JPH02639B2 - - Google Patents
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- JPH02639B2 JPH02639B2 JP8692781A JP8692781A JPH02639B2 JP H02639 B2 JPH02639 B2 JP H02639B2 JP 8692781 A JP8692781 A JP 8692781A JP 8692781 A JP8692781 A JP 8692781A JP H02639 B2 JPH02639 B2 JP H02639B2
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- cleaning
- cleaning liquid
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28G—CLEANING OF INTERNAL OR EXTERNAL SURFACES OF HEAT-EXCHANGE OR HEAT-TRANSFER CONDUITS, e.g. WATER TUBES OR BOILERS
- F28G9/00—Cleaning by flushing or washing, e.g. with chemical solvents
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、有機物の熱分解工程から発生する熱
分解ガスなど、粉じん及び／又は油・タール（以
下粉じんと称する）を含有する高温ガスを冷却・
洗浄して得られる洗浄液を冷却するための熱交換
器の洗浄方法に関するものである。
分解ガスなど、粉じん及び／又は油・タール（以
下粉じんと称する）を含有する高温ガスを冷却・
洗浄して得られる洗浄液を冷却するための熱交換
器の洗浄方法に関するものである。
一般に、都市ごみ、バイオマス、石炭などの有
機物を熱分解油化またはガス化する工程から発生
する熱分解ガスは、洗浄集じん器などの洗浄装置
により冷却・洗浄され、洗浄液は熱交換器で冷却
されたのち前記洗浄装置に返送され、循環使用に
供される。
機物を熱分解油化またはガス化する工程から発生
する熱分解ガスは、洗浄集じん器などの洗浄装置
により冷却・洗浄され、洗浄液は熱交換器で冷却
されたのち前記洗浄装置に返送され、循環使用に
供される。
このような洗浄液には前記熱交換器の被冷却側
の伝熱面にスケール等を発生させる物質が混入し
ているため、洗浄装置の運転を長期間続行する間
に前記伝熱面に徐々にスケール等が付着し、熱交
換器の冷却能力が低下する。
の伝熱面にスケール等を発生させる物質が混入し
ているため、洗浄装置の運転を長期間続行する間
に前記伝熱面に徐々にスケール等が付着し、熱交
換器の冷却能力が低下する。
従来このような場合、工程全体の運転の停止時
に高圧の空気あるいは水などを用いて掃除を行う
か又は予備の熱交換器に運転を切り替えて同様の
掃除を行つていた。しかしながら、予備の熱交換
器を設けない場合は、前記掃除作業の頻度の少な
くするために大型の、伝熱面積の大きな熱交換器
を必要とし、したがつて設備費が高価となるばか
りでなく、掃除作業費用も多額になるなどの問題
点がある。
に高圧の空気あるいは水などを用いて掃除を行う
か又は予備の熱交換器に運転を切り替えて同様の
掃除を行つていた。しかしながら、予備の熱交換
器を設けない場合は、前記掃除作業の頻度の少な
くするために大型の、伝熱面積の大きな熱交換器
を必要とし、したがつて設備費が高価となるばか
りでなく、掃除作業費用も多額になるなどの問題
点がある。
本発明は、このような従来方法の欠点を解消
し、簡便かつ安価な方法により効果的に熱交換器
の被冷却側の伝熱面を掃除できる方法を提供する
ことを目的とするものである。
し、簡便かつ安価な方法により効果的に熱交換器
の被冷却側の伝熱面を掃除できる方法を提供する
ことを目的とするものである。
すなわち本発明は、熱分解炉から発生する熱分
解ガスに洗浄塔内で噴霧された洗浄液を冷却水に
よつて間接的に冷却する熱交換器に循環使用し、
該熱交換器の洗浄液側の伝熱面に付着したスケー
ルを除去する洗浄方法において、前記熱交換器に
流入する冷却水の流量を減じるか又は遮断して熱
交換器を流過する前記洗浄液の温度70〜100℃の
範囲となし、前記熱交換器の伝熱面の洗浄液側に
付着しているスケールを該洗浄液の流れによつて
