JPH0278094A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH0278094A
JPH0278094A JP63228576A JP22857688A JPH0278094A JP H0278094 A JPH0278094 A JP H0278094A JP 63228576 A JP63228576 A JP 63228576A JP 22857688 A JP22857688 A JP 22857688A JP H0278094 A JPH0278094 A JP H0278094A
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南部 博昭
Noriyuki Honma
本間 紀之
Kunihiko Yamaguchi
邦彦 山口
Kazuo Kanetani
一男 金谷
Kenichi Ohata
賢一 大畠
Makoto Suzuki
誠 鈴木
Yoshiki Kawajiri
良樹 川尻
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Abstract

PURPOSE:To reduce the wiring area of a circuit around a memory cell array and to highly integrate a semiconductor memory by composing a decoder so that word lines can be selected in order when a reflected binary code is inputted as address data. CONSTITUTION:An input line to be connected with a decoder line B is made common to decoder lines A and B to be connected to the input line of an AND gate G1 and decoder lines the inverse of A and B to be connected to the input line of an AND date G2. Further, an input line to be connected to the decoder line, the inverse of A is made common to the AND gate G2 and an AND gate G3, and in the same manner, an input line to be connected to a decoder line, the inverse of B is made common to the AND gate G3 and an AND gate G4. Consequently, the number of through holes can be reduced, the number of the wirings of a decoder input line can be also decreased, the wiring area of the circuit around the memory cell array can be reduced, and the semiconductor memory can be highly integrated.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体メモリに係り、特に、メモリセルアレ
ー周辺の回路の配線面積を低減し、高集積化を図るよう
にデコーダを構成した半導体メモリ番巳関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory, and in particular to a semiconductor memory in which a decoder is configured to reduce the wiring area of a circuit around a memory cell array and achieve high integration. Memory bank is concerned.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第2図は、半導体メモリにおいて、従来がら行われてい
るデコーダの構成方法を示している。ここでは、説明を
簡単にするために、2ビツトのアドレスデータA、Bで
、4本のワード線をデコードする場合を示している。図
において、lはアドレスバッファ、2はデコーダ、3は
デコーダ線。
FIG. 2 shows a conventional method of configuring a decoder in a semiconductor memory. Here, to simplify the explanation, a case is shown in which four word lines are decoded using 2-bit address data A and B. In the figure, l is an address buffer, 2 is a decoder, and 3 is a decoder line.

4はデコーダ入力線、5はスルーホール、A、Bはアド
レスデータ、G1、G2、G3、G4はANDゲートで
ある。
4 is a decoder input line, 5 is a through hole, A and B are address data, and G1, G2, G3, and G4 are AND gates.

この図に示すように、一般に、アドレスバッファ1とデ
コーダ2との間には1図中縦線で示すデコーダm3が配
されている。一般に、このデコーダ線3は、図中横線で
示すデコーダ入力線4と異なる配線層で形成されており
、必要な箇所にスルーホール5を設けることにより、上
記デコーダ入力線4との接続を行っている。
As shown in this figure, generally, a decoder m3 indicated by a vertical line in the figure is arranged between address buffer 1 and decoder 2. Generally, this decoder line 3 is formed in a different wiring layer from the decoder input line 4 shown by the horizontal line in the figure, and is connected to the decoder input line 4 by providing through holes 5 at necessary locations. There is.

