JPH03107404A - 金属粉末の製造方法および製造装置 - Google Patents
金属粉末の製造方法および製造装置Info
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- JPH03107404A JPH03107404A JP24690489A JP24690489A JPH03107404A JP H03107404 A JPH03107404 A JP H03107404A JP 24690489 A JP24690489 A JP 24690489A JP 24690489 A JP24690489 A JP 24690489A JP H03107404 A JPH03107404 A JP H03107404A
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Landscapes
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
（産業上の利用分野）
本発明は、例えば粉末冶金や金属溶射等に適する金属粉
末を得るのに利用される金属粉末の製造方法および製造
装置に関し、とくにＷ 、 Ｍ ｏ 、 Ｖ等の高融点
金属およびＴ ｉ 、 Ｔ ｉ合金、Ｌｉ合金等の活性
金属などの球状粉末を得るのに好適な金属粉末の製造方
法および製造装置に関するものである。 （従来の技術） 従来、粉末冶金等に適する金属粉末を得るのに利用され
る金属粉末の製造方法としては、例えば、 ■空気、水蒸気、不活性ガスなどのガスジェットによっ
て金属溶湯を粉化するガス噴霧法■ガスに比べて冷却効
果の大きい水ジェツトによって金属溶湯を粉化する水噴
霧法 ■高速回転円盤上に落下した金属溶湯を遠心力によって
飛散させて粉化する遠心噴霧法■高速回転するロールの
隙間部分に金属溶湯を落下させて粉化するロール噴霧法 ■ショークラッシャ、ロールクラッシャ、コーンクラッ
シャ、ハンマーミル、スタンプミル。 ボールミル、アトライタなどの粉砕機により金属の固体
塊を機械的に粉砕して粉化する機械的粉砕法 などがある。 そして、従来の場合、Ｗ 、 Ｍ ｏ 、 Ｖ等の高融
点金属の粉末を得るにあたっては、これらの固体塊を機
械的に粉砕する機械的粉砕法によるのが一般的である。 （発明が解決しようとする課題） しかしながら、このような機械的粉砕法による場合には
球状の粉末を得ることが困難であるとともに粉末の製造
効率が悪く、粉末が球状化していないときには当該粉末
の送給性が劣ったものになるという課題があった。 また、Ｔ ｉ 、 Ｔ ｉ合金、Ｌｉ合金等の活性金属
では、溶解時の汚染を防止する必要があると共に、材料
が靭いために機械的粉砕が難かしいという課題があった
。 （発明の目的） 本発明は、このような従来の課題にかんがみてなされた
もので、Ｗ 、 Ｍ ｏ 、 Ｖ等の高融点金属および
Ｔｉ、Ｔｉ合金、Ｌｉ合金等の活性金属などの金属をは
じめとする各種金属（合金）の粉末を生産性よく汚染が
なくしかも球状の金属粉末として得ることが可能である
金属粉末の製造方法および製造装！を提供することを目
的としている。
末を得るのに利用される金属粉末の製造方法および製造
装置に関し、とくにＷ 、 Ｍ ｏ 、 Ｖ等の高融点
金属およびＴ ｉ 、 Ｔ ｉ合金、Ｌｉ合金等の活性
金属などの球状粉末を得るのに好適な金属粉末の製造方
法および製造装置に関するものである。 （従来の技術） 従来、粉末冶金等に適する金属粉末を得るのに利用され
る金属粉末の製造方法としては、例えば、 ■空気、水蒸気、不活性ガスなどのガスジェットによっ
て金属溶湯を粉化するガス噴霧法■ガスに比べて冷却効
果の大きい水ジェツトによって金属溶湯を粉化する水噴
霧法 ■高速回転円盤上に落下した金属溶湯を遠心力によって
飛散させて粉化する遠心噴霧法■高速回転するロールの
隙間部分に金属溶湯を落下させて粉化するロール噴霧法 ■ショークラッシャ、ロールクラッシャ、コーンクラッ
シャ、ハンマーミル、スタンプミル。 ボールミル、アトライタなどの粉砕機により金属の固体
塊を機械的に粉砕して粉化する機械的粉砕法 などがある。 そして、従来の場合、Ｗ 、 Ｍ ｏ 、 Ｖ等の高融
