JPH0267390A - 電子の捕捉を利用したフオトクロミツク樹脂硬化物 - Google Patents
電子の捕捉を利用したフオトクロミツク樹脂硬化物Info
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野〕
本発明は、記憶素子、温度センサー、紫外線強度センサ
ー、放射線ドジメータなどに利用できる新規な高分子系
光−熱応答フォトクロミック樹脂硬化物に関する。
ー、放射線ドジメータなどに利用できる新規な高分子系
光−熱応答フォトクロミック樹脂硬化物に関する。
従来のフォトクロミック化合物は、次にあげるように光
照射による色々な反応を利用したものであり、いずれも
低分子化合物である。(繊維高分子材料研究所研究報告
、第141号、 P7〜P20(1983) 、固体物
理、 Vol、21. No、4. P49〜P54(
198B )など参照。) 従来のフォトクロミック化合物について、フォトクロミ
ズム現象の機構別に主な例(■〜■)をあげて説明する
。
照射による色々な反応を利用したものであり、いずれも
低分子化合物である。(繊維高分子材料研究所研究報告
、第141号、 P7〜P20(1983) 、固体物
理、 Vol、21. No、4. P49〜P54(
198B )など参照。) 従来のフォトクロミック化合物について、フォトクロミ
ズム現象の機構別に主な例(■〜■)をあげて説明する
。
■光開環反応を利用したフォトクロミック化合物スピロ
ピランおよびその類似体が、その代表的な化合物である
。
ピランおよびその類似体が、その代表的な化合物である
。
■シスートランス異性化反応を利用したフォトクロミッ
ク化合物 C−C,C−N5N−Nなどの不飽和二重結合の異性化
に基づくもので、チオインジゴやアゾベンゼン系がその
代表的な化合物である。
ク化合物 C−C,C−N5N−Nなどの不飽和二重結合の異性化
に基づくもので、チオインジゴやアゾベンゼン系がその
代表的な化合物である。
■水素移動の伴う互変異性化反応を利用した化合物
ケト−エノール異性化やacl→ニトロ異性化がこの種
の代表的な化合物である。
の代表的な化合物である。
■光二量化反応を利用した化合物
Y
■光閉環反応を利用した化合物
スチルベン系がこの種の代表的な化合物である。
■芳香族多環化化合物への光酸化付加反応を利用した化
合物 ■へテロ環を含む原子価異性化反応を利用した化合物 ニトロン−オキサシリジン系が代表的な化合物である。
合物 ■へテロ環を含む原子価異性化反応を利用した化合物 ニトロン−オキサシリジン系が代表的な化合物である。
■光しドックス反応を利用した化合物
〔発明が解決しようとする課題〕
従来のフォトクロミック化合物は、以上のように高分子
ではなく低分子である。このため、機能部品化やモジュ
ール化を行なう際には、適当な担体の中に該化合物を保
持・分散させる必要がある。
ではなく低分子である。このため、機能部品化やモジュ
ール化を行なう際には、適当な担体の中に該化合物を保
持・分散させる必要がある。
このような担体には、フィルムやシート状に加工しやす
いことから通常高分子材料(たとえばポリスチレンやA
BS樹脂などの熱可塑性樹脂)が用いられている。しか
しながら、高分子材料中での該化合物の保持・分散工程
は、かなり高温下で行なう必要があることや、あるいは
溶液状で加工するばあいは強い溶剤を使用しなければな
らず、フォトクロミック化合物の分解や退色の問題が生
じてく る 。
いことから通常高分子材料(たとえばポリスチレンやA
BS樹脂などの熱可塑性樹脂)が用いられている。しか
しながら、高分子材料中での該化合物の保持・分散工程
は、かなり高温下で行なう必要があることや、あるいは
溶液状で加工するばあいは強い溶剤を使用しなければな
らず、フォトクロミック化合物の分解や退色の問題が生
じてく る 。
本発明はフォトクロミック化合物そのものを高分子化し
、樹脂としてフォトクロミズム現象を発揮させるように
した、上記のような問題にとられれることのない新規な
フォトクロミズム樹脂をうろことを目的とするものであ
る。
