JPH0268711A

JPH0268711A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH0268711A
Application number: JP22049088A
Authority: JP
Inventors: Takashi Hasegawa; 隆長谷川; Daizo Endo; 大三遠藤
Original assignee: Showa Denko KK
Current assignee: Resonac Holdings Corp
Priority date: 1988-09-05
Filing date: 1988-09-05
Publication date: 1990-03-08

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は磁気記録媒体に関し、特にｃｏ系合金強磁性薄
膜とＣｒを主成分とする下地薄膜とから成る磁気記録媒
体において高保磁力（≧１１００Ｏｅ）で、高い線記録
密度を有し、かつ記録再生時の雑音が少ない優れた記録
再生特性を有する磁気記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

磁気ディスク用記録媒体は当初Ｔ酸化鉄粒子をＡ／基板
上に塗布したものが実用化され、現在においても相当数
が実用に供されているが、近年はメツキ法及びスパッタ
ー法により成膜された合金強磁性体による連続媒体が進
出している。特に口径５．２５インチφ以下の小口径磁
気ディスクの分野においては、上記連続媒体が全使用量
の半数以上を占めるに至っている。この傾向はますます
助長されると共に、小口径磁気ディスクを使用する小型
ドライブ装置の設計方針が軽薄短小化に向うと共に、高
記録容量を必要とする様になり、磁気ディスク媒体の線
記録密度向上が要求されている。

従来量産されている磁気ディスク媒体の保磁力は塗布媒
体で６００〜７００Ｏｅ、メツキ及びスパッター媒体で
８００〜９５０Ｏｅが主流であり、開発段階のもので１
０００〜１５００Ｏｅのものは、今後の磁気ヘッドの高
出力化が進展すると共に実用領域に達し得るレベルの媒
体であり、幾多の事例が報告されている。

高保磁力磁気記録媒体として提案されているＣＯ合金／
Ｃｒスパッタ媒体は、ＮｉＰ／Ａｆｆｉ基板の表面を研
磨テープで円周方向に研磨して円周方向のテクスチャー
（溝構造）を形成し、その上に先ずＣｒＪｉｉを形成す
る。基板とＣｏ合金層の間にＣｒ層が介在することによ
って、Ｃｏ合金層の保磁力の向上しかつ角型比が大きく
なるからである。

このＣｒ下地層のスパッターでは、スパッター粒子を斜
入射させて、円周方向のテクスチャーによるシャドウィ
ング効果を利用して、溝の方向即ら円周方向に沿った形
状にＣｒ層（下地層）薄膜を成長させる。そして、その
上層に同じく斜入射効果を与える方法でＣｏ系合金強磁
性薄膜の粒子又は粒子群が円周方向に沿って長平方向に
配向する様に沈着させて、円周方向に形状異方性にもと
づく強い一軸磁気異方性を有する磁気ディスク媒体が実
用に供せられている。円周方向のテクスチャーは、ヘッ
ドスライダ−とディスク媒体との接触による媒体表面の
摩耗や撰傷を極小化するために形成されるが、このテク
スチャーを利用して上記の如く磁性層に形状異方性を与
えて円周方向に高い磁気異方性を得るようにされている
のである。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の如き磁気ディスクでは、円周方向テクスチャーと
Ｃｒ下地層の形成によって高い保磁力と高い角型化が実
現されるが、円周方向に細長い針状の形状異方性を有し
、そのため円周方向に強い一軸磁気異方性を有する強磁
性薄膜が形成されている。このような磁気ディスクの円
周方向及び半径方向の磁気履歴曲線の例を第７図に示す
。

この様な媒体においては、磁気記録する際の磁化遷移領
域における磁区構造の入り込みが複雑になり、再生時に
ノイズ発生の原因と成り得る。

また従来の構造では高保磁力（≧１１００Ｏｅ）を得る
ためには、形状異方性を更に強めるため磁性薄膜のアス
ペクト比を高める必要があり、そのため基板上の溝間隔
を狭めなければならない。しかしこの事は磁気ディスク
のＣ３Ｓ　（コンタクト・スタート・ストップ）性能の
低下を招き、かつ量産効率を損なうので好ましくない。