ここで、従来、この図に示すように、純2進コードをア
ドレスデータとして入力した時に、ワード線が順番に選
択されるようにデコーダを構成すると、配線面積が増加
するという点については配慮されていなかった。(「デ
ィジタルインチグレイティド エレクトロニクス(Di
gitalIntegrated Electroni
cs)J 411頁、出版:マツフグロー・ヒル(Mc
GRAW−flILL)、著者:ハーバート・タウ(H
erbart Taub)、ドナルド・シリング(Do
nald Schilling))〔発明が解決しよう
とする課題〕 以下、第2図に示す従来のデコーダの構成方法では、メ
モリセルアレー周辺の回路の配線面積が増加することを
具体的に示す。なお、以下では、上記配線面積を定量化
するために、デコーダ線3とデコーダ入力線4とを接続
するスルーホール5の数に着目する。nビット(nは、
2以上の整数)のアドレスデータで、2″本のワード線
をデコードする場合、従来のデコーダの構成方法では、
デコーダ入力線のそれぞれが直接デコーダ線と接続され
ているため、デコーダを構成するANDゲート1つ当り
、n個のスルーホールが必要であった。
Conventionally, as shown in this figure, when a decoder is configured so that word lines are selected in order when a pure binary code is input as address data, consideration has not been given to the fact that the wiring area increases. It wasn't. (“Digital Inch-Grated Electronics (Di)
digitalIntegratedElectroni
cs) J 411 pages, Publisher: Matsufugrow Hill (Mc
GRAW-flILL), Author: Herbert Tau (H
erbert Taub), Donald Schilling (Do
[Problems to be Solved by the Invention] Hereinafter, it will be specifically shown that in the conventional decoder configuration method shown in FIG. 2, the wiring area of the circuit around the memory cell array increases. Note that, below, in order to quantify the wiring area, attention will be paid to the number of through holes 5 that connect the decoder line 3 and the decoder input line 4. n bits (n is
When decoding 2'' word lines with address data (an integer greater than or equal to 2), the conventional decoder configuration method is as follows:
Since each decoder input line is directly connected to a decoder line, n through holes are required for each AND gate forming the decoder.

また、デコーダは2n個のANDゲートで構成されるの
で、結局、スルーホールの数は、全部でn×2n個とな
る。(第2図の場合は、n=2の場合に相当し、スルー
ホールの数は、全部で2×22=8個である。)ここで
、−例として、256にビット(ワード線=512本、
ビット線=512本、×1ビット構成)の半導体メモリ
を考えると、9ビツトのアドレスデータで、2’=51
2本のワード線をデコードすることになるので、上記ス
ルーホールの数は、 9 X 2’=4608個と極め
て多くなる。
Furthermore, since the decoder is composed of 2n AND gates, the total number of through holes is n×2n. (The case in Figure 2 corresponds to the case where n = 2, and the total number of through holes is 2 x 22 = 8.) Here, as an example, 256 bits (word line = 512 Book,
Considering a semiconductor memory with bit lines = 512, x 1 bit configuration), 2' = 51 with 9-bit address data.
Since two word lines are to be decoded, the number of through holes is extremely large, 9 x 2'=4608.

これは、メモセルアレー周辺の回路の配線面積の増加を
もたらし、半導体メモリの高集積化を妨げていた。
This has led to an increase in the wiring area of circuits around the memo cell array, and has hindered higher integration of semiconductor memories.

本発明の目的は、メモリセルアレー周辺の回路の配線面
積を低減し、高集積化を図ることができるようにデコー
ダを構成した半導体メモリを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory in which a decoder is configured so as to reduce the wiring area of a circuit around a memory cell array and achieve high integration.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するために、本発明の半導体メモリは、
アドレスデータをデコードするデコーダを、含んでなる
半導体メモリにおいて、交番2進コードをアドレスデー
タとして入力したときに、メモリセルアレー内のワード
線またはビット線の選択される順番が、該メモリセルア
レー内の任意のワード線またはビット線から始まり、該
メモリセルアレー内でワード線またはビット線が配置さ
れた順番に選択されていき、かつ、該メモリセルアレー
内の端のワード線またはビット線が選択された後は、該
メモリセルアレーの他端のワード線またはビット線が選
択されるように上記デコーダが構成されていることを特
徴とする。
In order to achieve the above object, the semiconductor memory of the present invention includes:
In a semiconductor memory that includes a decoder that decodes address data, when an alternating binary code is input as address data, the order in which word lines or bit lines in a memory cell array are selected is Starting with any word line or bit line in the memory cell array, the word lines or bit lines are selected in the order in which they are arranged in the memory cell array, and the end word line or bit line in the memory cell array is selected. The decoder is characterized in that the decoder is configured to select the word line or bit line at the other end of the memory cell array after the memory cell array is selected.