、樹脂としてフォトクロミズム現象を発揮させるように
した、上記のような問題にとられれることのない新規な
フォトクロミズム樹脂をうろことを目的とするものであ
る。
本発明は、紫外線または電離放射線の照射により電子捕
捉サイトを形成し、捕捉電子が励起して着色し、分子鎖
のセグメント運動により捕捉電子を放出し、捕捉サイト
が消滅して消色する、含ハロゲンエポキシ化合物と芳香
族アミン系硬化剤とからえられるフォトクロミック樹脂
硬化物に関する。
捉サイトを形成し、捕捉電子が励起して着色し、分子鎖
のセグメント運動により捕捉電子を放出し、捕捉サイト
が消滅して消色する、含ハロゲンエポキシ化合物と芳香
族アミン系硬化剤とからえられるフォトクロミック樹脂
硬化物に関する。
本発明のフォトクロミック樹脂硬化物は、含ハロゲンエ
ポキシ化合物から生成した橋かけ高分子である。この含
ハロゲンエポキシ硬化物に紫外線または電離放射線を照
射すると、網目分子鎖の特定箇所に電子捕捉サイト(色
中心)が形成され、そのサイトに電子が捕捉されること
により、鮮かな着色体かえられる。えられた着色体は、
極めて大きなエネルギーギャップの色中心(サイト)に
電子が捕捉されることで生成したものであるので、常態
では長時間の安定である。消色は、網目分子鎖のセグメ
ント運動が活発になるガラス転移温度以上に熱エネルギ
ーを与えることによって行なうことができる。
ポキシ化合物から生成した橋かけ高分子である。この含
ハロゲンエポキシ硬化物に紫外線または電離放射線を照
射すると、網目分子鎖の特定箇所に電子捕捉サイト(色
中心)が形成され、そのサイトに電子が捕捉されること
により、鮮かな着色体かえられる。えられた着色体は、
極めて大きなエネルギーギャップの色中心(サイト)に
電子が捕捉されることで生成したものであるので、常態
では長時間の安定である。消色は、網目分子鎖のセグメ
ント運動が活発になるガラス転移温度以上に熱エネルギ
ーを与えることによって行なうことができる。
すなわち、本発明の樹脂硬化物(含ハロゲン化エポキシ
硬化物)は、光−熱応答性のフォトクロミック性を有す
るものである。
硬化物)は、光−熱応答性のフォトクロミック性を有す
るものである。
本発明に使用される含ハロゲンエポキシ化合物にとくに
限定はなく、一般に市販されているものを用いることが
できるが、電子捕捉サイトの数およびそれに由来する着
色度の制御の容易さの点から、ハロゲン含量5〜50重
量%のものが好ましい。
限定はなく、一般に市販されているものを用いることが
できるが、電子捕捉サイトの数およびそれに由来する着
色度の制御の容易さの点から、ハロゲン含量5〜50重
量%のものが好ましい。
その代表例としては、たとえば
(A)テトラブロムビスフェノールAとエピクロロヒド
リンとの反応物、 (B)ビスフェノールA型エポキシ樹脂とテトラブロム
ビスフェノールAとの反応物、 (C)ブロム化フェノールノボラックとエピクロロヒド
リンとの反応物、 (D)ブロム化メチルフェノールとエピクロロヒドリン
との反応物、 (E)臭素化されていない通常のエポキシ樹脂、たとえ
ばビスフェノールAジグリシジルエーテル、脂環式エポ
キシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂などと、臭素化さ
れた前記図〜(DJのハロゲン化エポキシ樹脂との混合
物 などがあげられる。なお、混合比はBr含有量が少なく
とも5重量%以上になるように配合されることが必要で
ある。
リンとの反応物、 (B)ビスフェノールA型エポキシ樹脂とテトラブロム
ビスフェノールAとの反応物、 (C)ブロム化フェノールノボラックとエピクロロヒド
リンとの反応物、 (D)ブロム化メチルフェノールとエピクロロヒドリン
との反応物、 (E)臭素化されていない通常のエポキシ樹脂、たとえ
ばビスフェノールAジグリシジルエーテル、脂環式エポ
キシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂などと、臭素化さ
れた前記図〜(DJのハロゲン化エポキシ樹脂との混合
