JPH0296381A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH0296381A JPH0296381A JP63248453A JP24845388A JPH0296381A JP H0296381 A JPH0296381 A JP H0296381A JP 63248453 A JP63248453 A JP 63248453A JP 24845388 A JP24845388 A JP 24845388A JP H0296381 A JPH0296381 A JP H0296381A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent electrode
- semiconductor device
- thickness
- solar cell
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 44
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 abstract description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 23
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
大発明は半導体装置に関する。さらに詳しくは、出力が
改善せられた多接合型半導体装置に関する。
改善せられた多接合型半導体装置に関する。
従来より、アモルファス太陽電池の透明導電膜としては
、二酸化スズに不純物としてフッ素を2重量%程度添加
した、厚さ5000A程度の薄膜が使用されている。
、二酸化スズに不純物としてフッ素を2重量%程度添加
した、厚さ5000A程度の薄膜が使用されている。
しかし、このような膜は該膜上に単接合型太陽電池を形
成するばあいに出力が最大となるように最適化された膜
であり、多接合型太陽電池においては最適な透明導電膜
ではない。
成するばあいに出力が最大となるように最適化された膜
であり、多接合型太陽電池においては最適な透明導電膜
ではない。
すなわち、多接合型太陽電池の出力電流は、単接合型太
陽電池の出力電流の(1/接合数)になり、透明導電膜
の抵抗による出力損失が(1/接合数)2になるため、
より高い抵抗の透明導電膜の使用が可能である。透明導
電膜の抵抗は通常その膜厚で制御されるため、以上のこ
とは、より小さな膜厚の透明導電膜の使用が可能であこ
とを示すものである。そして、透明導電膜を薄くすると
膜による光の吸収が減少するため、えられる太陽電池の
出力が向上するものと期待される。
陽電池の出力電流の(1/接合数)になり、透明導電膜
の抵抗による出力損失が(1/接合数)2になるため、
より高い抵抗の透明導電膜の使用が可能である。透明導
電膜の抵抗は通常その膜厚で制御されるため、以上のこ
とは、より小さな膜厚の透明導電膜の使用が可能であこ
とを示すものである。そして、透明導電膜を薄くすると
膜による光の吸収が減少するため、えられる太陽電池の
出力が向上するものと期待される。
しかしながら、膜厚を小さくしても実際には出力の向上
は見られない。これは、膜厚を小さくすると透明導電膜
表面の凹凸の程度が減るため、透明導電膜表面での散乱
による効果が減少するためである。
は見られない。これは、膜厚を小さくすると透明導電膜
表面の凹凸の程度が減るため、透明導電膜表面での散乱
による効果が減少するためである。
本発明者らは、透明導電膜の抵抗が添加不純物の量によ
っても変えうろことを利用し、膜厚はそのままにして不
純物量を減らしていったところ、該膜上に形成した多重
接合型太陽電池の出力が向上することを見出し本発明を
完成するに至った。
っても変えうろことを利用し、膜厚はそのままにして不
純物量を減らしていったところ、該膜上に形成した多重
接合型太陽電池の出力が向上することを見出し本発明を
完成するに至った。
本発明の半導体装置は、ガラス基板上に二酸化スズから
なる透明電極、pin型またはnip型の非晶質半導体
を多重に接合した半導体層および裏面電極がこの順序で
積層されてなる半導体装置であって、前記透明電極中の
不純物濃度が0.5重量%以下であり、かつ該透明電極
の膜厚が5000Å以上15000Å以下であることを
特徴としている。
なる透明電極、pin型またはnip型の非晶質半導体
を多重に接合した半導体層および裏面電極がこの順序で
積層されてなる半導体装置であって、前記透明電極中の
不純物濃度が0.5重量%以下であり、かつ該透明電極
の膜厚が5000Å以上15000Å以下であることを
特徴としている。
本発明の半導体装置における出力向上の理由は、膜中に
添加する不純物量の減少により膜の光の吸収が減ったた
めである。このように、透明導電膜表面での散乱による
効果を保ちつつ、光の吸収を減少せしめて半導体装置の
出力の向上を図ることができたのである。
添加する不純物量の減少により膜の光の吸収が減ったた
めである。このように、透明導電膜表面での散乱による
効果を保ちつつ、光の吸収を減少せしめて半導体装置の
出力の向上を図ることができたのである。
また、本発明者らは、透明電極中の不純物量をほぼゼロ
にし膜厚を逆に10000人程度と太さ(することによ
りさらに出力が向上することを見出した。これは膜厚を
