点も有している。
Effects of the Invention According to the present invention, excellent recording / erasing characteristics can be obtained in a recording medium whose fundamental principle is to read the change in reflectance due to the formation and disappearance of bumps. At the same time, since the film can be formed at a low temperature and at a high speed, coating and effects can be performed without deteriorating the substrate and the dye used, and there is an industrial advantage that the medium cost is reduced.

フロントページの続き (72)発明者 岩田 薫 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝 人株式会社東京研究センター内 (56)参考文献 特開 昭63−136337(JP,A) 特開 平2−189738(JP,A) 特開 昭60−69846(JP,A) 特開 昭63−164042(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41M 5/26 Continuation of front page (72) Inventor Kaoru Iwata 4-2-2 Asahigaoka, Hino-shi, Tokyo Teijin Limited Tokyo Research Center (56) References JP-A-63-136337 (JP, A) JP-A-2 -189738 (JP, A) JP-A-60-69846 (JP, A) JP-A-63-164042 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B41M 5/26

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】少くとも室温でゴム弾性を示す樹脂(P1
と色素(D1)とからなる膨張層(A)と、室温でガラス
状態(高弾性状態)、それより高い温度においてゴム状
態に可逆的に変化し得る樹脂(P2)と色素(D2)とから
なる保持層(B)とを記録層として基板に支持してなる
光記録媒体において、該樹脂P2が (a)ガラス状態からゴム状態への転移温度が60〜150
℃の範囲にあり、 (b)室温での弾性率が80kg/mm2以上である、エポキシ
(メタ)アクリレートおよび/またはエポキシノボラッ
ク(メタ)アクリレートの硬化物から主としてなること
を特徴とする消去可能な光記録媒体。
1. A resin exhibiting rubber elasticity at least at room temperature (P 1 )
The dye (D 1) consisting of an expansion layer (A), a glass state (high elastic state) at room temperature, the resin capable of reversibly changed to the rubber state at higher temperatures (P 2) and dye (D 2 ) and the holding layer (B) and the optical recording medium comprising supporting the substrate as a recording layer consisting of the transition temperature of the resin P 2 from (a) a glass state to a rubber state 60 to 150
(B) an elasticity at room temperature of 80 kg / mm 2 or more, which is mainly composed of a cured product of epoxy (meth) acrylate and / or epoxy novolak (meth) acrylate. Optical recording medium.
【請求項2】上記第1項記載の保持層を、エポキシ(メ
タ)アクリレートおよび/またはエポキシノボラック
(メタ)アクリレートと色素とを含む混合物を塗工した
後活性光線を照射することにより硬化することにより形
成することを特徴とする消去可能な光記録媒体の製造
法。
2. The method according to claim 1, wherein the retaining layer is cured by applying a mixture containing an epoxy (meth) acrylate and / or an epoxy novolak (meth) acrylate and a dye, and then irradiating the mixture with an actinic ray. A method for producing an erasable optical recording medium, characterized by being formed by:
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