JPH0269256A - サーマルヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
サーマルヘッドおよびその製造方法Info
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- JPH0269256A JPH0269256A JP22174388A JP22174388A JPH0269256A JP H0269256 A JPH0269256 A JP H0269256A JP 22174388 A JP22174388 A JP 22174388A JP 22174388 A JP22174388 A JP 22174388A JP H0269256 A JPH0269256 A JP H0269256A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/315—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
- B41J2/32—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
- B41J2/335—Structure of thermal heads
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、感熱記録等に用いるサーマルヘッドに関する
。
。
従来の技術
サーマルヘッドは、感熱紙、又は転写シートを介して記
録紙へ圧妾され、この状態で、記録用の這気信号によっ
て発熱体が選択的に発熱され、感熱紙または記録紙へ画
像等を記録するようになっている。
録紙へ圧妾され、この状態で、記録用の這気信号によっ
て発熱体が選択的に発熱され、感熱紙または記録紙へ画
像等を記録するようになっている。
従来のサーマルヘッドは、第3図だ示すようにガラスゲ
ノーズ層2を杉咬したアルミナ基板1上に、発熱体3の
膜[’ff14の膜を成膜し、所定のパターンをフォト
エツチング等の方法で形成した後に、1酎準耗保護膜5
を形成した構成である。
ノーズ層2を杉咬したアルミナ基板1上に、発熱体3の
膜[’ff14の膜を成膜し、所定のパターンをフォト
エツチング等の方法で形成した後に、1酎準耗保護膜5
を形成した構成である。
このようなサーマルヘッドておいて、・酎・摩耗保護膜
6/:Il、、感第紙等へ圧接して摺動させることから
生じる摩耗を防止するために耐項耗性に優れたことが要
求される。また1発熱体3で発熱した熱が記録紙へ伝わ
りやすいように熱伝導性が良く。
6/:Il、、感第紙等へ圧接して摺動させることから
生じる摩耗を防止するために耐項耗性に優れたことが要
求される。また1発熱体3で発熱した熱が記録紙へ伝わ
りやすいように熱伝導性が良く。
かつ、記録のための発熱の操り返しによる熱応力が加わ
ってもクラック等の破壊が生じないような靭性も要求さ
れる。まだ特に、熱転写記録で問題となる静電気が生じ
ないような膜であることも必要とされる。
ってもクラック等の破壊が生じないような靭性も要求さ
れる。まだ特に、熱転写記録で問題となる静電気が生じ
ないような膜であることも必要とされる。
発明が解決しようとする課題
従来のサーマルヘッドの保護膜5は、スパッタリングに
よるTa205膜やSiC膜、プラズマCVDによる5
i−N膜や5i−N−0膜が用いられている。
よるTa205膜やSiC膜、プラズマCVDによる5
i−N膜や5i−N−0膜が用いられている。
SiC膜は静電気を生じない程度の抵抗を有することか
ら熱転写記録での静電気てよる記録紙の走行不安定やヘ
ッドの破壊等の間項は生じないが。
ら熱転写記録での静電気てよる記録紙の走行不安定やヘ
ッドの破壊等の間項は生じないが。
SiCは化学的に活性であり、かつ、ある程度の導電性
を有するために感熱紙や転写シートに含まれるアルカリ
成分と電気化学的な摩耗を生じるという問題点を有して
いる。
を有するために感熱紙や転写シートに含まれるアルカリ
成分と電気化学的な摩耗を生じるという問題点を有して
いる。
Ta205膜や5i−N膜、5i−N−0膜は、電気化
学的な摩耗は生じず良好な附摩耗性を有するが、これら
の膜は絶縁物であり、従って、転写シートでの記録や乾
燥条件での記録において静電気が発生し、転写シートの
走行が不安定になり綺麗な記録が出来なくなったり、サ
ーマルヘッドの破壊が生じたりする問題点がある。
学的な摩耗は生じず良好な附摩耗性を有するが、これら
