JPH026911A - 光導波路の接続方法および光導波路接続部分の製造方法 - Google Patents
光導波路の接続方法および光導波路接続部分の製造方法Info
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- JPH026911A JPH026911A JP63157859A JP15785988A JPH026911A JP H026911 A JPH026911 A JP H026911A JP 63157859 A JP63157859 A JP 63157859A JP 15785988 A JP15785988 A JP 15785988A JP H026911 A JPH026911 A JP H026911A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［産業上の利用分野］
本発明は、光ファイバと光導波路あるいは光導波路同志
の接続方法に関し、さらに詳細には、光導波路端面に位
置決め用加工を行う光導波路の接続方法に関するもので
ある。 ［従来技術］ 近年、光導波路を用いた光集積化技術の進歩に伴い、さ
まざまな機能をもつ光導波路を相互に接続したり、光導
波路と光ファイバを簡単に、しかも信頼性よく接続する
ことが重要になってきている。従来、光ファイバと光導
波路の接続方法としては例えば第８図に示すようにＶ溝
をもつＳｔやエポキシ等の基板８１に光ファイバ８２を
固定Ｌ７９、光ファイバ端面８３を光導波路端面８４に
・つき合わせ光ファイバのコア８５と光導波路端面８４
とが一致するように位置合わせを行い紫外線硬化型接着
剤等で固定１．ていた。また、他の接続法と１゜では、
第９図のように基板９１にイオンビー人ｊ。 ッチングやレーザ加］二により光ファイバ９３のコア９
４と光導波路９５とが・一致するような幅と深さをもつ
：ＩＩｊ９２を形成し、その満９２に光ファ、イバ９３
をはめ込み紫外線硬化型接着剤等−Ｃ・固定１゜ていプ
こ。 ［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、光導波路と光ファイバを゛つき合わせる
方法では光導波路端面と、光ファイバコアとを１μｍ以
下の精度で一致させる必要があり、位置合わせに手間が
かかり、また、再現性に乏１゜い。さらに、紫外線硬化
型接着剤等で接続部を固定する場合、接着剤を塗布する
時や、接石剤の硬化時の収縮により位置ずれが生Ｉ′、
たり、また、接続部が機械的に弱く信頼性が低い。光導
波路端部に溝を形成し、光ファイバをはめ込む方法では
７、光導波路と溝の位置を正確に・一致させることが困
難であり、満の深さも１μｍ以下の精度で制御する必要
がある。また、溝の幅と光ファイバの直径を一致させる
ことも困難であり、位置ずれの原因となる。さらに、溝
壁面を鏡面状態とすることも困難であり、散乱損失の原
因となる。 本発明は、Ｊ二連した問題点を解決するためになされた
ものＣあり、光導波路を伝搬ｌ−てきた導波光により露
光されたフォト１ノジストを利用Ｉ、て光導波路の端面
にそれぞれ形成された凹部と凸部をかみ合わせることに
より位置合わせが簡単で且つ位置決め精度が高く信頼性
の高い光導波路の接続法を提１共することにある。 ［課題を解決するだめの手段］ この目的を達成するために本発明の光導波路の接続法で
は、光導波路端面にフォトレジスト等を塗布１−１光導
波路を伝搬
の接続方法に関し、さらに詳細には、光導波路端面に位
置決め用加工を行う光導波路の接続方法に関するもので
ある。 ［従来技術］ 近年、光導波路を用いた光集積化技術の進歩に伴い、さ
まざまな機能をもつ光導波路を相互に接続したり、光導
波路と光ファイバを簡単に、しかも信頼性よく接続する
ことが重要になってきている。従来、光ファイバと光導
波路の接続方法としては例えば第８図に示すようにＶ溝
をもつＳｔやエポキシ等の基板８１に光ファイバ８２を
固定Ｌ７９、光ファイバ端面８３を光導波路端面８４に
・つき合わせ光ファイバのコア８５と光導波路端面８４
とが一致するように位置合わせを行い紫外線硬化型接着
剤等で固定１．ていた。また、他の接続法と１゜では、
第９図のように基板９１にイオンビー人ｊ。 ッチングやレーザ加］二により光ファイバ９３のコア９
４と光導波路９５とが・一致するような幅と深さをもつ
：ＩＩｊ９２を形成し、その満９２に光ファ、イバ９３
をはめ込み紫外線硬化型接着剤等−Ｃ・固定１゜ていプ
こ。 ［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、光導波路と光ファイバを゛つき合わせる
方法では光導波路端面と、光ファイバコアとを１μｍ以
