JPH03118391A - ステロイド誘導体の製造法 - Google Patents
ステロイド誘導体の製造法Info
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- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Steroid Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、式(1)
で示されるコレスタ−5,7−ジニンー1α、3β。
25−トリオールの製造方法、および式(1)の化合物
を製造する過程で得られる新規な中間体に関する。
を製造する過程で得られる新規な中間体に関する。
上記式(1)で示されるコレスタ−5,7−ジエンlα
、3β、25−トリオールは、強力なビタミンD、活性
を有するlσ、25−ジヒドロキシビタミンD、を製造
するための中間体として有用なステロイド誘導体である
。
、3β、25−トリオールは、強力なビタミンD、活性
を有するlσ、25−ジヒドロキシビタミンD、を製造
するための中間体として有用なステロイド誘導体である
。
ビタミンD、は、生理活性を発現する前に、まず、肝臓
において25位の炭素がヒドロキシル化されて25−ヒ
ドロキシビタミンD3になり、次いで腎臓において1σ
位の炭素がヒドロキシル化されてlα、25−ジヒドロ
キシビタミンD、に代謝されることが知られている。l
σ、25−ジヒドロキシビタミンD、は、小腸、腎臓な
らびに骨などの標的器官に運ばれて、例えば、小腸では
、粘膜上皮細胞に作用してカルシウム、リン酸の吸収を
促し、腎臓では、尿細管上皮細胞に作用してカルシウム
、リン酸の再吸収を促進し、そして、骨では、骨塩の動
員を促進する作用を有する、活性型ビタミンD、の中で
も、最も生理活性が高く、例えば、オステオボロニシス
(骨粗趣症)等の治療に広く用いられている。
において25位の炭素がヒドロキシル化されて25−ヒ
ドロキシビタミンD3になり、次いで腎臓において1σ
位の炭素がヒドロキシル化されてlα、25−ジヒドロ
キシビタミンD、に代謝されることが知られている。l
σ、25−ジヒドロキシビタミンD、は、小腸、腎臓な
らびに骨などの標的器官に運ばれて、例えば、小腸では
、粘膜上皮細胞に作用してカルシウム、リン酸の吸収を
促し、腎臓では、尿細管上皮細胞に作用してカルシウム
、リン酸の再吸収を促進し、そして、骨では、骨塩の動
員を促進する作用を有する、活性型ビタミンD、の中で
も、最も生理活性が高く、例えば、オステオボロニシス
(骨粗趣症)等の治療に広く用いられている。
一般に、lα、25−ジヒドロキシビタミンD、は、そ
の前駆体化合物である上記化合物コレスタ5.7−ジニ
ンーlα、3β、25− )リオールの紫外線照射によ
る開環反応と引き続く異性化反応によって製造されてお
り、従って、上記化合物を効率よく製造する方法は、工
業的に優れたlσ。
の前駆体化合物である上記化合物コレスタ5.7−ジニ
ンーlα、3β、25− )リオールの紫外線照射によ
る開環反応と引き続く異性化反応によって製造されてお
り、従って、上記化合物を効率よく製造する方法は、工
業的に優れたlσ。
25−ジヒドロキシビタミンD、の製造法を提供するも
のということができる。
のということができる。
従来、コレスタ−5,7−ジニンーlσ、3β、25ト
リオールの製造法としては、lα、25−ジヒドロキシ
コレステロールを出発原料として用いる方法(rT、
KameLani、 Med、 Res、 Rev、、
7.147〜171(1987)J中の文献参照)等が
ある。
リオールの製造法としては、lα、25−ジヒドロキシ
コレステロールを出発原料として用いる方法(rT、
KameLani、 Med、 Res、 Rev、、
7.147〜171(1987)J中の文献参照)等が
ある。
しかし、上記の方法では、目的化合物の5,7ジエンの
他に、その異性体である4、6−ジエンが多量に副成す
るので、結果的に収率が低くなり、また、その分離も困
難であるため、この方法は、工業的方法として優れた方
法とはいえない。
他に、その異性体である4、6−ジエンが多量に副成す
るので、結果的に収率が低くなり、また、その分離も困
難であるため、この方法は、工業的方法として優れた方
法とはいえない。
また、その製造法はlσ、25−ジヒドロキシビタミン
D、のみならず、その誘導体合成にも適用できる汎用性
を持った製造法であることがより望ましい。
D、のみならず、その誘導体合成にも適用できる汎用性
を持った製造法であることがより望ましい。
さらにまた、式(1)で示される化合物の5,7ジ工ン
部は酸に敏感であるので、5.7−ジエン部は各反応工
程中保護しておいて、できるだけ式(1)の化合物を得
る直前で除去するのが望ましい。
部は酸に敏感であるので、5.7−ジエン部は各反応工
程中保護しておいて、できるだけ式(1)の化合物を得
る直前で除去するのが望ましい。
そこで本発明者らは、上記問題点を回避し、式(1)で
示されるコレスタ−5,7−ジニンーlα。
示されるコレスタ−5,7−ジニンーlα。
3β、25− )リオールを効率よく得る新規な製造法
を提供すべく鋭意研究を重ねた結果、式(2)で示され
るハロゲン化物を出発原料とし新規な中間体を経由する
製造法が、上記問題点を解決しうろことを見出して本発
明を完成したのである。
を提供すべく鋭意研究を重ねた結果、式(2)で示され
るハロゲン化物を出発原料とし新規な中間体を経由する
製造法が、上記問題点を解決しうろことを見出して本発
明を完成したのである。
すなわち、本発明は次式:
(式中、Xは臭素もしくは沃素原子を表わし、Rは耐塩
基性の水酸基の保護基を表わす)で示されるハロゲン化
物と、次式 (式中、R′は耐塩基性の水酸基の保護基を示す)で示
されるスルホン化合物とを塩基の存在下に反応させて、
次式 (式中、R,R’は上記定義の通りである)で示される
化合物とし、次いで式(4)の化合物のスルホニル基を
還元的に除去して、次式:(式中、R,R’は上記定義
の通りである)で示される化合物とし、次いで式(5)
の化合物の水酸基の保護基を除去して、次式: で示される化合物とし、次いで式(6)の化合物の5.
7−ジエンの保護基を除去して、次式:で示されるコレ
スタ−5,7−ジニンーlσ、3β。
基性の水酸基の保護基を表わす)で示されるハロゲン化
物と、次式 (式中、R′は耐塩基性の水酸基の保護基を示す)で示
されるスルホン化合物とを塩基の存在下に反応させて、
次式 (式中、R,R’は上記定義の通りである)で示される
化合物とし、次いで式(4)の化合物のスルホニル基を
還元的に除去して、次式:(式中、R,R’は上記定義
の通りである)で示される化合物とし、次いで式(5)
の化合物の水酸基の保護基を除去して、次式: で示される化合物とし、次いで式(6)の化合物の5.