物 などがあげられる。なお、混合比はBr含有量が少なく
とも5重量%以上になるように配合されることが必要で
ある。
前記(A)の具体例としては、油化シェルエポキシ■製
のエピコー) 5050、エビコー) 5050−T−
80。
のエピコー) 5050、エビコー) 5050−T−
80。
エピコート5051F 、エピコー) 50518など
、(B)の具体例としては、同社製のエピコート504
5−B−80、エピコート504B−A−70、エピコ
ート5048−B−70、エピコート5049−8−7
0 、ダウケミカル社製のDER−511−A−80、
DER−542、住友化学工業■製のEBL−240、
EX−248−870など、(C) (7)具体例とじ
ては、日本化薬■製のBRENなど、(D)の具体例と
しては、同社製のBROCSBR−250などがあげら
れる。
、(B)の具体例としては、同社製のエピコート504
5−B−80、エピコート504B−A−70、エピコ
ート5048−B−70、エピコート5049−8−7
0 、ダウケミカル社製のDER−511−A−80、
DER−542、住友化学工業■製のEBL−240、
EX−248−870など、(C) (7)具体例とじ
ては、日本化薬■製のBRENなど、(D)の具体例と
しては、同社製のBROCSBR−250などがあげら
れる。
これらの含ハロゲンエポキシ化合物は、単独で用いても
よく、適宜、粘度調節、含ハロゲン化量の調整などを目
的として2種以上併用してもよい。
よく、適宜、粘度調節、含ハロゲン化量の調整などを目
的として2種以上併用してもよい。
さらに粘度などの作業性の改善や、硬化物の物性、たと
えば機械的性質、耐熱軟化性などの調節のために、たと
えばビスフェノールAジグリシジルエーテル(たとえば
油化シェル■製のエピコート828、エピコート100
1.エピコート1004など)などの通常のエポキシ樹
脂、特殊グレード系の環状脂肪族エポキシ樹脂(たとえ
ばチバガイギー社製のCY−175、CY−177、C
Y−179など)、グリシジルエステル樹脂(たとえば
チバガイギー社製のCF−182、CF−184、昭和
電工■製のショーダイン508、大日本インキ化学工業
■製のエピクロン2001エビクロン 400など)な
どを併用してもよい。なお、これらのエポキシ化合物の
具体例は、いずれも商品名である。
えば機械的性質、耐熱軟化性などの調節のために、たと
えばビスフェノールAジグリシジルエーテル(たとえば
油化シェル■製のエピコート828、エピコート100
1.エピコート1004など)などの通常のエポキシ樹
脂、特殊グレード系の環状脂肪族エポキシ樹脂(たとえ
ばチバガイギー社製のCY−175、CY−177、C
Y−179など)、グリシジルエステル樹脂(たとえば
チバガイギー社製のCF−182、CF−184、昭和
電工■製のショーダイン508、大日本インキ化学工業
■製のエピクロン2001エビクロン 400など)な
どを併用してもよい。なお、これらのエポキシ化合物の
具体例は、いずれも商品名である。
本発明に使用される芳香族アミン系硬化剤の具体例とし
ては、たとえばメタフェニレンジアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、4−ク
ロロ−〇−フェニレンジアミン、ジアミノジエチルジフ
ェニルメタンなどがあげられる。
ては、たとえばメタフェニレンジアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、4−ク
ロロ−〇−フェニレンジアミン、ジアミノジエチルジフ
ェニルメタンなどがあげられる。
芳香族アミン系硬化剤を用いたばあい、一般にエポキシ
樹脂の硬化剤として使用される酸無水物、他のアミン系
化合物、潜在性硬化剤などを用いたばあいフォトクロミ
ック性を示さないのに比べて優れたフォトクロミック性
が発揮されるが、その理由については、後述する式(■
〜■−2)で示される光化学素反応課程の経路での電子
の放出が安定に行なわれるためであると考えられる。
樹脂の硬化剤として使用される酸無水物、他のアミン系
