JPH03112822A - 光学部品成形用モールド - Google Patents

光学部品成形用モールド

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JPH03112822A
JPH03112822A JP24863389A JP24863389A JPH03112822A JP H03112822 A JPH03112822 A JP H03112822A JP 24863389 A JP24863389 A JP 24863389A JP 24863389 A JP24863389 A JP 24863389A JP H03112822 A JPH03112822 A JP H03112822A
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JP
Japan
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mold
molding
glass
titanium compound
atomic ratio
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JP24863389A
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English (en)
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Masaki Kobayashi
正樹 小林
Tomoyuki Oshita
知之 大下
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Tungaloy Corp
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Toshiba Tungaloy Co Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
    • C03B11/06Construction of plunger or mould
    • C03B11/08Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
    • C03B11/084Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
    • C03B11/086Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2215/00Press-moulding glass
    • C03B2215/02Press-mould materials
    • C03B2215/08Coated press-mould dies
    • C03B2215/14Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
    • C03B2215/26Mixtures of materials covered by more than one of the groups C03B2215/16 - C03B2215/24, e.g. C-SiC, Cr-Cr2O3, SIALON

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、カメラ、顕微鏡、望遠鏡などの光学測定機、
ビデオカメラ、ビデオムービー ビデオディスクなどの
映像機器、音響機器、ファクシミリ、レーザビームプリ
ンタ、複写機などの事務機器に代表される光学機器の部
品として用いられる、主としてレンズ、プリズム、コン
パクトディスク又は光磁気ディスクなどを成形するのに
適する光学部品成形用複合子−ルドに関するものである
(従来の技術) 従来、ガラスやプラスチックを加熱軟化させた後、加圧
