JPH026595A - 高濃度石炭・水スラリーの製造方法 - Google Patents
高濃度石炭・水スラリーの製造方法Info
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- JPH026595A JPH026595A JP15761388A JP15761388A JPH026595A JP H026595 A JPH026595 A JP H026595A JP 15761388 A JP15761388 A JP 15761388A JP 15761388 A JP15761388 A JP 15761388A JP H026595 A JPH026595 A JP H026595A
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 40
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- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 claims abstract description 18
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- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 5
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- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
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Landscapes
- Liquid Carbonaceous Fuels (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、第１タワーミルによって湿式微粉砕処理した
高濃度石炭・水スラリーを、第２タワーミルによって湿
式微粉砕処理する高濃度石炭・水スラリー〇製造方法に
関する。
高濃度石炭・水スラリーを、第２タワーミルによって湿
式微粉砕処理する高濃度石炭・水スラリー〇製造方法に
関する。
従来、第２図に示すように、粗粉砕機（４）からの高濃
度石炭・水スラリーを第１タワーミル（６）によって湿
式微粉砕処理し、第１タワーミル（６）からの高濃度石
炭・水スラリーを第１沈降分離槽（７）で処理して、第
１沈降分離槽（７）の底部から第１タワーミル（６）に
粗粉含有の高濃度石炭・水スラリーをポンプ（Ｐ）付第
１流路（８）で還元供給し、第１沈降分離槽（７）の上
部から第２タワーミル（９）に高濃度石炭・水スラ、リ
ーを供給し、さらに、第２タワーミル（９）からの高濃
度石炭・水スラリーを第２沈降分離槽（１２）で処理し
て、第２沈降分離槽（１２）の底部から第２タワーミル
（９）に高濃度石炭・水スラリーをポンプ（Ｐ）付第２
流路（１３）で還元供給し、第２沈降分離槽（１２）の
上部からの高濃度石炭・水スラリ−を製品として回収し
たいた。
度石炭・水スラリーを第１タワーミル（６）によって湿
式微粉砕処理し、第１タワーミル（６）からの高濃度石
炭・水スラリーを第１沈降分離槽（７）で処理して、第
１沈降分離槽（７）の底部から第１タワーミル（６）に
粗粉含有の高濃度石炭・水スラリーをポンプ（Ｐ）付第
１流路（８）で還元供給し、第１沈降分離槽（７）の上
部から第２タワーミル（９）に高濃度石炭・水スラ、リ
ーを供給し、さらに、第２タワーミル（９）からの高濃
度石炭・水スラリーを第２沈降分離槽（１２）で処理し
て、第２沈降分離槽（１２）の底部から第２タワーミル
（９）に高濃度石炭・水スラリーをポンプ（Ｐ）付第２
流路（１３）で還元供給し、第２沈降分離槽（１２）の
上部からの高濃度石炭・水スラリ−を製品として回収し
たいた。
しかし、第１及び第２流路（８）、 （１３）のポンプ
（Ｐ）は、かなり高いタワーミル（６）、（９）の底部
に高圧に抗して高濃度石炭・水スラリーを押込むために
、かなり高吐出圧型のものが必要であり、高吐出圧型の
ポンプ（Ｐ）を２台設けているために、設備費及び運転
経費が高くなる欠点があった。
（Ｐ）は、かなり高いタワーミル（６）、（９）の底部
に高圧に抗して高濃度石炭・水スラリーを押込むために
、かなり高吐出圧型のものが必要であり、高吐出圧型の
ポンプ（Ｐ）を２台設けているために、設備費及び運転
経費が高くなる欠点があった。
本発明の目的は、ポンプに要する設備経費及び運転経費
を大巾に減少する点にある。
を大巾に減少する点にある。