下の精度で一致させる必要があり、位置合わせに手間が
かかり、また、再現性に乏１゜い。さらに、紫外線硬化
型接着剤等で接続部を固定する場合、接着剤を塗布する
時や、接石剤の硬化時の収縮により位置ずれが生Ｉ′、
たり、また、接続部が機械的に弱く信頼性が低い。光導
波路端部に溝を形成し、光ファイバをはめ込む方法では
７、光導波路と溝の位置を正確に・一致させることが困
難であり、満の深さも１μｍ以下の精度で制御する必要
がある。また、溝の幅と光ファイバの直径を一致させる
ことも困難であり、位置ずれの原因となる。さらに、溝
壁面を鏡面状態とすることも困難であり、散乱損失の原
因となる。 本発明は、Ｊ二連した問題点を解決するためになされた
ものＣあり、光導波路を伝搬ｌ−てきた導波光により露
光されたフォト１ノジストを利用Ｉ、て光導波路の端面
にそれぞれ形成された凹部と凸部をかみ合わせることに
より位置合わせが簡単で且つ位置決め精度が高く信頼性
の高い光導波路の接続法を提１共することにある。 ［課題を解決するだめの手段］ この目的を達成するために本発明の光導波路の接続法で
は、光導波路端面にフォトレジスト等を塗布１−１光導
波路を伝搬
【、てきｔ二光によりフォトレジストを露光
１２、それを利用１２てエツチング等により光導波路端
面に凹部あるいは凸部を形成し、この凹部あるいは凸部
に、他の光導波路端面に形成された凸部あるいは凹部を
かみ合わせるよう１：している。 ［作用］ 」−記の構成をｆｆする本発明の光導波路の接続方法で
は、正確に位置決めをするため導波路端面に塗布された
フォト）ノジストを導波路を導波ｌ、てきた導波光によ
って露光４゛る。さらに、このフォトレジストを現像す
るＪ二と鳶ごよって得られる凹部、凸部あるいは、フォ
トリソグラフィーと同様に１２で端面をエツチングしＣ
得られる凹部、凸部をかみ合わせ、位置決めすると共に
接続後のずれを防ぐ。 ［実施例］ 以下本発明を具体化Ｉまた一実施例を図面を参照して説
明する。 第１図に本発明の・一実施例である光導波路の接続方法
の手順について示す。第１図（ａ）のように５ｔ０２、
Ａ１．０３．ガラス等の誘電体基板１１上にスパッタ法
や真空蒸９法等によって作製されたＺｎＯ，Ａｓ２ Ｓ
３ 、Ｎｂ２ Ｏ５，Ｔａ２０５等の薄膜１２及び５ｉ
Ｏｚ、Ａ１２０３．ガラス等を用いた保護層１３から成
る光導波路〕４の端面にポジ型フづ１司ノジスト１５を
スピンコード等により塗布する。一方、コア１６とクラ
ッド１７から成る先ファイバ１８の端面にも同様にして
ネガ型フォトレジスト１９を塗布する。フォト１ノジス
トの厚さは数μＨ】〜数１０μｍである。次に第１図（
）） ）のように光導波路１４の他方の端面よりレンズ
２０等を用いて光導波路１４にレーザ光２１を導波さぜ
る。光導波路１４は、薄膜１２の屈折率が基板１１や保
護層１３の屈折率よりも高いため、レーザ光２１は、薄
膜１２中に閉じ込められ伝搬１７フ４トレジスト〕５を
塗布した端面から出射する。ここでレーザ光２１として
比較的波長の短いＡ「レーザ等を用いることにより、フ
ォトレジストを感光させることができる。従−ンて、フ
ォトレジスト］５は、導波層”である薄膜１２の付近の
み露光される。同様にして、先ファイバ１８の図示され
ない他端から入射１．たレーザ光はコア１６中に閉じ込
められて光フアイバ中を導波し、フォトレジスト１９の
コア付近のみ露光する。フォトレジストを以上のように
露光後現象すると第１図（Ｃ）のようにポジ型フォトレ
ジスト１５は、レーザ光で露光された部分のみ除去され
、凹部２２が形成される。一方、ネガ型フォトレジスト
１９ではレーザ光で露光された部分のみ残り凸部２３が
形成される。この凹部２２と凸部２３を第１図（ｄ）の
ようにかみ合わせることにより位置決めを行い接続する
。接続後は、光導波路及び光ファイバを図示されない治
具等で機械的に固定してもよい。さらに接続部を紫外線
硬化樹脂等で固めてもよい。このとき、凹部と凸部はか
み合っているため位置ずれが生じることはない。また、
フォトレジストを光導波路の導波層あるいは、光ファイ
バのコアを伝送されたレーザ光で露光するので凹部凸部
の位置と導波層、コアの位置とは、正確に一致している
ため、無調整で非常に高い位置決めを行うことができる
。 第１図に示した方法では、光導波路端面と光ファイバと
がフォトレジストを介して接続されているため、光導波
路あるいは、光ファイバから出射した光は、回折により
ひろがり、結合効率がやや低下する。そこで第１図（ｃ
）の状態で、フッ酸等のエツチング液による化学エツチ
ング、あるいは、プラズマエツチング、スパッタエツチ
ング、イオンビームエツチング等により光導波路１４の
導波層１２及び光ファイバ１８のクラッド１７をエツチ