そこで、本発明は、磁気記録媒体の高密度化に対応して
、高保磁力（≧１１００Ｏｅ）でかつ低ノイズの高性能
磁気記録媒体を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、上記目的を、基板上にＣｒ又はＣｒ合金薄膜
を下地層とし、その上層にＣｏ合金磁性層を成膜し、更
に上層に必要に応じて非磁性層、炭素薄膜層などを成膜
して得る磁気記録媒体において、Ｃｏ合金磁性層は膜面
に垂直な方向より観察される構造が平均粒径１１００ｎ
以下の粒子の集合体であり、かつ個々の粒子によって形
成される膜平面に垂直方向の凹凸の平均の大きさが上記
平均粒径寸法以下の寸法であり、かつ該粒子は互いに隣
接する粒子と少な（とも０．５ｎｍの距離をもって隔て
られた構造を有することを特徴とする磁気記録媒体を提
供することによって達成する。

このような磁気記録媒体は、円周方向のテクスチャー上
に磁性層を形成しても高い保磁力を有しかつ磁気異方性
がない構造であり、好ましくは保磁力（Ｈｃ）が１１０
０Ｏｅ以上でかつ円周方向の角型比と半径方向の角型比
との間の比（異方性）が０、８〜１．１の範囲内である
ことができる。また、このように磁気異方性がなくなる
ことによって、ノイズ特性が改善され、記録再生周波数
５Ｍｌ１ｚにおけるノイズと信号出力の比（−ｄＢ）が
３５以上であることができる。

このような磁気記録媒体の優れた特性は、ＣＯ合金磁性
層がＣｒ又はＣｒ合金薄膜上にエピタキシャル成長して
平面構造（１１９面の構造）が平均粒径１１００ｎ以下
の粒子の集合体を成し、かつ各粒子が適当な間隙によっ
て隔てられている構造であることによって得られる。但
し、Ｃｏ合金粒子の平均粒径が１００ｒ＋＋ｎを越えて
成長すると、膜面の平均粗さも大きくなり磁気ディスク
表面とヘッド・スライダーとの空隙損失が大となり、記
録再生特性の劣化を招くので好ましくない。好ましい平
均粒径は１０〜５０ｎｍの範囲である。また、隣接する
Ｃ。

合金粒子間の隔たりが０．５ｎｍに充たない状態になる
と、個々のＣｏ合金粒子の磁気的孤立性が失われ、従来
の方法による磁気ディスクと同様な構造と特性を有する
結果となり好ましくない。好ましい各Ｃｏ合金粒子間の
隔たりは０．５〜５ｎｍの範囲内である。０．５　ｎｍ
以下では粒子間の磁気的結合が生じる。５ｎｍ以上では
磁性層の体積が少なくなり磁性層の飽和磁束密度が減少
する。

このようなＣＯ合金磁性層の構造を実現するためには、
Ｃｒ又はＣｒ合金下地層の表面構造をそのような磁性層
の形成に適するようにする必要があり、基板表面に対し
てＣｒ又はＣｒ合金スパッタ粒子が主として垂直な成分
をもって一様に飛来し沈着するようにする。あるいは、
基板表面をガス雰囲気、大気中などで熱処理する事によ
り基板上に微小酸化物などの結晶発生核となる様な局在
部分を一様に分布させる事によっても得られる。

このようにして形成した下地Ｃｒ又はＣｒ合金層はＣｒ
又はＣｒ合金層が柱状に発達し、かつ膜平面においてＣ
ｒ粒子の体心立方格子（Ｂ　ＣＣ）結晶相の（１１０）
面が発達する。このＣｒ又はＣｒ合金層上にＣｏ合金磁
性層を斜入射成分の多（含まれたスパッター粒子により
エピタキシャル成長させる事により、予め良く成長した
Ｃｒ又はＣｒ合金粒子の上へ更に上積みされる形で、膜
面上の画部分又は開部分はより強調されてＣｏ合金磁性
層が成長する。その結果、上述の構造を有するＣ。

合金磁性層が得られる。

第１図に典型的な本発明の磁気記録媒体の構成を示す。

基板１はＡＮ合金又は純／ｌが代表的であるが、ポリカ
ーボネート、ポリエチルアミドなどの硬質プラスチック
スからなってもよい。基板の寸法は特に限定されないが
、本発明は特に５インチ、３．５インチなどの小型ディ
スクに有利に適用される。厚さは通常１．２〜１．９　
ｎ＋程度であり、表面は鏡面仕上げされる。