〔作用〕[Effect]

nビット(nは、2以上の整数)のアドレスデータで、
2n本のワード線をデコードする場合、上記のようにデ
コーダを構成すると、デコーダを構成するANDゲート
の内、°デコーダの一番端に位置するANDゲートはn
個、その他のANDゲートは、1つ当り1個のスルーホ
ールしか必要でない。このため、スルーホールの数は、
全部でnX1+IX (2°−1)=n+2°−1個と
なる(従来は、nX2”個)。ここで、−例として、2
56にビット(ワード線=512本、ビット線=512
本、×1ビット構成)の半導体メモリを考えると、9ビ
ツトのアドレスデータで、  2’=512本のワード
線をデコードすることになるので、上記スルーホールの
数は、9+2’−1=520個となる。
Address data of n bits (n is an integer of 2 or more),
When decoding 2n word lines, if the decoder is configured as described above, the AND gate located at the end of the decoder among the AND gates configuring the decoder is n.
Other AND gates require only one through hole each. Therefore, the number of through holes is
The total number is nX1+IX (2°-1) = n+2°-1 (conventionally, nX2"). Here, as an example, 2
56 bits (word line = 512 lines, bit line = 512 lines)
Considering a semiconductor memory with a 1-bit configuration, 2'=512 word lines are decoded with 9-bit address data, so the number of through holes is 9+2'-1=520. become individual.

すなわち、従来の4608個に比較して、約1/9に低
減され、その分、メモリセルアレー周辺の回路の配線面
積を低減でき、高集積化を図ることができる。
That is, compared to the conventional 4608, the number is reduced to about 1/9, and the wiring area of the circuit around the memory cell array can be reduced by that much, making it possible to achieve high integration.

〔実施例〕〔Example〕

実施例 1 第1図は1本発明の第1の実施例を示す図であり、半導
体メモリにおけるデコーダの構成方法を示している。こ
こでは、説明を簡単にするために、2ビツトのアドレス
データで、4本のワード線をデコードする場合を示して
いる6本実施例と第2図に示す従来例との違いは、従来
、純2進コードをアドレスデータとして入力した時に、
ワード線が順番に選択されるようにデコーダを構成して
いたのに対し、本実施例では、交番2進コードをアドレ
スデータとして入力した時に、ワード線が順番に選択さ
れるようにデコーダを構成している点である。このよう
にデコーダを構成すると、デコーダ内の隣接するAND
ゲートの入力線は、1本を除いて、全て共通にできる。
Embodiment 1 FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention, and shows a method of configuring a decoder in a semiconductor memory. Here, to simplify the explanation, the differences between the six embodiments, which show the case of decoding four word lines with 2-bit address data, and the conventional example shown in FIG. When inputting pure binary code as address data,
Whereas the decoder was configured so that word lines were selected in order, in this embodiment, the decoder is configured so that word lines are selected in order when an alternating binary code is input as address data. This is what we are doing. By configuring the decoder in this way, adjacent ANDs in the decoder
All gate input lines except one can be made common.

すなわち、ANDゲートG1とANDゲートG2に着目
すると、ANDゲートG1の入力線に接続すべきデコー
ダ線はA、Bであり、ANDゲートG2の入力線に接続
すべきデコーダ線はA、Bであるので、ANDゲートG
1とANDゲートG2では、デコーダ線Bと接続すべき
入力線を共通にできる。また、ANDゲートG2とAN
DゲートG3に着目すると、ANDゲートG2の入力線
に接続すべきデコーダ線はA、Bであり、ANDゲート
G3の入力線に接続すべきデコーダ線はA、Bであるの
で、デコーダ線Aと接続すべき入力線を共通にできる。
That is, focusing on AND gate G1 and AND gate G2, the decoder lines that should be connected to the input line of AND gate G1 are A and B, and the decoder lines that should be connected to the input line of AND gate G2 are A and B. Therefore, AND gate G
1 and the AND gate G2, the input line to be connected to the decoder line B can be shared. Also, AND gate G2 and AN
Focusing on D gate G3, the decoder lines that should be connected to the input line of AND gate G2 are A and B, and the decoder lines that should be connected to the input line of AND gate G3 are A and B, so decoder line A and The input lines to be connected can be shared.

ANDゲートG3とANDNOゲートについても同様で
、デコーダ線Bと接続すべき入力線を共通にできる。よ
って、デコーダ線とデコーダ入力線とを接続するスルー
ホールの数は、デコーダの一番端に位置するANDゲー
トG1は2個、その他のANDゲートは、1つ当り1個
のスルーホールしか必要でない。このため、スルーホー
ルの数は。
The same applies to the AND gate G3 and the ANDNO gate, and the input line to be connected to the decoder line B can be shared. Therefore, the number of through holes connecting the decoder line and the decoder input line is two for the AND gate G1 located at the end of the decoder, and only one through hole for each of the other AND gates. . Therefore, the number of through holes.

