JPH07296589A - Semiconductor storage - Google Patents

Semiconductor storage

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Publication number
JPH07296589A
JPH07296589A JP6083486A JP8348694A JPH07296589A JP H07296589 A JPH07296589 A JP H07296589A JP 6083486 A JP6083486 A JP 6083486A JP 8348694 A JP8348694 A JP 8348694A JP H07296589 A JPH07296589 A JP H07296589A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
bit line
word line
memory cells
bit lines
Prior art date
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Pending
Application number
JP6083486A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryuichi Matsuo
龍一 松尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP6083486A priority Critical patent/JPH07296589A/en
Publication of JPH07296589A publication Critical patent/JPH07296589A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To reduce occupancy area of a bit line and to improve an integrated degree of a memory cell array by sharing the bit line to memory cells adjacent in the direction of column. CONSTITUTION:The memory cells M1 and M2 adjacent in the direction of row are connected to word lines WL0, WL1 alternately, and constitute access gate transistors 2 and 3. When the cell M1 is selected, the word line WL0 and complementary bit lines B0,/B0 are used, and an address (0, 0) is shown. Further, when the cell M2 is selected, the word line WL1 and the complementary bit lines B1,/B1 are used, and the address (1, 1) is shown. Then, when the complementary bit lines B0,/B0, an even address may be selected as the word line always, and when the complementary bit lines B1,/B1, an odd address may be selected as the word line always. Thus, the occupancy area of the bit line is reduced, and the area of the memory cell array is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、隣接するメモリセル
間のビット線を共用することにより、集積度を高めたス
タティックRAM(以下、SRAMという。)等の半導
体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device such as a static RAM (hereinafter referred to as SRAM) having a higher degree of integration by sharing a bit line between adjacent memory cells.

【0002】[0002]

【従来の技術】SRAMの開発は、1969年に始まっ
た。それ以来、ダイナミックRAM(以下、DRAMと
いう。)に比べて集積度が約1/4で価格が高いという
欠点をもちながらも、リフレッシュ動作がいらず、動作
タイミングが容易なため、その需要は急速に広まってき
た。
BACKGROUND OF THE INVENTION The development of SRAM began in 1969. Since then, the demand is rapid because the refresh operation is unnecessary and the operation timing is easy, even though it has the disadvantage that the integration degree is about 1/4 and the cost is higher than that of the dynamic RAM (hereinafter referred to as DRAM). Has spread to.

【0003】従来の半導体記憶装置の構成について図面
を参照しながら説明する。まず、相補ビット線を用いた
SRAMについて図6及び図7を参照しながら説明す
る。図6は、1つのメモリセル毎に2本のビット線をつ
なぐ相補ビット線を用いた従来のSRAMを示す図であ
る。また、図7は、図6のメモリセルの構成を示す図で
ある。
The structure of a conventional semiconductor memory device will be described with reference to the drawings. First, an SRAM using complementary bit lines will be described with reference to FIGS. 6 and 7. FIG. 6 is a diagram showing a conventional SRAM using complementary bit lines that connect two bit lines to each memory cell. FIG. 7 is a diagram showing the configuration of the memory cell of FIG.

【0004】図6において、1はメモリセル(M1〜M
9)、2及び3はメモリセル1のアクセスゲートトラン
ジスタである。また、WL0、WL1、WL2はポリシ
リコン配線などからなるワード線、B0と/B0、B1
と/B1、B2と/B2はアルミ配線などからなる相補
ビット線である。
In FIG. 6, 1 is a memory cell (M1 to M
9) 2 and 3 are access gate transistors of the memory cell 1. In addition, WL0, WL1 and WL2 are word lines made of polysilicon wiring, B0 and / B0 and B1.
And / B1 and B2 and / B2 are complementary bit lines made of aluminum wiring or the like.

【0005】図7において、4及び5は電源Vcc、6
及び7は負荷素子となる高抵抗、8及び9はメモリノー
ド、10及び11はメモリセル1のドライバトランジス
タ、12及び13はGNDである。なお、WLはワード
線、Bと/Bは相補ビット線である。
In FIG. 7, 4 and 5 are power supplies Vcc and 6
Reference numerals 7 and 7 are high resistances serving as load elements, 8 and 9 are memory nodes, 10 and 11 are driver transistors of the memory cell 1, and 12 and 13 are GND. Note that WL is a word line, and B and / B are complementary bit lines.