点金属の粉末を得るにあたっては、これらの固体塊を機
械的に粉砕する機械的粉砕法によるのが一般的である。 （発明が解決しようとする課題） しかしながら、このような機械的粉砕法による場合には
球状の粉末を得ることが困難であるとともに粉末の製造
効率が悪く、粉末が球状化していないときには当該粉末
の送給性が劣ったものになるという課題があった。 また、Ｔ ｉ 、 Ｔ ｉ合金、Ｌｉ合金等の活性金属
では、溶解時の汚染を防止する必要があると共に、材料
が靭いために機械的粉砕が難かしいという課題があった
。 （発明の目的） 本発明は、このような従来の課題にかんがみてなされた
もので、Ｗ 、 Ｍ ｏ 、 Ｖ等の高融点金属および
Ｔｉ、Ｔｉ合金、Ｌｉ合金等の活性金属などの金属をは
じめとする各種金属（合金）の粉末を生産性よく汚染が
なくしかも球状の金属粉末として得ることが可能である
金属粉末の製造方法および製造装！を提供することを目
的としている。
【発明の構１ｆ！、］
（課題を解決するための手段）
本発明に係わる金属粉末の製造方法は、コールドクルー
シブル方式のレビテーシばン溶解炉の上方から溶解金属
母材を保持しつつ供給して、前記溶解金属母材を前記レ
ビテーション溶解炉により溶解すると共に溶解した金属
溶湯を下方に落下させて粉化する構成としたことを特徴
としており、一実施態様においては、前記溶解金属母材
がＷ。 Ｍｏ、Ｖ等の高融点金属およびＴｉ 、Ｔｉ合金。 Ｌｉ合金等の活性金属のうちから選ばれる構成としたこ
とを特徴としており、また、前記溶解金属母材のレビテ
ーシ璽ン溶解炉への供給速度を前記溶解金属母材の溶解
速度の１００％以下に制限する構成としたことを特徴と
している。 また、本発明に係わる金属粉末の製造装置は。 上方から溶解金属母材を保持しつつ前記溶解金属母材が
供給されるコールドクルーシブル方式のレビテーション
溶解炉と、前記レビテーション溶解炉で溶解されて下方
に落下する金属溶湯を粉化する粉化手段をそなえた構成
としたことを特徴としており、一実施態様においては、
前記粉化手段がＮ２．Ａｒ等の不活性なガスを噴出して
金属溶湯な粉化するガスノズルである構成としたことを
特徴としており、また同じく、前記粉化手段が遠心力に
より金属溶湯を粉化する高速回転円盤である構成とした
ことを特徴としており、さらに前記レビテーション溶解
炉による溶解雰囲気および粉化手段による粉化雰囲気の
うち少なくとも溶解雰囲気が真空となっている構成とし
たことを特徴としている。 本発明に係わる金属粉末の製造方法および製造装置は、
上述した構成を有しているものであり、溶解炉としては
コールドクルーシブル方式のレビテーション溶解炉（浮
遊式溶解炉）が使用される。 このコールドクルーシブル方式のレビテーション溶解炉
は、溶解金属母材とるつぼとが非接触の状態で、すなわ
ちるつぼに対して金属溶湯が浮遊した状態で、前記溶解
金属母材の溶解が可能となるものであって、より望まし
くは水冷銅製のコールドクルーシブル方式のレビテーシ
ョン溶解炉が使用され、るつぼの周囲に誘導コイルを配
設して前記溶解金属母材を浮遊溶解することにより、前
記活性金属などの金属溶湯のるつぼからの汚染を防止す
る。 そして、この場合、るつぼと接触せずに溶解している金
属溶湯において、コールドクルーシブル（るつぼ）の底
部における磁場を弱くする調整を行うことによって前記
金属溶湯の一部を下方に流下ないしは滴下させるという
磁気ノズルの作用を得ることができるので、この磁気ノ
ズルから落下した溶融金属に対してガスノズルを用いた
ガスアトマイズ法や高速回転円盤を用いた遠心噴霧法な
どの粉化手段によって粉化することが可能であり、この
ようなレビテーション溶解炉によって金属溶湯のスーパ
ーヒートコントロールおよび流量コントロールを行う。 本発明の実施態様においては、溶融金属母材のレビテー
ション溶解炉への供給速度を当該溶解金属母材の溶解速
度の１００％以下に制限するようになすことがとくに望
ましい。 また、本発明においてとくに溶解金属母材がＷ 、 Ｍ
ｏ 、 Ｖ等の高融点金属およびＴｉ、Ｔｉ合金、Ｌ
ｉ合金等の活性金属からなる場合には、レビテーション
溶解炉による溶解雰囲気および粉化手段による粉化雰囲
気のうち少なくとも溶解雰囲気が真空となっているよう