好ましくは、基板１の表面に、非磁性層又は磁性層の付
着を良＜シ１．耐食性を持たせるために、無電解めっき
でＮｉ　−Ｐなどの下地めっき層２を厚さ１０〜２０μ
ｍ程度形成される。さらに、この下地めっき処理した基
板にテープ研摩性等でほぼ同心円状（ら旋状でもよい）
のテクスチャー（溝構造）を形成する。これはディスク
回転時にヘッドに浮力を与えるために必要であり、表面
粗さで表現して、最大表面粗さＲ，、、４００〜５５０
人、平均表面粗さＲ３６０〜８０人が好ましい。表面粗
さがあまり大きいとヘッドの浮上性が悪くなり、一方表
面粗さが小さすぎるとヘッドとの接触による媒体やヘッ
ドの摩耗や損傷が激しくなる。

同心円状テクスチャーを形成した下地めっき層２上には
、Ｃｏ合金磁性層４をエピタキシャル成長させるための
中間層としてＣｒ又はＣｒ合金下地層３を形成する。ス
パッタ法では（１１０）面が基板面に平行に配向して結
晶成長し、その断面構造はコラム状になることが知られ
ている。本発明では、このＣｒ又はＣｒ合金下地層３を
スパッタ成膜するに当って基板１に対して垂直入射させ
る。

そのために、第２図を参照すると、スパッタ室（図示せ
ず）内にＣｒ又はＣｒ合金ターゲット程度の間隔に配置
し、ターゲット１１のエロージョン領域（ターゲットが
スパッタされてターゲット構成材料が飛び出すために侵
蝕されるターゲットの領域）１３が次の条件を満たずよ
うなスパッタ条件下でスパッタする。ずなわち、エロー
ジョン領域１３の内周部が基板１２の中心から半径の４
０％以内にあり、かつターゲソ１−の全面積（基板と対
向する面の面積）に対してエロージョン領域の面積が８
０％以上である。これによってＣｒ又はＣｒ合金が基板
に対して実質的に垂直入射し、Ｃｒ又はＣｒ合金の（１
１０）面がより完全に成長する。Ｃｒ又はＣｒ合金下地
層３の厚さは１０００〜３０００人の範囲が好ましい。

Ｃｒ又はＣｒ合金下地層３の厚さが増すほどＣｏ合金磁
性層の保磁力が増加する傾向にあるが、余り厚いと成膜
に多くの時間を要し、時間当たりの量産効率を１貝ない
、また最終的には飽和するので、所望の効果を得るには
上記範囲の厚さが好適である。

Ｃｒ又はＣｒ合金下地層３を形成後、Ｃｏ合金磁性層４
を形成する。代表的なＣｏ合金磁性材料はＣｏ　−Ｎｉ
−Ｃｒからなり、Ｎ　ｉ　７０〜３０＊ｈ％、Ｃｒ　５
〜１０ａｔｍ％である。Ｃｒ又はＣｒ合金下地層上に形
成したＣｏ合金磁性層は高保磁力、高記録密度であるこ
とが知られているが、本発明では上記Ｃｒ又はＣｒ合金
下地層はワイドエロージョンターゲントでスパッタし、
そしてＣｏ合金磁性層を下記の如くナローエロージョン
ターゲットを用いてスパッタして斜め入射で成膜するこ
とによって、Ｃｒ又はＣｒ合金下地結晶に対応して独立
界として成長させる。ここにナローエロージョンターゲ
ットとは、第３図を参照すると、３０〜１５０１貫、好
ましくは４０〜１１０龍のターゲット１５と基板１７の
距離においてターゲット１５のエロージョン領域１６の
内周部が基板１７の中心から半径の８０％より外側でか
つターゲット１５の全面積に対するエロージョン領域１
６の面積が６０％以下である場合をいう。このような斜
入射を先の垂直入射のＣｒ又はＣｒ合金下地層と組合わ
せることによって、高保磁力、高密度記録特性であり、
かつ低ノイズ特性の磁気記録媒体を実現することができ
る。これは、このような成膜法の組合せによってＣｏ合
金層が独立界として良好に成長し、かつ磁気異方性のな
いＣＯ合金磁性層が形成されるためと考えられる。この
ＣＯ合金磁性Ｎ４は、このようにＣｒ又はＣｒ合金結晶
に対応して独立界として成長することによって、前述の
如く、成子面内の平均粒子径が１１００ｎ以下、成子面
に垂直な凹凸の平均が該平均粒子径より小さ（、成子面
内の個々の粒子が少なくとも０．５ｎｍの隔りを有する
構造を有するものとなる。Ｃｏ合金磁性層４の膜厚は４
００〜８００人の範囲内が好ましい。保磁力Ｈｃが１１
００Ｏｅでかつ実用に供するに適した出力を得るためで
ある。