7−ジエンの保護基を除去して、次式:で示されるコレ
スタ−5,7−ジニンーlσ、3β。
25−トリオールを製造する方法および、上記の式(1
)の化合物を製造する過程で得られる中間体の上記の式
(6)で示される化合物に関する。
)の化合物を製造する過程で得られる中間体の上記の式
(6)で示される化合物に関する。
上記化合物中、式(2)、式(3)、式(4)、式(5
)で示される化合物の水酸基の保護基としては、塩基性
条件に耐えうる保護基であればよく、テトラヒドロピラ
ニル基、メトキシメチル基、2メトキシエトキシメチル
基、t−ブチルジメチルシリル基、トリメチルシリル基
などが挙げられるが、好ましくはテトラヒドロピラニル
基が用いられる。
)で示される化合物の水酸基の保護基としては、塩基性
条件に耐えうる保護基であればよく、テトラヒドロピラ
ニル基、メトキシメチル基、2メトキシエトキシメチル
基、t−ブチルジメチルシリル基、トリメチルシリル基
などが挙げられるが、好ましくはテトラヒドロピラニル
基が用いられる。
本発明の出発原料である式(2)で示されるハロゲン化
物は、式(7)で示される(22E)−エルゴスタ−5
,7,22−1−ジエン−1a、3β−ジオール・ジア
セテート(Y、 Tachibana、 Bull、
Chem、 Soc。
物は、式(7)で示される(22E)−エルゴスタ−5
,7,22−1−ジエン−1a、3β−ジオール・ジア
セテート(Y、 Tachibana、 Bull、
Chem、 Soc。
Jpn、、61.3915 (1988))から次に示
す合成スキム■のようにして製造することができる。
す合成スキム■のようにして製造することができる。
合成スキーム
■
rI′I
(10) R1−0H
(11) R+−0Ts
(12) RI−X
13−
(式中Mはナトリウムまたはリチウム原子を表わし、X
は臭素または沃素原子を表わし、Rは耐塩基性の水酸基
の保護基を表わす) また本発明において用いられるスルポン化合物(3)、
tなわち2−メチル−4−フェニルスルホニル−2−ブ
タノール誘導体は下記合成スキーム■に示される経路に
よって容易に得られる。
は臭素または沃素原子を表わし、Rは耐塩基性の水酸基
の保護基を表わす) また本発明において用いられるスルポン化合物(3)、
tなわち2−メチル−4−フェニルスルホニル−2−ブ
タノール誘導体は下記合成スキーム■に示される経路に
よって容易に得られる。
合成スキーム ■
(14)
(3)
(式中R′は耐塩基性の水酸基の保護基を示す)上記の
式(3)で示される化合物の水酸基の保=14 護基としては、塩基性条件に耐えうる保護基であればよ
く、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、2−
メトキシエトキシメチル基、(−ブチルジメチルシリル
基、トリメチルシリル基などが挙げられるが、好ましく
はテトラヒドロピラニル基が用いられる。
式(3)で示される化合物の水酸基の保=14 護基としては、塩基性条件に耐えうる保護基であればよ
く、テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、2−
メトキシエトキシメチル基、(−ブチルジメチルシリル
基、トリメチルシリル基などが挙げられるが、好ましく
はテトラヒドロピラニル基が用いられる。
次に本発明についてさらに詳しく説明する。
式(2)で示されるハロゲン化物と、式(3)で示され
るスルホン化合物とを反応させて、式(4)で示される
化合物を得る工程は次のようにして行なわれる。まず、
テトラヒドロ7ラン中において、−78°〜−20°C
の温度範囲で、所望によりヘキサメチルホスホリックト
リアミド(HMPA)存在下に、n−ブチルリチウムや
リチウムジイソプロピルアミド(LDA)などの強有機
塩基にてスルホン化合物(3)のアニオンを形成させ、
次いで−306〜−20°Cの温度範囲でハロゲン化物
(2)を加えて行なわれる。使用されるスルホン化合物
(3)の量はハロゲン化物(2)に対して1〜10倍モ
ル、好ましくは1,5〜5倍モルの範囲である。また使
用される有機塩基の量はスルホン化合物(3)に対して
1.0〜3.0倍モル、好ましくは1.0〜1.3倍モ
ルの範囲である。
るスルホン化合物とを反応させて、式(4)で示される
化合物を得る工程は次のようにして行なわれる。まず、
テトラヒドロ7ラン中において、−78°〜−20°C
の温度範囲で、所望によりヘキサメチルホスホリックト
リアミド(HMPA)存在下に、n−ブチルリチウムや
リチウムジイソプロピルアミド(LDA)などの強有機
塩基にてスルホン化合物(3)のアニオンを形成させ、
次いで−306〜−20°Cの温度範囲でハロゲン化物
(2)を加えて行なわれる。使用されるスルホン化合物
(3)の量はハロゲン化物(2)に対して1〜10倍モ
ル、好ましくは1,5〜5倍モルの範囲である。また使
用される有機塩基の量はスルホン化合物(3)に対して
1.0〜3.0倍モル、好ましくは1.0〜1.3倍モ
ルの範囲である。
式(4)で示される化合物は、酢酸エチル−メタノール
混合溶媒中、あるいはリン酸水素二ナトリウム(NaJ
PO,)で飽和したメタノール中、過剰のナトリウムア
マルガムにて処理し、スルホニル基を除去することによ
り式(5)で示される化合物とする。温度範囲は一40
°〜室温の範囲で行なわれる。
混合溶媒中、あるいはリン酸水素二ナトリウム(NaJ
PO,)で飽和したメタノール中、過剰のナトリウムア
マルガムにて処理し、スルホニル基を除去することによ
り式(5)で示される化合物とする。温度範囲は一40
°〜室温の範囲で行なわれる。
式(5)で示される化合物より、1α位、3β位、25
位の水酸基の保護基を除去して、式(6)で示される5
、7−ジエン部の保護されたi・リオールとする。先に
例として挙げた保護基はいずれも酸性条件下で除去でき
る。テトラヒドロピラニル基の場合、その除去は通常の
酸性条件による方法で行なわれる。すなわち、酢酸−水
、酢酸−水−テトラヒドロ7ランのような酸性条件下で
、またはメタノールもしくはエタノール中においてp−
トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ピリジニ
ウム、アンバーリスト15などで処理することによって
行なわれる。好ましくは、エタノール中0.1〜0.3
倍モルのI)−)ルエンスルホン酸を用いて50°〜8
0°Cの温度範囲で行なわれる。
位の水酸基の保護基を除去して、式(6)で示される5
、7−ジエン部の保護されたi・リオールとする。先に
例として挙げた保護基はいずれも酸性条件下で除去でき
る。テトラヒドロピラニル基の場合、その除去は通常の
酸性条件による方法で行なわれる。すなわち、酢酸−水
、酢酸−水−テトラヒドロ7ランのような酸性条件下で
、またはメタノールもしくはエタノール中においてp−
トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸ピリジニ
ウム、アンバーリスト15などで処理することによって
行なわれる。好ましくは、エタノール中0.1〜0.3
倍モルのI)−)ルエンスルホン酸を用いて50°〜8
0°Cの温度範囲で行なわれる。
式(6)で示される化合物は、5,7−ジエンの保護基
を除去して、式(1)で示されるコレスタ5.7−ジニ
ンーlσ、3β、25− )リオールとする。
を除去して、式(1)で示されるコレスタ5.7−ジニ
ンーlσ、3β、25− )リオールとする。
この反応は通常の方法によって行なわれる。すなわち、
式(6)で示される化合物に対して、過剰量の水素化ア
ルミニウムリチウム(LiAI2H−)を用いてテトラ
ヒドロフラン中においてその沸点温度で行なわれる。
式(6)で示される化合物に対して、過剰量の水素化ア
ルミニウムリチウム(LiAI2H−)を用いてテトラ
ヒドロフラン中においてその沸点温度で行なわれる。
以上説明したように、本発明によって、有用なステロイ
ド誘導体であるコレスタ−5,7−ジニンーlσ、3β
、25−1−リオールの効率的な新規製造法が提供され
る。本発明の製造法は従来法に比較して、副生成物がな
く、収率よく、しかも誘導体合成にも適用できる汎用性
のあるものである。
ド誘導体であるコレスタ−5,7−ジニンーlσ、3β
、25−1−リオールの効率的な新規製造法が提供され
る。本発明の製造法は従来法に比較して、副生成物がな
く、収率よく、しかも誘導体合成にも適用できる汎用性
のあるものである。
以下、本発明を実施例により詳しく説明するが、これら
は本発明を限定するものではない。
は本発明を限定するものではない。
実施例 1
23−フェニルスルホニル−5σ、8σ−(4−フェニ
ル−1,2−ウラゾロ)−1α、3β、25−)リス(
テトラヒドロピラニルオキシ)−コレスト6−エン(4