除去するこことを特徴とする熱交換器の洗浄方法
である。
解ガスに洗浄塔内で噴霧された洗浄液を冷却水に
よつて間接的に冷却する熱交換器に循環使用し、
該熱交換器の洗浄液側の伝熱面に付着したスケー
ルを除去する洗浄方法において、前記熱交換器に
流入する冷却水の流量を減じるか又は遮断して熱
交換器を流過する前記洗浄液の温度70〜100℃の
範囲となし、前記熱交換器の伝熱面の洗浄液側に
付着しているスケールを該洗浄液の流れによつて
除去するこことを特徴とする熱交換器の洗浄方法
である。
本発明の洗浄方法について説明すると、前記洗
浄液の冷却を続行する間に冷却器９の被冷却側の
伝熱面に洗浄液中の固形分あるいは不溶性物質な
どがスケールとして付着，蓄積し、その冷却効率
が低下すると共に、冷却器９の出入口の差圧が
徐々に増大する。このようなスケール発生による
影響を差圧計１３と流量計１４により測定し、差
圧又は流量がそれぞれ所定値以上又は所定値以下
になつたときに冷却器９の被冷却側の洗浄を行
う。
浄液の冷却を続行する間に冷却器９の被冷却側の
伝熱面に洗浄液中の固形分あるいは不溶性物質な
どがスケールとして付着，蓄積し、その冷却効率
が低下すると共に、冷却器９の出入口の差圧が
徐々に増大する。このようなスケール発生による
影響を差圧計１３と流量計１４により測定し、差
圧又は流量がそれぞれ所定値以上又は所定値以下
になつたときに冷却器９の被冷却側の洗浄を行
う。
すなわち、熱分解原料の供給のみの一時停止す
るかあるいは一時その供給量を低減（場合によつ
ては供給量を低減させなくてもよい）し、冷却水
の入口弁１５および出口弁１６を閉じると、洗浄
循環液２３および冷却器９中に保持された冷却水
の温度は徐々に上昇して高温となる。そして、被
冷却側の温度が70〜100℃の範囲になれば伝熱面
に付着しているスケールは急激に付着力が減少す
る。即ち、第３図に示すように熱交換器内を流過
する洗浄液温度と伝熱面のスケール付着残量との
関係では70〜100℃の範囲でスケールの付着が減
少した結果が得られた。この結果、冷却器９の被
冷却側の伝熱面に高温の洗浄循環液２３が接触，
通過するときに、前記伝熱面に付着したスケール
等は効果的に除去され洗浄循環液２３に同伴され
れて洗浄塔１０へ返送される。なお、この場合、
前記冷却器９の冷却水側を空にしてもよい。
るかあるいは一時その供給量を低減（場合によつ
ては供給量を低減させなくてもよい）し、冷却水
の入口弁１５および出口弁１６を閉じると、洗浄
循環液２３および冷却器９中に保持された冷却水
の温度は徐々に上昇して高温となる。そして、被
冷却側の温度が70〜100℃の範囲になれば伝熱面
に付着しているスケールは急激に付着力が減少す
る。即ち、第３図に示すように熱交換器内を流過
する洗浄液温度と伝熱面のスケール付着残量との
関係では70〜100℃の範囲でスケールの付着が減
少した結果が得られた。この結果、冷却器９の被
冷却側の伝熱面に高温の洗浄循環液２３が接触，
通過するときに、前記伝熱面に付着したスケール
等は効果的に除去され洗浄循環液２３に同伴され
れて洗浄塔１０へ返送される。なお、この場合、
前記冷却器９の冷却水側を空にしてもよい。
前記洗浄中の前記被冷却側の温度は70〜100℃
の範囲に保つと、上記の如くスケールの剥離が極
めて容易となるほか、比較的低い温度なので冷却
器内の材料の腐蝕にも悪影響を及ぼさず効果効で
ある。このように前記被冷却側を所要時間，高温
に保持して差圧計１３における差圧が所定値以下
となるかまたは流量計１４での流量が所定値以上
となつたら、弁１５および１６を徐々に開いて冷
却水を流通せしめる。そして熱分解原料の供給を
通常値に戻し、通常の熱分解ガス１の洗浄操作を
再開する。
の範囲に保つと、上記の如くスケールの剥離が極
めて容易となるほか、比較的低い温度なので冷却
器内の材料の腐蝕にも悪影響を及ぼさず効果効で
ある。このように前記被冷却側を所要時間，高温
に保持して差圧計１３における差圧が所定値以下
となるかまたは流量計１４での流量が所定値以上
となつたら、弁１５および１６を徐々に開いて冷
却水を流通せしめる。そして熱分解原料の供給を
通常値に戻し、通常の熱分解ガス１の洗浄操作を
再開する。
本発明を実施例につき図面を用いて説明すれ
ば、第１図において洗浄塔１０に洗浄水の散布口
１１を備える下部からポンプ７にて抜き出された
洗浄液は、液体サイクロン８において洗浄液中に
含まれるスラツジ等が除去された後、冷却器９に