Ｃｏ磁性層４上には、必要に応じて、保護膜５を形成す
る。この保護膜としては、カーボン薄着膜（３００〜４
００　人）とその上のパーフルオロポリエーテル膜（２
０〜４０人）等が通常用いられる。

〔実施例〕

以下に本発明の実施例について詳細に述べる。

外径１３０１１φ、内径４　Ｑ　＋ｕφ、厚さ１．９　
ｕ＋のＡβ基板上にＮｉＰメツキ（１８〜２０卿厚）を
施こし、ＮｉＰメツキ層を約３ｔａ機械研磨加工して鏡
面仕上した。〔テクスチャーを形成する場合には平均粗
さＲ１２０〜３０人、最大粗さＲ，、、１００〜２００
人程度にする〕磁気ディスク用基板に対し、スパッター
法により、下地層（Ｃｒ金屈薄膜）を膜厚さ１０００〜
３０００ｎｍ厚さに成膜する。この成膜条件はＡｒガス
圧力３〜ｌ　ＯｍＴｏｒｒ（好ましくは６　ｍＴｏｒｒ
）、ＤＣ電力２．５〜６ＫＷ、ターゲットと基板（Ｔ／
Ｓ）間の距離７０龍で、円形ターゲットと基板は互いに
静止して同心円位置に対向させている。このターゲット
　（直径２００龍φ）のカソードはターゲットのエロー
ジョン領域が８５％でその内径が基板面の中心径の３０
％になって、基板面に向って垂直に飛来する成分が大部
分を占める様に設計したカソードを用いた。

次に下地層上にＣｏ　−３０ａｔｍ％Ｎｉ　−７，５ａ
ｔｍ％Ｃｒ合金磁性層をスパッタ法で成膜する。この合
金磁性層の成膜に当っては、成膜条件としてＡｒガス圧
力３〜１０　ｍＴｏｒｒ（好ましくは５　ｍＴｏｒｒ）
、ＤＣ電力２．５〜６にＷ、Ｔ／Ｓ間距離５Ｑｍｍで、
円形ターゲットと基板は互いに静止して同心円位置に対
向させている。ターゲット（直径２００龍φ）のカソー
ドはエロージョン領域が４０％でその中心径が基板径の
８０％以上になる様に設計したカソードである。

このようにしで、基板温度と各々の膜厚を表１に示すよ
うに変化させて成膜し、磁気ディスクを作製した。

このような方法で得た磁気ディスクの表面構造を日立製
作所製走査電子顕微鏡（Ｓｍ２Ｏ３型）を用いて観察し
た反射電子像を第４図に示す。Ｃｏ合金の粒子が独立し
て成長している様子が見られる。

Ｃｏ合金粒子の平均粒径は２０ｎｍ、粒子間隙は平均１
ｎｍで０．５〜５ｎｍに分布していた。Ｃｏ合金粒子の
膜面に垂直な方向の凹凸は断面構造で調べて、：Ｓ）〜
ＪＯｎｍであった。

比較のために、上記実施例と同様の磁気ディスクを作製
し、但しＣｒ下地層とＣｏ合金磁性層を従来法の成膜条
件（両方とも斜め入射）で行ない、円周方向に異方性を
付与した。

第５図は、この比較例の磁気ディスクの表面構造を示す
第４図と同様の写真である。Ｃｏ合金粒子が独立せず、
そして粒子間にもＣｏ合金がびっしりと充満しているの
が見られる。

