JPH028025B2 - - Google Patents
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- JPH028025B2 JPH028025B2 JP7817082A JP7817082A JPH028025B2 JP H028025 B2 JPH028025 B2 JP H028025B2 JP 7817082 A JP7817082 A JP 7817082A JP 7817082 A JP7817082 A JP 7817082A JP H028025 B2 JPH028025 B2 JP H028025B2
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- JP
- Japan
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- plating material
- strip
- heater
- duct
- droplets
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- Expired
Links
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、メツキ材の蒸発鍋から飛散するメツ
キ材の液滴を除去し、被メツキ物への該液滴の付
着による製品品質への悪影響を排除する真空蒸着
装置に関する。
キ材の液滴を除去し、被メツキ物への該液滴の付
着による製品品質への悪影響を排除する真空蒸着
装置に関する。
ストリツプ片側表面にAlあるいはZn等をメツ
キする一方法として、真空蒸着による方法があ
る。
キする一方法として、真空蒸着による方法があ
る。
第１図は、この方法に適用される真空蒸着装置
の概略図である。
の概略図である。
第１図において、１は真空槽、２はスノーケル
管、３は大気中溶解炉、４は蒸発鍋、５はヒー
タ、６は水冷板、７はメツキ材、８はストリツプ
である。
管、３は大気中溶解炉、４は蒸発鍋、５はヒー
タ、６は水冷板、７はメツキ材、８はストリツプ
である。
操作手順は、大気中溶解炉３にてメツキ材７を
溶解した後、スノーケル管２をメツキ材７浴中に
浸漬させる。そこで真空槽１を真空引きし、蒸発
鍋４にメツキ材７を昇液した後、更にヒータ５に
て加熱して蒸発を開始させ、ストリツプ８に蒸着
させる。ストリツプ８は走行することにより連続
的にメツキ材７を蒸着することになる。
溶解した後、スノーケル管２をメツキ材７浴中に
浸漬させる。そこで真空槽１を真空引きし、蒸発
鍋４にメツキ材７を昇液した後、更にヒータ５に
て加熱して蒸発を開始させ、ストリツプ８に蒸着
させる。ストリツプ８は走行することにより連続
的にメツキ材７を蒸着することになる。
なお、メツキ材７の昇液高さｈは、液体と比重
量と大気圧に見合つた高さでバランスし、常時一
定となる。
量と大気圧に見合つた高さでバランスし、常時一
定となる。
上記の真空蒸着装置においては、メツキ材７の
蒸気と共にメツキ材７の液沸騰によるスプラツシ
ユが発生し、またストリツプ８に至るまでの蒸気
の温度降下によりミストも発生し、これらのスプ
ラツシユやミストがストリツプ８に付着すること
があり、製品性状に悪影響を与えている。
蒸気と共にメツキ材７の液沸騰によるスプラツシ
ユが発生し、またストリツプ８に至るまでの蒸気
の温度降下によりミストも発生し、これらのスプ
ラツシユやミストがストリツプ８に付着すること
があり、製品性状に悪影響を与えている。
そこで、第２図に示すように、ストリツプ８に
至るまでの壁面に温度補償ヒータ９を設けた装置
も提案されているが、この装置では、壁面での蒸
気の凝縮はおこらないが、滞留時間が短いため液
面から飛来してくる液滴を蒸発させることはでき
ない欠点がある。
至るまでの壁面に温度補償ヒータ９を設けた装置
も提案されているが、この装置では、壁面での蒸
気の凝縮はおこらないが、滞留時間が短いため液
面から飛来してくる液滴を蒸発させることはでき
ない欠点がある。
本発明は、この液滴の除去を目的としてなされ
たもので、真空蒸着装置において、メツキ材の蒸
発鍋から被メツキ物に至るまでの間にダクトを設
け、該ダクト内に、ヒータ付邪魔板からなるスー
パーヒータを多数配列したことを特徴とする真空
蒸着装置に関するものである。こゝでスーパーヒ
ータとは、メツキ材をその蒸気温度以上に加熱す
る機能を有するものであるため、スーパーヒータ
と呼称している。
たもので、真空蒸着装置において、メツキ材の蒸
発鍋から被メツキ物に至るまでの間にダクトを設
け、該ダクト内に、ヒータ付邪魔板からなるスー
パーヒータを多数配列したことを特徴とする真空
蒸着装置に関するものである。こゝでスーパーヒ