入り、冷却後に前記散布口１１より洗浄塔１０内
に返送散布される。１は流入する熱分解ガス、２
は清浄ガス、１３は冷却器９の出入口における洗
浄液の圧力差を測定する差圧計、１４は流量計で
ある。
ば、第１図において洗浄塔１０に洗浄水の散布口
１１を備える下部からポンプ７にて抜き出された
洗浄液は、液体サイクロン８において洗浄液中に
含まれるスラツジ等が除去された後、冷却器９に
入り、冷却後に前記散布口１１より洗浄塔１０内
に返送散布される。１は流入する熱分解ガス、２
は清浄ガス、１３は冷却器９の出入口における洗
浄液の圧力差を測定する差圧計、１４は流量計で
ある。
そして前記熱分解ガス１中に含まれる水蒸気の
凝縮水などの余剰の液は、排出弁１２により排出
され、廃液３として系外の廃液処理装置（図示せ
ず）等へ導かれる。スラツジ等が濃縮されている
液体サイクロンのアンダーフロー２０は、沈殿槽
２１でスラツジ等を分離され廃液２２として前記
廃液処理装置等へ導かれる。
凝縮水などの余剰の液は、排出弁１２により排出
され、廃液３として系外の廃液処理装置（図示せ
ず）等へ導かれる。スラツジ等が濃縮されている
液体サイクロンのアンダーフロー２０は、沈殿槽
２１でスラツジ等を分離され廃液２２として前記
廃液処理装置等へ導かれる。
また前記冷却器９の被冷却側の伝熱面に付着す
るスケールの性状は、ボイラにおける缶石のよう
に堅く強固なものでなく、油分・タール等が微細
な固形粒子等を取り込み、さらに冷却により流動
性が低下して壁面に付着したものが前記スケール
であると考えられる。上述のような操作により剥
離したスケールは適度な粒径となり、配管や散布
口１１等での閉塞もなく洗浄塔１０に散布され、
液体サイクロン８および沈殿槽２１にて容易に捕
集される。
るスケールの性状は、ボイラにおける缶石のよう
に堅く強固なものでなく、油分・タール等が微細
な固形粒子等を取り込み、さらに冷却により流動
性が低下して壁面に付着したものが前記スケール
であると考えられる。上述のような操作により剥
離したスケールは適度な粒径となり、配管や散布
口１１等での閉塞もなく洗浄塔１０に散布され、
液体サイクロン８および沈殿槽２１にて容易に捕
集される。
短時間に通常の運転に復帰させる別な方法とし
て、冷却器９の冷却水側に冷却水の代わりに高温
液あるいはスチームを通し積極的に冷却器９本体
を温めスケールを除去するのも有効である。
て、冷却器９の冷却水側に冷却水の代わりに高温
液あるいはスチームを通し積極的に冷却器９本体
を温めスケールを除去するのも有効である。
なお第１図中、５は冷却水流入管、６は冷却水
流出管であり、４は沈殿物である。
流出管であり、４は沈殿物である。
次に本発明の別の実施例を第２図によつて説明
すると、第１図例と同様に前記冷却器９のスケー
ル付着が顕著になつた事を確認した後、熱分解原
料の供給を一時中断あるいは一時供給量を低減
（場合によつては供給量を変化させなくてもよい）
し、冷却器９の入口部の三方弁１７を切り換え、
洗浄循環液２３をバイパス管１８に通す。こうし
た後、加熱用流体流入弁１９を開にしスチームあ
るいは高温液（高温液と加圧空気を併用してもよ
い）を流入させて冷却器９の被冷却側の伝熱面の
温度を高温とし、一定時間その状態を保持する。
こうすることにより冷却器９の前記伝熱面に付着
したスケールを除去できる。一定時間後、洗浄循
環液２３の流路をバイパス管１８から冷却器９に
戻す。
すると、第１図例と同様に前記冷却器９のスケー
ル付着が顕著になつた事を確認した後、熱分解原
料の供給を一時中断あるいは一時供給量を低減
（場合によつては供給量を変化させなくてもよい）
し、冷却器９の入口部の三方弁１７を切り換え、
洗浄循環液２３をバイパス管１８に通す。こうし
た後、加熱用流体流入弁１９を開にしスチームあ
るいは高温液（高温液と加圧空気を併用してもよ
い）を流入させて冷却器９の被冷却側の伝熱面の
温度を高温とし、一定時間その状態を保持する。
こうすることにより冷却器９の前記伝熱面に付着
したスケールを除去できる。一定時間後、洗浄循
環液２３の流路をバイパス管１８から冷却器９に
戻す。
このとき、入口弁１５，出口弁１６を閉じ冷却
水を遮断するのが好ましいが、そのまま流入させ
ても構わない。また、バイパス管１８のかわりに
予備冷却器を用いてもよい。
水を遮断するのが好ましいが、そのまま流入させ
ても構わない。また、バイパス管１８のかわりに
予備冷却器を用いてもよい。
前記洗浄循環液２３の循環流路に保有される液