ングしフォトレジストを除去すると第２図（ａ）のよう
に凹部及び凸部が形成される。これらをかみ合わせると
、光ファイバのコア部と光導波路の導波層とが直接接触
するため効率のよく接続することができる。また、第２
図（ｂ）のように光ファイバの先端部をフッ酸等でエツ
チングしテーバ状としてもよい。 フォトレジストは熱的及び機械的に強くないため第３図
（ａ）のように光導波路端面にＳ ｉ ０２ 。 Ａ１２０３ 、Ｔａ２０６等の薄膜３１をスパッタ法、
蒸着法等により作製し、第１図と同様にしてフォトレジ
スト１５をバターニングする。さらにフォトレジスト１
５をマスクとして薄膜３１をエツチングして第３図（ｂ
）のように凹部を形成してもよい。 第１図の実施例では、ポジ型レジストにより凹部をネガ
型レジストにより凸部を形成したが、それらの組合せは
限定しない。例えば、第４図のように光導波路１４端面
に第１図と同様の方法でネガ型フォトレジスト４１によ
り凸部を第４図（ａ）のように形成し、その上へ５ｉ０
２．Ｔａ２０ｓ等の薄膜４２を第４図（ｂ）のように形
成し、フォトレジスト４１を除去することにより第４図
（Ｃ）のように凹部を形成することができる。さらに第
５図のように導波層をエツチングしてもよい。尚、導波
層やクラッドをエツチングする場合、導′波層付近の基
板及び上層部あるいは、クラッドの近くのコアもエツチ
ングしてもさしつかえない。 また、光導波路端面に光重合性硬化樹脂を塗布し、光導
波路を導波したレーザ光により重合させ、凸部を形成し
てもよい。 以上の実施例では光導波路と光導波路の１つである光フ
ァイバとの接続について説明したが、第１図（ａ）の左
側に示した光導波路同志も全く同様にして接続すること
ができる。さらに、ＬｉＮｂＯ３などの基板にＴｉ等を
拡散した、いわゆる拡散導波路についても同様に接続す
ることができる。導波路形状にも限定はなく、スラブ型
、リッジ型、装荷型等についても同様に接続することが
できる。さらに、第６図のように複数の導波路６１につ
いても同様に凹部あるいは凸部を形成することができる
。 フォトレジストの種類、厚さについても限定しない。例
えば凹部と比べて凸部を厚くしてもよい。 さらに、第１図（Ｃ）においてフォトレジスト１９の屈
折率をフォトレジスト１５より大きくすることで結合率
が高くなる。また、凹部凸部の形状についても限定しな
い。すなわち、導波層１２がらの出射光は、第７図（ａ
）のように中央部の強度が大きく、回折により、端面か
ら離れるに従い広がっていく。このため、光強度を十分
大きくすることにより第７図（ｂ）の斜線の部分が露光
され例えば第７図（ｅ）のような凹部２２が形成される
。また、光強度が比較的小さい場合第７図（ｄ）の斜線
の部分が露光され、例えば第７図（ｅ）のような凸部２
３が形成される。このように、ｉノーザ光強度により凹
部あるいは凸部の形状を制御することができる。本来の
光導波路と同じ基板上に１つあるいは複数個の位置決め
用光導波路を作製１−１この位置決め用光導波路を伝搬
する光を利用ｊ１．て凹部や凸部を作製Ｅ、でもよい。 この場合、例えば、第３図のように光導波路面で凹部あ
るいは凸部を形成する薄膜と１．て、光吸収の大きな材
料、あるいは金属を用いることができる。 露光用１ノーザ光の種類及び波長に・）いても限定ｊ。 ない。 ［発明の効！ｆ７］ 以上詳述ｌ−たことから明らかなよ・）に、本発明によ
れば、光導波路からの出射光によりフォトレジストを籠
光し、位置決め用凹部あるいは凸部を形成するので、無
調整で、容易に制度の高い位置決め用凹部あるいは凸部
を作製′ｄ−ることができる。 さらに、凹部と凸部をかみ合イ〕ぜて接続するので、位
置決めが容易て月つ信頼性、Ｐｉ現性が高い接続法を提
供することができる。
１２、それを利用１２てエツチング等により光導波路端
面に凹部あるいは凸部を形成し、この凹部あるいは凸部
に、他の光導波路端面に形成された凸部あるいは凹部を
かみ合わせるよう１：している。 ［作用］ 」−記の構成をｆｆする本発明の光導波路の接続方法で
は、正確に位置決めをするため導波路端面に塗布された
フォト）ノジストを導波路を導波ｌ、てきた導波光によ
って露光４゛る。さらに、このフォトレジストを現像す
るＪ二と鳶ごよって得られる凹部、凸部あるいは、フォ
トリソグラフィーと同様に１２で端面をエツチングしＣ
得られる凹部、凸部をかみ合わせ、位置決めすると共に
接続後のずれを防ぐ。 ［実施例］ 以下本発明を具体化Ｉまた一実施例を図面を参照して説
明する。 第１図に本発明の・一実施例である光導波路の接続方法
の手順について示す。第１図（ａ）のように５ｔ０２、
Ａ１．０３．ガラス等の誘電体基板１１上にスパッタ法
や真空蒸９法等によって作製されたＺｎＯ，Ａｓ２ Ｓ