本発明の特徴手段は、第１タワーミルからの高濃度石炭
・水スラリーのみを沈降分離槽で処理して、その沈降分
離槽の底部から前記第１タワーミルに粗粉含有の高濃度
石炭・水スラリーをポンプ付流路で還元供給すると共に
、前記沈降分離槽の上部から第２タワーミルに高濃度石
炭・水スラリーを供給し、前記竿２タワーミルからの高
濃度石炭・水スラリーの全量を製品として回収すること
にあり、その作用効果は次の通りである。
・水スラリーのみを沈降分離槽で処理して、その沈降分
離槽の底部から前記第１タワーミルに粗粉含有の高濃度
石炭・水スラリーをポンプ付流路で還元供給すると共に
、前記沈降分離槽の上部から第２タワーミルに高濃度石
炭・水スラリーを供給し、前記竿２タワーミルからの高
濃度石炭・水スラリーの全量を製品として回収すること
にあり、その作用効果は次の通りである。
つまり、沈降分離槽からタワーミルへの高濃度石炭・水
スラリーの還元供給が製品の粒度に対していかなる影響
を及ぼしているかを、実験で再確認したところ、前述の
従来技術のように第１及び第２タワーミルの両方で高濃
度石炭・水スラリーを還元供給した場合、７４μｍ以下
の粒度のものが８２％程度であり、本発明のように第１
タワーミルだけで高濃度石炭・水スラリーを還元供給し
て、第２タワーミルでは高濃度石炭・水スラリーの還元
供給を省略した場合、７４μｍ以下の粒度のものが８５
％程度であり、いずれの場合も製品の品質は大差無く、
むしろ本発明によれば粉砕効率を向上できる事実を新し
く見出したのである。
スラリーの還元供給が製品の粒度に対していかなる影響
を及ぼしているかを、実験で再確認したところ、前述の
従来技術のように第１及び第２タワーミルの両方で高濃
度石炭・水スラリーを還元供給した場合、７４μｍ以下
の粒度のものが８２％程度であり、本発明のように第１
タワーミルだけで高濃度石炭・水スラリーを還元供給し
て、第２タワーミルでは高濃度石炭・水スラリーの還元
供給を省略した場合、７４μｍ以下の粒度のものが８５
％程度であり、いずれの場合も製品の品質は大差無く、
むしろ本発明によれば粉砕効率を向上できる事実を新し
く見出したのである。
かかる新知見に基づいて、第２タワーミルでの高濃度石
炭・水スラリーの還元供給を無くすことによって、その
還元供給のための高吐出圧型ポンプを不必要にでき、ポ
ンプに要する設備経費及び運転経費を半減できた。
炭・水スラリーの還元供給を無くすことによって、その
還元供給のための高吐出圧型ポンプを不必要にでき、ポ
ンプに要する設備経費及び運転経費を半減できた。
その結果、製品の品質を良好に維持しながら、製造コス
トを十分に低減でき、品質良好な高濃度石炭・水スラリ
ーを安価に提供できるようになった。
トを十分に低減でき、品質良好な高濃度石炭・水スラリ
ーを安価に提供できるようになった。
次に、第１図により実施例を示す。
ホラパーク１）からの原料石炭、第１タンク（２）から
の水、第２タンク（３）からの添加剤を適量づつ湿式粗
粉砕機（４）に供給し、湿式粗粉砕機（４）によって高
濃度石炭・水スラリーを造る。
の水、第２タンク（３）からの添加剤を適量づつ湿式粗
粉砕機（４）に供給し、湿式粗粉砕機（４）によって高
濃度石炭・水スラリーを造る。
原料石炭は一般に粒径が５０〜６０ｍｍ以下のものであ
り、石炭と水の配合比は、一般に石炭重量濃度で６０〜
７５％程度になるように調整する。
り、石炭と水の配合比は、一般に石炭重量濃度で６０〜
７５％程度になるように調整する。
湿式粗粉砕機（４）で得られた高濃度石炭・水スラリー
を、ポンプ（Ｐ）付管路（５）で第１タワーミル（６）
の底部に押込み供給して微粉砕処理する。
を、ポンプ（Ｐ）付管路（５）で第１タワーミル（６）
の底部に押込み供給して微粉砕処理する。
第１タワーミル（６）の上部からの微粉砕処理した高濃
度石炭・水スラリーを、沈降分離槽（７）に供給して処
理し、沈降分離槽（７）の底部から第１タワーミル（６
） の底部に粗粉含有の高濃度石炭・水スラリーをポン
プ（Ｐ）併流路（８）で還元供給すると共に、沈降分離
槽（７）の上部から第２タワーミル（９）の底部に粗粉
除去した高濃度石炭・水スラリーをポンプ（Ｐ）併流路
（１０）で押込み供給する。
度石炭・水スラリーを、沈降分離槽（７）に供給して処
理し、沈降分離槽（７）の底部から第１タワーミル（６
） の底部に粗粉含有の高濃度石炭・水スラリーをポン
プ（Ｐ）併流路（８）で還元供給すると共に、沈降分離
槽（７）の上部から第２タワーミル（９）の底部に粗粉
除去した高濃度石炭・水スラリーをポンプ（Ｐ）併流路
（１０）で押込み供給する。
第２タワーミル（９）の上部からの微粉砕処理した高濃
度石炭・水スラリーの全量を製品としてタンク（１１）
に回収する。
度石炭・水スラリーの全量を製品としてタンク（１１）
に回収する。
第１図は本発明の実施例を示すフローシートであり、第
２図は従来例のフローシートである。 （６）・・・・・・第１タワーミル、（７）・・・・・
・沈降分離槽、（８）・・・・・・流路、（９）・・・
・・・第２タワーミノペ（Ｐ）・・・・・・ポンプ。
２図は従来例のフローシートである。 （６）・・・・・・第１タワーミル、（７）・・・・・
・沈降分離槽、（８）・・・・・・流路、（９）・・・
・・・第２タワーミノペ（Ｐ）・・・・・・ポンプ。
Claims (1)
- 第１タワーミル（６）によって湿式微粉砕処理した高濃
度石炭・水スラリーを、第２タワーミル（９）によって
湿式微粉砕処理する高濃度石炭・水スラリーの製造方法
であって、前記第１タワーミル（６）からの高濃度石炭
・水スラリーのみを沈降分離槽（７）で処理して、その
沈降分離槽（７）の底部から前記第１タワーミル（６）
に粗粉含有の高濃度石炭・水スラリーをポンプ（Ｐ）付
流路（８）で還元供給すると共に、前記沈降分離槽（７
）の上部から前記第２タワーミル（９）に高濃度石炭・
水スラリーを供給し、前記第２タワーミル（９）からの
高濃度石炭・水スラリーの全量を製品として回収する高
濃度石炭・水スラリーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15761388A JP2506411B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 高濃度石炭・水スラリ―の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15761388A JP2506411B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 高濃度石炭・水スラリ―の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH026595A true JPH026595A (ja) | 1990-01-10 |
| JP2506411B2 JP2506411B2 (ja) | 1996-06-12 |
Family
ID=15653557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15761388A Expired - Lifetime JP2506411B2 (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 高濃度石炭・水スラリ―の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2506411B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5382778A (en) * | 1991-11-26 | 1995-01-17 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Non-contact IC card |
| WO2014187824A1 (en) | 2013-05-21 | 2014-11-27 | Flsmidth A/S | Methods and apparatus for the continuous monitoring of wear in grinding circuits |
-
1988
- 1988-06-24 JP JP15761388A patent/JP2506411B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5382778A (en) * | 1991-11-26 | 1995-01-17 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Non-contact IC card |
| WO2014187824A1 (en) | 2013-05-21 | 2014-11-27 | Flsmidth A/S | Methods and apparatus for the continuous monitoring of wear in grinding circuits |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2506411B2 (ja) | 1996-06-12 |
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