、R=THP) 2−メチル−4−フェニルスルホニル−2テトラヒドロ
ピラニルオキシブタン(3,R’THP)(547mg
、1.75mmoI2)の乾燥テトラヒドロ7ラン(6
mQ)溶液に、アルゴン下−20°Cでnブチルリチウ
ム(l、5Nヘキサン溶液、l −17rnO。
ル−1,2−ウラゾロ)−1α、3β、25−)リス(
テトラヒドロピラニルオキシ)−コレスト6−エン(4
、R=THP) 2−メチル−4−フェニルスルホニル−2テトラヒドロ
ピラニルオキシブタン(3,R’THP)(547mg
、1.75mmoI2)の乾燥テトラヒドロ7ラン(6
mQ)溶液に、アルゴン下−20°Cでnブチルリチウ
ム(l、5Nヘキサン溶液、l −17rnO。
1.75m+++o4) 、次いでヘキサメチルホスホ
リックトリアミド(0,30+++L 1.75mmo
<1)を順次加え、同温で20分間撹拌した。次いで、
同温度で22ヨード−5α、8α−(4−フェニル−1
,2−ウラゾロ)−1σ、3β−ビス(テトラヒドロピ
ラニルオキシ)−23,24−ジノルコル−6−エン(
2゜X=l、R=THP)(700mg、0.88mm
oO)の乾燥テトラヒドロフラン(6m(1)溶液を加
え、2時間撹拌した。さらに室温下に1時間撹拌した後
に、反応液を飽和塩化アンモニア水に注ぎ、クロロホル
ムにて抽出した。クロロホルム層は飽和食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウム(無水)にて乾燥後に濃縮した。残
液はシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン
ー酢酸エチル−2:1〜]:l)にて精製し、587m
gの表題化合物(4)を得た。
リックトリアミド(0,30+++L 1.75mmo
<1)を順次加え、同温で20分間撹拌した。次いで、
同温度で22ヨード−5α、8α−(4−フェニル−1
,2−ウラゾロ)−1σ、3β−ビス(テトラヒドロピ
ラニルオキシ)−23,24−ジノルコル−6−エン(
2゜X=l、R=THP)(700mg、0.88mm
oO)の乾燥テトラヒドロフラン(6m(1)溶液を加
え、2時間撹拌した。さらに室温下に1時間撹拌した後
に、反応液を飽和塩化アンモニア水に注ぎ、クロロホル
ムにて抽出した。クロロホルム層は飽和食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウム(無水)にて乾燥後に濃縮した。残
液はシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン
ー酢酸エチル−2:1〜]:l)にて精製し、587m
gの表題化合物(4)を得た。
IR(KBr)1750. 1695. 1605.
1505. 1400. 1145゜9 1130゜ 030 4.93 (IH,m、3H)、6.34 (2H
,m、6−Hと7−H)、7.3−7−9 (IOH
,m、−Ar−H)。
1505. 1400. 1145゜9 1130゜ 030 4.93 (IH,m、3H)、6.34 (2H
,m、6−Hと7−H)、7.3−7−9 (IOH
,m、−Ar−H)。
質量スペクトルm/e 538 (M” −トリアゾリ
ンジヒドロピランx 3 Hzo、 2 ) 、2
66(3)、178(62)、199(100)。
ンジヒドロピランx 3 Hzo、 2 ) 、2
66(3)、178(62)、199(100)。
実施例 2
5σ、8σ−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)lσ
、3β、25−トリス(テトラヒドロピラニルオキシ)
−コレス]・−6−エン(5、R=THP)実施例1の
ようにして得られた23−フェニルスルホニル−5α、
8σ−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)−トリス(
テトラヒドロピラニルオキシ)−コレスト−6−エン(
4、R=THP)(5800 mg、0.59mmo12)をリン酸水素二ナトリウム
で飽和したメタノール(55mQ)に溶解し、ナトリウ
ムアマルガム(5%、8.14p、17.7+nmoQ
)を加え、アルゴン下室温にて18時間撹拌した。上澄
み液を取り、メタノールを減圧下に留去した後に、残液
に水を加えクロロホルムにて抽出した。クロロホルム層
は水、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウム(無水
)にて乾燥後に濃縮した。
、3β、25−トリス(テトラヒドロピラニルオキシ)
−コレス]・−6−エン(5、R=THP)実施例1の
ようにして得られた23−フェニルスルホニル−5α、
8σ−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)−トリス(
テトラヒドロピラニルオキシ)−コレスト−6−エン(
4、R=THP)(5800 mg、0.59mmo12)をリン酸水素二ナトリウム
で飽和したメタノール(55mQ)に溶解し、ナトリウ
ムアマルガム(5%、8.14p、17.7+nmoQ
)を加え、アルゴン下室温にて18時間撹拌した。上澄
み液を取り、メタノールを減圧下に留去した後に、残液
に水を加えクロロホルムにて抽出した。クロロホルム層
は水、飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウム(無水
)にて乾燥後に濃縮した。
残液はシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液;ヘキサ
ン−酢酸エチル=3:1)にて精製し、352mgの表
題化合物(5)を得た。
ン−酢酸エチル=3:1)にて精製し、352mgの表
題化合物(5)を得た。
IR(KBr) 1750.1695.1605.15
05.1400.1130゜1030 cm−’ 4.92 (IH。
05.1400.1130゜1030 cm−’ 4.92 (IH。
1
H)、
6.24〜6.45(2H。
m。
−H
と7−H)、7.28−7.50 (5H,m、 −A
r−H)。
r−H)。
質量スペクトルm/e 482 (M” −トリアゾリ
ンジヒドロビランX 2−H,0X13) 、398(
70)、380(46)、226(56)、119(1
00)。
ンジヒドロビランX 2−H,0X13) 、398(
70)、380(46)、226(56)、119(1
00)。
実施例 3
5σ、8α−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)コレ
スト−6−エン−1σ、3β、25−トリオール(6) 実施例2のようにして得られた5α、8σ−(4フェニ
ル−1,2−ウラゾロ)−1α、3β、25−トリス(
テトラヒドロピラニルオキシ)−コレスト − 6−
エ ン (5、R4HP)(345+++9、0.58
tmoff) 、p−トルエンスルホン酸−水和物(
16mg、0.08mmon)の95%エタノール(3
,5mQ)溶液を70°Cにて4時間撹拌した。反応液
よりエタノールを減圧下に留去した後に残渣に飽和食塩
水を加えクロロホルムにて抽出した。クロロホルム層は
飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウム(無水)にて
乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲルクロマトグラフィ
ー(溶出液:酢酸エチル)にて精製し、2l3mgの表
題化合物(6)を得た。なお、分析用サンプルはメタノ
ール−エーテルより再結晶化して調製した。
スト−6−エン−1σ、3β、25−トリオール(6) 実施例2のようにして得られた5α、8σ−(4フェニ
ル−1,2−ウラゾロ)−1α、3β、25−トリス(
テトラヒドロピラニルオキシ)−コレスト − 6−
エ ン (5、R4HP)(345+++9、0.58
tmoff) 、p−トルエンスルホン酸−水和物(
16mg、0.08mmon)の95%エタノール(3
,5mQ)溶液を70°Cにて4時間撹拌した。反応液
よりエタノールを減圧下に留去した後に残渣に飽和食塩
水を加えクロロホルムにて抽出した。クロロホルム層は
飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウム(無水)にて
乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲルクロマトグラフィ
ー(溶出液:酢酸エチル)にて精製し、2l3mgの表
題化合物(6)を得た。なお、分析用サンプルはメタノ
ール−エーテルより再結晶化して調製した。
m、p、 177〜179℃
(ff)F −sa、:3°(cm0.26、CHC
ff 、 )IP(KBr) 3380. 3180.
