JPH03110832U - - Google Patents
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- JPH03110832U JPH03110832U JP2067590U JP2067590U JPH03110832U JP H03110832 U JPH03110832 U JP H03110832U JP 2067590 U JP2067590 U JP 2067590U JP 2067590 U JP2067590 U JP 2067590U JP H03110832 U JPH03110832 U JP H03110832U
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- JP
- Japan
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- diffusion furnace
- quartz jig
- semiconductor
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- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
第１図は本考案の半導体拡散炉用石英治具の実
施例に係る構成を示す斜視図、第２図ａ，ｂは第
１図に示される実施例の説明のための図、第３図
は従来の技術の半導体拡散炉用石英治具の実施例
に係る構成を示す斜視図である。 １０……石英治具、Ｍ……一連番号。
施例に係る構成を示す斜視図、第２図ａ，ｂは第
１図に示される実施例の説明のための図、第３図
は従来の技術の半導体拡散炉用石英治具の実施例
に係る構成を示す斜視図である。 １０……石英治具、Ｍ……一連番号。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 半導体プロセスにおける熱拡散炉に用いる半導
体拡散炉用石英治具において、 周囲に外部より視認さるべく実質的均等に符号
が記入されることを特徴とする半導体拡散炉用石
英治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2067590U JPH03110832U (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2067590U JPH03110832U (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03110832U true JPH03110832U (ja) | 1991-11-13 |
Family
ID=31523760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2067590U Pending JPH03110832U (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03110832U (ja) |
-
1990
- 1990-02-28 JP JP2067590U patent/JPH03110832U/ja active Pending
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