大きくすることにより表面の凹凸が大きくなり、この部
分で光が散乱することによる効果であることもわかった
。
にし膜厚を逆に10000人程度と太さ(することによ
りさらに出力が向上することを見出した。これは膜厚を
大きくすることにより表面の凹凸が大きくなり、この部
分で光が散乱することによる効果であることもわかった
。
次に図面に基づき本発明の半導体装置を説明する。
第1図は本発明の半導体装置の一実施例の概略説明図で
ある。第1図において、(5)は本発明の一実施例にか
かわる半導体装置を表わしており、該装置(8)はガラ
ス基板(1)、二酸化スズからなる透明電極(2)、半
導体層(3)および裏面N極(4)とからなっている。
ある。第1図において、(5)は本発明の一実施例にか
かわる半導体装置を表わしており、該装置(8)はガラ
ス基板(1)、二酸化スズからなる透明電極(2)、半
導体層(3)および裏面N極(4)とからなっている。
二酸化スズからなる透明電極(2)はCVD法などによ
ってガラス基板(1)上に形成される。透明電極(2)
の厚さは5000Å以上15000Å以下であり、また
該膜中の不純物濃度は0.5重量%以下である。不純物
としては、/V%アンチモン、フッ素などを用いること
ができる。透明電極(2)の面積抵抗率は、透明電極の
不純物量と膜厚により決まるが、抵抗の増加による効率
の低下を抑えるためには40Ω/口以下であるのが望ま
しい。また10Ω/口よりも小さくすると添加不純物に
よる吸収損失が無視できなくなる。このことより、面積
抵抗率としては10Ω/□以上4oΩ/□以下であるの
が好ましい。
ってガラス基板(1)上に形成される。透明電極(2)
の厚さは5000Å以上15000Å以下であり、また
該膜中の不純物濃度は0.5重量%以下である。不純物
としては、/V%アンチモン、フッ素などを用いること
ができる。透明電極(2)の面積抵抗率は、透明電極の
不純物量と膜厚により決まるが、抵抗の増加による効率
の低下を抑えるためには40Ω/口以下であるのが望ま
しい。また10Ω/口よりも小さくすると添加不純物に
よる吸収損失が無視できなくなる。このことより、面積
抵抗率としては10Ω/□以上4oΩ/□以下であるの
が好ましい。
透明電極(2)上には、グロー放電分解法など通常用い
られる方法により、pln型またはnlp型の非晶質半
導体層を多重に接合した半導体層(3)が形成されてい
る。第1図に示される実施例では、pin型の非晶質半
導体層が二重に接合されているが、本発明においてその
接合数にとくに限定はない。
られる方法により、pln型またはnlp型の非晶質半
導体層を多重に接合した半導体層(3)が形成されてい
る。第1図に示される実施例では、pin型の非晶質半
導体層が二重に接合されているが、本発明においてその
接合数にとくに限定はない。
本発明において非晶質半導体とは、非晶質半導体のみか
らなるもの、または結晶質を含む非晶質半導体のことで
ある。その具体例としては、a−3t:Hや、C、、G
c−SnまたはFを含むa−8t:IIや、μC−8t
:H(微結晶)などがあげられる。
らなるもの、または結晶質を含む非晶質半導体のことで
ある。その具体例としては、a−3t:Hや、C、、G
c−SnまたはFを含むa−8t:IIや、μC−8t
:H(微結晶)などがあげられる。
半導体層(3)上には、M、 Ag、、MOSCr、N
1などからなる裏面電極(4)が形成されている。
1などからなる裏面電極(4)が形成されている。
つぎに実施例にもとづき本発明の半導体装置を説明する
が、本発明はもとよりかかる実施例にのみ限定されるも
のではない。
が、本発明はもとよりかかる実施例にのみ限定されるも
のではない。
実施例1
厚さが1.1mmのガラス基板上にCVD法により厚さ
が10000人の二酸化スズ(フッ素の添加量はゼロで
ある)からなる透明電極を形成した。
が10000人の二酸化スズ(フッ素の添加量はゼロで
ある)からなる透明電極を形成した。
ソノノち、5IH410SCCM、CH420SCCM
およびB2H6100SCCMを導入しツツ、プラグ’
T CVD法によって厚さが150人のn型半導体層を
形成し、さらに接層の上に厚さが700人のi型半導体
層(SiH2150SCCMを導入)、厚さが200人
のn型半導体層(SiH210SCCMおよびPH32
003CCMを導入)、厚さが150人のn型半導体層
(SiH210SCCM、CH420SCCMおよびB
2Hs100 SCCMを導入)、厚さが4000人(
7)i型半導体層(Si)Ia 100 SCCMを導
入)および厚さが300人のn型半導体層(SiH21
0SCCMおよびPII3200 SCCMを導入)を
この順序で形成した。
およびB2H6100SCCMを導入しツツ、プラグ’
T CVD法によって厚さが150人のn型半導体層を
形成し、さらに接層の上に厚さが700人のi型半導体
層(SiH2150SCCMを導入)、厚さが200人
のn型半導体層(SiH210SCCMおよびPH32
003CCMを導入)、厚さが150人のn型半導体層
(SiH210SCCM、CH420SCCMおよびB
2Hs100 SCCMを導入)、厚さが4000人(
7)i型半導体層(Si)Ia 100 SCCMを導
入)および厚さが300人のn型半導体層(SiH21
0SCCMおよびPII3200 SCCMを導入)を