1745. 1685. 1600. 1505゜1
410、1315.1030 cm−’NMR(CDC
ffs) δ 0.79(3H,s、 18−H−
)、0.82(3H。
ff 、 )IP(KBr) 3380. 3180.
1745. 1685. 1600. 1505゜1
410、1315.1030 cm−’NMR(CDC
ffs) δ 0.79(3H,s、 18−H−
)、0.82(3H。
s、 19−Hz)、0.94 (3H,d、 J=5
.9Hz、 2l−Hz)、11g (6H,s、
26−Hsと27−H,)、3−68 (IH,m。
.9Hz、 2l−Hz)、11g (6H,s、
26−Hsと27−H,)、3−68 (IH,m。
1−H)、4.81 (IH,m、3−H)、6.17
と6.34 (2H。
と6.34 (2H。
ABq、J=8.3Hz、 6−Hと7−H)、7.
31〜7.39(5H。
31〜7.39(5H。
m、 −Ar−H)。
質量スペクトルm/e 416 (M” −トリアゾリ
ン、10)、398(7)、380(7)、251(8
)、119(100)。
ン、10)、398(7)、380(7)、251(8
)、119(100)。
実施例 4
3
コレスタ−5,7−ジエン−1a、3β、25−トリオ
ール(1) 水素化アルミニウムリチウム(110TRg)の乾燥テ
トラヒドロ7ラン(10+nQ)懸濁液に、実施例3の
ようにして得られた5a、8σ−(4−フェニル−1,
2−ウラゾロ)−コレスト−6−ニン1σ、3β、25
− トリオール(6X128mg、0.22+I1mo
O,)の乾燥テトラヒドロフラン(3m<1)溶液を加
え、2時間撹拌還流した。次いで水冷下に水(0,1m
12) 、10%水酸化ナトリウム水(0,1mff)
、水(0,3m12)を加え、さらに室温下に30分
間撹拌した。引き続き、硫酸マグネシウム(無水)を加
え30分間撹拌し、セライトにてか遇した後にか液を濃
縮した。残渣はシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液
;ヘキサン−酢酸エチル−1:3)にて精製し、631
11gの表題化合物(1)を得た。
ール(1) 水素化アルミニウムリチウム(110TRg)の乾燥テ
トラヒドロ7ラン(10+nQ)懸濁液に、実施例3の
ようにして得られた5a、8σ−(4−フェニル−1,
2−ウラゾロ)−コレスト−6−ニン1σ、3β、25
− トリオール(6X128mg、0.22+I1mo
O,)の乾燥テトラヒドロフラン(3m<1)溶液を加
え、2時間撹拌還流した。次いで水冷下に水(0,1m
12) 、10%水酸化ナトリウム水(0,1mff)
、水(0,3m12)を加え、さらに室温下に30分
間撹拌した。引き続き、硫酸マグネシウム(無水)を加
え30分間撹拌し、セライトにてか遇した後にか液を濃
縮した。残渣はシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液
;ヘキサン−酢酸エチル−1:3)にて精製し、631
11gの表題化合物(1)を得た。
分析用サンプルはざらにメタノール−エーテルより再結
晶化して調製した。
晶化して調製した。
4
m、p、 207−209°C
〔σ片−79.1°(c−0,24、THF)IR(K
Br)3470,3350. 1650. 1600.
1375. 1075゜+050. 1040crA
−’ NMR(CDCQs) δ 0.63 (3H,s
、18−Hs)、0.95(3H。
Br)3470,3350. 1650. 1600.
1375. 1075゜+050. 1040crA
−’ NMR(CDCQs) δ 0.63 (3H,s
、18−Hs)、0.95(3H。
s、 19−Hs)、0.96 (3H,d、 J−約
5H2,2l−Ha)、1.22 (6H,s、 2
6−Hsと27−Ha)、3.78 (IH,m。
5H2,2l−Ha)、1.22 (6H,s、 2
6−Hsと27−Ha)、3.78 (IH,m。
1−H)、4.07 (IH,m、3−H)、5.3
8 (IH,m。
8 (IH,m。
7−H)、5.74 (IH,m、6−H)。
質量スペクトルm/e 416 (M”、 25)、3
98(20)、380(20)、287(4)、251
(22)、158(too)。
98(20)、380(20)、287(4)、251
(22)、158(too)。
参考例 1
(22E)−5σ、8σ−(4−フェニル−1,2−ウ
ラゾロ)−エルゴスタ−6,22−ジエン−1σ、3β
−ジオール・ジアセテート(8) (22E)−エルゴスタ−5,7,22−1−リエンー
la、3β−ジオール・ジアセテート(7) (2,4
69,5,Ommo(1)のクロロホルム(20m12
)溶液に、4−フェニル−1,2,4−トリアゾリン−
3,5−ジオ7 (1,04g、6.OmmoQ)のア
セトン(15mQ)溶液を室温にて撹拌下に滴下した。
ラゾロ)−エルゴスタ−6,22−ジエン−1σ、3β
−ジオール・ジアセテート(8) (22E)−エルゴスタ−5,7,22−1−リエンー
la、3β−ジオール・ジアセテート(7) (2,4
69,5,Ommo(1)のクロロホルム(20m12
)溶液に、4−フェニル−1,2,4−トリアゾリン−
3,5−ジオ7 (1,04g、6.OmmoQ)のア
セトン(15mQ)溶液を室温にて撹拌下に滴下した。
反応液から溶媒を減圧下に留去した後に、残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン:酢酸エチ
ル−2=1)にて精製し、3.0gの泡状の表題化合物
(8)を得た。
ゲルクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン:酢酸エチ
ル−2=1)にて精製し、3.0gの泡状の表題化合物
(8)を得た。
[:σ)r−139°(c = 1.09、CHCQ3
)IR(KBr) 1750.1700.1600.