【0006】つぎに、シングルビット線を用いたSRA
Mについて図8及び図9を参照しながら説明する。図8
は、1つのメモリセル毎に1本のビット線をつなぐシン
グルビット線を用いた従来のSRAMを示す図である。
また、図9は、図8のメモリセルの構成を示す図であ
る。
Next, SRA using a single bit line
M will be described with reference to FIGS. 8 and 9. Figure 8
FIG. 6 is a diagram showing a conventional SRAM using a single bit line that connects one bit line to each memory cell.
Further, FIG. 9 is a diagram showing a configuration of the memory cell of FIG.

【0007】図8において、1はメモリセル(M1〜M
9)、2はメモリセル1のアクセスゲートトランジスタ
である。また、WL0、WL1、WL2、WL3はポリ
シリコン配線などからなるワード線、B0、B1、B
2、B3はアルミ配線などからなるシングルビット線で
ある。
In FIG. 8, 1 is a memory cell (M1 to M
9) and 2 are access gate transistors of the memory cell 1. Also, WL0, WL1, WL2, and WL3 are word lines made of polysilicon wiring, B0, B1, and B.
2 and B3 are single bit lines made of aluminum wiring or the like.

【0008】図9において、4及び5は電源Vcc、6
及び7は負荷素子となる高抵抗、8及び9はメモリノー
ド、10及び11はメモリセル1のドライバトランジス
タ、12及び13はGNDである。なお、WLはワード
線、Bはシングルビット線である。
In FIG. 9, 4 and 5 are power supplies Vcc and 6
Reference numerals 7 and 7 are high resistances serving as load elements, 8 and 9 are memory nodes, 10 and 11 are driver transistors of the memory cell 1, and 12 and 13 are GND. In addition, WL is a word line and B is a single bit line.

【0009】上述した従来のSRAMは、メモリセル1
の各列(ロー)(例えば、図6のM1、M4、M7、あ
るいは図8のM1、M4、M7)に対してそれぞれ2本
の相補ビット線B0、/B0、あるいは1本のシングル
ビット線B0を備えた構成となっているので、ワード線
と平行方向の寸法を小さくしたいときでもビット線のた
めに寸法を小さくすることができず、また行(カラム)
に対して列の数が多い場合には全体の寸法が大きくなる
という欠点があった。
The above-described conventional SRAM has the memory cell 1
Two complementary bit lines B0, / B0, or one single bit line for each column (row) (for example, M1, M4, M7 in FIG. 6 or M1, M4, M7 in FIG. 8). Since B0 is provided, the size cannot be reduced because of the bit line even when it is desired to reduce the size in the direction parallel to the word line.
On the other hand, when the number of rows is large, there is a drawback that the overall size becomes large.

【0010】そこで、ワード線と平行方向の寸法を小さ
くすることができ、また行に対して列の数が多い場合に
は全体の寸法を小さくすることができるSRAMが提案
された。次に、その提案されたSRAMを図10に示
す。図10は、例えば、特開平2−270194号公報
に示された相補ビット線を用いた従来の改良SRAMを
示す図である。
Therefore, an SRAM has been proposed in which the dimension in the direction parallel to the word lines can be reduced, and the overall dimension can be reduced when the number of columns is larger than the number of rows. Next, the proposed SRAM is shown in FIG. FIG. 10 is a diagram showing a conventional improved SRAM using complementary bit lines disclosed in, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-270194.

【0011】しかしながら、図10に示すSRAMは、
例えば、ワード線WL1をまたいでメモリセルM1、M
3のアクセスゲートトランジスタ2及び3を構成した
り、ワード線WL3をまたいでメモリセルM4、M6の
アクセスゲートトランジスタ2及び3を構成しているた
め、構造的に実現不可能である。
However, the SRAM shown in FIG.
For example, the memory cells M1, M straddling the word line WL1
It is structurally unrealizable because the access gate transistors 2 and 3 of No. 3 and the access gate transistors 2 and 3 of the memory cells M4 and M6 are formed across the word line WL3.