にし、ガス噴霧の場合には粉化雰囲気および場合によっ
ては溶解雰囲気も当該ガス雰囲気となっているようにす
ることが望ましい。 （発明の作用） 本発明に係わる金属粉末の製造方法および製造装置は、
」−述した構成を有しているので、Ｗ。 Ｍｏ、Ｖ等の高融点金属およびＴ ｉ 、 Ｔ ｉ合金
。 Ｌｉ合金等の活性金属などの金属をはじめとする各種金
属（合金）の粉末を生産性よく汚染がなくしかも球状を
なす金属粉末として得られるようになる。 （実施例） 第１図および第２図は本発明に係わる金属粉末の製造方
法の実施に使用する金属粉末の製造装置の一実施例を示
すものであって、図に示す金属粉末の製造装置１は、そ
の中心部分に、矢印Ａ方向に冷却水を供給しそして排出
する銅管２（２ａ。 ２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇ、２ｈ）をそなえ
ると共に相互に絶縁された分割型の水冷銅製るつぼ３
（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ。 ３ｆ 、３ｇ 、３ｈ）をそなえており、この実施例に
おける水冷銅製るつぼ３は直径１２ｍｍの底部孔３１を
そなえている。 この分割型の水冷銅製るつぼ３のまわりには、矢印Ｂ方
向に冷却水を通すと共に電力の供給を行うことによって
高周波誘導磁場を形成することができるようにした誘導
コイル４が設けてあり、また、水冷銅製るつぼ３の上端
にはセラミックシールチャンバー５が設けてあって雰囲
気ガス供給管６を通して矢印Ｃ方向に雰囲気ガス（例え
ばＮ２ガス）を供給することができるようにしてあり、
さらに水冷銅製るつぼ３の下端にはセラミックシールバ
イブ７が設けてあって、これら鋼管２゜分割型の水冷銅
製るつぼ３．誘導コイル４等によって水冷コールドクル
ーシブル方式のレビテーション溶解炉（浮遊溶解炉）８
が構成されるようになっている。 さらに、前記セラミックシールパイプ７の下端側には噴
霧容器１１が設けてあり、この噴霧容器１１の一方側に
は粉化手段としてガスノズル１２が設けてあり、このガ
スノズル１２を通して矢印り方向に噴霧ガス（例えば、
Ｎ２ガス）を噴出させることができるようにしであると
共に、噴霧容器１１の他方側には金属粉末１３を受は入
れるレジューサ−１４が設けである。 そして、金属粉末の製造に際しては、鋼管２内に冷却水
を供給するとともに誘導コイル４に冷却水を供給しかつ
周波数８ｋＨｚ、出力６０ｋＷで通電し、雰囲気ガス供
給管６よりＮ２ガスを供給して、レビテーション溶解炉
８の上方から棒状タングステン（Ｗ）よりなる溶融全屈
母材１５を保持しつつ供給する。 したがって、溶解金属母材１５は次第に誘導加熱されて
水冷銅製るつぼ３とは接触しない浮遊状態の溶融部１６
が形成されるので、レビテーション溶解炉８の底部にお
ける磁場を弱く調整することによって、この溶融部１６
の下端部分から直径１２ｍｍの底部孔３１を通して重力
により金属溶湯（金属溶滴）１７が約５００ｇ／ｍｉｎ
の速度で落下し、この金属溶湯１７は、単孔のガスノズ
ル１２から２Ｎｍ’／ｍｉｎの流量で噴出されるＮ２ガ
スにより粉化されて球状をなす平均径８０ｇｍの金属粉
末１３となり、この金属粉末１３の回収装置へと送り込
まれる。 したがって、この実施例に示した金属粉末の製１ 造装置１によって、粉末の送給性および成形性に優れた
球状をなすと共に汚染のほとんどない粉末冶金および溶
射等に適するタングステン粉末を得ることができた。 そのほか、噴霧容器１１の中に高速回転円盤を設置し、
滴下ないしは流下して落下する金属溶湯１７を前記高速
回転円盤上で受けて遠心力を与えることにより粉化する
ようにしたときでも、球状をなすタングステン金属粉末
を効率よく製造することが可能であった。 【発明の効果】 本発明に係わる金属粉末の製造方法は、コールドクルー
シブル方式のレビテーション溶解炉の上方から溶解金属
母材を保持しつつ供給して、前記溶解金属母材を前記レ
ビテーション溶解炉により溶解すると共に溶解した金属
溶湯を下方に落下させて粉化する構成としており、本発
明に係わる金属粉末の製造装置は、上方から溶解金属母
材を保持しつつ前記溶解金属母材が供給されるコールド