化合物、潜在性硬化剤などを用いたばあいフォトクロミ
ック性を示さないのに比べて優れたフォトクロミック性
が発揮されるが、その理由については、後述する式(■
〜■−2)で示される光化学素反応課程の経路での電子
の放出が安定に行なわれるためであると考えられる。
またこれら芳香族アミン系硬化剤に、脂肪族ジアミンや
ポリアミン系化合物を組合わせた硬化剤系としてもよく
、硬化促進の触媒として第3アミン類を少量配合した硬
化剤系としてもよい。このばあい、硬化剤中の芳香族ア
ミン系硬化剤の割合は、有効なフォトクロミズム性をそ
こなわないようにするため50ffiffi%以上が好
ましい。
ポリアミン系化合物を組合わせた硬化剤系としてもよく
、硬化促進の触媒として第3アミン類を少量配合した硬
化剤系としてもよい。このばあい、硬化剤中の芳香族ア
ミン系硬化剤の割合は、有効なフォトクロミズム性をそ
こなわないようにするため50ffiffi%以上が好
ましい。
アミン系硬化剤の配合割合は、アミノ基1個に対しエポ
キシ樹脂のオキシラン環が2〜4個になるような割合が
好ましい。
キシ樹脂のオキシラン環が2〜4個になるような割合が
好ましい。
本発明のフォトクロミック樹脂硬化物は、前記含ハロゲ
ンエポキシ化合物および芳香族アミン系硬化剤と、要す
れば使用される他のエポキシ化合物やアミン系硬化剤と
を混合し、常温ないし80〜150℃で数時間加熱し、
所望の形状に硬化させることによりうろことができる。
ンエポキシ化合物および芳香族アミン系硬化剤と、要す
れば使用される他のエポキシ化合物やアミン系硬化剤と
を混合し、常温ないし80〜150℃で数時間加熱し、
所望の形状に硬化させることによりうろことができる。
えられる樹脂硬化物のガラス転移温度は、通常70〜2
00℃である。
00℃である。
しかして、えられる本発明のフォトクロミック樹脂硬化
物は、紫外線または電離放射線の照射によって極めて鮮
かな着色体になる。この紫外線照射は、キセノンランプ
、低圧〜超高圧水銀灯などの紫外線を発生する装置を用
い、100mW/cシ程度以上の紫外線強度積分値の照
射が好ましい。電離放射線の照射は、’Id 、 Cr
などをターゲットとする通常のX線発生装置、60CO
T線源などγ線を発生する装置、線型加速器などの電子
線発生装置などを用い、100レントゲン(R)以上の
照射線量が好ましい。
物は、紫外線または電離放射線の照射によって極めて鮮
かな着色体になる。この紫外線照射は、キセノンランプ
、低圧〜超高圧水銀灯などの紫外線を発生する装置を用
い、100mW/cシ程度以上の紫外線強度積分値の照
射が好ましい。電離放射線の照射は、’Id 、 Cr
などをターゲットとする通常のX線発生装置、60CO
T線源などγ線を発生する装置、線型加速器などの電子
線発生装置などを用い、100レントゲン(R)以上の
照射線量が好ましい。
また消色は、通常硬化物のガラス転移温度(Tg)以上
の温度に曝すことによって行なえばよい。このことは、
換言すれば、たとえばTgが100℃の硬化物のばあい
、熱湯環境に曝されなければ数年以上の着色体の安定性
を確保しうろことを意味するものである。
の温度に曝すことによって行なえばよい。このことは、
換言すれば、たとえばTgが100℃の硬化物のばあい
、熱湯環境に曝されなければ数年以上の着色体の安定性
を確保しうろことを意味するものである。
以下、本発明のフォトクロミック樹脂硬化物を実施例に
基づき、さらに具体的に説明する。
基づき、さらに具体的に説明する。
実施例1
ビスフェノール型のBr化エポキシ化合物(住友化学工
業■製、商品名EBL−240、エポキシ当量2401
臭素含有率25%)とジアミノジフェニルメタン(DA
M)を、モル比1:0.5の配合比で混合し、温水浴中
で溶解し、真空脱気後、ポリプロピレンフィルムをはり
つけた2枚のガラス板間にはさみこみ、80℃で10時
間予備加熱し、その後さらに120℃で4時間の本加熱
を経て硬化させ、厚さ約100μの硬化シートをえた。
業■製、商品名EBL−240、エポキシ当量2401
臭素含有率25%)とジアミノジフェニルメタン(DA