【0012】図11に示すように、ワード線WL1があ
るため、例えば、メモリセルM3をワード線WL1をま
たいでワード線WL0につなぐことはできない。つま
り、ポリシリコンからなるワード線に対してn+をセル
ファライン注入するため、ワード線下にn+が入らな
い。なお、14はコンタクトを示す。
Since the word line WL1 is provided as shown in FIG. 11, for example, the memory cell M3 cannot be connected to the word line WL0 across the word line WL1. That is, n + is injected into the word line made of polysilicon, so that n + does not enter below the word line. In addition, 14 shows a contact.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】上述したような従来の
半導体記憶装置では、1つのメモリセル毎に2本のビッ
ト線をつなぐ相補ビット線を用いたり、1つのメモリセ
ル毎に1本のビット線をつなぐシングルビット線を用い
たりしているため、メモリセルアレイの面積が大きいと
いう問題点があった。また、ビット線を共用にした従来
の半導体記憶装置では、ワード線をまたいでアクセスゲ
ートトランジスタを構成しようとしているが、構造的に
実現不可能であるという問題点があった。
In the conventional semiconductor memory device as described above, a complementary bit line connecting two bit lines for each memory cell is used, or one bit for each memory cell. Since a single bit line connecting the lines is used, there is a problem that the area of the memory cell array is large. Further, in the conventional semiconductor memory device in which the bit line is shared, the access gate transistor is attempted to be straddled over the word line, but there is a problem that it is structurally unrealizable.

【0014】この発明は、前述した問題点を解決するた
めになされたもので、金属配線で構成されているため、
パターン寸法を小さくすることが困難なビット線の占有
面積を減らしてメモリセルアレイの面積を小さくするこ
とができ、しかも構造的に実現可能な半導体記憶装置を
得ることを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and since it is composed of metal wiring,
An object of the present invention is to obtain a semiconductor memory device in which the area occupied by a bit line, which is difficult to reduce the pattern size, can be reduced to reduce the area of the memory cell array, and which can be structurally realized.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】この発明の請求項1に係
る半導体記憶装置は、カラム及びロー方向にマトリック
ス状に配列された複数のメモリセルから構成されるメモ
リセルアレイを有する半導体記憶装置において、前記カ
ラム方向に隣合うメモリセルに共用されたビット線と、
前記カラム方向の各メモリセルに対して交互に選択され
るワード線とを備えたものである。
A semiconductor memory device according to claim 1 of the present invention is a semiconductor memory device having a memory cell array composed of a plurality of memory cells arranged in a matrix in the column and row directions, A bit line shared by the memory cells adjacent in the column direction,
Word lines that are alternately selected for each memory cell in the column direction are provided.

【0016】この発明の請求項2に係る半導体記憶装置
は、カラム方向に隣合うメモリセルに共用された相補ビ
ット線と、前記各メモリセルを挟んだ2本組のワード線
とを備えたものである。
A semiconductor memory device according to a second aspect of the present invention comprises a complementary bit line shared by adjacent memory cells in the column direction, and two sets of word lines sandwiching each memory cell. Is.

【0017】この発明の請求項3に係る半導体記憶装置
は、カラム方向の奇数番目と偶数番目に隣合うメモリセ
ルに共用されたシングルビット線を備えたものである。
A semiconductor memory device according to a third aspect of the present invention includes a single bit line shared by odd-numbered and even-numbered adjacent memory cells in the column direction.

【0018】この発明の請求項4に係る半導体記憶装置
は、ビット線選択信号によりワード線を選択制御する回
路をさらに備えたものである。
A semiconductor memory device according to a fourth aspect of the present invention further comprises a circuit for selectively controlling a word line by a bit line selection signal.

【0019】[0019]

【作用】この発明の請求項1に係る半導体記憶装置にお
いては、ビット線がカラム方向に隣合うメモリセルに共
用されるので、ビット線の占有面積を減らしてメモリセ
ルアレイの集積度を高めることができる。
In the semiconductor memory device according to the first aspect of the present invention, since the bit line is shared by the memory cells adjacent to each other in the column direction, the occupied area of the bit line can be reduced and the integration degree of the memory cell array can be increased. it can.

【0020】この発明の請求項2に係る半導体記憶装置
においては、相補ビット線がカラム方向に隣合うメモリ
セルに共用されるので、相補ビット線の占有面積を減ら
してメモリセルアレイの集積度を高めることができる。
In the semiconductor memory device according to the second aspect of the present invention, since the complementary bit lines are shared by the memory cells adjacent in the column direction, the area occupied by the complementary bit lines is reduced and the integration degree of the memory cell array is increased. be able to.