の膜は絶縁物であり、従って、転写シートでの記録や乾
燥条件での記録において静電気が発生し、転写シートの
走行が不安定になり綺麗な記録が出来なくなったり、サ
ーマルヘッドの破壊が生じたりする問題点がある。
課題を解決するだめの手段
これらの課題を解決するだめに本発明は、5l−N−C
化合物膜にB(ボロン)を添加したSニーN−1−B化
合物よりなる膜を耐摩耗用の保護膜としたものである。
化合物膜にB(ボロン)を添加したSニーN−1−B化
合物よりなる膜を耐摩耗用の保護膜としたものである。
サラに、 コノ5i−N−C−B膜をブーyスマC’l
/、Dにより作成することで生産性の向上も可能とした
ものである。
/、Dにより作成することで生産性の向上も可能とした
ものである。
作用
化学的安定性、熱的安定性が良好な5i−N−C化合物
膜にB(ボロン)を添加しだ5i−N−0−B化合物よ
りなる保護膜は、静電気の発生を防止でき、かつ、坩摩
耗性も良好な保護膜が実現でき、サーマルヘッドの信項
性の向上と良好な熱転写記録が得られる点に大きな効果
を有する。また。
膜にB(ボロン)を添加しだ5i−N−0−B化合物よ
りなる保護膜は、静電気の発生を防止でき、かつ、坩摩
耗性も良好な保護膜が実現でき、サーマルヘッドの信項
性の向上と良好な熱転写記録が得られる点に大きな効果
を有する。また。
本発明の保護膜は、生産性の良いプラズマCVDにより
作成できることから、サーマルヘッドの低コスト化にも
大きな効果がある。
作成できることから、サーマルヘッドの低コスト化にも
大きな効果がある。
実施例
(実、雉例1)
以下本発明の第1の実施例について説明する。
グレーズドアルミナ基板上に、Tie/SiO□ より
なる発熱体の膜、0r−Cu の2層よりなる電極の
膜をスパッタリングで形成し、サーマルヘッドとしての
所定のパターンをフォトリソ技術により作成した基板を
、平行平板型(容量結合型→プラズマCVD装置中に入
れ、導入ガスとしてSiH4を35 SCCm 、 C
2H4を35 SCCm 、 N2を1000scan
、 B2H6を12 Seemとし、基板温度を35
0℃とし、5i−N−C−B化合物よりなる保護膜を5
μmの膜厚で成7摸した。このようにして作成した5i
−N−0−B化合物よりなる保護膜を有するサーマルヘ
ッドは、第3図の従来例て示したものと構造的ては全く
同じである。このヘッドについて附熱パlレス特性を、
従来の5i−N−C;保護膜(Si、N4とSiC混合
スパッタ膜、特開昭59−111871)を有するサー
マルヘッドと比較した。この結果を第1図に示す。
なる発熱体の膜、0r−Cu の2層よりなる電極の
膜をスパッタリングで形成し、サーマルヘッドとしての
所定のパターンをフォトリソ技術により作成した基板を
、平行平板型(容量結合型→プラズマCVD装置中に入
れ、導入ガスとしてSiH4を35 SCCm 、 C
2H4を35 SCCm 、 N2を1000scan
、 B2H6を12 Seemとし、基板温度を35
0℃とし、5i−N−C−B化合物よりなる保護膜を5
μmの膜厚で成7摸した。このようにして作成した5i
−N−0−B化合物よりなる保護膜を有するサーマルヘ
ッドは、第3図の従来例て示したものと構造的ては全く
同じである。このヘッドについて附熱パlレス特性を、
従来の5i−N−C;保護膜(Si、N4とSiC混合
スパッタ膜、特開昭59−111871)を有するサー
マルヘッドと比較した。この結果を第1図に示す。
■は5i−N−1保護膜を有するサーマルへラドで、@
は本発明のサーマルヘッドの結果である。
は本発明のサーマルヘッドの結果である。
本実施例の保護膜は、従来の5i−N−C保護膜と比較
してほぼ同程度の耐熱パルス寿命を有していた。
してほぼ同程度の耐熱パルス寿命を有していた。
まだ、保護膜の硬度を測定した結果を表1に示す。
表1
Si−N−C−B化合物よシなる保護膜の硬度はスパッ
タで成膜しだ5i−N−C保護膜に比べてやや硬く、充
分な附摩耗性が得られた。
タで成膜しだ5i−N−C保護膜に比べてやや硬く、充
分な附摩耗性が得られた。
表2に保護膜の膜厚方向の抵抗測定結果を示すが1表か
ら判るように本実施例の保護膜ば1o9Ωであり、転写
シートでの印字試験でも静電気の発生はなく安定な走行
が出来た。
ら判るように本実施例の保護膜ば1o9Ωであり、転写
シートでの印字試験でも静電気の発生はなく安定な走行
が出来た。
表2
(実施例2)
本発明の第2の実施例について以下て説明する。