1505.1395.1240゜103103O’ NMR(CDCL)δ 0.79と0.82 (6H,
各々d、 J=3.7H2,26−Haと27−Ha)
、0−84 (3H,s、 18−Ha)、0.8
9 (38,d、 J−6,8Hz、 28−83)、
1.02 (3H。
)IR(KBr) 1750.1700.1600.
1505.1395.1240゜103103O’ NMR(CDCL)δ 0.79と0.82 (6H,
各々d、 J=3.7H2,26−Haと27−Ha)
、0−84 (3H,s、 18−Ha)、0.8
9 (38,d、 J−6,8Hz、 28−83)、
1.02 (3H。
d、 J□6.6Hz、 2l−Ha)、1.06(3
H,s、 19−H,)、2−01 (3H,s、−
CCHs)、2.03 (3H,s、 −CCH,
)、3.25 (IH,dd、J+=5−6Hz、J
2=13−7Hz、9−H)、5−11 (IH,m
、 1−H)、5.20 (2H,m、22−Hと
23H)、5.89 (IH,m、 3−H)、6.
33と6.45 (28゜ABq、J=8.3Hz、
6−Hと7−H)、7.24〜7−51 (5H。
H,s、 19−H,)、2−01 (3H,s、−
CCHs)、2.03 (3H,s、 −CCH,
)、3.25 (IH,dd、J+=5−6Hz、J
2=13−7Hz、9−H)、5−11 (IH,m
、 1−H)、5.20 (2H,m、22−Hと
23H)、5.89 (IH,m、 3−H)、6.
33と6.45 (28゜ABq、J=8.3Hz、
6−Hと7−H)、7.24〜7−51 (5H。
m、Ar−H)。
質量スペクトルm/e 671 (M”、 0.3)、
496(0,4)、436(8)、376(100)、
251(28)、209(23)、155(34)。
496(0,4)、436(8)、376(100)、
251(28)、209(23)、155(34)。
参考例 2
22−オキソ−5σ、8.y−(4−フェニル−1,2
ウラゾロ) −23,24−ジノルコル−6−ニン1σ
13β−ジオール・ジアセテート(9)参考例1のよう
にして得られた(22E)−5σ。
ウラゾロ) −23,24−ジノルコル−6−ニン1σ
13β−ジオール・ジアセテート(9)参考例1のよう
にして得られた(22E)−5σ。
8σ−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)−エルゴス
タ−6,22−ジエン−1α、3β−ジオール・ジアセ
テート(8010,00g、14.9mmoQ)を1%
ピリジン−塩化メチレン(400m(i)混合液に溶解
した後、−65°Cにて撹拌下にオゾン(0,07mm
oQ/m1n)を4時間30分吹き込んだ。アルゴンを
通してオゾンを追い出した後、−65℃にてジメチル=
27 スルフィド(20mQ)を15分間で滴下した。同温度
下で1時間撹拌した後、1時間かけて徐々に室温に戻し
た。反応液を2%塩酸(4oomQ)、飽和食塩水で順
次洗浄し、硫酸マグネシウム(無水)で乾燥した後に濃
縮した。残渣はシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液
:ヘキサン:酢酸x−1−ル= l : l )にて精
製した後、ベンゼンより再結晶化して4.40yの表題
化合物(9)を得lこ。
タ−6,22−ジエン−1α、3β−ジオール・ジアセ
テート(8010,00g、14.9mmoQ)を1%
ピリジン−塩化メチレン(400m(i)混合液に溶解
した後、−65°Cにて撹拌下にオゾン(0,07mm
oQ/m1n)を4時間30分吹き込んだ。アルゴンを
通してオゾンを追い出した後、−65℃にてジメチル=
27 スルフィド(20mQ)を15分間で滴下した。同温度
下で1時間撹拌した後、1時間かけて徐々に室温に戻し
た。反応液を2%塩酸(4oomQ)、飽和食塩水で順
次洗浄し、硫酸マグネシウム(無水)で乾燥した後に濃
縮した。残渣はシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液
:ヘキサン:酢酸x−1−ル= l : l )にて精
製した後、ベンゼンより再結晶化して4.40yの表題
化合物(9)を得lこ。
m、p、 191−193℃
Ca )W’ −131’ (c −1,06、CII
CL)IR(KBr) 2720.1740.1685
.1605.1505.1405゜1370、1250
.1230.1035c+R−’NMR(CDC(!
、)δ 0.87 (3H,s、 18−H3)、1.
07(3H。
CL)IR(KBr) 2720.1740.1685
.1605.1505.1405゜1370、1250
.1230.1035c+R−’NMR(CDC(!
、)δ 0.87 (3H,s、 18−H3)、1.
07(3H。
s、 191(3)、 1.14 (3H,d、 J=
6.8tlz、 2l−1h)、3.26 (1)1.
dd、 J+=5.4t(z、 J2=IC2肚、
9−H)、5.12 (IL m、 1−H)、
5.88 (IH,m、3−H)、6.36と6.4
4 (2H,ABq、Jミ8.3Hz、6−Hと7−
H)、7.26−7.51 (5H,m、−Ar−H
)、9.55 (IH,d。
6.8tlz、 2l−1h)、3.26 (1)1.