全部で5個となり、従来の8個に比較して、5/8に低
減される。よって、その分デコーダ入力線の配線数も減
少し、図示しないメモリセルアレーの周辺の回路の配線
面積を低減でき、高集積化を図ることができる。
There are five in total, which is reduced to 5/8 compared to the conventional eight. Therefore, the number of decoder input lines is reduced accordingly, and the wiring area of the peripheral circuits of the memory cell array (not shown) can be reduced, and higher integration can be achieved.

実施例 2 第3図は、本発明の第2の実施例を示す図であり、半導
体メモリにおける。バイポーラトランジスタを用いたデ
コーダの構成方法を示している。
Embodiment 2 FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment of the present invention, in a semiconductor memory. A method of configuring a decoder using bipolar transistors is shown.

ここでは、説明を簡単にするために、2ビツトのアドレ
スデータで、4本のワード線をデコードする場合を示し
ている。本実施例では、第1図とは異なり、デコーダ2
を構成する論理ゲートとして、バイポーラトランジスタ
Q1、Q2、Q3またはQ4、Q5.Q6またはQ7、
Q8、Q9またはQIO,Qll、Q12からなるNO
Rゲートを使用しているが1本発明の効果に関する上記
議論は同様に成立する。すなわち、デコーダ内の隣接す
るNORゲートの入力線は、1本を除いて、全て共通に
できる。すなわち、トランジスタQ2とQ5.Q4とQ
7、Q8とQllのベース配線をそれぞれ共通にできる
。よって、デコーダ線とデコーダ入力線とを接続するス
ルーホールの数は、デコーダの一番端に位置するNOR
ゲートは2個、その他のNORゲートは、1つ当り1個
のスルーホールしか必要でない、このため、スルーホー
ルの数は、全部で5個となり、従来の8個に比較して、
5/8に低減される。よって、その分デコーダ入力線の
配線数も減少し、メモリセルアレー周辺の回路の配線面
積を低減でき、高集積化を図ることができる。
Here, to simplify the explanation, a case is shown in which four word lines are decoded using 2-bit address data. In this embodiment, unlike FIG. 1, the decoder 2
Bipolar transistors Q1, Q2, Q3 or Q4, Q5 . Q6 or Q7,
NO consisting of Q8, Q9 or QIO, Qll, Q12
Although the R gate is used, the above discussion regarding the effects of the present invention holds true in the same way. That is, all but one input line of adjacent NOR gates in the decoder can be made common. That is, transistors Q2 and Q5. Q4 and Q
7. The base wiring for Q8 and Qll can be shared. Therefore, the number of through holes connecting the decoder line and the decoder input line is the same as the NOR located at the end of the decoder.
Two gates are required, and each other NOR gate requires only one through hole. Therefore, the number of through holes is five in total, compared to the conventional eight.
Reduced to 5/8. Therefore, the number of decoder input lines is reduced accordingly, the wiring area of the circuit around the memory cell array can be reduced, and high integration can be achieved.

実施例 3 第4図は1本発明の第3の実施例を示す図であり、第3
図に示すデコーダのレイアウト例を示している。なお、
ここでは、デコーダ線(AL2:2層目アルミニウム)
、デコーダ入力線(ALL:1層目アルミニウム)、デ
コーダ線とデコーダ入力線を接続するスルーホール(T
HI:1層目アルミニウムと2層目アルミニウムを接続
するスルーホール)およびデコーダを構成するバイポー
ラトランジスタ(Ql〜Q12)を示している。本実施
例でも、本発明により、トランジスタQ2とQ5.Q4
とQ7、Q8とQllのベース配線をそれぞれ共通にで
きるので、THlの数は低減されている。よって、その
分デコーダ入力線の配線数も減少し、メモリセルアレー
周辺の回路の配線面積を低減でき、高集積化を図ること
ができる。
Embodiment 3 FIG. 4 is a diagram showing a third embodiment of the present invention.
An example layout of the decoder shown in the figure is shown. In addition,
Here, the decoder line (AL2: second layer aluminum)
, decoder input line (ALL: 1st layer aluminum), through hole (T
HI: through hole connecting first layer aluminum and second layer aluminum) and bipolar transistors (Q1 to Q12) forming the decoder. In this embodiment as well, according to the present invention, transistors Q2 and Q5. Q4
Since the base wiring of Q7, Q8 and Qll can be made common, the number of THLs is reduced. Therefore, the number of decoder input lines is reduced accordingly, the wiring area of the circuit around the memory cell array can be reduced, and high integration can be achieved.