これらの実施例及び比較例の磁気ディスクの静磁力特性
、記録再生特性、周波数特性及びノイズ特性について評
価した。静磁力特性はＶＳＭ　（振動試料型磁力計）を
用いて測定し、記録再生特性等はスペクトルアナライザ
ーを用いて測定した。

なお、測定条件としては、周波数範囲は零から１０Ｍ１
ｌｚまで；分解周波数は３０Ｋｌｌｚ、ノイズ比測定人
力信号５Ｍ１ｌｚ；測定ヘッドはモノリシック型メタル
インギャップ（Ｍ　Ｉ　Ｇ）へノド、トランク巾ＴＷ＝
１．６μｍ、ギャップ１４７　Ｇ　Ｌ　−＝　０．７　
ａｍ　；測定位置はディスク中心より３０．４１１　；
ディスク回転数は３６００ｒｐｍ　；書込電流３５ｍ八
とした。

表１に結果を示す・　　　　　　　　　以下余白表１に
おける１）〜１４）の説明を下記に付す。

■）保磁力Ｈｃ　（Ｏｅ）　　：ディスクの円周方向に測定した値を示す。１０００Ｏｅ
以上を目標とし、この値が高いほど記録密度を高めるこ
とができる。

２）残留磁束密度Ｂｒ・δ（Ｇ・μ）：ここでは残留磁
束密度Ｂｒに膜厚δを掛けたもので評価したので（ガウ
ス）×（マイクロメートル）のｊｉｉ位を持つ。この値
が大きいほど出力が大きくなり好ましい。

３）磁気異方性（Ｂｒ／Ｂｓ）”　／（Ｂｒ／Ｂｓ）’
　：残留磁束密度Ｂｒ　／飽和磁束密度ＢｓＯ比（角型
比）を円周方向と半径方向についてそれぞれ測定し、そ
の比をもって磁気異方性を評価した。この値が１に近い
ほど等方性である。等方性であるほど、ノイズが少なく
なることが後述する如く確認されており、好ましい。

４）外周部ＯＲ：外径１３０１φのディスクの中心から６０．９ｍｍの位
置をもって外周部（ｏｕｔｅｒ　ｒａｄｉｕｓ）とした
。

５）内周部ＩＲ：外径１３０鶴φのディスクの中心から３０．４ｍｍの位
置をもって内周部（ｉｎｎｅｒ　ｒａｄｉｕｓ）とした
。

６）トラック平均出力ＴＡＡ　ＬＦ＋（ｍｌ／）　　：
１．２５ＭＨｚの信号（ＬＰ　、　）のトラック平均出
力。

７）トラック平均出力ＴＡＡ　ｌｌｈ（ｍν）：２．５
０ＭＨｚの信号（ＩＩＦＩ）のトラック平均出力。

８）分解能ＲＥＳ　（％）：ＴＡＡ　）ＩＰ、　／ＴＡＡ　ＬＦ、をパーセント表示
する。この値が大きいほど（１００％に近いほど）、１
、Ｆ、と１１Ｆ。

のＴＡＡの差が小さいほど、分解能は良好であるといえ
る。

９）重ね書き特性をＯ／Ｗ（−ｄＢ）　：ＬＦ、の信号
を記録した後さらにその上に１１Ｆ、の信号を記録した
ときのＬＦ、の出力を２０１ｏｇ小さい（絶対値が大き
い）はど重ね書き特性は良好である。

１０）７０％減衰周波数り、ｏ：孤立波（０，７５Ｍ１ｌｚ）の出力の７０％の出力にな
るときの周波数（第１０図参照）。

１１）　Ｄ７ｏ線記録密度ＬＤ（ＫＦＣＰＩ）　　：Ｄ
、。の周波数に対する線記録密度。単位は１インチ当り
の磁束反転数（Ｋｉｌｏ　Ｆｌｕｘ　Ｃｈａｎｇｅ　Ｐ
ｅｒＩｎｃｈ）である。

１２）５０％減衰周波数Ｄ５゜：孤立波（０，７５ＭＨｚ）の出力の５０％の出力になる
ときの周波数（第１０図参照）。

１３）　Ｄｓ。線記録密度ＬＤ（ＫＦＣＰＩ）　　：Ｄ
５゜の周波数に対する線記録密度。

１４）ノイズ比５ＮＲ１５，０ＭＨｚ（−ｄＢ）　　：
５、０　ＭＨｚの信号の出力における信号とノイズの比
を対数表示したもので、この値がが大きい方が雑音が小
さい。

