JPH0285322A - 圧延スラブの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は圧延スラブの製造方法に係り、特に加熱炉内で
の加熱の際にスキッドにより低温にされた圧延スラブの
低温部を、加熱炉外で加熱して温度の均一化を図るよう
にした圧延スラブの製造方法に関する。

（従来の技術） 一般に、熱間圧延においては、圧延素材となる圧延スラ
ブを加熱炉内で約１３００℃程度に加熱し、デスケラ−
でスケールを除去したあと、圧延ミルに送り込み、ここ
で圧延し製品にしている。

ところで、加熱炉内において、上記圧延スラブはスキッ
ド上に支持されている。そのため、スキッドに接触する
圧延スラブの下面は加熱の際に約３０〜７０℃冷却され
ることになり、素材の変形抵抗が増大する。

このような圧延スラブを圧延すると、最終的な板製品に
板厚の変化が生じる。すなわち、スキッドに接触する冷
却された部分は、それ以外の部分に比べて変形抵抗が僅
かに大きくなるので、この部分だけ板厚が大きくなるか
らである。これを解決するため、従来、最終的な板製品
に板厚の変化が生じたとき、これをフィードバックして
スキッドの位置をずらし、冷却される部分をずらして圧
延スラブの温度を均一化させるようにした方法が提案さ
れている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、スキッドの位置をずらしても、圧延スラ
ブがスキッドに接触している以上、圧延スラブの局部的
な冷却は避けられず、根本的な対策となっていない。

そこで、本発明の目的は、上述した従来の技術が有する
問題点を解消し、圧延スラブの温度を確実に均一化させ
ることのできる圧延スラブの製造方法を提供することに
ある。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段） 上記目的を達成するために、本発明は、加熱炉内でスキ
ッド上に支持された圧延スラブを加熱したあと、この加
熱された圧延スラブを上記スキッド上から圧延ライン側
へ送り出すに際して、下方より温度センサで圧延スラブ
の下面全域の温度を測定して上記スキッドにより低温に
された低温部を検出し、この低温部にレーザ光線を照射
し、上記圧延スラブの温度を均一に保持することを特徴
とするものである。

（作　用） 本発明によれば、先ず、スキッドに接触して冷却された
圧延スラブの低温部が、加熱炉外で、温度センサにより
検出され、しかるのち、その低温部に直ちにレーザ光線
が照射され、よってその低温部が瞬時に加熱され、圧延
スラブの温度が均一化される。

（実施例） 以下、本発明による圧延スラブの製造方法の一実施例を
添附図面を参照して説明する。

第１図において１は加熱炉を示している。この加熱炉１
内には圧延スラブ２を載置する載置手段３が設けられ、
この′ａ載置手段には上記圧延スラブ２に接触するスキ
ッド４が固着されている。また、加熱炉１には圧延スラ
ブ２を炉外に押出すための押出手段５が設けられ、この
押出手段５の押出方向前方には圧延ライン６が設けられ
ている。

この圧延ライン６と上記加熱炉１との間には、圧延スラ
ブ２の下面全域の温度を検出する温度センサ７と、レー
ザ光線を照射するレーザノズル８とが設けられている。

このレーザノズル８にはレーザ発振器９からミラー１０
．１１を介してレーザ光線が送られ、このレーザ発振器
９は温度センサ７からの信号によりレーザ光線を発振す
るようになっている。