３ 、Ｎｂ２ Ｏ５，Ｔａ２０５等の薄膜１２及び５ｉ
Ｏｚ、Ａ１２０３．ガラス等を用いた保護層１３から成
る光導波路〕４の端面にポジ型フづ１司ノジスト１５を
スピンコード等により塗布する。一方、コア１６とクラ
ッド１７から成る先ファイバ１８の端面にも同様にして
ネガ型フォトレジスト１９を塗布する。フォト１ノジス
トの厚さは数μＨ】〜数１０μｍである。次に第１図（
）） ）のように光導波路１４の他方の端面よりレンズ
２０等を用いて光導波路１４にレーザ光２１を導波さぜ
る。光導波路１４は、薄膜１２の屈折率が基板１１や保
護層１３の屈折率よりも高いため、レーザ光２１は、薄
膜１２中に閉じ込められ伝搬１７フ４トレジスト〕５を
塗布した端面から出射する。ここでレーザ光２１として
比較的波長の短いＡ「レーザ等を用いることにより、フ
ォトレジストを感光させることができる。従−ンて、フ
ォトレジスト］５は、導波層”である薄膜１２の付近の
み露光される。同様にして、先ファイバ１８の図示され
ない他端から入射１．たレーザ光はコア１６中に閉じ込
められて光フアイバ中を導波し、フォトレジスト１９の
コア付近のみ露光する。フォトレジストを以上のように
露光後現象すると第１図（Ｃ）のようにポジ型フォトレ
ジスト１５は、レーザ光で露光された部分のみ除去され
、凹部２２が形成される。一方、ネガ型フォトレジスト
１９ではレーザ光で露光された部分のみ残り凸部２３が
形成される。この凹部２２と凸部２３を第１図（ｄ）の
ようにかみ合わせることにより位置決めを行い接続する
。接続後は、光導波路及び光ファイバを図示されない治
具等で機械的に固定してもよい。さらに接続部を紫外線
硬化樹脂等で固めてもよい。このとき、凹部と凸部はか
み合っているため位置ずれが生じることはない。また、
フォトレジストを光導波路の導波層あるいは、光ファイ
バのコアを伝送されたレーザ光で露光するので凹部凸部
の位置と導波層、コアの位置とは、正確に一致している
ため、無調整で非常に高い位置決めを行うことができる
。 第１図に示した方法では、光導波路端面と光ファイバと
がフォトレジストを介して接続されているため、光導波
路あるいは、光ファイバから出射した光は、回折により
ひろがり、結合効率がやや低下する。そこで第１図（ｃ
）の状態で、フッ酸等のエツチング液による化学エツチ
ング、あるいは、プラズマエツチング、スパッタエツチ
ング、イオンビームエツチング等により光導波路１４の
導波層１２及び光ファイバ１８のクラッド１７をエツチ
ングしフォトレジストを除去すると第２図（ａ）のよう
に凹部及び凸部が形成される。これらをかみ合わせると
、光ファイバのコア部と光導波路の導波層とが直接接触
するため効率のよく接続することができる。また、第２
図（ｂ）のように光ファイバの先端部をフッ酸等でエツ
チングしテーバ状としてもよい。 フォトレジストは熱的及び機械的に強くないため第３図
（ａ）のように光導波路端面にＳ ｉ ０２ 。 Ａ１２０３ 、Ｔａ２０６等の薄膜３１をスパッタ法、
蒸着法等により作製し、第１図と同様にしてフォトレジ
スト１５をバターニングする。さらにフォトレジスト１
５をマスクとして薄膜３１をエツチングして第３図（ｂ
）のように凹部を形成してもよい。 第１図の実施例では、ポジ型レジストにより凹部をネガ
型レジストにより凸部を形成したが、それらの組合せは
限定しない。例えば、第４図のように光導波路１４端面
に第１図と同様の方法でネガ型フォトレジスト４１によ
り凸部を第４図（ａ）のように形成し、その上へ５ｉ０
２．Ｔａ２０ｓ等の薄膜４２を第４図（ｂ）のように形
成し、フォトレジスト４１を除去することにより第４図
（Ｃ）のように凹部を形成することができる。さらに第
５図のように導波層をエツチングしてもよい。尚、導波
層やクラッドをエツチングする場合、導′波層付近の基
板及び上層部あるいは、クラッドの近くのコアもエツチ
ングしてもさしつかえない。 また、光導波路端面に光重合性硬化樹脂を塗布し、光導
波路を導波したレーザ光により重合させ、凸部を形成し
てもよい。 以上の実施例では光導波路と光導波路の１つである光フ
ァイバとの接続について説明したが、第１図（ａ）の左
側に示した光導波路同志も全く同様にして接続すること
ができる。さらに、ＬｉＮｂＯ３などの基板にＴｉ等を
拡散した、いわゆる拡散導波路についても同様に接続す
ることができる。導波路形状にも限定はなく、スラブ型
、リッジ型、装荷型等についても同様に接続することが
できる。さらに、第６図のように複数の導波路６１につ
いても同様に凹部あるいは凸部を形成することができる
。 フォトレジストの種類、厚さについても限定しない。例
えば凹部と比べて凸部を厚くしてもよい。 さらに、第１図（Ｃ）においてフォトレジスト１９の屈