M)を、モル比1:0.5の配合比で混合し、温水浴中
で溶解し、真空脱気後、ポリプロピレンフィルムをはり
つけた2枚のガラス板間にはさみこみ、80℃で10時
間予備加熱し、その後さらに120℃で4時間の本加熱
を経て硬化させ、厚さ約100μの硬化シートをえた。
この硬化シートは肉眼で観察すると無色透明であり、針
入度−温度曲線より求めたガラス転移温度(Tg)は1
35℃であった。
入度−温度曲線より求めたガラス転移温度(Tg)は1
35℃であった。
えられた硬化シートのフォトクロミズム現象をつぎのよ
うにして調べた。結果を第1〜6図に示す。
うにして調べた。結果を第1〜6図に示す。
(可視分光スペクトル)
えられた硬化シート(2cmX4c■)は無色透明で可
視波長領域に吸収ピークはなかったが(第1図)、1k
Wキセノンランプで約100m W・秒/C−の紫外線
を照射すると、834nmにピークをもつ吸収があられ
れ(第2図)、青色を呈した。この青色に着色した硬化
シートを140℃のオーブン中で加熱すると、約1分後
に元の吸収ピークのない(第1図)無色透明の硬化シー
トにもどった。
視波長領域に吸収ピークはなかったが(第1図)、1k
Wキセノンランプで約100m W・秒/C−の紫外線
を照射すると、834nmにピークをもつ吸収があられ
れ(第2図)、青色を呈した。この青色に着色した硬化
シートを140℃のオーブン中で加熱すると、約1分後
に元の吸収ピークのない(第1図)無色透明の硬化シー
トにもどった。
(電子スピン共鳴スペクトル)
無色透明の硬化シートの電子スピン共鳴(以下、ESR
という)スペクトルを測定すると、非常に小さいピーク
を示すのみであったが(第3図)、これに前記と同じ条
件で紫外線を照射したのちESRスペクトルを測定する
と、大きな対称性のよい1本のピークを示した(第4図
)。
という)スペクトルを測定すると、非常に小さいピーク
を示すのみであったが(第3図)、これに前記と同じ条
件で紫外線を照射したのちESRスペクトルを測定する
と、大きな対称性のよい1本のピークを示した(第4図
)。
この紫外線照射された硬化シートを140℃に加熱する
と、紫外線照射前と同じESRスペクトル(第3図)を
示す無色透明の樹脂にもどった。
と、紫外線照射前と同じESRスペクトル(第3図)を
示す無色透明の樹脂にもどった。
第1〜4図に示す可視分光スペクトルとESRスペクト
ルとの対比から紫外線照射により不対電子が生成し、1
40℃に加熱されると消滅することがわかる。
ルとの対比から紫外線照射により不対電子が生成し、1
40℃に加熱されると消滅することがわかる。
この紫外線照射後の分光特性とESRスペクトルの関係
を詳細に示したものが、第5図および第6図である。第
5図は照射量とH4na+lこおける吸光度およびES
R信号強度とが直線関係、すなわち比例関係にあること
を示す。また、第6図は可視吸光度(634ns) 、
すなわち着色度合とESR信号強度、すなわち不対電子
対の量とが直線関係にあり、よく対応することを示すも
のである。
を詳細に示したものが、第5図および第6図である。第
5図は照射量とH4na+lこおける吸光度およびES
R信号強度とが直線関係、すなわち比例関係にあること
を示す。また、第6図は可視吸光度(634ns) 、
すなわち着色度合とESR信号強度、すなわち不対電子
対の量とが直線関係にあり、よく対応することを示すも
のである。
以上のように、紫外線照射後の硬化物シートにおいて、
■可視吸光度とESR信号強度によく相関性があること
■ガラス転移温度以上に加熱しない限り、ESI?強度
が減衰しないこと ■ESRスペクトルが1本の幅広いガラス型の吸収線を
示すこと ■可視分光スペクトルが幅広い吸収ピークを示すこと などから、実施例1のフォトクロミック樹脂組成物の硬
化物は、次の式(■〜■−2)で示される素過程から捕
捉サイトの形成とそこに捕捉される電子の励起により着
色体を形成するものである。
が減衰しないこと ■ESRスペクトルが1本の幅広いガラス型の吸収線を
示すこと ■可視分光スペクトルが幅広い吸収ピークを示すこと などから、実施例1のフォトクロミック樹脂組成物の硬
