JPH0281444A - 混成集積回路の製造法 - Google Patents

混成集積回路の製造法

Info

Publication number
JPH0281444A
JPH0281444A JP23315888A JP23315888A JPH0281444A JP H0281444 A JPH0281444 A JP H0281444A JP 23315888 A JP23315888 A JP 23315888A JP 23315888 A JP23315888 A JP 23315888A JP H0281444 A JPH0281444 A JP H0281444A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wax
substrate
resin
integrated circuit
hybrid integrated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23315888A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiichi Ishikawa
栄一 石川
Hisayoshi Yamanaka
山中 久芳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP23315888A priority Critical patent/JPH0281444A/ja
Publication of JPH0281444A publication Critical patent/JPH0281444A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は耐湿性及び耐熱性に優れた混成集積回路の製造
法に関する。
(従来の技術) 耐湿性を向上させるため、従来から混成集積回路の表面
は、絶縁材料で覆われている。絶縁材料としては、エポ
キシ樹脂、変性フェノール樹脂。
シリコーンゴム等が用いられているが、これらのうちセ
ラミック基板用としては、熱膨張係数をセラミックに近
づける目的でシリカ粉などの充填剤を多量添加した変成
フェノール樹脂が多く用いられている。
絶縁材料の被覆は通常デイツプ方式で行なわれている。
このデイツプ方式で整った形のレジンモールド層を形成
するには充填剤の添加量を多くして、加熱硬化時の粘度
低下による滴下を防止する必用がある。
一方、デイツプ作業を容易にするためKは上記とは逆に
絶縁材料の粘度を低くしなければならず。
これらの要求を満足させるため、デイツプ作業時には絶
縁材料を溶剤で稀釈したものを使用し、加熱硬化する前
に溶剤を揮発させるようにしていた。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら上記の方法では、溶剤が揮発した跡が空孔
としてレジンモールド層中に残留し、この空孔から水分
が浸入し耐湿性が劣るという欠点が生じる。
この改善策として第3図に示すようにレジンモールド層
5の表面にワックス7を含浸して対処したが、このよう
な方法ではワックス声混成集積回路の表面に多量付着し
て外観が悪くなるばかシでなく、スイッチの接点、ソケ
ット等にまで付着し。
その部分が接触不要となシ、混成集積回路を取り付けた
電気回路が動作しなくなるという欠点が生じる。なお第
3図においては導体パターンを形成した基板、2は電子
回路用部品及び3はリードフレームである。
しかし上記の方法では、電子回路用部品を搭載した基板
とレジンモールド層との間に応力吸収層がないため、セ
ラミック基板を用いた大聖混成集積回路になると、高温
時にセラミック基板とレジンモールド層との熱膨張係数
の相違による応力で搭載した電子回路用部品が特性不良
になることがある。
本発明は上記の欠点のない混成集積回路を提供すること
を目的とするものである。
(n、題を解決するための手段) 本発明は基板上に形成した導体パターン上に電子回路用
部品を搭載し、かつ基板にリードフレームを挿着し、任
意の部分にレジンモールド層を形成する混成集積回路を
製造する方法において、基板の表面、搭載後の電子回路
部品の表面及び挿入後のリードフレームの表面にワック
ス層を形成した後レジンモールド層を形成し、ついでレ
ジンモールド層の内側に空隙を設ける混成集積回路の製
造法に関する。
本発明においてレジンモールド層を形成する絶縁材料と
しては、エポキシ樹脂、変性フェノール樹脂、シリコン
ゴム等が用いられ、必要に応じシリカ粉、活性アルミナ
粉等の充填剤が添加される。
ワックス層及びレジンモールド層を形成する方法につい
ては特に制限はなく通常公知の方法で行なわれる。
レジンモールド層の内側に空隙を設ける方法についても
特に制限はない。
(実施例) 以下図面を引用して本発明の詳細な説明する。
第1図に示すように、まず導体パターンを形成した基板
1に、IC,)ランジスタ、コンデンサ。
ダイオード等の電子回路用部品2を搭載すると共にリー
ドフレーム3を挿着した。この後溶融したワックス(@
点125℃)中に上記の電子回路用部品2を搭載し、か
つリードフレーム3を挿着した基板を浸漬(デイツプ)
してワックス層4を形成し、ついで充填剤入り変性フェ
ノール樹脂中に浸漬してレジンモールド層5を形成した
次に室温中に放置して溶剤を揮発させ、ついで80℃に
加熱して1次硬化させた後、135℃に加熱してワック
スを溶融させ、かつ溶剤を揮発してできた空孔に溶融し
たワックスを充填させると共に2次硬化させ、第2図に
示すようにレジンモールド層5の内側に空隙6を設けた
混成集積回路を得た。
(発明の効果) 本発明になる混成集積回路は、it湿性に優れ。
表面に多量のワックスが付着することがなく、ま九基板
とレジンモールド層との熱膨張係数の相違による応力が
生ぜず信頼性の高い大型混成集積回路である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例になる混成集積回路の製造工程
を示す断面側面図、第2図は本発明の実施例になる混成
集積回路の断面側面図および第3図は従来の混成集積回
路の断面側面図である。 符号の説明 1・・・導体パターンを形成した基板 2・・・電子回路用部品  3・・・リードフレーム4
・・・ワックス層    5・・・レジンモールド層6
・・・空11       7・・・ワックス代理人 
弁理士 若 林 邦 彦′I°、・χ2 図 1:44転Iψ7−ン1杉或隊ラド4験、Z1斗thg
−吐蛭品 3−、)+−w゛フ一一一 キニワックス層 g:Q、、パートド・層 t・、)   獣 7zフン7ス 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.基板上に形成した導体パターン上に電子回路用部品
    を搭載し,かつ基板にリードフレームを挿着し,任意の
    部分にレジンモールド層を設けた混成集積回路を製造す
    る方法において,基板の表面,搭載後の電子回路用部品
    の表面及び挿着後のリードフレームの表面にワックス層
    を形成した後レジンモールド層を形成し,ついでレジン
    モールド層の内側に空隙を設けることを特徴とする混成
    集積回路の製造法。
JP23315888A 1988-09-16 1988-09-16 混成集積回路の製造法 Pending JPH0281444A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23315888A JPH0281444A (ja) 1988-09-16 1988-09-16 混成集積回路の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23315888A JPH0281444A (ja) 1988-09-16 1988-09-16 混成集積回路の製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0281444A true JPH0281444A (ja) 1990-03-22