して所望形状の光学部品を成形するためのモールドとし
ては、ダイス鋼、ステンレス鋼又は超硬合金などの材料
が用いられている。しかし、これらのモールドは、モー
ルドと加熱軟化し−た被加圧材、特に高温で軟化するガ
ラスの場合における離I!:!性又は成形後の光学部品
の面積度から短寿命であるという問題がある。この問題
を解決するための光学部品成形用モールドが多数提案さ
れており、その代表的なものに、特開昭6011863
8号公報、特開昭63−123822号公報及び特開昭
63−297223号公報がある。
(発明が解決しようとする問題点) 特開昭60−118638号公報には、基材の表面が0
.5〜IOμm厚さのTiC,TiN又はTi (C,
N)からなる被覆層で形成されたガラス成形用の金型が
開示されている。また、特開昭63−123822号公
報には、クロムと炭素を主成分とする被覆層により少な
くとも成形面を形成してなる光学ガラス素子成形用型が
開示されている。さらに、特開昭632’17223号
公報には、基材の表面にホウ化物、炭化物、窒化物、ケ
イ化物、a化物を厚さ1〜10μmで、 11i層又は
複層に被tνしてなる溶融ガラス成形用工具、具体的に
は、 TiBa、 TiC,TaC,TiN。
TaN、  ^℃201、ZrO□の被覆層からなって
いる溶融ガラス成形用工具が開示されている。
これらのガラス成形用工具又は型は、従来のステンレス
鋼及びクロム鋼に比べて、各種の被覆層を形成すること
により、ガラスとの反応の防止、型の表面肌の荒れ制御
、及びガラスの離型性の向1を達成したすぐれたもので
あるけれども、繰り返し成形前トする場合に、成形加工
されたガラスが着色しやすいこと、特に鏡面研摩した成
形面の面積度を成形加工されたガラス面に転写するのが
困難になり、ガラスの面が荒れやすくなること、成形加
工後のガラスの離型性が低下することから寿命が短かく
実用化できないという問題がある。
本発明は、上述のような問題点を解決したもので、具体
的には、セラミックス焼結体、サーメット、超硬合金、
高融点金属を主成分とする合金。
耐熱鋼、超耐熱合金などの基材の表面にTiの含イ1し
てなる炭酸化物、窒酸化物、炭窒酸化物を主成分とする
焼結体又は被膜で形成した光学部品成形用モールドの提
供を目的とするものである。
(問題点を解決するための1段) 本発明者らは、光2戸部品として各種の用途で用いられ
るガラス、特に溶融状態のガラスに対する濡れ性1発泡
性、腐食性及び着色性の観点からガラス成形用モールド
について検討し、Tiの含(Tしてなる炭酸化物、窒酸
化物、炭窒酸化物がガラス成形モールド用材料としてす
ぐれているという知見を得て1本発明を完成するに至っ
たものである。
すなわち1本発明の光″戸部品成形用モールドは、成形
用子−ルドの少なくとも被加工物の成形加圧される成形
面がTiの炭酸化物、窒酸化物、炭窒酸化物及びTiと
Mとを含む炭酸化物、窒酸化物、炭窒酸化物の中の少な
くとも1種のチタン化合物(但し、MはZr、 Hf、
 V、 Nb、 Ta、 Cr、 Mo。
W、 Ag、 B、 Si及び希−L類金属のrpの少
なくとも1種を表わす。)を主成分とする焼結体又は被
膜で形成されていることを特徴とするものである。
本発明の九′を部品成形用モールドにおけるチタン化合
物は、特に、次式(八)で表わされる組成範囲でなる場
合がガラスとの反応性が低く、ガラスの成形性にすぐれ
ることから好ましいことである。
(Tia、 M+−a N Cw、 Nx、 Oy 1
7.  ・−−(Al但し、aはTiとMとの合計に対
するTiの原子比を表わし、w、x、yは炭素(C)、
窒素(N)、酸ふ(O)のそれぞれの原−r比を表わし
、ZはTiとMとの合計に対する非金属元素(C+N+
O)の原子比を表わし、a、w、x、y、zのそれぞれ
が0.5 ≦a ≦、0.     w+x+y=、 
   O≦w≦0.95.   0≦x  ≦(1,8
[1,0,05≦y≦0,80゜0.80;!;z≦、
80)関係にあり、Mは、Zr、 Hf、 V。
Nb、 ’ra、 Cr、 Mo、 ’f4.  Aj