この順序で形成した。
最後に半導体層上に厚さが1遍のNからなる裏面電極を
真空蒸着法により形成した。
真空蒸着法により形成した。
えられた半導体装置について、AM−1,100mW/
cdのソーラーシミュレーターを用いてV−I特性を測
定した。結果を第2図に示す。
cdのソーラーシミュレーターを用いてV−I特性を測
定した。結果を第2図に示す。
比較例】
透明電極の厚さを5000人にし、かつ透明電極中に2
重量%のフッ素を添加した以外は実施例と同様にして半
導体装置を作製した。えられた半導体装置について実施
例と同様の測定を行った。結果を第2図に示す。
重量%のフッ素を添加した以外は実施例と同様にして半
導体装置を作製した。えられた半導体装置について実施
例と同様の測定を行った。結果を第2図に示す。
比較例2
透明電極の厚さを2500人にし、かつ透明電極中に2
重量%のフッ素を添加した以外は実施例と同様にして半
導体装置を作製した。えられた半導体装置について実施
例と同様の測定を行った。結果を第2図に示す。
重量%のフッ素を添加した以外は実施例と同様にして半
導体装置を作製した。えられた半導体装置について実施
例と同様の測定を行った。結果を第2図に示す。
第2図より、本発明の半導体装置では出力が大幅にアッ
プしていることがわかる。
プしていることがわかる。
以上説明したとおり、本発明の半導体装置によれば、透
明電極中の不純物濃度を減らすことで、光の散乱による
効果を減じることなく透明電極による光の吸収を低減す
ることができる。
明電極中の不純物濃度を減らすことで、光の散乱による
効果を減じることなく透明電極による光の吸収を低減す
ることができる。
これによって、高抵抗の透明電極が使用できるという多
接合型太陽電池の使用条件を最大限に活用することがで
き、もって多接合型太陽電池の出力を大幅にアップする
ことができる。
接合型太陽電池の使用条件を最大限に活用することがで
き、もって多接合型太陽電池の出力を大幅にアップする
ことができる。
第1図は本発明の半導体装置の一実施例の概略説明図、
第2図は実施例および比較例の■−■特性を表わす図で
ある。 (図面の符号) (A)二手導体装置 (1)ニガラス基板 (z:透明電極 (3)二手導体層 (4):裏面電極 A′1 圓 裏面電極
第2図は実施例および比較例の■−■特性を表わす図で
ある。 (図面の符号) (A)二手導体装置 (1)ニガラス基板 (z:透明電極 (3)二手導体層 (4):裏面電極 A′1 圓 裏面電極
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ガラス基板上に二酸化スズからなる透明電極、pi
n型またはnip型の非晶質半導体を多重に接合した半
導体層および裏面電極がこの順序で積層されてなる半導
体装置であって、前記透明電極中の不純物濃度が0.5
重量%以下であり、かつ該透明電極の膜厚が5000Å
以上15000Å以下であることを特徴とする半導体装
置。 2 前記透明電極の面積抵抗率が10Ω/□以上40Ω
/□以下である請求項1記載の半導体装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63248453A JPH0296381A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 半導体装置 |
US07/143,797 US5091764A (en) | 1988-09-30 | 1989-09-28 | Semiconductor device having a transparent electrode and amorphous semiconductor layers |
EP89117934A EP0364780B1 (en) | 1988-09-30 | 1989-09-28 | Solar cell with a transparent electrode |
DE68927845T DE68927845T2 (de) | 1988-09-30 | 1989-09-28 | Sonnenzelle mit einer durchsichtigen Elektrode |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63248453A JPH0296381A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0296381A true JPH0296381A (ja) | 1990-04-09 |
Family
ID=17178359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63248453A Pending JPH0296381A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0296381A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5255964A (en) * | 1991-05-29 | 1993-10-26 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Shoe of crawler belt or chain |