化物は、次の式(■〜■−2)で示される素過程から捕
捉サイトの形成とそこに捕捉される電子の励起により着
色体を形成するものである。
すなわち、含ハロゲンエポキシ硬化物に紫外線を照射す
ると式(1)に示すように、Br化フェノキシr (CH2・)が生成する。メチレンラジカルは式(n−
1)に示すようにプロトン(11・)を放出する。
ると式(1)に示すように、Br化フェノキシr (CH2・)が生成する。メチレンラジカルは式(n−
1)に示すようにプロトン(11・)を放出する。
一方Br化フェノキシラジカルは式(ll−2)に示す
ような共鳴構造をとり安定化する。式(ll−1)に示
される放出されたプロトン(11・)は硬化剤として使
われている芳香族アミンにアタックし、アンモニウムイ
オンを生成するとともに、励起上の電^
電子(e )を放
出する。この(e )はBr化フェノキシラジカルと
反応し、式(IV−1)に示すように、キノン構造をと
り安定化するとともに、式(IV −2二に示すように
フリーの電子(e−)となる。このフリーの電子が式(
n−2)に示されるBr化フェノキシイオン構造におけ
る一Br+にとりかこまれ、捕捉されることになる。
ような共鳴構造をとり安定化する。式(ll−1)に示
される放出されたプロトン(11・)は硬化剤として使
われている芳香族アミンにアタックし、アンモニウムイ
オンを生成するとともに、励起上の電^
電子(e )を放
出する。この(e )はBr化フェノキシラジカルと
反応し、式(IV−1)に示すように、キノン構造をと
り安定化するとともに、式(IV −2二に示すように
フリーの電子(e−)となる。このフリーの電子が式(
n−2)に示されるBr化フェノキシイオン構造におけ
る一Br+にとりかこまれ、捕捉されることになる。
実施例2〜4
ビスフェノール型のBr化エポキシ化合物に粘度調節ま
たは含ハロゲン化量の調整のため、希釈剤としてバラ−
1−ブチルフェニルグリシジルエーテルを第1表に示す
ように配合したものをエポキシ化合物として使用したほ
かは、実施例1と同様にして硬化シートをえた。
たは含ハロゲン化量の調整のため、希釈剤としてバラ−
1−ブチルフェニルグリシジルエーテルを第1表に示す
ように配合したものをエポキシ化合物として使用したほ
かは、実施例1と同様にして硬化シートをえた。
えられた硬化シートは実施例1と同様の光−熱応答フオ
ドクロミズム現象を示した。
ドクロミズム現象を示した。
第
(1):
主剤EBL−240(MW
480、
[2) : 希釈剤P−TBPGE(MW20B)表
Br25%)
実施例5〜7および比較例1
主剤のエポキシ化合物として臭素化されていないビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂EPON−828、希釈剤と
して臭素化されたエポキシ化合物であるBr化フェニル
グリシジルエーテルを第2表に示すように配合したもの
を用い、硬化剤としてジアミノジフェニルメタンを用い
て実施例1と同様にして硬化シートを作製した。
ェノールA型エポキシ樹脂EPON−828、希釈剤と
して臭素化されたエポキシ化合物であるBr化フェニル
グリシジルエーテルを第2表に示すように配合したもの
を用い、硬化剤としてジアミノジフェニルメタンを用い
て実施例1と同様にして硬化シートを作製した。
えられた硬化シートのうち、実施例5〜7の硬化シート
は、実施例1と同様の光−熱応答フォトクロミズム現象
を示したが比較例1の硬化シートは、臭素を含まないた
めフォトクロミズム現象は第 2 表 (3):主剤 EPON−828(MWa80)(4)
:希釈剤 BR−250(MV30g、Br 50〜5
3%)実施例8〜10 含ハロゲンエポキシ化合物としてブロム化フェノールノ
ボラックとエビクロロヒドリンとの反応物(日本化薬■
製、商品名BREN、エポキシ当量280 、Br含有
率36%)を用い、硬化剤としてメタフェニレンジアミ
ン、ジアミノジフェニルスルフォンまたはジアミノジフ
ェニルメタンを第3表に示すように用いた。