【0021】この発明の請求項3に係る半導体記憶装置
においては、シングルビット線がカラム方向に隣合うメ
モリセルに共用されるので、シングルビット線の占有面
積を減らしてメモリセルアレイの集積度を高めることが
できる。
In the semiconductor memory device according to the third aspect of the present invention, since the single bit line is shared by the memory cells adjacent in the column direction, the area occupied by the single bit line is reduced and the integration degree of the memory cell array is increased. be able to.

【0022】この発明の請求項4に係る半導体記憶装置
においては、ビット線選択信号によりワード線を選択制
御できるので、ビット線を共用したときの動作タイミン
グを簡単にできる。
In the semiconductor memory device according to the fourth aspect of the present invention, since the word line can be selectively controlled by the bit line selection signal, the operation timing when the bit line is shared can be simplified.

【0023】[0023]

【実施例】【Example】

実施例1.この発明の実施例1の構成について図1を参
照しながら説明する。図1は、この発明の実施例1に係
る相補ビット線を用いたSRAMの構成を示す図であ
り、相補ビット線以外の構成は上述した図6の従来装置
のものと同様である。なお、各図中、同一符号は同一又
は相当部分を示す。
Example 1. The configuration of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1 is a diagram showing a structure of an SRAM using complementary bit lines according to a first embodiment of the present invention. The structure other than the complementary bit lines is the same as that of the conventional device of FIG. 6 described above. In each figure, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

【0024】図1において、相補ビット線/B0とB
1、/B1とB2、/B2とB3が共用にされており、
以下、相補ビット線がカラム方向に隣合うメモリセルに
共用されるのは同様である。
In FIG. 1, complementary bit lines / B0 and B0
1, / B1 and B2, / B2 and B3 are shared,
Hereinafter, it is the same that the complementary bit lines are shared by the memory cells adjacent in the column direction.

【0025】図1から解るように、行(カラム)方向に
隣合うメモリセル1、例えばメモリセルM1とM2は、
上下のワード線WL0、WL1に交互に接続してアクセ
スゲートトランジスタ2及び3を構成するようにしたの
で、ワード線をまたいで構成することがない。従って、
この実施例1は、相補ビット線の数が減り、それに伴い
メモリセルアレイの面積を小さくできると共に、ワード
線をまたいでアクセスゲートトランジスタを構成する必
要がないので構造的に実現可能である。
As can be seen from FIG. 1, the memory cells 1 adjacent to each other in the row (column) direction, for example, the memory cells M1 and M2 are
Since the access gate transistors 2 and 3 are formed by alternately connecting to the upper and lower word lines WL0 and WL1, the access gate transistors 2 and 3 are not formed across the word lines. Therefore,
The first embodiment can be structurally realized because the number of complementary bit lines is reduced, the area of the memory cell array can be reduced accordingly, and it is not necessary to form the access gate transistor across the word lines.

【0026】つぎに、前述した実施例1の動作について
図2を参照しながら説明する。図2は、この発明の実施
例1のメモリセルのデコーダ方式を説明するための図で
ある。
Next, the operation of the above-described first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram for explaining the memory cell decoder system according to the first embodiment of the present invention.

【0027】図2は、例えば、メモリセルM1を選択す
る場合は、ワード線WL0と相補ビット線B0、/B0
を使用し、番地「0,0」と表す。また、例えば、メモ
リセルM2を選択する場合は、ワード線WL1と相補ビ
ット線B1、/B1を使用し、番地「1,1」と表す。
以下、他のメモリセルを選択する場合も同様である。
In FIG. 2, for example, when the memory cell M1 is selected, the word line WL0 and the complementary bit lines B0 and / B0 are selected.
Is used and is represented as an address "0,0". Further, for example, when the memory cell M2 is selected, the word line WL1 and the complementary bit lines B1 and / B1 are used and are represented by the address "1,1".
The same applies when other memory cells are selected.

【0028】ここで、相補ビット線B0、/B0で見る
と、番地が「0,0」、「2,0」、「4,0」、
「…」と並ぶ。また、相補ビット線B1、/B1で見る
と、番地が「1,1」、「3,1」、「5,1」、
「…」と並ぶ。
Here, looking at the complementary bit lines B0 and / B0, the addresses are "0,0", "2,0", "4,0",
Lined with "...". Also, when viewed from the complementary bit lines B1 and / B1, the addresses are "1,1", "3,1", "5,1",
Lined with "...".