Family

ID=16950629

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23315888A Pending JPH0281444A (ja) 1988-09-16 1988-09-16 混成集積回路の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0281444A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6922339B2 (en) Heat dissipating structure of printed circuit board and fabricating method thereof
US6243945B1 (en) Method for manufacturing electronic parts
EP0048992B1 (en) Printed circuit board and method for fabricating the same
JPH0281444A (ja) 混成集積回路の製造法
JPS59126643A (ja) 電子回路の被覆方法
JPH02158191A (ja) 部品実装回路基板の製造方法
JPS6153852B2 (ja)
US3263304A (en) Method for mounting electrical circuitry
JPS61113243A (ja) 混成集積回路の実装方法
JPH027197B2 (ja)
JPS62130595A (ja) 電気回路装置の製造方法
JPS6151801A (ja) 回転機構部品付回路素子の製造方法
JPH04137657A (ja) 混成集積回路基板
JPH0632390B2 (ja) プリント基板の防水処理装置
JP2000269003A (ja) セラミックバリスタとその製造方法
JP2002231756A (ja) チップ部品の実装構造
JPH0425195A (ja) 電子回路装置
JPH0436600B2 (ja)
JPH0235791A (ja) 厚膜抵抗体を含む回路装置
JPS63304692A (ja) プリント配線板の製造方法
JPH03145144A (ja) 回路部品の封止方法
JPS6240793A (ja) 電子回路装置
JPH0719975B2 (ja) プリント基板装置
JPS61166094A (ja) 電子回路パツケ−ジの製造方法
JPH0543200B2 (ja)