さらに、本実施例の特徴は、トランジスタQ2とQ5、
Q4とQ7、Q8とQllのベースをベース電極引き出
し用の多結晶シリコン(poly−8i)で接続してい
る点である。このようにすると、ベース電極引き出し用
のpoly−8iとALlを接続するコンタクトホール
(CONT)も、共通にできるので、その分、さらにメ
モリセルアレー周辺の回路の配線面積を低減できる。さ
らに、本実施例では、トランジスタQ1とQ2、Q4と
Q5、Q7とQ8、QIOとQllのコレクタは、それ
ぞれ共通に抵抗R1、R2、R3,R4に接続されるの
で、コレクタを構成するnf埋込層をそれぞれ共通にし
、C1、C2、C3、C4(コレクタ)で共通に引き上
げている。また、トランジスタQ3とQ6とQ9とQ1
2のベースをベース電極引き出し用の多結晶シリコン(
poly−3i)で共通に参照電圧VBB2に接続し、
また、トランジスタQ3とQ6とQ9とQ12のコレク
タを構成するnf埋込層を共通にし、CO(コレクタ)
で共通に引き上げ、メモリセルアレー周辺の回路の配線
面積を低減している。
Furthermore, the feature of this embodiment is that transistors Q2 and Q5,
The point is that the bases of Q4 and Q7, and Q8 and Qll are connected with polycrystalline silicon (poly-8i) for leading out the base electrode. In this way, the contact hole (CONT) connecting poly-8i for drawing out the base electrode and AL1 can also be shared, so that the wiring area of the circuit around the memory cell array can be further reduced. Furthermore, in this embodiment, the collectors of transistors Q1 and Q2, Q4 and Q5, Q7 and Q8, and QIO and Qll are commonly connected to resistors R1, R2, R3, and R4, so The containing layers are made common to each other, and C1, C2, C3, and C4 (collectors) are raised in common. Also, transistors Q3, Q6, Q9, and Q1
The base of 2 is made of polycrystalline silicon (
poly-3i) and commonly connected to the reference voltage VBB2,
In addition, the nf buried layer constituting the collectors of transistors Q3, Q6, Q9, and Q12 is made common, and the CO (collector)
This reduces the wiring area of circuits around the memory cell array.

実施例 4 第5図は、本発明の第4の実施例を示す図であり、半導
体メモリにおける、MOSトランジスタを用いたデコー
ダの構成方法を示している。ここでは、説明を簡単にす
るために、2ビツトのアドレスデータで、4本のワード
線をデコードする場合を示している。本実施例では、第
1図とは異なり、デコーダ2を構成する論理ゲートとし
て、MOSトランジスタT1、T2.T3またはT4゜
T5、T6またはT7、T8、T9またはTl01Tl
l、T12からなるNANDゲートを使用しているが、
本発明の効果に関する上記議論は同様に成立する。すな
わち、デコーダ内の隣接するNANDゲートの入力線は
、1本を除いて、全て共通にできる。すなわち、トラン
ジスタT3とT5゜T6とT8.T9とTllのゲート
配線をそれぞれ共通にでき、その分、メモリセルアレー
周辺の回路の配線面積を低減でき、高集積化を図ること
ができる。
Embodiment 4 FIG. 5 is a diagram showing a fourth embodiment of the present invention, and shows a method of configuring a decoder using MOS transistors in a semiconductor memory. Here, to simplify the explanation, a case is shown in which four word lines are decoded using 2-bit address data. In this embodiment, unlike in FIG. 1, MOS transistors T1, T2 . T3 or T4゜T5, T6 or T7, T8, T9 or Tl01Tl
I am using a NAND gate consisting of T12.
The above discussion regarding the effects of the present invention holds true as well. That is, all but one input line of adjacent NAND gates in the decoder can be made common. That is, transistors T3 and T5, T6 and T8. The gate wiring for T9 and Tll can be made common, and the wiring area of the circuit around the memory cell array can be reduced accordingly, allowing for higher integration.