【0029】すなわち、相補ビット線B0、/B0のと
きは、必ずワード線は偶数番地(WL0、WL2、WL
4、…)を選択すればよく、相補ビット線B1、/B1
のときは、必ずワード線は奇数番地(WL1、WL3、
WL5、…)を選択するようにすればよい。
That is, when the complementary bit lines B0 and / B0 are used, the word line must be an even address (WL0, WL2, WL).
4, ...) and complementary bit lines B1, / B1
, The word line must be an odd address (WL1, WL3,
WL5, ...) may be selected.

【0030】さらに、後で説明するように、これらのワ
ード線(WL0とWL1)、(WL2とWL3)、(W
L4とWL5)、(…偶数番地と奇数番地)の選択信号
は、同一のワード線ドライバ(デコーダ)から伝達され
る同一の信号であってもよい(一般に、スプリットワー
ド線という。)。
Further, as will be described later, these word lines (WL0 and WL1), (WL2 and WL3), (W
The selection signals of L4 and WL5) (... Even address and odd address) may be the same signal transmitted from the same word line driver (decoder) (generally referred to as split word line).

【0031】この実施例1によれば、マトリックス状の
メモリセルアレイの行方向で隣合うメモリセルの相補ビ
ット線を共用とし、ワード線の選択はこれら行方向で隣
合うメモリセルを交互に結線するようにしたので、相補
ビット線の本数を削減でき、メモリセルアレイの面積の
小さなSRAMを作ることができる。
According to the first embodiment, the complementary bit lines of the memory cells adjacent to each other in the row direction of the matrix memory cell array are shared, and the word lines are selected by alternately connecting the memory cells adjacent to each other in the row direction. As a result, the number of complementary bit lines can be reduced, and an SRAM having a small memory cell array area can be manufactured.

【0032】実施例2.この発明の実施例2の構成につ
いて図3を参照しながら説明する。図3は、この発明の
実施例2に係るシングルビット線を用いたSRAMの構
成を示す図であり、シングルビット線以外は上述した図
8の従来装置のものと同様である。なお、各図中、同一
符号は同一又は相当部分を示す。
Example 2. The configuration of the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram showing the configuration of an SRAM using a single bit line according to the second embodiment of the present invention, and is the same as that of the conventional device of FIG. 8 described above except for the single bit line. In each figure, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

【0033】図3において、シングルビット線B0、B
1が共用にされている。この実施例2は、実施例1に比
べてさらにビット線とワード線が半分になり、メモリセ
ルアレイのレイアウトパターンにも余裕ができる(線間
数が少なくなる)とともに、メモリセルアレイの面積を
小さくすることができる。
In FIG. 3, single bit lines B0 and B
1 is shared. In the second embodiment, the bit lines and the word lines are further halved as compared with the first embodiment, and the layout pattern of the memory cell array has a margin (the number of lines is reduced) and the area of the memory cell array is reduced. be able to.

【0034】図3において、例えば、メモリセルM1を
選択する場合は、ワード線WL0とシングルビット線B
0を使用する。また、メモリセルM2を選択する場合
は、ワード線WL1とシングルビット線B0を使用す
る。以下、他のメモリセルを選択する場合も同様であ
る。
In FIG. 3, for example, when the memory cell M1 is selected, the word line WL0 and the single bit line B are selected.
Use 0. When selecting the memory cell M2, the word line WL1 and the single bit line B0 are used. The same applies when other memory cells are selected.

【0035】実施例3.この発明の実施例3について図
4及び図5を参照しながら説明する。図4は、この発明
の実施例3の構成を示す図である。また、図5は、この
発明の実施例3の動作を説明するための図である。
Example 3. A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the third embodiment of the present invention. FIG. 5 is a diagram for explaining the operation of the third embodiment of the present invention.

【0036】図4において、15はY0アドレスバッフ
ァ、16はY0デコーダ、17はワード線ドライバ(デ
コーダ)である。また、18及び19はPチャネルトラ
ンジスタ、20及び21はNチャネルトランジスタであ
る。なお、メモリセル部分は実施例1と同じもので説明
する。
In FIG. 4, reference numeral 15 is a Y0 address buffer, 16 is a Y0 decoder, and 17 is a word line driver (decoder). Further, 18 and 19 are P-channel transistors, and 20 and 21 are N-channel transistors. The memory cell portion is the same as that of the first embodiment and will be described.