2. B、 S’i及び希土類金属の中の少なくとも1
種を表わすものである。この(八)の式の内、w==0
.4〜0.8.x=O〜0.5゜y=0.2〜0.6 
、 z=、I〜、4の範囲にあるものがさらに好ましい
ことである。
このチタン化合物は、具体的には、例えばTi(C,0
)、 Ti(N、0、 Ti(C,N、Ol、  (T
i、Ml (C,0)(Ti、M) (N、0、 (T
i、Ml (C,N、O)の中の少なくとも1秤からな
るもので、化学量論組成又は非化学頃論組成の化合物で
ある。
本発明の光学部品成形用モールドは、上述のチタン化合
物の焼結体でなる場合でよいが、他の物体からなる基材
のモルードの少なくとも被加工物(ガラス)と接触する
成形面に、例えば少なくとも1mm厚さのチタン化合物
の焼結体を接合してなるモル〜ド、もしくは成形面に化
学蒸着法(CVD法)又は物理蒸着法(PVD法)でも
って、例えば菖〜50μm厚さのチタン化合物の被膜を
単層又は複層にして形成したモルードである。この場合
の基材としては、光7部品成形時の温度、圧力、加熱と
冷却の繰り返しによる熱衝撃性、変形性などに耐える材
料、例えばAflaOa系セラミックス。
Z「0.系セラミックス、 CrzL系セラミックス。
SiC系セラミックス、 5isNa系セラミツクス、
すでアロン系セラミックス、 TiC系サーメット。
riC−TiN系サーメット、  Cr+Ca系サーメ
ット。
Al2.03系サーメツト、1lIC−Co系超硬合金
、 WC−riC−TaC−Co系超硬合金、 Cr、
 Mo、 W、 Ta、 Nb。
白金族金属及びこれらを主成分とする合金などの高融点
金属、耐熱鋼、インコネルやワスバロイなどの超耐熱合
金を挙げることができる。これらの基材にチタン化合物
の焼結体を接合する方法は。
基材の材質により異なるが、例えばへβ20.l系セラ
ミックスなどのセラミックス焼結体を基材とする場合は
、拡散接合にすることができ、超硬合金、サーメット又
は他の合金を基材とする場合は1例えば、Ni、 Co
、 Cu、 Ti、 Illなどの金属もしくはその合
金、あるいはTiの炭化物、窒化物、炭窒化物からなる
中間層を介在させて接合することができる。
また、本発明の光学部品成形用モルードは、上述のチタ
ン化合物が少なくとも5Ozシ%と、残りTi、 lr
、 Hf、 V、 Nb、 Ta、 Cr、 Mo、 
W、の炭化物。
窒化物、酸化物、ホウ化物、 B、 Siの炭化物5窒
化物、酸化物、^℃の窒化物、酸化物及びこれらの相r
i固溶体の中の少なくとも1種の他化合物(但し、上述
のチタン化合物を除いた化合物)と不可避不純物とから
なる焼結体で形成したモールド、またはこの焼結体を少
なくともlff1II+厚さにして、前述の基材の成形
面に接合してなるモルード、もしくはこの焼結体と同じ
組成成分でなる被膜を基材の成形面に被覆してなるモル
ードからなるものである。ここで述べているチタン化合
物を除いた他化合物とは、具体的には、例えばチタンの
酸化物、炭化物、窒化物、炭窒化物。
(Ti、Zr1Oz、  (Ti、VりC,(Ti、I
IIN、  (Ti、Ta)(C,N)などを挙げるこ
とができる。この他化合物以外に、2wt%以下のカー
ボンが混在した、例えばチタン化合物と他化合物とカー
ボンとの焼結体又は被膜、並びにチタン化合物とカーボ
ンとの焼結体もしくは被膜の構成にすることもできる。
本発明の光学部品成形用モルードは、従来の粉末冶金の
製造方法、 CVD法、 PVD法などを応用すること
により得ることができる。まず、焼結体を作製するには
、L述のチタン化合物の粉末又はこのチタン化合物のm
1駆体、例えばTiC,Ti0z。
TiHi、 TiNなどの粉末を所定ill混合した後
、酸化性もしくは非酸化性雰囲気中で1200〜160
0℃の温度で焼結、あるいは焼結後、熱間静水圧処理(
IIIP処理)により行う方法である。このときの焼結
は、常圧焼結、減圧ガス雰囲気焼結、加圧ガス雰囲気焼
結、又はホットプレス焼結などを選定することができる