実施例 5 第6図は1本発明の第5の実施例を示す図であり、半導
体メモリにおけるlMOSトランジスタおよびバイポー
ラトランジスタを用いたデコーダの構成方法を示してい
る。ここでは、説明を簡単にするために、2ビツトのア
ドレスデータで、4本のワード線をデコードする場合を
示している。
Embodiment 5 FIG. 6 is a diagram showing a fifth embodiment of the present invention, and shows a method of configuring a decoder using IMOS transistors and bipolar transistors in a semiconductor memory. Here, to simplify the explanation, a case is shown in which four word lines are decoded using 2-bit address data.

本実施例では、第5図と同様に、デコーダ2を構成する
論理ゲートとして、NANDゲートを使用しており、本
発明の効果に関する上記議論が同様に成立する。すなわ
ち、デコーダ内の隣接するNANDゲートの入力線は、
1本を除いて、全て共通にでき、その分、メモリセルア
レー周辺の回路の配線面積を低減でき、高集積化を図る
ことができる。
In this embodiment, as in FIG. 5, a NAND gate is used as the logic gate constituting the decoder 2, and the above discussion regarding the effects of the present invention holds true in the same way. That is, the input lines of adjacent NAND gates in the decoder are
All except one can be made common, and accordingly, the wiring area of the circuit around the memory cell array can be reduced, and higher integration can be achieved.

実施例 6 第7図は、本発明の第6の実施例を示す図であり、半導
体メモリにおけるデコーダの構成方法を示している1本
実施例と、第1図の実施例との違いは、第1図では、2
ビツトのアドレスデータで。
Embodiment 6 FIG. 7 is a diagram showing a sixth embodiment of the present invention. The differences between this embodiment, which shows a method of configuring a decoder in a semiconductor memory, and the embodiment of FIG. 1 are as follows. In Figure 1, 2
With bit address data.

4本のワード線をデコードしていたのに対し、本実施例
では、3ビツトのアドレスデータで、8本のワード線を
デコードしている点のみである6よって1本発明の効果
に関する上記議論は同様に成立する。すなわち、デコー
ダ内の隣接するANDゲートの入力線は、1本を除いて
、全て共通にでき、その分、メモリセルアレー周辺の回
路の配線面積を低減でき、高集積化を図ることができる
Whereas four word lines were decoded, in this embodiment, eight word lines are decoded using 3-bit address data.6Thus, the above discussion regarding the effects of the present invention holds true in the same way. In other words, all but one of the input lines of adjacent AND gates in the decoder can be made common, and accordingly, the wiring area of the circuit around the memory cell array can be reduced, and higher integration can be achieved.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、nビット(nは
、2以上の整数)のアドレスデータで、2n本のワード
線をデコードする場合、デコーダ線とデコーダ入力線と
を接続するスルーホールの数に着目すると、デコーダを
構成するANDゲートの内、デコーダの一番端に位置す
るA N Dゲートはn個、その他のANDゲートは、
1つ当り1個しか必要でない。このため、スルーホール
の数は、全部でnX1+IX (2n−1)=n+2”
−1個となり(従来は、nx2′′個)、例えば、25
6にビット(ワード線=512本、ビット線2512本
、×1ビット構成)の半導体メモリを考えると、9ビツ
トのアドレスデータで、2’=512本のワード線をデ
コードすることになるので、上記スルーホールの数は、
9+29−1=520個となる。すなわち、従来の46
08個に比較して、約1/9に低減され、その分、メモ
リセルアレー周辺の回路の配線面積を低減でき、高集積
化を図ることができる。
As explained above, according to the present invention, when 2n word lines are decoded using n-bit address data (n is an integer of 2 or more), a through-hole connecting a decoder line and a decoder input line is provided. Focusing on the number of AND gates that make up the decoder, the number of AND gates located at the end of the decoder is n, and the other AND gates are:
Only one piece is required for each. Therefore, the total number of through holes is nX1+IX (2n-1)=n+2"
-1 (previously nx2''), for example, 25
Considering a semiconductor memory with 6 bits (word lines = 512, bit lines 2512, x 1 bit configuration), 2' = 512 word lines will be decoded with 9 bit address data, so The number of through holes above is
9+29-1=520 pieces. In other words, the conventional 46
The wiring area of the circuit around the memory cell array can be reduced by that much, and higher integration can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は1本発明の半導体メモリの第1の実施例を示す
論理ゲートの配置図、第2図は、従来例の半導体メモリ
を示す論理ゲートの配置図、第3図は1本発明の第2の
実施例を示す回路配置図、第4図は、本発明の第3の実
施例を示すレイアウト図、第5図、第6図は、それぞれ
本発明の第4、第5の実施例を示す回路配置図7第7図
は、本発明の第6の実施例を示す論理ゲート配置図であ
る。 1・・・アドレスバッファ 2・・・デコーダ3・・・
デコーダ線    4・・・デコーダ入力線5・・・ス
ルーホール   A、B・・・アドレスデータG1〜G
4・・・ANDゲート
FIG. 1 is a layout diagram of logic gates showing a first embodiment of a semiconductor memory according to the present invention, FIG. 2 is a layout diagram of logic gates showing a conventional semiconductor memory, and FIG. FIG. 4 is a circuit layout diagram showing the second embodiment, FIG. 4 is a layout diagram showing the third embodiment of the present invention, and FIGS. 5 and 6 are respectively the fourth and fifth embodiments of the present invention. FIG. 7 is a logic gate layout diagram showing a sixth embodiment of the present invention. 1...Address buffer 2...Decoder 3...
Decoder line 4...Decoder input line 5...Through hole A, B...Address data G1-G
4...AND gate