dd、 J+=5.4t(z、 J2=IC2肚、
9−H)、5.12 (IL m、 1−H)、
5.88 (IH,m、3−H)、6.36と6.4
4 (2H,ABq、Jミ8.3Hz、6−Hと7−
H)、7.26−7.51 (5H,m、−Ar−H
)、9.55 (IH,d。
J=3.4Hz、22−H)。
質量スペクトルm/e 603 (M”、 0.3)、
428(0,3)、368(11)、308(100)
、235(20)、177(20)、141(57)。
428(0,3)、368(11)、308(100)
、235(20)、177(20)、141(57)。
参考例 3
5σ、8σ−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)−2
3,24−ジノルコル−6−ニンーIα、3β、22−
トリオールーlα、3β−ジアセテート(10)メタノ
ール(100+++Q)中の参考例2で得られた22−
オキソ−5α、8σ−(4−フェニル−1,2ウラゾロ
) −23,24−ジノルコル−6−ニンlσ、3β−
ジオール・ジアセテート(989,50g、15.8+
n+no(2)に、室温にて撹拌下に、水素化ホウ素ナ
トリウム(0,30g、7.9mmoQ)を数回に分け
て加えた。さらに10分間撹拌した後に、酢酸(0,3
mρ)を加え10分間撹拌した。反応液より減圧下にメ
タノールと留去した後に、残渣に水を加えクロロホルム
にて抽出した。クロロホルム層は水、飽和食塩水にて洗
浄後、硫酸マグネシウム(無水)にて乾燥し、濃縮した
。残渣として9.509の粗の表題化合物(lO)を得
た。このものはさらに精製することなく次の工程に用い
たが、分析用サンプルはヘキサン−酢酸エチルより再結
晶化して調製した。
3,24−ジノルコル−6−ニンーIα、3β、22−
トリオールーlα、3β−ジアセテート(10)メタノ
ール(100+++Q)中の参考例2で得られた22−
オキソ−5α、8σ−(4−フェニル−1,2ウラゾロ
) −23,24−ジノルコル−6−ニンlσ、3β−
ジオール・ジアセテート(989,50g、15.8+
n+no(2)に、室温にて撹拌下に、水素化ホウ素ナ
トリウム(0,30g、7.9mmoQ)を数回に分け
て加えた。さらに10分間撹拌した後に、酢酸(0,3
mρ)を加え10分間撹拌した。反応液より減圧下にメ
タノールと留去した後に、残渣に水を加えクロロホルム
にて抽出した。クロロホルム層は水、飽和食塩水にて洗
浄後、硫酸マグネシウム(無水)にて乾燥し、濃縮した
。残渣として9.509の粗の表題化合物(lO)を得
た。このものはさらに精製することなく次の工程に用い
たが、分析用サンプルはヘキサン−酢酸エチルより再結
晶化して調製した。
n+、p、203〜205℃
ca)y−117°(C=1.07、CHCQ、)IR
(KBr) 3440.1740.1695.1680
.1605.1510゜1410、1370.1250
.1235.1100.1035c+++−’NMR(
CDC4s)δ 0.85 (3H,s、 18−H3
)、1.05(3H。
(KBr) 3440.1740.1695.1680
.1605.1510゜1410、1370.1250
.1235.1100.1035c+++−’NMR(
CDC4s)δ 0.85 (3H,s、 18−H3
)、1.05(3H。
d、 J=6.3Hz、 21−Hユ)、1.06 (
3H,s、 19−H3)、3.27 (IH,dd
、 J+=4.9Hz、 J2=13Hz、9−H
)、3.32 (IH,dd、J、=6.9Hz、J
*・1O−6Hz、22−H)、3.64 (IH,d
d、 Jl=3−7Hz、 Jz=10.6Hz、 2
2−H)、5.11 (IH,m、1−H)、5.8
8 (IH,m、3−H)、6.33と6.45
(2H,ABq、J=8.3Hz、6−Hと7−H)、
7.28〜7.52(5H,m、−Ar−H)。
3H,s、 19−H3)、3.27 (IH,dd
、 J+=4.9Hz、 J2=13Hz、9−H
)、3.32 (IH,dd、J、=6.9Hz、J
*・1O−6Hz、22−H)、3.64 (IH,d
d、 Jl=3−7Hz、 Jz=10.6Hz、 2
2−H)、5.11 (IH,m、1−H)、5.8
8 (IH,m、3−H)、6.33と6.45
(2H,ABq、J=8.3Hz、6−Hと7−H)、
7.28〜7.52(5H,m、−Ar−H)。
質量スペクトルm/e 370(M”−トリアゾリン−
酢酸、18)、310(100)、251(12)、1
97(46)、14](57)。
酢酸、18)、310(100)、251(12)、1
97(46)、14](57)。
参考例 4
5α、8α−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)23
.24−ジノルコル−6−ニンーlσ、3β、22トリ
オールーlα、3β−ジアセテート・22−pトルエン
スルホネート(11) 参考例3で得られた粗の5α、8σ−(4−フェニル−
1,2−ウラゾロ) −23,24−ジノルコル6−ニ
ンーIα、3β、22− )リオールーlα、3β・ジ
アセテート(10) (9,5(h)を乾燥ピリジン(
45+m+2)に溶解し、水冷撹拌下に塩化p−1−ル
エ31 ンスルホニル(4,50g、23.6mmo12)を加
え、同温度にて4時間撹拌した。次いで反応液に水を加
え1時間撹拌した後に、反応液を氷水にあけクロロホル
ムで抽出した。クロロホルム層は水、5%塩酸、飽和炭
酸水素す) IJウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫
酸マグネシウム(無水)で乾燥した後に濃縮した。残渣
はシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液;ヘキサン−
酢酸エチル=l:1−1:2)にて精製し9.33gの
表題化合物(11)を得た。
.24−ジノルコル−6−ニンーlσ、3β、22トリ
オールーlα、3β−ジアセテート・22−pトルエン
スルホネート(11) 参考例3で得られた粗の5α、8σ−(4−フェニル−
1,2−ウラゾロ) −23,24−ジノルコル6−ニ
ンーIα、3β、22− )リオールーlα、3β・ジ
アセテート(10) (9,5(h)を乾燥ピリジン(
45+m+2)に溶解し、水冷撹拌下に塩化p−1−ル
エ31 ンスルホニル(4,50g、23.6mmo12)を加
え、同温度にて4時間撹拌した。次いで反応液に水を加
え1時間撹拌した後に、反応液を氷水にあけクロロホル
ムで抽出した。クロロホルム層は水、5%塩酸、飽和炭
酸水素す) IJウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫
酸マグネシウム(無水)で乾燥した後に濃縮した。残渣
はシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液;ヘキサン−
酢酸エチル=l:1−1:2)にて精製し9.33gの
表題化合物(11)を得た。
IR(KBr) 1750.1700.1600.15
05.1400.1245゜1180、1030cII