0次に、被膜にする場合には、従来のCVD法、 PV
D法で製作すればよく、特に50μm以上の厚い被膜を
得る場合には、」二連の焼結体を作製するための粉末を
基材の表面に塗布した後、加熱する方法を挙げることが
できる。
(作用) 本発明の九′戸部品成形用モールドは、焼結体又は被膜
の主成分であるチタン化合物がガラスとの反応、濡れ及
び溶着をtlIl+ヒする作用をし、チタン化合物以外
の他化合物が混在する場合、他化合物がガラスの離型性
を向トさせること、及び焼結体又は被膜の耐熱衝撃性や
耐酸化性などの耐熱性を向」ユさせる作用並びにチタン
化合物の粒成長抑制作用をし、焼結体又は被膜にカーボ
ンの含有している場合は、カーボンがガラスとの反応性
の防IL、及び離型性を向トさせる作用をしているもの
である。
(実施例) 実施例1 市販の各種粉末(平均粒径0.1〜、5μm)を用いて
第1表に示した割合に配合し、メタツル及びジルコニア
製ボールと共にポリウレタン内張りされたボールミルボ
ットに装入し、48時間混合粉砕した。各混合粉末をA
「雰囲気中、圧力200kg/cm”、保持時間30分
、第1表に併記した温度条件でホットプレス焼結し、1
部の試料については1500気圧のAr雰囲気中、温度
1350℃、保持時間60分の条件で旧P処理を施して
、約10φXl3n+mの形状の本発明品1〜I6及び
比較品1〜5得た。
こうして得た本発明品l〜16及び比較品l〜5を走査
型電子顕微鏡、X線回折、電rプローブマイクロアナラ
イザ及びC,N、Oのそれぞれの分析装置でもって1台
し、その結果を第2表に示した。この本発明品1〜16
及び比較品1〜5と、さらに市販の超硬合金(WC−C
o合金)を比較品6゜SiC基焼結体を比較品7として
加えて、それぞれの−面を鏡面研摩した後、それぞれの
鏡面の而に、下記A試験、B試験でもってガラスを接触
させて、ガラスとの反応性を調べて、その結果を第3表
に示した。
A試験条件 ガラスの種類:鉛ガラス(約4 x 4 x 4mmf
’l)雰  囲  2二N2ガス雰囲気と Nz+ 0. l vofi%0.雰囲気温   度:
650℃ 保持時間:60分 [3試験条件 ガラスの種類ニホウケイ酸ガラス (約4X4X4mmj’l) 雰  囲  気: Nz+0.I voI2%0□雰囲
気温   度   =750 ℃ 保持時間:60分 次に、本発明品]、 3.6.1、13.16及び比較
品1,4,6.7を用いてガラスレンズ成形加工に相当
する下記のC試験条件でもって実用成形試験を行い、そ
の結果を第3表に併記した。
C試験条件 ガラスの種類:鉛ガラス(SFB相当)加熱温度=50
0℃ 加  圧   力 :  40  kg加圧時間:20
分秒 雰  囲  気:  N2+0.I  vof1%0□
評    価:Iサイクル250回の連続成形を行い、
成形ガラスの面相さ、#l 型性について判断。
第 :( 表 本 第3表中のガラスとの反応性試験は、試料とガラス
との溶着性、雌型性、及びガラスの面精度、変色や曇り
の度合を判定し、総合評価として、0・非常にすぐれる
。○ すぐれる、Δ:やや劣る。X:劣るとして2屹実
施例2 111P処理を施した超硬合金(■C−10wt%Co
)の基材の−・端面を凹球面状(゛1′−径15mmの
球面をイ1する10φX13mm形状)に研摩し、その
凹面を組さRmax O,01μmmトドした後、CV
D装置に設置し、炉内圧力150Torr、加熱温度1
000℃、保持時II 3時間の条件で基材の表面にチ
タン化合物の被膜を形成して本発明品17〜19を得た
。尚、本発明品17は、炉内雰囲気+12−JVO℃%
C11,−o。
voI2.%CO混合ガスとこのガスでバブリングした
TiCβ4の状態、本発明品18は、炉内雰囲気11□
30vo1%N、−6voj2%CI+4−0. l 
vou%CO混合ガスとこのガスでバブリングしたTi
Cf24の状態、本発明品19は、炉内雰囲気11□−
10104%N2voj2%C11,−0,2vaI2
%CO混合ガスとこのガスでバブリングしたTiC1!