は、実施例1と同様の光−熱応答フォトクロミズム現象
を示したが比較例1の硬化シートは、臭素を含まないた
めフォトクロミズム現象は第 2 表 (3):主剤 EPON−828(MWa80)(4)
:希釈剤 BR−250(MV30g、Br 50〜5
3%)実施例8〜10 含ハロゲンエポキシ化合物としてブロム化フェノールノ
ボラックとエビクロロヒドリンとの反応物(日本化薬■
製、商品名BREN、エポキシ当量280 、Br含有
率36%)を用い、硬化剤としてメタフェニレンジアミ
ン、ジアミノジフェニルスルフォンまたはジアミノジフ
ェニルメタンを第3表に示すように用いた。
BRENおよびいずれの硬化剤も室温では固形であるの
で、それぞれBREN 1モルと硬化剤0.5モルと
をメチルエチルケトンに固形分50重量%となるように
溶解して溶液とし、さらに硬化促進剤として2,4.8
−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール(DMP
−30)を固形分100重量部に対し3重量部添加した
。
で、それぞれBREN 1モルと硬化剤0.5モルと
をメチルエチルケトンに固形分50重量%となるように
溶解して溶液とし、さらに硬化促進剤として2,4.8
−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール(DMP
−30)を固形分100重量部に対し3重量部添加した
。
この溶液を錫メツキ鋼板にナイフコーターで厚さ約20
0μになるように塗布し、そのまま室温で3日間放置し
、溶剤であるメチルエチルケトンを揮散させると同時に
樹脂組成物をゲル化させた。
0μになるように塗布し、そのまま室温で3日間放置し
、溶剤であるメチルエチルケトンを揮散させると同時に
樹脂組成物をゲル化させた。
つぎにこのゲル化塗膜が付着した鋼板を、80”Cのオ
ーブン中で10時間、ついで120℃で4時間加熱して
硬化させた。硬化塗膜を水銀アマルガム法で鋼板よりは
がし取り、厚さ約100μの透明なフィルムをえた。
ーブン中で10時間、ついで120℃で4時間加熱して
硬化させた。硬化塗膜を水銀アマルガム法で鋼板よりは
がし取り、厚さ約100μの透明なフィルムをえた。
えられたフィルムは実施例1と同様の光−熱応実施例1
1〜20および比較例2 実施例1〜10および比較例1でえられた11種類のエ
ポキシ硬化物に、約10レントゲン/分の線量率のX線
を30分間照射すると、第4表に示すように実施例1〜
lOのエポキシ硬化物は、各々実施例1と同様に着色し
、X線−熱応答フオドクロミズム性を示した。ここで行
なったX線照射の詳細な条件は、つぎのとおりである。
1〜20および比較例2 実施例1〜10および比較例1でえられた11種類のエ
ポキシ硬化物に、約10レントゲン/分の線量率のX線
を30分間照射すると、第4表に示すように実施例1〜
lOのエポキシ硬化物は、各々実施例1と同様に着色し
、X線−熱応答フオドクロミズム性を示した。ここで行
なったX線照射の詳細な条件は、つぎのとおりである。
エックス線発生装置:螢光X線分析装置用ロジウム管
管電圧 : 50kV
管電流 : 50mA
照射線量率 :約lθレントゲン(R)/分照射
時間 :30分 〔発明の効果〕 以上のように、本発明のフォトクロミック樹脂硬化物は
、樹脂そのものに電子捕捉サイトが形成され、捕捉電子
の励起により着色する。したがって、従来の低分子のフ
ォトクロミック化合物のように、機能部品化やモジュー
ル化を行なう際に、高温下または強い溶剤を使って高分
子材料中に保持・分散させる必要がないため、分解や退
色を生じさせることなくフィルムやシート状に加工でき
る。
時間 :30分 〔発明の効果〕 以上のように、本発明のフォトクロミック樹脂硬化物は
、樹脂そのものに電子捕捉サイトが形成され、捕捉電子
の励起により着色する。したがって、従来の低分子のフ
ォトクロミック化合物のように、機能部品化やモジュー
ル化を行なう際に、高温下または強い溶剤を使って高分
子材料中に保持・分散させる必要がないため、分解や退
色を生じさせることなくフィルムやシート状に加工でき