クルーシブル方式のレビテーション溶解炉と、前 ２ 記しビテーション溶解炉で溶解されて下方に落下する金
属溶湯を粉化する粉化手段をそなえた構成としたから、
Ｗ、Ｍｏ 、Ｖ等の高融点金属およびＴｉ 、Ｔｉ合金
、Ｌｉ合金等の活性金属などをはじめとする各種金属（
合金）の球状粉末を生産性よくしかも汚染なく得ること
が可能であり、粉末冶金や金属溶射などの粉末利用技術
の向上に貢献するという著しく優れた効果がもたらされ
る。
シブル方式のレビテーシばン溶解炉の上方から溶解金属
母材を保持しつつ供給して、前記溶解金属母材を前記レ
ビテーション溶解炉により溶解すると共に溶解した金属
溶湯を下方に落下させて粉化する構成としたことを特徴
としており、一実施態様においては、前記溶解金属母材
がＷ。 Ｍｏ、Ｖ等の高融点金属およびＴｉ 、Ｔｉ合金。 Ｌｉ合金等の活性金属のうちから選ばれる構成としたこ
とを特徴としており、また、前記溶解金属母材のレビテ
ーシ璽ン溶解炉への供給速度を前記溶解金属母材の溶解
速度の１００％以下に制限する構成としたことを特徴と
している。 また、本発明に係わる金属粉末の製造装置は。 上方から溶解金属母材を保持しつつ前記溶解金属母材が
供給されるコールドクルーシブル方式のレビテーション
溶解炉と、前記レビテーション溶解炉で溶解されて下方
に落下する金属溶湯を粉化する粉化手段をそなえた構成
としたことを特徴としており、一実施態様においては、
前記粉化手段がＮ２．Ａｒ等の不活性なガスを噴出して
金属溶湯な粉化するガスノズルである構成としたことを
特徴としており、また同じく、前記粉化手段が遠心力に
より金属溶湯を粉化する高速回転円盤である構成とした
ことを特徴としており、さらに前記レビテーション溶解
炉による溶解雰囲気および粉化手段による粉化雰囲気の
うち少なくとも溶解雰囲気が真空となっている構成とし
たことを特徴としている。 本発明に係わる金属粉末の製造方法および製造装置は、
上述した構成を有しているものであり、溶解炉としては
コールドクルーシブル方式のレビテーション溶解炉（浮
遊式溶解炉）が使用される。 このコールドクルーシブル方式のレビテーション溶解炉
は、溶解金属母材とるつぼとが非接触の状態で、すなわ
ちるつぼに対して金属溶湯が浮遊した状態で、前記溶解
金属母材の溶解が可能となるものであって、より望まし
くは水冷銅製のコールドクルーシブル方式のレビテーシ
ョン溶解炉が使用され、るつぼの周囲に誘導コイルを配
設して前記溶解金属母材を浮遊溶解することにより、前
記活性金属などの金属溶湯のるつぼからの汚染を防止す
る。 そして、この場合、るつぼと接触せずに溶解している金
属溶湯において、コールドクルーシブル（るつぼ）の底
部における磁場を弱くする調整を行うことによって前記
金属溶湯の一部を下方に流下ないしは滴下させるという
磁気ノズルの作用を得ることができるので、この磁気ノ
ズルから落下した溶融金属に対してガスノズルを用いた
ガスアトマイズ法や高速回転円盤を用いた遠心噴霧法な
どの粉化手段によって粉化することが可能であり、この
ようなレビテーション溶解炉によって金属溶湯のスーパ
ーヒートコントロールおよび流量コントロールを行う。 本発明の実施態様においては、溶融金属母材のレビテー
ション溶解炉への供給速度を当該溶解金属母材の溶解速
度の１００％以下に制限するようになすことがとくに望
ましい。 また、本発明においてとくに溶解金属母材がＷ 、 Ｍ
ｏ 、 Ｖ等の高融点金属およびＴｉ、Ｔｉ合金、Ｌ
ｉ合金等の活性金属からなる場合には、レビテーション
溶解炉による溶解雰囲気および粉化手段による粉化雰囲
気のうち少なくとも溶解雰囲気が真空となっているよう
にし、ガス噴霧の場合には粉化雰囲気および場合によっ
ては溶解雰囲気も当該ガス雰囲気となっているようにす
ることが望ましい。 （発明の作用） 本発明に係わる金属粉末の製造方法および製造装置は、
」−述した構成を有しているので、Ｗ。 Ｍｏ、Ｖ等の高融点金属およびＴ ｉ 、 Ｔ ｉ合金
。 Ｌｉ合金等の活性金属などの金属をはじめとする各種金
属（合金）の粉末を生産性よく汚染がなくしかも球状を
なす金属粉末として得られるようになる。 （実施例） 第１図および第２図は本発明に係わる金属粉末の製造方
法の実施に使用する金属粉末の製造装置の一実施例を示
