JPH03104856U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH03104856U JPH03104856U JP1110690U JP1110690U JPH03104856U JP H03104856 U JPH03104856 U JP H03104856U JP 1110690 U JP1110690 U JP 1110690U JP 1110690 U JP1110690 U JP 1110690U JP H03104856 U JPH03104856 U JP H03104856U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pure water
- transport line
- water
- treatment mechanism
- water treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 claims 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
Description
第１図は純水の水処理機構の系統図を示し、第
２図は反転可能なエアートラツプの構成図、第３
図はエアートラツプの使用態様図である。 １……純水タンク、２……脱気装置、３……エ
アートラツプ、４……３方電磁弁、５……サンプ
リングポンプ、６……第１試薬ポンプ、７……第
２試薬ポンプ、８……サンプルカツプ、９……反
応・測定管、１０……第１試薬ボトル、１０′…
…第２試薬ボトル、１２，２１，３６……加熱機
構、１３……スラーラー、１４……制御機構、１
５……コンピユータ。
２図は反転可能なエアートラツプの構成図、第３
図はエアートラツプの使用態様図である。 １……純水タンク、２……脱気装置、３……エ
アートラツプ、４……３方電磁弁、５……サンプ
リングポンプ、６……第１試薬ポンプ、７……第
２試薬ポンプ、８……サンプルカツプ、９……反
応・測定管、１０……第１試薬ボトル、１０′…
…第２試薬ボトル、１２，２１，３６……加熱機
構、１３……スラーラー、１４……制御機構、１
５……コンピユータ。
補正 平２．５．２３
図面の簡単な説明を次のように補正する。
明細書の第８頁、９行の「１３……スラーラー
」を「１３……スターラー」に補正する。
」を「１３……スターラー」に補正する。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 検体の輸送ライン、第１試薬輸送ライン並び
に第２試薬輸送ラインの各々に、別系統で純水を
純水タンクから合成樹脂製らせんチユーブを介す
る真空減圧タンクからなる脱気装置および反転型
エアートラツプを設けて、脱気状態の純水を供給
することを特徴とする自動分析装置における水処
理機構。 ２ 請求項の(1)において、純水タンク、脱気装
置およびエアートラツプに加熱機構と制御機構を
設け、純水の温度を常温〜１００℃、好ましくは
３０℃〜６０℃に温度制御して純水の脱気効果を
上げることを特徴とする請求項(1)における自動
分析装置における水処理機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990011106U JP2512828Y2 (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 自動分析装置における水処理機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990011106U JP2512828Y2 (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 自動分析装置における水処理機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03104856U true JPH03104856U (ja) | 1991-10-30 |
| JP2512828Y2 JP2512828Y2 (ja) | 1996-10-02 |
Family
ID=31514645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990011106U Expired - Lifetime JP2512828Y2 (ja) | 1990-02-08 | 1990-02-08 | 自動分析装置における水処理機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2512828Y2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001090727A1 (fr) * | 2000-05-22 | 2001-11-29 | C. Uyemura & Co., Ltd. | Dispositif automatique d'analyse/commande pour solution composite de galvanoplastie sans courant |
| JP4654534B2 (ja) * | 2000-05-22 | 2011-03-23 | 上村工業株式会社 | 無電解複合ニッケルめっき液の自動分析・管理装置 |
| WO2021153004A1 (ja) * | 2020-01-29 | 2021-08-05 | 株式会社日立ハイテク | 電解質分析装置 |
| WO2024180929A1 (ja) * | 2023-02-27 | 2024-09-06 | 富士フイルム株式会社 | 液体貯留装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6064256A (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-12 | Hitachi Ltd | 自動分析装置用脱気処理装置 |
| JPS63165761A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-09 | Toshiba Corp | 自動化学分析装置 |
| JPH01250864A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-05 | Fuji Electric Co Ltd | フロー型分析計 |
-
1990
- 1990-02-08 JP JP1990011106U patent/JP2512828Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6064256A (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-12 | Hitachi Ltd | 自動分析装置用脱気処理装置 |
| JPS63165761A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-09 | Toshiba Corp | 自動化学分析装置 |
| JPH01250864A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-05 | Fuji Electric Co Ltd | フロー型分析計 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001090727A1 (fr) * | 2000-05-22 | 2001-11-29 | C. Uyemura & Co., Ltd. | Dispositif automatique d'analyse/commande pour solution composite de galvanoplastie sans courant |
| CN100399012C (zh) * | 2000-05-22 | 2008-07-02 | 上村工业株式会社 | 用于无电复合镀敷溶液的自动分析和控制系统 |
| JP4654534B2 (ja) * | 2000-05-22 | 2011-03-23 | 上村工業株式会社 | 無電解複合ニッケルめっき液の自動分析・管理装置 |
| WO2021153004A1 (ja) * | 2020-01-29 | 2021-08-05 | 株式会社日立ハイテク | 電解質分析装置 |
| CN115004020A (zh) * | 2020-01-29 | 2022-09-02 | 株式会社日立高新技术 | 电解质分析装置 |
| WO2024180929A1 (ja) * | 2023-02-27 | 2024-09-06 | 富士フイルム株式会社 | 液体貯留装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2512828Y2 (ja) | 1996-10-02 |