折率をフォトレジスト１５より大きくすることで結合率
が高くなる。また、凹部凸部の形状についても限定しな
い。すなわち、導波層１２がらの出射光は、第７図（ａ
）のように中央部の強度が大きく、回折により、端面か
ら離れるに従い広がっていく。このため、光強度を十分
大きくすることにより第７図（ｂ）の斜線の部分が露光
され例えば第７図（ｅ）のような凹部２２が形成される
。また、光強度が比較的小さい場合第７図（ｄ）の斜線
の部分が露光され、例えば第７図（ｅ）のような凸部２
３が形成される。このように、ｉノーザ光強度により凹
部あるいは凸部の形状を制御することができる。本来の
光導波路と同じ基板上に１つあるいは複数個の位置決め
用光導波路を作製１−１この位置決め用光導波路を伝搬
する光を利用ｊ１．て凹部や凸部を作製Ｅ、でもよい。 この場合、例えば、第３図のように光導波路面で凹部あ
るいは凸部を形成する薄膜と１．て、光吸収の大きな材
料、あるいは金属を用いることができる。 露光用１ノーザ光の種類及び波長に・）いても限定ｊ。 ない。 ［発明の効！ｆ７］ 以上詳述ｌ−たことから明らかなよ・）に、本発明によ
れば、光導波路からの出射光によりフォトレジストを籠
光し、位置決め用凹部あるいは凸部を形成するので、無
調整で、容易に制度の高い位置決め用凹部あるいは凸部
を作製′ｄ−ることができる。 さらに、凹部と凸部をかみ合イ〕ぜて接続するので、位
置決めが容易て月つ信頼性、Ｐｉ現性が高い接続法を提
供することができる。
第１図から第７図までは本発明を具体化１．た実施例を
示すもので、第１図は本発明の光導波路の接続法を示す
断面図、第２図、第３図、第４図及び第５図は本発明の
他の実施例を示す断面図、第６図は本発明の変形例を示
す斜面図、第７図は本発明の他の変形例を示す説明図、
第８図は従来の光導波路の接続法を示す斜面図、第９図
は′ｉ８．来の光導波路の他の接続法を示す斜面図であ
る。 Ｎ中、１１は基板、１２は薄膜（導波層）、１３は保護
層、１４は光導波路、１５はフォトレジスト、］６はコ
ア、１７はクラッド、１８は光ファイバ、］９はフォト
１／シスト、２０は１．・ンズ、２１はレーザ光、２２
は凹部、２３は凸部である。
示すもので、第１図は本発明の光導波路の接続法を示す
断面図、第２図、第３図、第４図及び第５図は本発明の
他の実施例を示す断面図、第６図は本発明の変形例を示
す斜面図、第７図は本発明の他の変形例を示す説明図、
第８図は従来の光導波路の接続法を示す斜面図、第９図
は′ｉ８．来の光導波路の他の接続法を示す斜面図であ
る。 Ｎ中、１１は基板、１２は薄膜（導波層）、１３は保護
層、１４は光導波路、１５はフォトレジスト、］６はコ
ア、１７はクラッド、１８は光ファイバ、］９はフォト
１／シスト、２０は１．・ンズ、２１はレーザ光、２２
は凹部、２３は凸部である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光導波路の端面にフォトレジストを塗布し、光導波
路を導波してきた光により露光後現像することにより塗
布部分を凸部あるいは凹部に形成し、他の光導波路に形
成された凹部あるいは凸部とかみ合わせるようにしたこ
とを特徴とした光導波路の接続法。 ２、一方の光導波路の端面にネガ形フォトレジストを他
方の光導波路の端面にポジ型フォトレジストをそれぞれ
塗布し、各光導波路を導波した光により露光後現像する
ことにより塗布部分に凹部あるいは凸部をそれぞれ形成
し、その凹部と凸部をかみ合わせることにより一方の光
導波路と他方の光導波路とを接続するようにしたことを
特徴とした請求項１記載の光導波路の接続方法。 ３、前記露光現像されたフォトレジストをマスクとし、
光導波路端面をエッチングして凹部あるいは凸部を形成
することを特徴とする請求項１記載の光導波路の接続法
。 ４、前記フォトレジスト上に薄膜を形成しフォトレジス
トを除去することにより、あるいは、フォトレジスト除
去後さらにエッチングすることにより凸部あるいは凹部
を形成することを特徴とする請求項１記載の光導波路の
接続方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63157859A JP2701326B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 光導波路の接続方法および光導波路接続部分の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63157859A JP2701326B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 光導波路の接続方法および光導波路接続部分の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH026911A true JPH026911A (ja) | 1990-01-11 |