すものであって、図に示す金属粉末の製造装置１は、そ
の中心部分に、矢印Ａ方向に冷却水を供給しそして排出
する銅管２（２ａ。 ２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ、２ｆ、２ｇ、２ｈ）をそなえ
ると共に相互に絶縁された分割型の水冷銅製るつぼ３
（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ。 ３ｆ 、３ｇ 、３ｈ）をそなえており、この実施例に
おける水冷銅製るつぼ３は直径１２ｍｍの底部孔３１を
そなえている。 この分割型の水冷銅製るつぼ３のまわりには、矢印Ｂ方
向に冷却水を通すと共に電力の供給を行うことによって
高周波誘導磁場を形成することができるようにした誘導
コイル４が設けてあり、また、水冷銅製るつぼ３の上端
にはセラミックシールチャンバー５が設けてあって雰囲
気ガス供給管６を通して矢印Ｃ方向に雰囲気ガス（例え
ばＮ２ガス）を供給することができるようにしてあり、
さらに水冷銅製るつぼ３の下端にはセラミックシールバ
イブ７が設けてあって、これら鋼管２゜分割型の水冷銅
製るつぼ３．誘導コイル４等によって水冷コールドクル
ーシブル方式のレビテーション溶解炉（浮遊溶解炉）８
が構成されるようになっている。 さらに、前記セラミックシールパイプ７の下端側には噴
霧容器１１が設けてあり、この噴霧容器１１の一方側に
は粉化手段としてガスノズル１２が設けてあり、このガ
スノズル１２を通して矢印り方向に噴霧ガス（例えば、
Ｎ２ガス）を噴出させることができるようにしであると
共に、噴霧容器１１の他方側には金属粉末１３を受は入
れるレジューサ−１４が設けである。 そして、金属粉末の製造に際しては、鋼管２内に冷却水
を供給するとともに誘導コイル４に冷却水を供給しかつ
周波数８ｋＨｚ、出力６０ｋＷで通電し、雰囲気ガス供
給管６よりＮ２ガスを供給して、レビテーション溶解炉
８の上方から棒状タングステン（Ｗ）よりなる溶融全屈
母材１５を保持しつつ供給する。 したがって、溶解金属母材１５は次第に誘導加熱されて
水冷銅製るつぼ３とは接触しない浮遊状態の溶融部１６
が形成されるので、レビテーション溶解炉８の底部にお
ける磁場を弱く調整することによって、この溶融部１６
の下端部分から直径１２ｍｍの底部孔３１を通して重力
により金属溶湯（金属溶滴）１７が約５００ｇ／ｍｉｎ
の速度で落下し、この金属溶湯１７は、単孔のガスノズ
ル１２から２Ｎｍ’／ｍｉｎの流量で噴出されるＮ２ガ
スにより粉化されて球状をなす平均径８０ｇｍの金属粉
末１３となり、この金属粉末１３の回収装置へと送り込
まれる。 したがって、この実施例に示した金属粉末の製１ 造装置１によって、粉末の送給性および成形性に優れた
球状をなすと共に汚染のほとんどない粉末冶金および溶
射等に適するタングステン粉末を得ることができた。 そのほか、噴霧容器１１の中に高速回転円盤を設置し、
滴下ないしは流下して落下する金属溶湯１７を前記高速
回転円盤上で受けて遠心力を与えることにより粉化する
ようにしたときでも、球状をなすタングステン金属粉末
を効率よく製造することが可能であった。 【発明の効果】 本発明に係わる金属粉末の製造方法は、コールドクルー
シブル方式のレビテーション溶解炉の上方から溶解金属
母材を保持しつつ供給して、前記溶解金属母材を前記レ
ビテーション溶解炉により溶解すると共に溶解した金属
溶湯を下方に落下させて粉化する構成としており、本発
明に係わる金属粉末の製造装置は、上方から溶解金属母
材を保持しつつ前記溶解金属母材が供給されるコールド
クルーシブル方式のレビテーション溶解炉と、前 ２ 記しビテーション溶解炉で溶解されて下方に落下する金
属溶湯を粉化する粉化手段をそなえた構成としたから、
Ｗ、Ｍｏ 、Ｖ等の高融点金属およびＴｉ 、Ｔｉ合金
、Ｌｉ合金等の活性金属などをはじめとする各種金属（
合金）の球状粉末を生産性よくしかも汚染なく得ること
が可能であり、粉末冶金や金属溶射などの粉末利用技術
の向上に貢献するという著しく優れた効果がもたらされ
る。
第１図は本発明に係わる金属粉末の製造方法に使用され
る金属粉末の製造装置の一実施例を示す断面説明図、第