本実施例においては、第1の実施例と同様の材料と作戎
工原で所定のパターンを形成した基板を5平行平板型(
容量結合型)プラズマC,V、D装置に入れ、N2流量
1ooosccm SiH4とC;2H4とB2H6
の聡流量を9 Q SC+C111一定、基板温度35
0℃として1次のようにして保護膜を成膜した。即ち、
B2H6とSiH4+ C2H4の比R=(B2H6/
(5in4+ G2H4) ) (低し、SiH4と
C2H4の比は1:1一定)を、成膜初期は0605と
し、膜厚が厚くなるにつれて大きくして、最終0.3ま
で変化させて5μmの膜厚に形成した。このようにして
作成したサーマルヘッドの発熱体部分の断面形状を第2
図に示す。第2図において、第3図と同一名称は同一番
号を付す。6は本実施例により形成した1耐摩耗保護膜
で aa、eb。
工原で所定のパターンを形成した基板を5平行平板型(
容量結合型)プラズマC,V、D装置に入れ、N2流量
1ooosccm SiH4とC;2H4とB2H6
の聡流量を9 Q SC+C111一定、基板温度35
0℃として1次のようにして保護膜を成膜した。即ち、
B2H6とSiH4+ C2H4の比R=(B2H6/
(5in4+ G2H4) ) (低し、SiH4と
C2H4の比は1:1一定)を、成膜初期は0605と
し、膜厚が厚くなるにつれて大きくして、最終0.3ま
で変化させて5μmの膜厚に形成した。このようにして
作成したサーマルヘッドの発熱体部分の断面形状を第2
図に示す。第2図において、第3図と同一名称は同一番
号を付す。6は本実施例により形成した1耐摩耗保護膜
で aa、eb。
6c、 6dはボロン(B)の添加lの異なる膜で。
6aはR=o、os、ebはR:0.1.60ばR=0
.2.adはR= 0.3として各市に形成し7た。
.2.adはR= 0.3として各市に形成し7た。
なお、それぞれの膜厚ばほぼ1.257zmとした。
本実施例によるサーマルヘッドの1#熱パルス寿命試検
結果を第1図eに示す。耐熱パルス寿命は。
結果を第1図eに示す。耐熱パルス寿命は。
従来の5i−N−C保護1漠のヘッドと比較してやや低
下したが、実際の使用て対しては充分な寿命を有してい
る。
下したが、実際の使用て対しては充分な寿命を有してい
る。
また、本実施例り保護膜6の硬度はマイクロビッカース
硬度で22oOKy/−となり、従来の8l−N−C保
護膜より大きな硬度が得られた。さらに、R=0.3の
条件で作成した膜の抵抗は105Ωであり、保護膜全体
の抵抗ば108Ωとなり、静電気は生じず良好な熱転写
記録ができだ。
硬度で22oOKy/−となり、従来の8l−N−C保
護膜より大きな硬度が得られた。さらに、R=0.3の
条件で作成した膜の抵抗は105Ωであり、保護膜全体
の抵抗ば108Ωとなり、静電気は生じず良好な熱転写
記録ができだ。
なお1本実施例においてはRを階段的に変化させたが流
量と圧力制御を行えば連続的に変化させることも可能で
あり、特性の良好な膜を作成できることは説明するまで
もない。また、 SiH4とC2H4の比も1:1に限
定されるものではないこともいうまでもない。
量と圧力制御を行えば連続的に変化させることも可能で
あり、特性の良好な膜を作成できることは説明するまで
もない。また、 SiH4とC2H4の比も1:1に限
定されるものではないこともいうまでもない。
さらに、原料ガスとしてSi2H6やC2H2を用いれ
ば、成膜速度の向上や耐熱性の向北を図ることも可能で
ある。
ば、成膜速度の向上や耐熱性の向北を図ることも可能で
ある。
発明の効果
本発明は5i−N−C−B化合物よりなる保護膜を形成
したので、耐熱パルス特性が良好で、かつ、静電気発生
のないサーマルヘッドが得られ。
したので、耐熱パルス特性が良好で、かつ、静電気発生
のないサーマルヘッドが得られ。
信・項性と生産性の向上に大きな効果がある。またポロ
ンの添加量を膜厚方向で変化させることで硬度の大きな
保護膜も得られ、走行寿命の改善にも大きな効果がある
。
ンの添加量を膜厚方向で変化させることで硬度の大きな
保護膜も得られ、走行寿命の改善にも大きな効果がある
。
第1図は本発明の製造方法により作成したサーマルヘッ
ドの耐熱パルス特性を従来の保護膜を有するヘッドと比
較した結果を示す特性図、第2図は本発明の第2の実施
例によるサーマルヘッドの発熱体部分を示す断面図、第
3図は従来および本発明の第1の実施例によるサーマル
ヘッドの発熱体基板部分の断面図である。 1・・・・・アルミナ基板、2・・・・・ガラスグレー