| JP2701326B2 JP2701326B2 (ja) | 1998-01-21 |
Family
ID=15658943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63157859A Expired - Fee Related JP2701326B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 光導波路の接続方法および光導波路接続部分の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2701326B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0579505U (ja) * | 1992-03-25 | 1993-10-29 | 京セラ株式会社 | 光導波路と光ファイバの接続構造 |
| US5416881A (en) * | 1992-08-20 | 1995-05-16 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Optical fiber and optical waveguide connecting device |
| JPH0915446A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-17 | Nec Corp | マイクロ光コネクタ |
| FR2798740A1 (fr) * | 1998-11-16 | 2001-03-23 | Nanotechnologie Et D Instrumen | Nouvelles fibres optiques lentillees a forte ouverture numerique d'extremite application a la realisation de nouveaux composants optoelectroniques hautes performances |
| EP1329752A1 (en) * | 2002-10-29 | 2003-07-23 | Agilent Technologies Inc. a Delaware Corporation | Tip for optical waveguide |
| AU768381B2 (en) * | 1999-11-16 | 2003-12-11 | Bookham Technology Plc | Method of alignment in an optoelectronic assembly |
| JP2007178790A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Sony Corp | 光結合器及び光コネクタ |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS50137046U (ja) * | 1974-04-25 | 1975-11-12 | ||
| JPS5512774A (en) * | 1978-07-13 | 1980-01-29 | Mitsubishi Electric Corp | Manufacturing method for semiconductor luminescent device |
| JPS5935906U (ja) * | 1982-08-27 | 1984-03-06 | 株式会社東芝 | 光通信用集束性ロツドレンズ |
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-
1988
- 1988-06-24 JP JP63157859A patent/JP2701326B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2007178790A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Sony Corp | 光結合器及び光コネクタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2701326B2 (ja) | 1998-01-21 |
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