JPH03116999A - フェライトラバー - Google Patents
フェライトラバーInfo
- Publication number
- JPH03116999A JPH03116999A JP25476289A JP25476289A JPH03116999A JP H03116999 A JPH03116999 A JP H03116999A JP 25476289 A JP25476289 A JP 25476289A JP 25476289 A JP25476289 A JP 25476289A JP H03116999 A JPH03116999 A JP H03116999A
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- JP
- Japan
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- ferrite
- rubber
- rubber layer
- noise
- sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Aerials With Secondary Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野〕
この発明はE M C(II!1ectro Magn
etic Compati−bility)対策用のフ
ェライトラバーに関するものである。
etic Compati−bility)対策用のフ
ェライトラバーに関するものである。
従来、電磁シールド材として特開昭60−244100
号公報、特開昭60−2411392号公報等により、
ラバー材料にフェライト粉および金属磁性粉を混入した
フェライトラバーが提案されている。
号公報、特開昭60−2411392号公報等により、
ラバー材料にフェライト粉および金属磁性粉を混入した
フェライトラバーが提案されている。
従来のフェライトラバーは、フェライト粉の他に金属磁
性粉を含有しているため、加工および特性の維持が困難
であるという問題点があった。
性粉を含有しているため、加工および特性の維持が困難
であるという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、ラバー材料にフェライト粉体のみを混入する
ことにより、成形性が良好で、ノイズ、電磁波吸収性に
優れたEMC対策用のフェライトラバーを得ることを目
的とする。
たもので、ラバー材料にフェライト粉体のみを混入する
ことにより、成形性が良好で、ノイズ、電磁波吸収性に
優れたEMC対策用のフェライトラバーを得ることを目
的とする。
(課題を解決するための手段〕
この発明のフェライトラバーは、ラバー材料に50重量
%以上のフェライト粉体を混入したものである。
%以上のフェライト粉体を混入したものである。
この発明において用いられるラバー材料はラバー状の材
料であり、シリコンラバーその他のラバープラスチック
が使用でき、絶縁性を有するものが好ましい。
料であり、シリコンラバーその他のラバープラスチック
が使用でき、絶縁性を有するものが好ましい。
この発明のフェライトラバーは、金属磁性粉を混入して
いないので、成形性が良好であり、打抜、充填、プレス
、押出等により任意の形状に成形し。
いないので、成形性が良好であり、打抜、充填、プレス
、押出等により任意の形状に成形し。
EMC対策を必要とする部所を覆うことにより、ノイズ
、電磁波をシールドする。このフェライトラバーはラバ
ー材料にフェライト粉体を50重量%以上混入したため
、ノイズ、電磁波吸収性が高い。
、電磁波をシールドする。このフェライトラバーはラバ
ー材料にフェライト粉体を50重量%以上混入したため
、ノイズ、電磁波吸収性が高い。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図は実施例のシート状成形体の斜視図である。図におい
て、(1)はシート状(タイル状)の成形体、(2)は
この成形体(1)を形成するフェライトラバー層、(3
)はこのフェライトラバー層(2)の片面に形成された
接着剤層である。フェライトラバー層(2)はシリコン
ラバーにフェライト粉体を50重量%以上混入させ、シ
ート状に成形されている。
図は実施例のシート状成形体の斜視図である。図におい
て、(1)はシート状(タイル状)の成形体、(2)は
この成形体(1)を形成するフェライトラバー層、(3
)はこのフェライトラバー層(2)の片面に形成された
接着剤層である。フェライトラバー層(2)はシリコン
ラバーにフェライト粉体を50重量%以上混入させ、シ
ート状に成形されている。
上記のように構成されたシート状の成形体(1)は、E
MC対策を施す部所をフェライトラバー層(2)で覆う
ように、接着剤層(3)で貼付けてノイズ対策を施す。
MC対策を施す部所をフェライトラバー層(2)で覆う
ように、接着剤層(3)で貼付けてノイズ対策を施す。
このフェライトラバー層(2)は、第8図に示すような
フェライト粉体混入量に依存する電磁波減衰特性を有し
ている0図において、Aはフェライト粉体混入量が50
重量%、Bは70重量%、Cは90重量%のフェライト
ラバーの特性を示している。
フェライト粉体混入量に依存する電磁波減衰特性を有し
ている0図において、Aはフェライト粉体混入量が50
重量%、Bは70重量%、Cは90重量%のフェライト
ラバーの特性を示している。
このようなフェライトラバーからなるシートをEMC対
策を施す部所に貼付けることにより、111磁波は吸収
され、ノイズは減少する。
策を施す部所に貼付けることにより、111磁波は吸収