【0037】この実施例3は、ビット線を選択するため
のYアドレスを用いて、ワード線の2本のうちどちらか
一方をアクティブとするものである。図2にも示すよう
に、一般に、Yアドレス(下位)は、ビット線(カラム
方向)を選択デコードし、Xアドレス(上位)は、ワー
ド線(ロー方向)を選択デコードする。
In the third embodiment, one of two word lines is activated by using a Y address for selecting a bit line. As shown in FIG. 2, generally, the Y address (lower) selectively decodes the bit line (column direction), and the X address (upper) selectively decodes the word line (row direction).

【0038】図4に示す回路各部のレベルのマトリック
スをつくると図5のようになる。例えば、Y0アドレス
バッファ15の入力である、Y0入力が0(ローレベ
ル)のときは、Y0デコーダ16の出力であるY0及び
/Y0は、Y0=0、/Y0=1となる。
FIG. 5 shows the level matrix of each part of the circuit shown in FIG. For example, when the Y0 input, which is the input of the Y0 address buffer 15, is 0 (low level), the outputs Y0 and / Y0 of the Y0 decoder 16 are Y0 = 0 and / Y0 = 1.

【0039】そうすると、Pチャネルトランジスタ18
がON、Nチャネルトランジスタ20がOFFし、ワー
ド線ドライバ17の選択信号がワード線WL0に伝わり
アクティブとなる。なお、Pチャネルトランジスタ19
がOFF、Nチャネルトランジスタ21がONし、ワー
ド線WL1はGNDレベルとなり、非選択となる。
Then, the P-channel transistor 18
Is turned on, the N-channel transistor 20 is turned off, the selection signal of the word line driver 17 is transmitted to the word line WL0, and becomes active. The P-channel transistor 19
Is turned off, the N-channel transistor 21 is turned on, the word line WL1 becomes the GND level, and the word line WL1 is not selected.

【0040】一方、Y0入力が1(ハイレベル)のとき
には、以上の逆となる。このようにすれば、Yアドレス
の選択条件によって、ワード線の偶数番地又は奇数番地
を所望に選択することが可能となる。
On the other hand, when the Y0 input is 1 (high level), the above is reversed. By doing so, it becomes possible to select an even address or an odd address of the word line as desired depending on the selection condition of the Y address.

【0041】この実施例3は、以上のように動作タイミ
ングを簡単することができ、また、実施例2でも適用で
きる。図4に示すトランジスタ構成は、一例であり、ワ
ード線ドライバ17のロジック部に組み込んだり、メモ
リセル部の左右にワード線ドライバを接続し、個々にY
デコーダとロジックをとるようにしてもよい。
The third embodiment can simplify the operation timing as described above, and can be applied to the second embodiment. The transistor configuration shown in FIG. 4 is an example, and is incorporated in the logic portion of the word line driver 17, or the word line driver is connected to the left and right of the memory cell portion to individually set Y.
You may make it take a decoder and a logic.

【0042】[0042]

【発明の効果】この発明の請求項1に係る半導体記憶装
置は、以上説明したとおり、カラム及びロー方向にマト
リックス状に配列された複数のメモリセルから構成され
るメモリセルアレイを有する半導体記憶装置において、
前記カラム方向に隣合うメモリセルに共用されたビット
線と、前記カラム方向の各メモリセルに対して交互に選
択されるワード線とを備えたので、ビット線の占有面積
を減らしてメモリセルアレイの集積度を高めることがで
きるという効果を奏する。
As described above, the semiconductor memory device according to the first aspect of the present invention is a semiconductor memory device having a memory cell array composed of a plurality of memory cells arranged in a matrix in the column and row directions. ,
Since the bit lines shared by the memory cells adjacent to each other in the column direction and the word lines alternately selected for each memory cell in the column direction are provided, the area occupied by the bit lines is reduced to reduce the memory cell array size. This has the effect of increasing the degree of integration.

【0043】この発明の請求項2に係る半導体記憶装置
は、以上説明したとおり、カラム方向に隣合うメモリセ
ルに共用された相補ビット線と、前記各メモリセルを挟
んだ2本組のワード線とを備えたので、相補ビット線の
占有面積を減らしてメモリセルアレイの集積度を高める
ことができるという効果を奏する。
In the semiconductor memory device according to the second aspect of the present invention, as described above, the complementary bit line shared by the memory cells adjacent to each other in the column direction and the two word lines sandwiching each memory cell are provided. Since it is provided, the area occupied by the complementary bit lines can be reduced and the integration degree of the memory cell array can be increased.