ズ層。 3・・・・・発熱体、4・・・・・・電極、6・・・・
・保護膜。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名那尤
0覧方 (現榛値) 1−−アルミナ基板 ど“゛刀゛ラスクレース゛1 3−−一光岬シ1イ木 4− 電型 乙 ・−−イコミ項凡臭
ドの耐熱パルス特性を従来の保護膜を有するヘッドと比
較した結果を示す特性図、第2図は本発明の第2の実施
例によるサーマルヘッドの発熱体部分を示す断面図、第
3図は従来および本発明の第1の実施例によるサーマル
ヘッドの発熱体基板部分の断面図である。 1・・・・・アルミナ基板、2・・・・・ガラスグレー
ズ層。 3・・・・・発熱体、4・・・・・・電極、6・・・・
・保護膜。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名那尤
0覧方 (現榛値) 1−−アルミナ基板 ど“゛刀゛ラスクレース゛1 3−−一光岬シ1イ木 4− 電型 乙 ・−−イコミ項凡臭
Claims (2)
- (1)基板上に形成した発熱体と、この発熱体に通電す
るための電極と、この電極と前記発熱体を保護するため
の耐摩耗用の保護膜とを有し、前記保護膜はSi−N−
C−B化合物よりなるサーマルヘッド。 - (2)基板上に発熱体を形成する工程と、この発熱体に
通電するための電極を形成する工程と、この電極と前記
発熱体に対して所定のパターンを形成する工程と、前記
電極と前記発熱体を保護する耐摩耗保護膜を、反応ガス
としてSiH_4またはSi_2H_6と、C_2H_
4またはC_2H_2と、N_2と、B_2H_6を用
いてプラズマC.V.D(ケミカル・ペーパー・デェポ
ジション)により形成する工程よりなるサーマルヘッド
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22174388A JPH0269256A (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | サーマルヘッドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22174388A JPH0269256A (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | サーマルヘッドおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0269256A true JPH0269256A (ja) | 1990-03-08 |
Family
ID=16771530
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22174388A Pending JPH0269256A (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | サーマルヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0269256A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010534782A (ja) * | 2007-07-27 | 2010-11-11 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | 予混合バーナとその運転方法 |
CN103253938A (zh) * | 2013-05-15 | 2013-08-21 | 西北工业大学 | 一种Si-B-C-N非晶陶瓷的化学气相沉积方法 |
-
1988
- 1988-09-05 JP JP22174388A patent/JPH0269256A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010534782A (ja) * | 2007-07-27 | 2010-11-11 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | 予混合バーナとその運転方法 |
CN103253938A (zh) * | 2013-05-15 | 2013-08-21 | 西北工业大学 | 一种Si-B-C-N非晶陶瓷的化学气相沉积方法 |
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