され、ノイズは減少する。
第2図ないし第7図は他の実施例の斜視図である。第2
図ではフェライトラバーからなる板状の成形体(1)に
打抜により穴(4)を形成している。このような成形体
(1)は第3図に示すようにコネクタ(5)に装着して
EMC対策を行うほか、半導体素子、電子部品等にも同
様に使用することができる。第4図では半導体素子(6
)にフェライトラバー層(2)を充填して成形体(1)
を形成することにより、ボッティング材として使用する
例を示している。第5図はフェライトラバー層(2)に
エプロン状の成形体(1)を形成し、電磁波防止エプロ
ンとして使用する例を示している。第6図はフェライト
ラバー層(2)によりテント状の成形体(1)を形成し
、電磁波シールドテントとして使用する例を示す。第7
図はフェライトラバー層(2)によりファスナー状の成
形体(1)を形成することにより1例えば第7図のテン
トの入口(7)として利用する例を示す、このほかEM
C対策を要する部所に応じて任意の形状、構造に成形し
て使用することができる。
図ではフェライトラバーからなる板状の成形体(1)に
打抜により穴(4)を形成している。このような成形体
(1)は第3図に示すようにコネクタ(5)に装着して
EMC対策を行うほか、半導体素子、電子部品等にも同
様に使用することができる。第4図では半導体素子(6
)にフェライトラバー層(2)を充填して成形体(1)
を形成することにより、ボッティング材として使用する
例を示している。第5図はフェライトラバー層(2)に
エプロン状の成形体(1)を形成し、電磁波防止エプロ
ンとして使用する例を示している。第6図はフェライト
ラバー層(2)によりテント状の成形体(1)を形成し
、電磁波シールドテントとして使用する例を示す。第7
図はフェライトラバー層(2)によりファスナー状の成
形体(1)を形成することにより1例えば第7図のテン
トの入口(7)として利用する例を示す、このほかEM
C対策を要する部所に応じて任意の形状、構造に成形し
て使用することができる。
以上のように、この発明によれば、ラバー材料に50重
景%以上のフェライト粉体を混入したので、打抜、充填
、プレス、押出等の成形性が極めて良く、電磁波、ノイ
ズ等のシールド性が高いEMC対策用のフェライトラバ
ーが得られる。
景%以上のフェライト粉体を混入したので、打抜、充填
、プレス、押出等の成形性が極めて良く、電磁波、ノイ
ズ等のシールド性が高いEMC対策用のフェライトラバ
ーが得られる。
第1図ないし第7図は本発明の別の実施例を示す斜視図
、第8図は減衰量の一例を示す曲線図である。 各図中、同一符号は同一または相当部分を示し、(1)
は成形体、(2)はフェライトラバー層、(3)は接着
剤層、(4)は穴、(5)はコネクタ、(6)は半導体
素子である。
、第8図は減衰量の一例を示す曲線図である。 各図中、同一符号は同一または相当部分を示し、(1)
は成形体、(2)はフェライトラバー層、(3)は接着
剤層、(4)は穴、(5)はコネクタ、(6)は半導体
素子である。
Claims (1)
- (1)ラバー材料に50重量%以上のフェライト粉体を
混入したことを特徴とするフェライトラバー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25476289A JPH03116999A (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | フェライトラバー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25476289A JPH03116999A (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | フェライトラバー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03116999A true JPH03116999A (ja) | 1991-05-17 |
Family
ID=17269530
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25476289A Pending JPH03116999A (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | フェライトラバー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03116999A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7178755B2 (en) | 2003-07-30 | 2007-02-20 | Lincoln Global, Inc | Retainer ring for wire package |
-
1989
- 1989-09-29 JP JP25476289A patent/JPH03116999A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7178755B2 (en) | 2003-07-30 | 2007-02-20 | Lincoln Global, Inc | Retainer ring for wire package |
KR100870165B1 (ko) * | 2003-07-30 | 2008-11-25 | 링컨 글로벌, 인크. | 와이어 팩키지용 리테이너 링 |
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