ータとは、メツキ材をその蒸気温度以上に加熱す
る機能を有するものであるため、スーパーヒータ
と呼称している。
第３図は、本発明装置の一実施態様例を示す図
である。
である。
第３図において、第１，２図と同一符号は第
１，２図と同一機能部品を示し、１０はスーパー
ヒータ、１３は蒸発鍋４から発生したメツキ材７
の蒸気を上方に導くダクトである。
１，２図と同一機能部品を示し、１０はスーパー
ヒータ、１３は蒸発鍋４から発生したメツキ材７
の蒸気を上方に導くダクトである。
スーパーヒータ１０は、ダクト１３内であつ
て、蒸発鍋４とストリツプ８の中間に配置し、そ
の構造は例えば第４図に示すようなヒータ１２を
取付けた邪魔板１１を、上下に千鳥状に多層配列
したものである。
て、蒸発鍋４とストリツプ８の中間に配置し、そ
の構造は例えば第４図に示すようなヒータ１２を
取付けた邪魔板１１を、上下に千鳥状に多層配列
したものである。
上記のような本発明装置によれば、蒸気流に随
伴して流れる液滴は、スーパーヒータ１０群を通
過する間に、蒸気との遠心力の差により該スーパ
ーヒータの邪魔板１１に捕集される。邪魔板１１
はヒータ１２によりメツキ材７の沸点以上に加熱
されているため、捕集された液滴は蒸発し、蒸気
となつてストリツプ８に達する。従つて、液滴の
ストリツプ８への付着がなくなり、製品の品質向
上を図ることができる。
伴して流れる液滴は、スーパーヒータ１０群を通
過する間に、蒸気との遠心力の差により該スーパ
ーヒータの邪魔板１１に捕集される。邪魔板１１
はヒータ１２によりメツキ材７の沸点以上に加熱
されているため、捕集された液滴は蒸発し、蒸気
となつてストリツプ８に達する。従つて、液滴の
ストリツプ８への付着がなくなり、製品の品質向
上を図ることができる。
第１図および第２図は従来の真空蒸着装置を示
す概略図、第３図は本発明装置の一実施態様を示
す概略図、第４図は第３図中符号１０で示すスー
パーヒータの構造の一例を示す概略図である。
す概略図、第３図は本発明装置の一実施態様を示
す概略図、第４図は第３図中符号１０で示すスー
パーヒータの構造の一例を示す概略図である。
Claims (1)
- １ 真空蒸発装置において、メツキ材の蒸発鍋か
ら被メツキ物に至るまでの間にダクトを設け、該
ダクト内にヒータ付邪摩板からなるスーパーヒー
タを多数配列したことを特徴とする真空蒸発装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7817082A JPS58197269A (ja) | 1982-05-12 | 1982-05-12 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7817082A JPS58197269A (ja) | 1982-05-12 | 1982-05-12 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58197269A JPS58197269A (ja) | 1983-11-16 |
| JPH028025B2 true JPH028025B2 (ja) | 1990-02-22 |
Family
ID=13654460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7817082A Granted JPS58197269A (ja) | 1982-05-12 | 1982-05-12 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58197269A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04311017A (ja) * | 1991-04-09 | 1992-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 乾式高圧コンデンサ |
-
1982
- 1982-05-12 JP JP7817082A patent/JPS58197269A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04311017A (ja) * | 1991-04-09 | 1992-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 乾式高圧コンデンサ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58197269A (ja) | 1983-11-16 |
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