+−’ NMR(CDCI2s)δ 0.80 (3H,s、
18−H−)、1.01(31(。
05.1400.1245゜1180、1030cII
+−’ NMR(CDCI2s)δ 0.80 (3H,s、
18−H−)、1.01(31(。
d、 J=6.6Hz、 2l−Hs)、1.05 (
3H,s、 19−H,)、2.44 (3H,s、
−Ar−p−CHs)、3.25 (18,ad。
3H,s、 19−H,)、2.44 (3H,s、
−Ar−p−CHs)、3.25 (18,ad。
J+=5.6Hz、Jz=13.4Hz、9−H)、3
.73(IH,aa。
.73(IH,aa。
2
J、=6.6Hz、 Jz=8.8Hz、 22−H
)、4.01(IH,dd。
)、4.01(IH,dd。
JI=2−4Hz、 Jz=8−8Hz+ 22−
H)、5.09 (IH,m。
H)、5.09 (IH,m。
1−)1)、5.87 (IH,m、 3−H)、
6,33と6.41 (2H。
6,33と6.41 (2H。
ABq、J=8.3Hz、6−Hと7−H)、7.32
−7.50 (7H。
−7.50 (7H。
参考例 5
22−ヨード−5σ、8α−(4−フェニル−1,2−
ウラゾロ) −23,24−ジノルコル−6−エン−1
α、3β−ジオール・ジアセテート(12、x−1)参
考例4のようにして得た5α、8α−(4−フェニル−
1,2−ウラゾロ) −23,24−ジノルコル6−ニ
ンーlα、3β、22−トリオールーlσ。
ウラゾロ) −23,24−ジノルコル−6−エン−1
α、3β−ジオール・ジアセテート(12、x−1)参
考例4のようにして得た5α、8α−(4−フェニル−
1,2−ウラゾロ) −23,24−ジノルコル6−ニ
ンーlα、3β、22−トリオールーlσ。
3β−ジアセテート−22−p −hルエンスルポネー
ト(1102,61g、3.44mmon)とヨウ化ナ
トリウム(2,57g、17.1lllI+1OIl)
の乾燥N、N−ジメチルホルムアミド(20+iQ)溶
液を80℃にて30分間撹拌した。6後、反応液を水に
注ぎクロロホルムにて抽出した。クロロホルム層は水、
5%チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて洗浄し
、硫酸マグネシウム(無水)で乾燥した後に濃縮した。
ト(1102,61g、3.44mmon)とヨウ化ナ
トリウム(2,57g、17.1lllI+1OIl)
の乾燥N、N−ジメチルホルムアミド(20+iQ)溶
液を80℃にて30分間撹拌した。6後、反応液を水に
注ぎクロロホルムにて抽出した。クロロホルム層は水、
5%チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水にて洗浄し
、硫酸マグネシウム(無水)で乾燥した後に濃縮した。
残渣はシリカゲルクロマトグラフィー(溶出液;ヘキサ
ン−酢酸エチル−3:2〜l:1)にて精製し、2−3
3gの表題化合物(12)を得た。
ン−酢酸エチル−3:2〜l:1)にて精製し、2−3
3gの表題化合物(12)を得た。
分析用サンプルは、ヘキサン−酢酸エチルより再結晶化
して調製した。
して調製した。
m、p、 173−174℃
(ff)F −64,4°(c = 1.12、CHC
Q s )IR(KBr) 1740.1685.16
00.1505.1410.1250゜1230、10
30c1R−’ NMR(CDCQs)δ 0.87 (3H,s、 1
8−H−)、1.04(3H。
Q s )IR(KBr) 1740.1685.16
00.1505.1410.1250゜1230、10
30c1R−’ NMR(CDCQs)δ 0.87 (3H,s、 1
8−H−)、1.04(3H。
d、 J=6.6Hz、 2l−Hs)、1.06 (
3H,s、 19−H,)、3.12〜3.36 (
3H,m、9−Hと22−1(2)、5.11 (I
n。
3H,s、 19−H,)、3.12〜3.36 (
3H,m、9−Hと22−1(2)、5.11 (I
n。
m、1−H)、5.88 (IH,m、3−H)、6
.34と6.44(2H,ABq、J=8.3Hz、6
−Hと7−H)、7.28〜7.51(5H,m、−A
r−H)。
.34と6.44(2H,ABq、J=8.3Hz、6
−Hと7−H)、7.28〜7.51(5H,m、−A
r−H)。
質量スペクトルm/e 540 (M” −トリアゾリ
ン、0.3)、480(8)、420(95)、251
(20)、141(100)、119(65)。
ン、0.3)、480(8)、420(95)、251
(20)、141(100)、119(65)。
参考例 6
22−ヨード−5α、8σ−(4−フェニル−1,2−
ウラゾロ)−23,24−ジノルコル−6−ニン1σ、
3β−ジオール(13、X=I)参考例5のようにして
得た22−ヨード−5σ。
ウラゾロ)−23,24−ジノルコル−6−ニン1σ、
3β−ジオール(13、X=I)参考例5のようにして
得た22−ヨード−5σ。
8a−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ) −23,
24=ジノルコル−6−ニンーlα、3β−ジオール・
ジアセテート(1201,23g、1.72mmoQ)
に水酸化ナトリウム(0,14g、3.5m+no(2
)のメタノール(20mQ)溶液を加え、30分間撹拌
還流した。反応液よりメタノールを減圧下に留去した後
に、残渣に水を加えクロロホルムにて抽出した。り四ロ
ホルム層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ不ンウム(無
水)で乾燥後に濃縮した。残液として1.05gの粗製
の表題化合物(13)を得た。分析用サンプルはクロロ
ホルム−酢酸エチルより再結晶化して調製した。
24=ジノルコル−6−ニンーlα、3β−ジオール・
ジアセテート(1201,23g、1.72mmoQ)
に水酸化ナトリウム(0,14g、3.5m+no(2
)のメタノール(20mQ)溶液を加え、30分間撹拌
還流した。反応液よりメタノールを減圧下に留去した後
に、残渣に水を加えクロロホルムにて抽出した。り四ロ
ホルム層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ不ンウム(無
水)で乾燥後に濃縮した。残液として1.05gの粗製
の表題化合物(13)を得た。分析用サンプルはクロロ
ホルム−酢酸エチルより再結晶化して調製した。
m、p、 172−174℃
(、r)ニー65.4°(c=1.14、CHCQ s
)IR(KBr) 3420.1745.1680.
1600.1505.1400゜1150、1090.
103103O’NMRCCDCQ 3 )δ 0.8
4(6H,br s、 18−H3と19−o3)、
1.05 (3H,d、 J−5,6Hz、 21Hs
)、3.02〜3.35(3H,m、9−Hと22−8
2)、340 (IH,m、1−H)、4.80 (
IH,m、 3−H)、6.20と6.34 (2H
,ABq。
)IR(KBr) 3420.1745.1680.
1600.1505.1400゜1150、1090.