、aの状態で行った。
こうして得た本発明品17〜19を実施例1と同様に走
査型電子顕微鏡、X線回折、電rプローブマイクロアナ
ライザ及びC,N、Oのそれぞれの分析装置でもって調
査し、その結果を第4表に示した。この本発明品17〜
19の他に、同じ超硬合金の基材に従来のCVD法でも
ってTiCの被膜を形成した比較品6及びTiNの被膜
を形成した比較品7を加えて、実施例1で行ったA試験
、B試験及びC試験を行って、その結果を第5表に示し
た。(但し、C試験は、本発明品18と比較品6のみで
行った) 以下余白 第 表 第 表 (発明の効果) 本発明の光、+を部品成形用干ルートは、TiC。
TiN、 TiOよの焼結体、超硬合金、 SiC基焼
結体、叉はriC,’riNの被膜を形成した超硬合金
に比較して、ガラスとの耐溶着性、#を性にすぐれてい
ること、また成形加工′、後のガラスの面積度が低下し
難いこと、さらに成形加工後のガラスの変色やのりが起
り難いという効果があり、その結果レンズ成形加「に相
当する実用試験において、4〜10倍もノpQが向」・
−するといつ効果がある。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)成形用モールドの少なくとも被加工物の成形加工
    される成形面がTiの炭酸化物、窒酸化物、炭窒酸化物
    及びTiとMとを含む炭酸化物、窒酸化物、炭窒酸化物
    の中の少なくとも1種のチタン化合物(但し、MはZr
    、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、B、
    Si及び希土類金属の中の少なくとも1種を表わす。)
    を主成分とする焼結体又は被膜で形成されていることを
    特徴とする光学部品成形用モールド。
  2. (2)上記チタン化合物が次式(A)で表わされる組成
    範囲でなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の光学部品成形用モールド。 (Ti_a、M_1_−_a)(C_w、N_x、O_
    y)_z……(A)但し、aはTiとMとの合計に対す
    るTiの原子比を表わし、w、x、yは炭素(C)、窒
    素(N)、酸素(O)のそれぞれの原子比を表わし、z
    はTiとMとの合計に対する非金属元素(C+N+O)
    の原子比を表わし、a、w、x、y、zのそれぞれが0
    .5≦a≦1.0、w+x+y=1、0≦w≦0.95
    、0≦x≦0.80、0.05≦y≦0.80、0.8
    0≦z≦1.30の関係にあり、Mは、Zr、Hf、V
    、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、B、Si及び希
    土類金属の中の少なくとも1種を表わす。
  3. (3)成形用モールドの少なくとも被加工物の成形加工
    される成形面がTiの炭酸化物、窒酸化物、炭窒酸化物
    及びTiとMとを含む炭酸化物、窒酸化物、炭窒酸化物
    の中の少なくとも1種のチタン化合物(但し、MはZr
    、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、B、
    Si及び希土類金属の中の少なくとも1種を表わす。)
    を少なくとも50wt%と、残りTi、Zr、Hf、V
    、Nb、Ta、Cr、Mo、W、の炭化物、窒化物、酸
    化物、ホウ化物、B、Siの炭化物、窒化物、酸化物、
    Alの窒化物、酸化物及びこれらの相互固溶体の中の少
    なくとも1種の他化合物(但し、該チタン化合物を除い
    た化合物)と不可避不純物とからなる焼結体又は被膜で
    形成されていることを特徴とする光学部品成形用モール
    ド。
  4. (4)上記チタン化合物が次式(A)で表わされる組成
    範囲でなることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載
    の光学部品成形用モールド。 (Ti_a、M_1_−_a)(C_w、N_x、O_
    y)_z……(A)但し、aはTiとMとの合計に対す
    るTiの原子比を表わし、w、x、yは炭素(C)、窒
    素(N)、酸素(O)のそれぞれの原子比を表わし、z
    はTiとMとの合計に対する非金属元素(C+N+O)
    の原子比を表わし、a、w、x、y、zのそれぞれが0
    .5≦a≦1.0、w+x+y=1、0≦w≦0.95
    、0≦x≦0.80、0.05≦y≦0.80、0.8
    0≦z≦1.30の関係にあり、Mは、Zr、Hf、V
    、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Al、B、Si及び希
    土類金属の中の少なくとも1種を表わす。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0846784A2 (en) * 1996-12-04 1998-06-10 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Coated tool and method of manufacturing the same

Cited By (2)

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EP0846784A3 (en) * 1996-12-04 2000-12-20 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Coated tool and method of manufacturing the same

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