次に、圧延スラブの製造方法の一実施例を説明する。

加熱炉１内で加熱された圧延スラブ２は押出手段５によ
り圧延ライン６側に押出される。このとき、圧延スラブ
２の下面全域には、上記スキッド４に接触して冷却され
た低温部２ａ、２ａ・・・２ａが存在しており、これら
低温部２ａ、２ａ・・・２ａは温度センサ７により検出
される。この低温部２ａ、２ｇ・・・２ａの温度はそれ
以外の部分の温度に比べて僅かに低くなっている。この
温度センサ７の検出結果は制御装置（図示せず）に送ら
れ、これが送られると制御装置は上記レーザ発振器９を
動作させ、この上記レーザ発振器９はレーザ光線を発振
する。このレーザ光線はミラー１０１１を介してレーザ
ノズル８に達し、ここから圧延スラブ２の低温部２ａに
対して照射される。なお、レーザ発振器９に、例えば、
出力１０００Ｗ以上の大出力の炭酸ガスレーザ発振器な
どを用いれば、簡単にかつ短時間に圧延スラブ２を高温
加熱することができる。

ここで、圧延スラブ２の温度上昇幅および領域幅などは
、レーザ出力、レーザ光線の絞り、ミラー１０．１１お
よびレーザノズル８の移動速度などにより変動する。し
かしながら、本実施例において期待する温度上昇幅は、
約１００℃程度であるので、適切な加熱条件を設定すれ
ば、簡単に圧延スラブ２を加熱することができる。また
、−度、条件を設定すれば、同一条件で、繰返し、加熱
炉１から押出される圧延スラブ２をほぼ均一に加熱する
ことができ、正確に温度を上昇させることができる。ま
た、圧延スラブ２の下面全域の温度を正確に検出するに
際してはミラー１０．１１を回転あるいは平行に移動す
るようにすれば良く、レーザ光線の加熱スピードを要求
する場合には、例えば、ミラー１０．１１を２列に配置
し、両側からレーザ光線を照射するようにすれば良い。

また、一般的に圧延スラブ２からはスケールなどの粉塵
が下方に落下する。したがって、第２図に示されるよう
に、レーザノズル８は圧延スラブ２の真下からずらすよ
うに配置することが望ましい。さらに、圧延工場は環境
が悪く、粉塵、水蒸気などが多量に飛散している。よっ
て、レーザ光線、ミラー１０．１１などの光学機器は円
筒状のダクト１２内に収容することが望ましい。

さらに、通常、レーザ光線のスポットの照射形状は円形
である。また、スキッド４の幅寸法は数１０ＣＩ１１で
ある。この円形スポットを用いる場合には、圧延スラブ
２の幅方向に、何回か、加熱バスを与えれば良く、これ
によって低温部２ａの幅方向の全域を十分に加熱するこ
とができる。また、生産ラインによっては、圧延スラブ
２をかなり高温に加熱しなければならない場合がある。

この場合には、光学機器にシリンドリカルレンズなどを
用いて、レーザ光線のスポット形状を線条にし、圧延ス
ラブ２の幅方向に一回の加熱パスを与えるよう構成すれ
ば良い。

なお、以上説明したものは、各種制御装置などを組合わ
せることにより、簡単に自動化できるものであることは
明らかである。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように、本発明によれば、温度
センサで圧延スラブの下面全域の温度を測定し、スキッ
ドにより低温にされた低温部を検出し、この低温部にレ
ーザ光線を照射し、圧延スラブの温度を均一に保持する
ようにしたから、温度の均一な、品質に優れる圧延スラ
ブを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による圧延スラブの製造方法の一実施例
を示す系統図、第２図は同じく他の実施例を示す系統図
である。 １・・・加熱炉、２・・・圧延スラブ、２ａ・・・低温
部、４・・・スキッド、６・・・圧延ライン、７・・・
温度センサ、８・・・レーザノズル、９・・・レーザ発
振器、１０．１１・・・ミラー、１２・・・ダクト。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　加熱炉内でスキッド上に支持された圧延スラブを加熱
   したあと、この加熱された圧延スラブを上記スキッド上
   から圧延ライン側へ送り出すに際して、下方より温度セ
   ンサで圧延スラブの下面全域の温度を測定して上記スキ
   ッドにより低温にされた低温部を検出し、この低温部に
   レーザ光線を照射し、上記圧延スラブの温度を均一に保
   持することを特徴とする圧延スラブの製造方法。