第６図に実施例（試料２）の磁気ディスクの円周方向及
び半径方向の磁化履歴曲線を示す。第７図に示した比較
例（試料１）の対応する磁化履歴曲線と比べると、本発
明の磁気ディスクが異方性を持たないこと（しかし保磁
力は大きいこと）がわかる。

第８図は実施例（試料２）の磁気ディスクに５Ｍ１ｌｚ
の信号を入力しない時と入力した時の出力を周波数に関
して表わしたものであり、第９図は比較例（試料１）の
対応する図である。これらの図を比較すると、従来の異
方性の磁気ディスクでは、信号を入力したときに、低周
波領域で媒体ノイズ成分が大きく増加するが、実施例の
等方性の磁気ディスクでは、信号入力時にも、媒体ノイ
ズ成分の増加が小さい。

第１０図は実施例（試料２）と従来例（試料Ｉ）の磁気
ディスクの出力の周波数特性を示すものである。同図よ
り、比較例の方が実施例よりも周波数の上昇とともに出
力がより早く低下することが認められる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、基板上のＣｒ又はＣｒ合金下地層上に
Ｃｏ合金磁性層を形成して成る磁気記録媒体において、
高保磁力（１１００Ｏｅ以上）でかつ記録再生時のノイ
ズを抑制することができ、高記録密度化に有用である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の構成を示す模式図、第
２図はＣｒ又はＣｒ合金下地層の成膜条件を説明する図
、第３図はＣｏ合金磁性層の成膜条件を説明する図、第
４図及び第５図は実施例及び比較例の磁気ディスクのＣ
ｏ合金磁性層の金属組織の電子顕微鏡写真、第６図及び
第７図は実施例及び比較例の磁気ディスクの円周方向及
び半径方向の磁化履歴曲線、第８図及び第９図は実施例
及び比較例の磁気ディスクのノイズ特性を示す図、第１
０図は実施例及び比較例の磁気ディスクの出力の周波数
特性を示す図である。１・・・基板、　　　　　　　２・・・下地めっき層、
３・・・Ｃｒ又はＣｒ合金下地層、４・・・Ｃｏ合金磁性層、　　５・・・保護膜、１１・
・・ターゲット、　　　　１２・・・基板、１３・・・
エロージョン領域、１５・・・ターゲット、１６・・・
エロージョン領域、１７・・・基板。Ｃｒ又はＣｒ合金下地の成膜第２回Ｃｏ合金の成膜第３回磁気ディスク（実施例）第１０Ｍ基板Ｎ１−Ｐめっき層Ｃｒ下地層Ｃｏ合金磁性層保護膜実施例の磁性層第４図比較例の磁性層第コノイズ特性（実施例）第８回磁化の強さ ■ 履歴曲線（実施例）第６図磁化の強さ履歴曲線（比較例）第７回ノイズ特性（比較例）第９＠

Claims

【特許請求の範囲】１、基板上にＣｒ又はＣｒ合金薄膜を下地層とし、その
上層にＣｏ合金磁性層を成膜し、更に上層に必要に応じ
て非磁性層、炭素薄膜層などを成膜して得る磁気記録媒
体において、Ｃｏ合金磁性層は膜面に垂直な方向より観
察される構造が平均粒径１００ｎｍ以下の粒子の集合体
であり、かつ個々の粒子によって形成される膜平面に垂
直方向の凹凸の平均の大きさが上記平均粒径寸法以下の
寸法であり、かつ該粒子は互いに隣接する粒子と少なく
とも０．５ｎｍの距離をもって隔てられた構造を有する
ことを特徴とする磁気記録媒体。２、保磁力（Ｈｃ）が１１００Ｏｅ以上で、かつ円周方
向の角型比と半径方向の角型比との間の比（異方性）が
０．８〜１．１の範囲内である請求項１記載の磁気記録
媒体。３、記録再生周波数５ＭＨｚにおけるノイズと信号出力
の比（−ｄＢ）が３５以上である請求項１又は２記載の
磁気記録媒体。