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、アドレスデータをデコードするデコーダを含んでな
る半導体メモリにおいて、交番2進コードをアドレスデ
ータとして入力したときに、メモリセルアレー内のワー
ド線またはビット線の選択される順番が、該メモリセル
アレー内の任意のワード線またはビット線から始まり、
該メモリセルアレー内でワード線またはビット線が配置
された順番に選択されていき、かつ、該メモリセルアレ
ー内の端のワード線またはビット線が選択された後は、
該メモリセルアレーの他端のワード線またはビット線が
選択されるように上記デコーダが構成されていることを
特徴とする半導体メモリ。 2、隣接する2本のワード線またはビット線をそれぞれ
選択するアドレスデータのハミング距離が1であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体メモリ
。 3、上記デコーダが、アドレスデータが入力される複数
の入力端子を有する複数の論理ゲートで構成されており
、隣接する論理ゲートの入力端子の少なくとも1つが共
通に接続されていることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の半導体メモリ。 4、上記論理ゲートが、少なくとも1個のバイポーラト
ランジスタを含む回路で構成されており、隣接する上記
論理ゲートの入力端子どうしの接続は、バイポーラトラ
ンジスタのベース電極引き出し用の多結晶シリコン層で
なされていることを特徴とする特許請求の範囲第3項記
載の半導体メモリ。 5、上記論理ゲートが、少なくとも1個のMOSトラン
ジスタを含む回路で構成されており、隣接する上記論理
ゲートの入力端子どうしの接続は、MOSトランジスタ
のゲート電極でなされていることを特徴とする半導体メ
モリ。
[Claims] 1. In a semiconductor memory including a decoder for decoding address data, the order in which word lines or bit lines in a memory cell array are selected when an alternating binary code is input as address data. starts from any word line or bit line in the memory cell array,
Word lines or bit lines are selected in the order in which they are arranged in the memory cell array, and after the end word line or bit line in the memory cell array is selected,
A semiconductor memory characterized in that the decoder is configured so that a word line or a bit line at the other end of the memory cell array is selected. 2. The semiconductor memory according to claim 1, wherein the Hamming distance of address data for selecting two adjacent word lines or bit lines is 1. 3. The decoder is composed of a plurality of logic gates having a plurality of input terminals into which address data is input, and at least one of the input terminals of adjacent logic gates is connected in common. A semiconductor memory according to claim 1. 4. The logic gate is composed of a circuit including at least one bipolar transistor, and the input terminals of adjacent logic gates are connected to each other by a polycrystalline silicon layer for leading out the base electrode of the bipolar transistor. 4. A semiconductor memory according to claim 3, characterized in that: 5. A semiconductor characterized in that the logic gate is constituted by a circuit including at least one MOS transistor, and input terminals of adjacent logic gates are connected to each other by gate electrodes of the MOS transistors. memory.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6194291A (en) * 1984-10-15 1986-05-13 Fujitsu Ltd Semiconductor memory

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