US5261733A (en) * | 1991-05-29 | 1993-11-16 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Shoe of crawler belt or chain |
US5984437A (en) * | 1993-12-27 | 1999-11-16 | Fukuyama Gomu Kogyo Kabushiki Gaisha | Connecting link type rubber crawler |
US7658279B2 (en) | 2002-02-14 | 2010-02-09 | Otsuka Pharmaceutical Factory Inc. | Medical multi-chamber container |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61115354A (ja) * | 1984-11-12 | 1986-06-02 | Agency Of Ind Science & Technol | 非晶質半導体太陽電池 |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP63248453A patent/JPH0296381A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61115354A (ja) * | 1984-11-12 | 1986-06-02 | Agency Of Ind Science & Technol | 非晶質半導体太陽電池 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5255964A (en) * | 1991-05-29 | 1993-10-26 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Shoe of crawler belt or chain |
US5261733A (en) * | 1991-05-29 | 1993-11-16 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Shoe of crawler belt or chain |
US5984437A (en) * | 1993-12-27 | 1999-11-16 | Fukuyama Gomu Kogyo Kabushiki Gaisha | Connecting link type rubber crawler |
US7658279B2 (en) | 2002-02-14 | 2010-02-09 | Otsuka Pharmaceutical Factory Inc. | Medical multi-chamber container |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5091764A (en) | Semiconductor device having a transparent electrode and amorphous semiconductor layers | |
US7910916B2 (en) | Multi-junction type solar cell device | |
JP2740284B2 (ja) | 光起電力素子 | |
EP3503210A1 (en) | Heterojunction solar cell and fabrication method thereof | |
US20030168660A1 (en) | Photovoltaic device and manufacturing method thereof | |
JPH07297421A (ja) | 薄膜半導体太陽電池の製造方法 | |
JP3040373B2 (ja) | 薄膜太陽電池のZnO系透明導電膜の製造方法 | |
JP2989923B2 (ja) | 太陽電池素子 | |
JP2682658B2 (ja) | 半導体装置 | |
WO2005109526A1 (ja) | 薄膜光電変換装置 | |
JP4532008B2 (ja) | 反射防止膜の成膜方法 | |
JP2001053329A (ja) | pin型光電変換素子 | |
JPH0296381A (ja) | 半導体装置 | |
JP3025392B2 (ja) | 薄膜太陽電池とその製造方法 | |
JP2003282902A (ja) | 薄膜太陽電池 | |
JPS6235680A (ja) | アモルフアスシリコン太陽電池およびその製造法 | |
JPH0122991B2 (ja) | ||
JPS6152992B2 (ja) | ||
JPH05275725A (ja) | 光起電力装置及びその製造方法 | |
JPS6074685A (ja) | 光起電力装置 | |
JP3196155B2 (ja) | 光起電力装置 | |
JPS61135167A (ja) | 薄膜太陽電池 | |
JP2744680B2 (ja) | 薄膜太陽電池の製造方法 | |
CN110797428A (zh) | 异质结太阳能电池 | |
JP3358164B2 (ja) | 光起電力装置の製造方法 |