103103O’NMRCCDCQ 3 )δ 0.8
4(6H,br s、 18−H3と19−o3)、
1.05 (3H,d、 J−5,6Hz、 21Hs
)、3.02〜3.35(3H,m、9−Hと22−8
2)、340 (IH,m、1−H)、4.80 (
IH,m、 3−H)、6.20と6.34 (2H
,ABq。
J=8.3Hz、6−Hと7−H)、7.29−7.4
0 (58,m。
0 (58,m。
Ar−H)。
質量スペクトルm/e 456 (M” −トリアゾリ
ン。
ン。
13)、438(5)、436(11)、420(10
)、410(20)、328(5)、25](15)、
177(68)、119(too)。
)、410(20)、328(5)、25](15)、
177(68)、119(too)。
5
参考例 7
22−ヨード−5σ、8σ−(4−フェニル−1,2ウ
ラゾロ)−1σ、3β−ビス(テトラヒドロピラニルオ
キシ) −23,24−ジノルコル−6−エン(2、X
=l、 R=T)IP) 参考例6のようにして得た粗製の22−ヨード−5α、
8σ−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)23.24
−ジノルコル−6−ニンーlσ、3β−ジオール(13
) (1,05g)、ジヒドロピラン(0,43g、5
、I2tmoQ) 、触媒量のp−トルエンスルホン酸
−水和物の乾燥塩化メチレン(20m(2)溶液を室温
下に24時間撹拌した。反応液は飽和炭酸水素ナトリウ
ム水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム(無水)
にて乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲルクロマトグラ
フィー(溶出液:ヘキサンー酢酸エチル=2:1)で精
製し、1.009の表題化合物(2)を得た。
ラゾロ)−1σ、3β−ビス(テトラヒドロピラニルオ
キシ) −23,24−ジノルコル−6−エン(2、X
=l、 R=T)IP) 参考例6のようにして得た粗製の22−ヨード−5α、
8σ−(4−フェニル−1,2−ウラゾロ)23.24
−ジノルコル−6−ニンーlσ、3β−ジオール(13
) (1,05g)、ジヒドロピラン(0,43g、5
、I2tmoQ) 、触媒量のp−トルエンスルホン酸
−水和物の乾燥塩化メチレン(20m(2)溶液を室温
下に24時間撹拌した。反応液は飽和炭酸水素ナトリウ
ム水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム(無水)
にて乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲルクロマトグラ
フィー(溶出液:ヘキサンー酢酸エチル=2:1)で精
製し、1.009の表題化合物(2)を得た。
IR(KBr) 1750.1690.1600.15
05.1400.1130゜1115.103103O
’ NMRCCDCQs) δ 0.87 (3H。
05.1400.1130゜1115.103103O
’ NMRCCDCQs) δ 0.87 (3H。
s、18−Hs)、0.96と
0.99(3+(、pair or s、 19
1(、)、 1.05 (3o、 d。
1(、)、 1.05 (3o、 d。
共
−6,45(2H,m、6−Hと7−H)、7.30−
7.50 (5H。
7.50 (5H。
B、−Ar−H)。
質量スペクトルm/e 624 (M” −トリアゾリ
ン、0.8)、540(2)、454(10)、437
(48)、420(23)、382(15)、309(
10)、25](12)、177(48)、119(1
00)。
ン、0.8)、540(2)、454(10)、437
(48)、420(23)、382(15)、309(
10)、25](12)、177(48)、119(1
00)。
参考例 8
2−メチル−4−フェニルスルホニルブタン2−オール
(14) 水素化ナトリウム(60%鉱物油分散、5.6g)をペ
ンタンにて洗浄し、次いでジメチルスルホキシド(DM
SO)(70+++4)、メチルフェニルスルホン(2
1,8g)を加え、アルゴン気流下に70℃で90分撹
拌した。反応液を0°Cに冷却後、乾燥テトラヒドロ7
ラン(70mQ)を加え、次いでイソブチレンオキシド
(14,0g)の乾燥テトラヒドロ7ラン(35m<1
)溶液を滴下し、室温で3時間撹拌した。テトラヒドロ
フランを減圧下に留去した後に、残渣を氷水に注ぎベン
ゼンで抽出した。ベンゼン層は水洗し、硫酸ナトリウム
(無水)で乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出液;ヘキサン−酢酸エチル−3:1
)で精製し、20.7gの表題化合物(14)を得lこ
。
(14) 水素化ナトリウム(60%鉱物油分散、5.6g)をペ
ンタンにて洗浄し、次いでジメチルスルホキシド(DM
SO)(70+++4)、メチルフェニルスルホン(2
1,8g)を加え、アルゴン気流下に70℃で90分撹
拌した。反応液を0°Cに冷却後、乾燥テトラヒドロ7
ラン(70mQ)を加え、次いでイソブチレンオキシド
(14,0g)の乾燥テトラヒドロ7ラン(35m<1
)溶液を滴下し、室温で3時間撹拌した。テトラヒドロ
フランを減圧下に留去した後に、残渣を氷水に注ぎベン
ゼンで抽出した。ベンゼン層は水洗し、硫酸ナトリウム
(無水)で乾燥後に濃縮した。残渣はシリカゲルクロマ
トグラフィー(溶出液;ヘキサン−酢酸エチル−3:1
)で精製し、20.7gの表題化合物(14)を得lこ
。
NMR(CDCQs>δ 1.21 (6H,s)、1
.71 (IH,s)、1.85 (2H,m)、3.
12 (2H,m)、7.54−7.94(5H,m)
。
.71 (IH,s)、1.85 (2H,m)、3.
12 (2H,m)、7.54−7.94(5H,m)
。
質量スペクトルm/e 230(Mつ、213.200
.143.77.43゜ 9− 参考例 9 2−メチル−4−フェニルスルホニル−2−テトラヒド
ロピラニルオキシブタン(3、R’=THP)参考例8
のようにして得た2−メチル−4フェニルスルホニルブ
タン−2−オール(14)(8,0g)、ジヒドロビラ
ン(4,4g)、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム
(880mg)の乾燥塩化メチレン(250m12)溶
液を室温下に6時間反応させた。次いで反応液を水で2
回、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム(無水)で乾
燥後に濃縮した。残液をヘキサン−酢酸エチルより結晶
化させ、8.28gの表題化合物(3)を得た。
.143.77.43゜ 9− 参考例 9 2−メチル−4−フェニルスルホニル−2−テトラヒド
ロピラニルオキシブタン(3、R’=THP)参考例8
のようにして得た2−メチル−4フェニルスルホニルブ
タン−2−オール(14)(8,0g)、ジヒドロビラ
ン(4,4g)、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム
(880mg)の乾燥塩化メチレン(250m12)溶
液を室温下に6時間反応させた。次いで反応液を水で2
回、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム(無水)で乾
燥後に濃縮した。残液をヘキサン−酢酸エチルより結晶
化させ、8.28gの表題化合物(3)を得た。
m、p、 80−82°C
NMR(CDCL) δ 1.18と1.21(6H
,各々S)、1,12〜1.90 (6H,m)、1.
90 (2H,m)、3.1−3.41(2H,m)、
3.88 (LH,m)、4.58(IH,m)、7.
52−7.94 (5H,m)。
,各々S)、1,12〜1.90 (6H,m)、1.
90 (2H,m)、3.1−3.41(2H,m)、
3.88 (LH,m)、4.58(IH,m)、7.
52−7.94 (5H,m)。
0
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 次式 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、Xは臭素または沃素原子を表わし、Rは耐塩基
性である水酸基の保護基を表わす)で表わされるハロゲ
ン化物を、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼(3) (式中R′は耐酸性である水酸基の保護基を表わす) で表わされるスルホン化合物と反応させて、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼(4) (式中、R、R′は上記に同じ) で表わされる化合物とし、次いでスルホニル基を還元的
に除去して次式 ▲数式、化学式、表等があります▼(5) (式中、R、R′は上記に同じ) で表わされる化合物とし、次いで式(5)の化合物の水
酸基の保護基を除去して、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼(6) で表わされるトリオール化合物とし、次いで5,7−ジ
エンの保護基を除去することを特徴とする、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) で表わされるコレスタ−5,7−ジエン−1α,3β,
25−トリオールの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1254836A JP2750170B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | ステロイド誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1254836A JP2750170B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | ステロイド誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03118391A true JPH03118391A (ja) | 1991-05-20 |
JP2750170B2 JP2750170B2 (ja) | 1998-05-13 |
Family
ID=17270530
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1254836A Expired - Fee Related JP2750170B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | ステロイド誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2750170B2 (ja) |
-
1989
- 1989-09-29 JP JP1254836A patent/JP2750170B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |