JPH0278938A - 光学式表面欠陥検査装置 - Google Patents
光学式表面欠陥検査装置Info
- Publication number
- JPH0278938A JPH0278938A JP22980388A JP22980388A JPH0278938A JP H0278938 A JPH0278938 A JP H0278938A JP 22980388 A JP22980388 A JP 22980388A JP 22980388 A JP22980388 A JP 22980388A JP H0278938 A JPH0278938 A JP H0278938A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface defect
- inspected
- defect
- defect detection
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000007547 defect Effects 0.000 title claims abstract description 90
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 15
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 9
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 13
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000009474 immediate action Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
この発明は、例えば鉄鋼産業における圧延板又は半導体
産業におけるＳｉウェーハ等の表面欠陥を製造実時間で
検査する光学式表面欠陥検査装置に関する。
産業におけるＳｉウェーハ等の表面欠陥を製造実時間で
検査する光学式表面欠陥検査装置に関する。
（従来の技術）
従来の表面欠陥検査装置としては、被検査物の表面欠陥
を広範囲に亘って高速で検出できるようにしたものがあ
るが、このような表面欠陥検査装置は、単に表面欠陥有
無の検査程度に１にまり、例えばその表面欠陥の形状、
大きさ等の詳細な欠陥情報までは得られるようになって
いなかった。
を広範囲に亘って高速で検出できるようにしたものがあ
るが、このような表面欠陥検査装置は、単に表面欠陥有
無の検査程度に１にまり、例えばその表面欠陥の形状、
大きさ等の詳細な欠陥情報までは得られるようになって
いなかった。
一方、他の従来の表面欠陥検査装置として、表面欠陥の
形状、大きさ等の詳細な情報まで得られるようにしたも
のがあるが、このような表面欠陥検査装置は、検査スピ
ードが遅く、被検査物の実用製造ラインのスピードに追
従することができず、サンプリング検査程度に止まるも
のであった。
形状、大きさ等の詳細な情報まで得られるようにしたも
のがあるが、このような表面欠陥検査装置は、検査スピ
ードが遅く、被検査物の実用製造ラインのスピードに追
従することができず、サンプリング検査程度に止まるも
のであった。
（発明が解決しようとする課題）
ところで、製品の歩留りを向上させるためには、被検査
物の全数についてその表面の全領域を製造実時間で検査
し、且つ表面欠陥の発生が検出された際は、その表面欠
陥の形状、大きさ等の詳細な欠陥情報を得て、製造ライ
ンにおける表面欠陥の発生原因となる異常部分を推７］
１１１ Ｌ、直ちに処置をして継続的な表面欠陥の発生
を防止できるようなものか望まれる。
物の全数についてその表面の全領域を製造実時間で検査
し、且つ表面欠陥の発生が検出された際は、その表面欠
陥の形状、大きさ等の詳細な欠陥情報を得て、製造ライ
ンにおける表面欠陥の発生原因となる異常部分を推７］
１１１ Ｌ、直ちに処置をして継続的な表面欠陥の発生
を防止できるようなものか望まれる。
しかしながら、従来の表面欠陥検査装置には、被検査物
の表面欠陥を広範囲に亘って高速で検出し、Ｈつ表面欠
陥の発生か検出された際は、直ちにその詳細な欠陥情報
まで得られるようにしたものはなかった。
の表面欠陥を広範囲に亘って高速で検出し、Ｈつ表面欠
陥の発生か検出された際は、直ちにその詳細な欠陥情報
まで得られるようにしたものはなかった。
この発明は、上記事情に基づいてなされたもので、被検
査物の全数についてその表面の全領域を製造実時間で検
査し、且つ表面欠陥の発生が検出された際は直ちにその
表面欠陥の形状、大きさ等の詳細な欠陥情報を得るこの
できる光学式表面欠陥検査装置を提供することを目的と
する。
査物の全数についてその表面の全領域を製造実時間で検
査し、且つ表面欠陥の発生が検出された際は直ちにその
表面欠陥の形状、大きさ等の詳細な欠陥情報を得るこの
できる光学式表面欠陥検査装置を提供することを目的と
する。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
この発明は上記課題を解決するために、レーザ光源から
のレーザビームを、一方向に移動する被検査物の表面に
その移動方向と直交する方向に直線状に走査するビーム
走査手段と、該ビーム走査手段により前記被検査物の表
面に直線状に走査されたレーザビームの反射光を受光し
て当該被検査物の表面欠陥を検出する表面欠陥検出手段
と、前記被検査物の移動速度に同期した同期パルスを発
生する同期パルス発生器と、前記表面欠陥検出手段から
の表面欠陥検出信号及び前記同期パルス発生器からの同
期パルスを入力し当該表面欠陥の位置を示す位置信号を
出力する制御手段と、前記表面欠陥検出手段に対し前記
被検査物の移動方向下流側に配置され前記制御手段から
の位置信号で制御されて前記表面欠陥検出手段で検出さ
れた表面欠陥を撮像する表面欠陥撮像手段とを有するこ
とを要旨とする。
のレーザビームを、一方向に移動する被検査物の表面に
その移動方向と直交する方向に直線状に走査するビーム
走査手段と、該ビーム走査手段により前記被検査物の表
面に直線状に走査されたレーザビームの反射光を受光し
て当該被検査物の表面欠陥を検出する表面欠陥検出手段
と、前記被検査物の移動速度に同期した同期パルスを発
生する同期パルス発生器と、前記表面欠陥検出手段から
の表面欠陥検出信号及び前記同期パルス発生器からの同
期パルスを入力し当該表面欠陥の位置を示す位置信号を
出力する制御手段と、前記表面欠陥検出手段に対し前記
被検査物の移動方向下流側に配置され前記制御手段から
の位置信号で制御されて前記表面欠陥検出手段で検出さ
れた表面欠陥を撮像する表面欠陥撮像手段とを有するこ
とを要旨とする。
（作用）
上記構成において、一方向に移動する被検査物の表面に
、ビーム走査手段によりレーザビームがその移動方向と
直交する方向に直線状に走査され、その反射光が表面欠
陥検出手段で受光されて被検査物の表面欠陥の有無がそ
の被検査物の全数且つ表面の全領域に亘って製造実時間
で検査される。表面欠陥の発生が検出されると制御手段
からその表面欠陥の位置を示す位置信号が出力され、こ
の位置信号で制御された表面欠陥撮像手段により直ちに
その表面欠陥が撮像されてその形状、大きさ等に関する
詳細な欠陥情報が得られる。
、ビーム走査手段によりレーザビームがその移動方向と
直交する方向に直線状に走査され、その反射光が表面欠
陥検出手段で受光されて被検査物の表面欠陥の有無がそ
の被検査物の全数且つ表面の全領域に亘って製造実時間
で検査される。表面欠陥の発生が検出されると制御手段
からその表面欠陥の位置を示す位置信号が出力され、こ
の位置信号で制御された表面欠陥撮像手段により直ちに
その表面欠陥が撮像されてその形状、大きさ等に関する
詳細な欠陥情報が得られる。
（実施例）
以下、この発明の実施例を第１図に基づいて説明する。
まず、光学式表面欠陥検査装置の構成を説明すると、第
１図中、１はレーザ光源、２はレーザ光源１からのレー
ザビームを絞るためのコリメータ、３はコリメータ２か
らのレーザビームを扇状に走査するポリゴンミラー（回
転多面鏡）、４はポリゴンミラー３からの扇状ビームの
走査範囲を適宜幅に規定するレンズであり、上述のコリ
メータ２、ポリゴンミラー３及びレンズ４等により、レ
ーザ光源１からのレーザビームを、Ｙ方向に移動する被
検査物５の表面にその移動方向Ｙと直交する方向に直線
状に走査するビーム走査手段１０が構成されている。
１図中、１はレーザ光源、２はレーザ光源１からのレー
ザビームを絞るためのコリメータ、３はコリメータ２か
らのレーザビームを扇状に走査するポリゴンミラー（回
転多面鏡）、４はポリゴンミラー３からの扇状ビームの
走査範囲を適宜幅に規定するレンズであり、上述のコリ
メータ２、ポリゴンミラー３及びレンズ４等により、レ
ーザ光源１からのレーザビームを、Ｙ方向に移動する被
検査物５の表面にその移動方向Ｙと直交する方向に直線
状に走査するビーム走査手段１０が構成されている。
また、被検査物５表面からのレーザビームの反射方向に
は、その反射光を集光するためのレンズ６及び集光され
た反射光をフィルタするための空間フィルタ７を介して
表面欠陥検出手段としての光電変換器８が配置されてい
る。１１は被検査物５の搬送装置であ一す、その回転軸
には被検査物５の移動速度に同期した同期パルスを発生
する同期パルス発生器１２が取付けられている。そして
同期パルス発生器１２の出力信号線が、前記光電変換器
８からの出力信号線とともに制御手段としての演算制御
装置２０に接続されている。演算制御装置２０は、光電
変換器８からの表面欠陥検出信号及び同期パルス発生器
１２からの同期パルスを入力して、光電変換器８で検出
された表面欠陥の位置を演算し、これを位置信号として
出力する機能を有している。
は、その反射光を集光するためのレンズ６及び集光され
た反射光をフィルタするための空間フィルタ７を介して
表面欠陥検出手段としての光電変換器８が配置されてい
る。１１は被検査物５の搬送装置であ一す、その回転軸
には被検査物５の移動速度に同期した同期パルスを発生
する同期パルス発生器１２が取付けられている。そして
同期パルス発生器１２の出力信号線が、前記光電変換器
８からの出力信号線とともに制御手段としての演算制御
装置２０に接続されている。演算制御装置２０は、光電
変換器８からの表面欠陥検出信号及び同期パルス発生器
１２からの同期パルスを入力して、光電変換器８で検出
された表面欠陥の位置を演算し、これを位置信号として
出力する機能を有している。
１３は上記演算制御装置２０からの位置信号で回転制御
される駆動装置、１４はこの駆動装置１３の駆動軸に取
付けられて被検査物５の幅方向に移動制御される高速シ
ャッタカメラであり、その画像信号出力線は演算制御装
置２０に接続されている。上記の高速シャッタカメラ１
４及び駆動装置１３により、演算制御装置２０からの位
置信号で制御されて光電変換器８て検出された表面欠陥
を撮像する表面欠陥撮像手段３０が構成されている。表
面欠陥撮像手段３０は、表面欠陥検出手段を構成する光
電変換器８等の配置位置に対し、被検査物５の移動方向
下流側に所要間隔をおいて配置されている。
される駆動装置、１４はこの駆動装置１３の駆動軸に取
付けられて被検査物５の幅方向に移動制御される高速シ
ャッタカメラであり、その画像信号出力線は演算制御装
置２０に接続されている。上記の高速シャッタカメラ１
４及び駆動装置１３により、演算制御装置２０からの位
置信号で制御されて光電変換器８て検出された表面欠陥
を撮像する表面欠陥撮像手段３０が構成されている。表
面欠陥撮像手段３０は、表面欠陥検出手段を構成する光
電変換器８等の配置位置に対し、被検査物５の移動方向
下流側に所要間隔をおいて配置されている。
１５はコンソールＣＲＴであり、演算制御装置２０で制
御されて被検査物５の製造ラインに生じた異常部分等を
オペレータ等に対して表示するようになっている。
御されて被検査物５の製造ラインに生じた異常部分等を
オペレータ等に対して表示するようになっている。
次に、上述のように構成された光学式表面欠陥検査装置
の作用を説明する。
の作用を説明する。
被検査物５が搬送装置１１で駆動されて製造ライン等の
中を一定の速度てＹ方向に移動している。
中を一定の速度てＹ方向に移動している。
このような被検査物５に対し、ビーム走査手段１０によ
りレーザビームがその移動方向と直交する方向に直線状
に走査され、その反射光がレンズ６及びフィルタ７を介
して光電変換器８で受光されている。被検査物５の表面
に欠陥がなく、正常なときは光電変換器８からの光電出
力は略一定値となっている。このようにして被検査物５
の表面欠陥の有無がその被検査物５の全数且つ表面の全
領域に亘って製造実時間で検査されている。
りレーザビームがその移動方向と直交する方向に直線状
に走査され、その反射光がレンズ６及びフィルタ７を介
して光電変換器８で受光されている。被検査物５の表面
に欠陥がなく、正常なときは光電変換器８からの光電出
力は略一定値となっている。このようにして被検査物５
の表面欠陥の有無がその被検査物５の全数且つ表面の全
領域に亘って製造実時間で検査されている。
被検査物５に表面欠陥があると反射光が変化するので、
光電変換器８の光電出力に変化か生し、演算制御装置２
０によりその表面欠陥が、被検査物５の幅方向の発生位
置とともに検出される。表面欠陥が検出されると、演算
制御装置２０では、 −この表面欠陥検出信号及び同期
パルス発生器１２からの同期パルスにより位置信号が演
算され、駆動装置１３がこの位置信号で制御されて高速
シャッタカメラ１４が移動し、その表面欠陥が撮像され
る。このようにして、光電変換器８の光電出力による表
面欠陥発生の検出後、表面欠陥撮像手段３０により、直
ちにその表面欠陥が撮像されて、その形状、大きさ及び
個数等を含む詳細な欠陥情報である画像情報が演算制御
装置２０に送られる。
光電変換器８の光電出力に変化か生し、演算制御装置２
０によりその表面欠陥が、被検査物５の幅方向の発生位
置とともに検出される。表面欠陥が検出されると、演算
制御装置２０では、 −この表面欠陥検出信号及び同期
パルス発生器１２からの同期パルスにより位置信号が演
算され、駆動装置１３がこの位置信号で制御されて高速
シャッタカメラ１４が移動し、その表面欠陥が撮像され
る。このようにして、光電変換器８の光電出力による表
面欠陥発生の検出後、表面欠陥撮像手段３０により、直
ちにその表面欠陥が撮像されて、その形状、大きさ及び
個数等を含む詳細な欠陥情報である画像情報が演算制御
装置２０に送られる。
この詳細な欠陥情報から演算制御装置２０により、製造
ラインに異常部分があると判断されると、コンソールＣ
ＲＴ１５に制御信号が送られ、異常部分の発生が表示さ
れる。そして、オペレータ等により直ちに適切な処置が
施され、その後の継続的な表面欠陥の発生が防止されて
製品の歩留り向上が図られる。
ラインに異常部分があると判断されると、コンソールＣ
ＲＴ１５に制御信号が送られ、異常部分の発生が表示さ
れる。そして、オペレータ等により直ちに適切な処置が
施され、その後の継続的な表面欠陥の発生が防止されて
製品の歩留り向上が図られる。
［発明の効果］
以上説明したように、この発明によれば、ビーム走査手
段及び表面欠陥検出手段により被検査物の表面欠陥の有
無がその被検査物の全数且つ表面の全領域に亘って製造
実時間で検査され、表面欠陥の発生が検出されると制御
手段からの位置信号で制御された表面欠陥撮像手段によ
り、直ちにその表面欠陥が撮像されてその形状、大きさ
等に関する詳細な欠陥情報を得ることができる。したが
って、この詳細な欠陥情報から製造ライン等における表
面欠陥の発生原因となる異常部分を容易に推ａｌｌする
ことができ、直ちに適切な処置を施すことにより継続的
な表面欠陥の発生を防止することができて製品の歩留り
を向上させることができる。
段及び表面欠陥検出手段により被検査物の表面欠陥の有
無がその被検査物の全数且つ表面の全領域に亘って製造
実時間で検査され、表面欠陥の発生が検出されると制御
手段からの位置信号で制御された表面欠陥撮像手段によ
り、直ちにその表面欠陥が撮像されてその形状、大きさ
等に関する詳細な欠陥情報を得ることができる。したが
って、この詳細な欠陥情報から製造ライン等における表
面欠陥の発生原因となる異常部分を容易に推ａｌｌする
ことができ、直ちに適切な処置を施すことにより継続的
な表面欠陥の発生を防止することができて製品の歩留り
を向上させることができる。
第１図はこの発明に係る光学式表面欠陥検査装置の実施
例を示す構成図である。 １：レーザ光源、 ５：被検査物、８：光電変換器
（表面欠陥検出手段）、１０：ビーム走査手段、 １２：同期パルス発生器、 ２０：演算制御装置（制御手段）、 ３０：表面欠陥撮像手段。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 代理人 弁理士 第 子 丸 健
例を示す構成図である。 １：レーザ光源、 ５：被検査物、８：光電変換器
（表面欠陥検出手段）、１０：ビーム走査手段、 １２：同期パルス発生器、 ２０：演算制御装置（制御手段）、 ３０：表面欠陥撮像手段。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 代理人 弁理士 第 子 丸 健
Claims (1)
- レーザ光源からのレーザビームを、一方向に移動する被
検査物の表面にその移動方向と直交する方向に直線状に
走査するビーム走査手段と、該ビーム走査手段により前
記被検査物の表面に直線状に走査されたレーザビームの
反射光を受光して当該被検査物の表面欠陥を検出する表
面欠陥検出手段と、前記被検査物の移動速度に同期した
同期パルスを発生する同期パルス発生器と、前記表面欠
陥検出手段からの表面欠陥検出信号及び前記同期パルス
発生器からの同期パルスを入力し当該表面欠陥の位置を
示す位置信号を出力する制御手段と、前記表面欠陥検出
手段に対し前記被検査物の移動方向下流側に配置され前
記制御手段からの位置信号で制御されて前記表面欠陥検
出手段で検出された表面欠陥を撮像する表面欠陥撮像手
段とを有することを特徴とする光学式表面欠陥検査装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22980388A JPH0278938A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 光学式表面欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22980388A JPH0278938A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 光学式表面欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0278938A true JPH0278938A (ja) | 1990-03-19 |
Family
ID=16897912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22980388A Pending JPH0278938A (ja) | 1988-09-16 | 1988-09-16 | 光学式表面欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0278938A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017106816A (ja) * | 2015-12-10 | 2017-06-15 | 株式会社ディスコ | 検査装置 |
| TWI788822B (zh) * | 2021-04-16 | 2023-01-01 | 中強光電股份有限公司 | 檢查顯示器的顯示區域的瑕疵的電子裝置和方法 |
-
1988
- 1988-09-16 JP JP22980388A patent/JPH0278938A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017106816A (ja) * | 2015-12-10 | 2017-06-15 | 株式会社ディスコ | 検査装置 |
| TWI715662B (zh) * | 2015-12-10 | 2021-01-11 | 日商迪思科股份有限公司 | 檢查裝置 |
| TWI788822B (zh) * | 2021-04-16 | 2023-01-01 | 中強光電股份有限公司 | 檢查顯示器的顯示區域的瑕疵的電子裝置和方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002513927A (ja) | 移動コンベヤ上の物品の検査のために像を取得するシステムおよび方法 | |
| CN113646627B (zh) | 缺陷检查装置和缺陷检查方法 | |
| JP2007230706A (ja) | ベルトコンベアの縦裂き検知方法および装置 | |
| JPH02114156A (ja) | 実装基板検査装置 | |
| JP4184694B2 (ja) | タイヤのｘ線検査方法及びその装置 | |
| JPH10132537A (ja) | Ｕ字溝形状を有する部品表面の検査方法 | |
| JP5564372B2 (ja) | ワーク検査装置及びその制御方法 | |
| JP6927790B2 (ja) | 検査方法及び検査装置 | |
| JPH0278938A (ja) | 光学式表面欠陥検査装置 | |
| JP4094399B2 (ja) | 鋼板の疵検査方法およびその装置 | |
| JPS6262205A (ja) | 物体の表面凹凸検査方法 | |
| JPH08313454A (ja) | 画像処理装置 | |
| JPH04348050A (ja) | 材料表面検査装置 | |
| JP3759584B2 (ja) | 物体の三次元高さ計測方法 | |
| KR100229070B1 (ko) | 인쇄 회로 기판의 크림 납 검사 장치 및 방법 | |
| JPH01227910A (ja) | 光学検査装置 | |
| JP3340879B2 (ja) | 表面欠陥検出方法および装置 | |
| JPH10185514A (ja) | コイル位置検出装置 | |
| JPH07128025A (ja) | レーザ走査式高さ測定装置 | |
| JPH04160304A (ja) | 板幅方向反り検出装置 | |
| WO2022264362A1 (ja) | 欠陥検査システム、欠陥検査装置、および、欠陥検査方法 | |
| JPH0454440A (ja) | 微粒子の計測装置 | |
| JPH10185515A (ja) | コイル位置検出装置 | |
| JPH01191043A (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JP2002148202A (ja) | 疵検査装置の撮像方法及び疵検査装置 |