量が過剰になつた場合、余剰の液は排出弁１２か
ら系外に排出すればよい。なお、前記昇温操作
は、前記被冷却側に高温液を通過せしめながら行
う代わりに、所要量の洗浄用液体を前記被冷却側
に滞留せしめたままスチームなどを供給して洗浄
用液を撹拌するようにしてもよい。また、被冷却
側の加温操作と並行して第１図例で説明したのと
同様の方法でスチームあるいは高温液を冷却水側
に通してもよい。
量が過剰になつた場合、余剰の液は排出弁１２か
ら系外に排出すればよい。なお、前記昇温操作
は、前記被冷却側に高温液を通過せしめながら行
う代わりに、所要量の洗浄用液体を前記被冷却側
に滞留せしめたままスチームなどを供給して洗浄
用液を撹拌するようにしてもよい。また、被冷却
側の加温操作と並行して第１図例で説明したのと
同様の方法でスチームあるいは高温液を冷却水側
に通してもよい。
本発明は熱交換器の被冷却側に付着したスケー
ル等を該被冷却側の伝熱面を加温すると共に、該
伝熱面に洗浄用液体を通過せしめて除去，洗浄す
るように構成したものであり、簡便な操作，簡単
な装置により効果的に洗浄が行え、スケールを弁
操作のみでその大部分を除去することができ、熱
交換器の分解掃除の頻度の大幅な減少と、その所
要時間の著しい短縮化が可能となり、また、熱交
換器に急激に加熱冷却の繰り返しを与えることな
く、さらに、冷却器の熱交換部の加熱温度も70〜
100℃であつてかなり低い温度なので、材料の腐
蝕や熱応力による破損を招くことがないなど実用
上極めて大なる効果を奏する。
ル等を該被冷却側の伝熱面を加温すると共に、該
伝熱面に洗浄用液体を通過せしめて除去，洗浄す
るように構成したものであり、簡便な操作，簡単
な装置により効果的に洗浄が行え、スケールを弁
操作のみでその大部分を除去することができ、熱
交換器の分解掃除の頻度の大幅な減少と、その所
要時間の著しい短縮化が可能となり、また、熱交
換器に急激に加熱冷却の繰り返しを与えることな
く、さらに、冷却器の熱交換部の加熱温度も70〜
100℃であつてかなり低い温度なので、材料の腐
蝕や熱応力による破損を招くことがないなど実用
上極めて大なる効果を奏する。
第１図は本発明の一実施例を示す系統説明図、
第２図は本発明の別の実施例を示す系統説明図、
第３図は洗浄液温度と伝熱面のスケール付着残量
と関係線図である。 １……熱分解ガス、２……清浄ガス、３……廃
液、４……沈殿物、５……冷却水流入管、６……
冷却水流出管、７……ポンプ、８……液体サイク
ロン、９……冷却器、１０……洗浄塔、１１……
散布口、１２……排出弁、１３……差圧計、１４
……流量計、１５……入口弁、１６……出口弁、
１７……三方弁、１８……バイパス管、１９……
加熱用流体流入弁、２０……アンダーフロー、２
１……沈殿槽、２２……廃液、２３……洗浄循環
液。
第２図は本発明の別の実施例を示す系統説明図、
第３図は洗浄液温度と伝熱面のスケール付着残量
と関係線図である。 １……熱分解ガス、２……清浄ガス、３……廃
液、４……沈殿物、５……冷却水流入管、６……
冷却水流出管、７……ポンプ、８……液体サイク
ロン、９……冷却器、１０……洗浄塔、１１……
散布口、１２……排出弁、１３……差圧計、１４
……流量計、１５……入口弁、１６……出口弁、
１７……三方弁、１８……バイパス管、１９……
加熱用流体流入弁、２０……アンダーフロー、２
１……沈殿槽、２２……廃液、２３……洗浄循環
液。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 熱分解炉から発生する熱分解ガスに洗浄塔内
で噴霧された洗浄液を冷却水によつて間接的に冷
却する熱交換器に循環使用し、該熱交換器の洗浄
液側の伝熱面に付着したスケールを除去する洗浄
方法において、 前記熱交換器に流入する冷却水の流量を減じる
か又は遮断して熱交換器を流過する前記洗浄液の
温度を70〜100℃の範囲となし、前記熱交換器の
伝熱面の洗浄液側に付着しているスケールを該洗
浄液の流れによつて除去することを特徴とする熱
交換器の洗浄方法。 ２ 熱分解炉から発生する熱分解ガスに洗浄塔内
で噴霧された洗浄液を冷却水によつて間接的に冷
却する熱交換器の洗浄液側に循環使用し、該熱交
換器の伝熱面に付着したスケールを除去する洗浄
方法において、 前記熱交換器に流入する冷却水を遮断し、該冷
却水の代わりに高温流体を前記熱交換器に供給し
て、前記熱交換器から流出する洗浄液の温度を70
〜100℃の範囲となし、 前記熱交換器の伝熱面の洗浄液側に付着してい