【0044】この発明の請求項3に係る半導体記憶装置
は、以上説明したとおり、カラム方向の奇数番目と偶数
番目に隣合うメモリセルに共用されたシングルビット線
を備えたので、シングルビット線の占有面積を減らして
メモリセルアレイの集積度を高めることができるという
効果を奏する。
As described above, the semiconductor memory device according to the third aspect of the present invention includes the single bit line shared by the odd-numbered and even-numbered adjacent memory cells in the column direction. This has an effect that the occupied area can be reduced and the degree of integration of the memory cell array can be increased.

【0045】この発明の請求項4に係る半導体記憶装置
は、以上説明したとおり、ビット線選択信号によりワー
ド線を選択制御する回路をさらに備えたので、ビット線
を共用したときの動作タイミングを簡単にすることがで
きるという効果を奏する。
As described above, the semiconductor memory device according to the fourth aspect of the present invention further includes a circuit for selectively controlling the word line by the bit line selection signal, so that the operation timing when the bit line is shared is simple. There is an effect that can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の実施例1の構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a first embodiment of the present invention.

【図2】 この発明の実施例1の動作を説明するための
図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining the operation of the first embodiment of the present invention.

【図3】 この発明の実施例2の構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a second embodiment of the present invention.

【図4】 この発明の実施例3の構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a third embodiment of the present invention.

【図5】 この発明の実施例3の動作を説明するための
図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining the operation of the third embodiment of the present invention.

【図6】 従来の半導体記憶装置の構成を示す図であ
る。
FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a conventional semiconductor memory device.

【図7】 従来の半導体記憶装置のメモリセルの構成を
示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a memory cell of a conventional semiconductor memory device.

【図8】 他の従来の半導体記憶装置の構成を示す図で
ある。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of another conventional semiconductor memory device.

【図9】 他の従来の半導体記憶装置のメモリセルの構
成を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a memory cell of another conventional semiconductor memory device.

【図10】 他の従来の半導体記憶装置の構成を示す図
である。
FIG. 10 is a diagram showing a configuration of another conventional semiconductor memory device.

【図11】 図10の他の従来の半導体記憶装置の構造
を示す図である。
11 is a diagram showing the structure of another conventional semiconductor memory device of FIG.

【符号の説明】 1 メモリセル、2、3 アクセスゲートトランジス
タ、15 Y0アドレスバッファ、16 Y0デコー
ダ、17 ワード線ドライバ、18、19 Pチャネル
トランジスタ、20、21 Nチャネルトランジスタ。
[Description of Reference Signs] 1 memory cell, 2 and 3 access gate transistors, 15 Y0 address buffer, 16 Y0 decoder, 17 word line driver, 18, 19 P-channel transistor, 20, 21 N-channel transistor.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 カラム及びロー方向にマトリックス状に
配列された複数のメモリセルから構成されるメモリセル
アレイを有する半導体記憶装置において、前記カラム方
向に隣合うメモリセルに共用されたビット線、及び前記
カラム方向の各メモリセルに対して交互に選択されるワ
ード線を備えたことを特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device having a memory cell array composed of a plurality of memory cells arranged in a matrix in a column and row directions, and a bit line shared by memory cells adjacent in the column direction, and A semiconductor memory device comprising word lines alternately selected for respective memory cells in a column direction.
【請求項2】 前記ビット線は相補ビット線であり、か
つ前記ワード線は前記各メモリセルを挟んだ2本組であ
ることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the bit line is a complementary bit line, and the word line is a set of two sandwiching each memory cell.
【請求項3】 前記ビット線はシングルビット線であ
り、奇数番目と偶数番目のメモリセルに共用されること
を特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the bit line is a single bit line and is shared by odd-numbered memory cells and even-numbered memory cells.
【請求項4】 ビット線選択信号によりワード線を選択
制御する回路をさらに備えたことを特徴とする請求項1
から請求項3のいずれかに記載の半導体記憶装置。
4. The circuit according to claim 1, further comprising a circuit for selectively controlling a word line according to a bit line selection signal.
4. The semiconductor memory device according to claim 3.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0741388A2 (en) * 1995-05-02 1996-11-06 Motorola, Inc. Ferro-electric memory array architecture and method for forming the same
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KR20010062926A (en) * 1999-12-21 2001-07-09 박종섭 Semiconductor memory structure with neighboring memory cells to hold bit line in common
CN101923893A (en) * 2009-06-10 2010-12-22 台湾积体电路制造股份有限公司 Static random access memory array

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