る。
第1図および第2図は、いずれも本発明のフォトクロミ
ック樹脂硬化物の一実施例の可視分光スペクトルを示す
グラフ、第3図および第4図は、いずれも該樹脂硬化物
のESRスペクトルを示すグラフ、第5図は紫外線照射
量と可視吸光度(834rv)およびESR信号強度と
の関係を示すグラフ、第6図は可視吸光度(H4nm)
とESR信号強度との関係を示すグラフである。 第1 因 波 長 (nm) 才3図 磁場強度(ガウス) 第5図 量(mW/Crr12) 第2図 100.0 0cLO 波 長 (nm) 第4図 0CLO 磁場強度(ガウス] 手 続 補 正 書(自発) 才60
ック樹脂硬化物の一実施例の可視分光スペクトルを示す
グラフ、第3図および第4図は、いずれも該樹脂硬化物
のESRスペクトルを示すグラフ、第5図は紫外線照射
量と可視吸光度(834rv)およびESR信号強度と
の関係を示すグラフ、第6図は可視吸光度(H4nm)
とESR信号強度との関係を示すグラフである。 第1 因 波 長 (nm) 才3図 磁場強度(ガウス) 第5図 量(mW/Crr12) 第2図 100.0 0cLO 波 長 (nm) 第4図 0CLO 磁場強度(ガウス] 手 続 補 正 書(自発) 才60
Claims (1)
- (1)紫外線または電離放射線の照射により電子捕捉サ
イトを形成し、捕捉電子が励起して着色し、分子鎖のセ
グメント運動により捕捉電子を放出し、捕捉サイトが消
滅して消色する、含ハロゲンエポキシ化合物と芳香族ア
ミン系硬化剤とからえられる電子の捕捉を利用したフォ
トクロミック樹脂硬化物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21871988A JPH0267390A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 電子の捕捉を利用したフオトクロミツク樹脂硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21871988A JPH0267390A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 電子の捕捉を利用したフオトクロミツク樹脂硬化物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0267390A true JPH0267390A (ja) | 1990-03-07 |
Family
ID=16724367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21871988A Pending JPH0267390A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 電子の捕捉を利用したフオトクロミツク樹脂硬化物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0267390A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH055021A (ja) * | 1990-08-03 | 1993-01-14 | Hitachi Chem Co Ltd | クロミツク用樹脂、クロミツク樹脂、クロミツク樹脂組成物、これらの製造法及びクロミツク用樹脂組成物 |
JP2016527383A (ja) * | 2013-08-12 | 2016-09-08 | ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンHenkel AG & Co. KGaA | 力学応答性組成物 |
-
1988
- 1988-08-31 JP JP21871988A patent/JPH0267390A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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