るスケールを該洗浄液の流れによつて除去するこ
とを特徴とする熱交換器の洗浄方法。 ３ 熱分解炉から発生する熱分解ガスに洗浄塔内
で噴霧された洗浄液を冷却水によつて間接的に冷
却する熱交換器に循環使用し、該熱交換器の洗浄
液側の伝熱面に付着したスケールを除去する洗浄
方法において、 前記洗浄液を前記熱交換器に入る前に分岐せし
めて循環せしめ、前記熱交換器の洗浄液側に加熱
用高温流体を流入せしめ、該加熱用高温流体の温
度を70〜100℃の範囲に保ち、その後洗浄液を再
び前記熱交換器に流入せしめ、該熱交換器の伝熱
面の洗浄液側に付着しているスケールを該洗浄液
の流れによつて除去することを特徴とする熱交換
器の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8692781A JPS57202499A (en) | 1981-06-08 | 1981-06-08 | Flushing method of heat exchanger and apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8692781A JPS57202499A (en) | 1981-06-08 | 1981-06-08 | Flushing method of heat exchanger and apparatus therefor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57202499A JPS57202499A (en) | 1982-12-11 |
| JPH02639B2 true JPH02639B2 (ja) | 1990-01-08 |
Family
ID=13900490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8692781A Granted JPS57202499A (en) | 1981-06-08 | 1981-06-08 | Flushing method of heat exchanger and apparatus therefor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57202499A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8415812B2 (en) | 2009-09-03 | 2013-04-09 | Designer Molecules, Inc. | Materials and methods for stress reduction in semiconductor wafer passivation layers |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59157496A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-09-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 化学洗浄方法 |
| JP4593191B2 (ja) * | 2004-06-21 | 2010-12-08 | 月島環境エンジニアリング株式会社 | 焼却設備における熱交換器の洗浄方法 |
| CN112696964A (zh) * | 2020-12-27 | 2021-04-23 | 南京班尼安家具有限公司 | 一种可自清洁的热交换器 |
-
1981
- 1981-06-08 JP JP8692781A patent/JPS57202499A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8415812B2 (en) | 2009-09-03 | 2013-04-09 | Designer Molecules, Inc. | Materials and methods for stress reduction in semiconductor wafer passivation layers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57202499A (en) | 1982-12-11 |
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