２図は第１図のＩ−Ｉ線における断面説明図である。 １・・・金属粉末の製造装置、 ３・・・水冷銅製るつぼ（コールドクルーシブル）、 ８・・・レビテーション溶解炉、 １２・・・ガスノズル（粉化手段）、 １５・・・溶解金属母材。
る金属粉末の製造装置の一実施例を示す断面説明図、第
２図は第１図のＩ−Ｉ線における断面説明図である。 １・・・金属粉末の製造装置、 ３・・・水冷銅製るつぼ（コールドクルーシブル）、 ８・・・レビテーション溶解炉、 １２・・・ガスノズル（粉化手段）、 １５・・・溶解金属母材。
Claims (7)
- （１）コールドクルーシブル方式のレビテーション溶解
炉の上方から溶解金属母材を保持しつつ供給して、前記
溶解金属母材を前記レビテーション溶解炉により溶解す
ると共に溶解した金属溶湯を下方に落下させて粉化する
ことを特徴とする金属粉末の製造方法。 - （２）溶解金属母材がＷ，Ｍｏ，Ｖ等の高融点金属およ
びＴｉ，Ｔｉ合金，Ｌｉ合金等の活性金属のうちから選
ばれる特許請求の範囲第（１）項に記載の金属粉末の製
造方法。 - （３）溶解金属母材のレビテーション溶解炉への供給速
度を溶解速度の１００％以下に制限する特許請求の範囲
第（１）項または第（２）項に記載の金属粉末の製造方
法。 - （４）上方から溶解金属母材を保持しつつ前記溶解金属
母材が供給されるコールドクルーシブル方式のレビテー
ション溶解炉と、前記レビテーション溶解炉で溶解され
て下方に落下する金属溶湯を粉化する粉化手段をそなえ
たことを特徴とする金属粉末の製造装置。 - （５）粉化手段がＮ＿２，Ａｒ等の不活性なガスを噴出
して金属溶湯を粉化するガスノズルである特許請求の範
囲第（４）項に記載の金属粉末の製造装置。 - （６）粉化手段が遠心力により金属溶湯を粉化する高速
回転円盤である特許請求の範囲第（４）項に記載の金属
粉末の製造装置。 - （７）レビテーション溶解炉による溶解雰囲気および粉
化手段による粉化雰囲気のうち少なくとも溶解雰囲気が
真空となっている特許請求の範囲第（４）項，第（５）
項または第（６）項のいずれかに記載の金属粉末の製造
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24690489A JPH03107404A (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | 金属粉末の製造方法および製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24690489A JPH03107404A (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | 金属粉末の製造方法および製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03107404A true JPH03107404A (ja) | 1991-05-07 |
Family
ID=17155477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24690489A Pending JPH03107404A (ja) | 1989-09-22 | 1989-09-22 | 金属粉末の製造方法および製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03107404A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1989
- 1989-09-22 JP JP24690489A patent/JPH03107404A/ja active Pending
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| WO2021138609A1 (en) * | 2019-12-31 | 2021-07-08 | Crystal Technologies LLC | Singulated liquid metal droplet generator |
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