JPH03111444U - - Google Patents

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JPH03111444U
JPH03111444U JP1803990U JP1803990U JPH03111444U JP H03111444 U JPH03111444 U JP H03111444U JP 1803990 U JP1803990 U JP 1803990U JP 1803990 U JP1803990 U JP 1803990U JP H03111444 U JPH03111444 U JP H03111444U
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crucible
inert gas
airtight chamber
injection nozzle
gas injection
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案に係る真空遠心鋳造装置の実施
例外観図、第２図は前記真空遠心鋳造装置の要部
説明図、第３図は気密室の斜視図、第４図は他の
実施例の要部説明図である。 １……回転主軸、２……坩堝、３……鋳型、４
……回転体、５……上部電極棒、６……下部電極
、７……不活性ガス噴射ノズル、８……気密室、
９……真空手段、１０……不活性ガス供給手段、
１１……ウエイト、１２……ガスボンベ、１３…
…配管、１４……バルブ、１５……分岐管、２１
……注口、３０……鋳型装着部、３１……湯口、
４１……螺軸、７１……トーチ部、８１……ハツ
チ、８２……逆止弁、８３……のぞき窓、９１…
…真空ホンプ、Ａ……鋳造炉、Ａ１……扉、ａ…
…のぞき窓、Ｂ……駆動部、Ｍ……被溶融金属。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 回転主軸と、 前記回転主軸に取付けられ、一側に坩堝と該坩
    堝の前方に位置して湯口を坩堝の注口に対応せし
    める鋳型を装着する鋳型装着部を有する回転体と
    、 前記坩堝の上方に位置して先端が坩堝の上面開
    口部より坩堝内方に臨む上部電極棒と、 前記坩堝底部に設けられ、前記上部電極棒と対
    応する下部電極と、 前記上部電極の外周に該電極棒の外周面を包囲
    するように装設され、噴射口を坩堝の上面開口部
    に臨ませた不活性ガス噴射ノズルと、 前記回転体に取付けられ、前記坩堝、鋳型装着
    部及び不活性ガス噴射ノズルとを内設してなる気
    密室と、 前記気密室内を減圧する真空手段と、 前記不活性ガス噴射ノズルへの不活性ガス供給
    手段と、 よりなることを特徴とする真空遠心鋳造装置。
JP1803990U 1990-02-24 1990-02-24 Pending JPH03111444U (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61226158A (ja) * 1985-03-30 1986-10-08 Kyocera Corp 溶解真空遠心鋳造装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61226158A (ja) * 1985-03-30 1986-10-08 Kyocera Corp 溶解真空遠心鋳造装置

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