JPH0262254A - 液晶シャッタアレイヘッド - Google Patents

液晶シャッタアレイヘッド

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Publication number
JPH0262254A
JPH0262254A JP63214438A JP21443888A JPH0262254A JP H0262254 A JPH0262254 A JP H0262254A JP 63214438 A JP63214438 A JP 63214438A JP 21443888 A JP21443888 A JP 21443888A JP H0262254 A JPH0262254 A JP H0262254A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light source
crystal shutter
amount
face
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63214438A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Miyashita
宮下 淳志
Tsukasa Shimizu
清水 典
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP63214438A priority Critical patent/JPH0262254A/ja
Publication of JPH0262254A publication Critical patent/JPH0262254A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/465Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks

Landscapes

  • Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、液晶シャッタアレイヘッドの光量分布の均一
化に関する。
[従来の技術] 従来の液晶シャッタアレイヘッドの光量分布の均一化は
、光源の光量ムラを極力抑え、光路中の構成要素を光学
的に可能な限り均一に作り込もうとするものであった。
[発明が解決しようとする課題] しかし前述の従来技術では、光源の光量ムラがそのまま
液晶シャッタアレイヘッドの出射光量分布に反映されて
しまうという問題点を有する。
そこで本発明は、光源に光量ムラがあっても液晶シャッ
タアレイから出射される光量分布が均一な液晶シャッタ
アレイヘッドを提供するところにある。
[課題を解決するための手段] 本発明の液晶シャッタヘッドは、光源と、ライン状に配
列され選択的に開閉駆動される液晶シャッタアレイによ
り構成され、その光路中に拡散板を介在させたことを特
徴とする。
〔イ乍 用] 本発明の上記構成によれば、光源から放射される指向性
の強い光を拡散板で拡散させることができるため、光量
ムラがなくなり、光量分布の均一な液晶シャッタアレイ
ヘッドを得ることができ机 〔実 施 例1 以下、本発明の実施例を図面に従って詳細に説明する。
第1図は、本発明の実施例に於ける液晶シャッタアレイ
ヘッドの構成図である。光源部1は、点光源であるハロ
ゲンチューブと、点光源からの放射光を、面光源に置き
換えるための半球面状の反射板よりなる。
点光源からの光線は、半球面状の反射板内壁面より反射
し、光フアイバーブロック部2のランプに対向している
側の結束部端面(a)に入射する。
光経路の途中には、光を折り曲げかつ赤外線を透過する
ような、ハーフミラ−3及び、光量調整をするためのN
Dフィルター4、そして、ランプに対向している側の結
束部端面(a)を冷却するための冷却ファン5が設けら
れている。
光フアイバーブロック部2は、多数のファイバー素線よ
り成り、入射側の端面ば、ファイバーを結束接着された
後、光学鏡面となるように研摩される。
出射側端面ば、多数の光フアイバー素線がライン状に配
列され、上下の押え板により、接着固定される。更にそ
の押え板の端面には、液晶シャッターに光を収束入射さ
せるための代置ミラー6が光硬化型接着剤により固定さ
れている。この代置ミラー6より収束されて出射した光
は、液晶シャッタを照射する。液晶シャッタアレイ7は
分解能と長さによって決定される多数のシャックが配列
され、各々、シャック駆動回路からの信号に応じて、選
択的に開閉駆動される。
液晶シャックが開くことにより、光は、透過され、セル
フォックレンズアレイ8に入射する。
セルフォックレンズアレイ8は、所定の焦点距離を持ち
、その焦点位置に1対1の正立実像を形成することがで
きる。
以上が、液晶シャッタアレイヘッドの構成であり、例え
ば、電子写真プロセスを使用したブリンクに上記ヘッド
を組み込む場合は、セルフォックレンズアレイ8の光出
射側の正立実像形成位置に、感光体ドラム表面を配置し
、露光することになる。
この露光時の露光量にムラがあると、高品位な印字品質
を得ることはできない。
本発明の一実施例として、光源部lから、光フアイバー
ブロック入射側端面(a)に至る光経路途中に、拡散板
10を介在させたところ、光量ムラのない、均一なライ
ン光源にすることができIこ 。
本発明に使用した拡散板は、その材質がガラスであって
もプラスチックであっても構わない0本実施例に使用し
た拡散板は、厚みが0.1から10mmの白板ガラスを
#100から#5000の砂で、サンドブラスト処理を
したものであり、大きさは、ファイバーバンドルの結束
部端面な全ておおう大きさであれば良い。
第6図は、本実施例に使用した拡散板の断面図を示す図
である。白板ガラス61で構成され表面にサンドブラス
ト向62が形成されている。光の入射は、拡散面側でも
非拡散面でも良い。
第2図は、拡散板10を、NDフィルター4と結束部端
面(a)との間に取り付けたもので、第3図は、拡散板
の非拡散面にNDコートし、NDフィルターと拡散板を
一体化したものである。第4図は、光フアイバーブロッ
ク部2を経て代置ミラー6で折り返されたライン光源の
光量ムラを抑え、液晶シャッタアレイ7を透過するとき
の光量ムラを抑えようとした構成である。
以上のような実施例において、セルフォックレンズアレ
イ8の光出射側の王立実像形成位置の、露光量ムラが抑
えられ、高品位品質が得られる。
尚、ここにあげた実施例は一例にすぎず、第5図のよう
に、熱陰極管、螢光管、棒状ハロゲンなど、ライン光源
を用いた液晶シャッタアレイヘッドに於いても、光路中
に拡散板を介在させることにより、同様の効果が得られ
ることは言うまでもない。
[発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、光源部と、ライン状
にシャックを配列し選択的に開閉駆動させる液晶シャッ
タアレイヘッドの光路中に拡散板を介在させたことによ
り、拡散板に入射した指向性のある光は、その微小な拡
散面により、その出射する方向がランダムになり、その
ため結果的に光が均一化されることになる。従って液晶
シャッタアレイヘッドは、セルフォックレンズアレイの
見込み角内において光量分布の均一な光が照明されムラ
のない光を伝達することができたため、例えば、電子写
真プロセスを用いたページブリンクの場合には、感光体
ドラムへの露光量が均一となるため、高品位な印字が可
能となる。
更に、局部的な強い光がなくなるため、局部的な感光体
劣化がなくなり、長寿命化が図れるためユーザーサイド
でのランニングコストが低減できるという効果も有する
【図面の簡単な説明】
第1図から第4図は本発明の液晶シャッタアレイヘッド
の構成図。 第5図はライン光源による本発明の一実施例を示す構成
図。 第6図は本発明に使用する拡散板の説明図。 ・光源部 ・光フアイバーブロック部 ・ハーフミラ− ・NDフィルター ・冷却ファン ・代置ミラー ・液晶シャッタアレイ ・セルフォックレンズアレイ ・感光体ドラム ・拡散板 ・ライン光源 ・NDフィルタと拡散板の一体プレー ト (a)  ・・結束部端面 以上 第1図 第2図 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 光源部と、ライン状に配列され選択的に開閉駆動される
    液晶シャッタアレイとにより構成される液晶シャッタア
    レイヘッドに於いて、光路中に拡散板を介在させた事を
    特徴とする、液晶シャッタアレイヘッド。
JP63214438A 1988-08-29 1988-08-29 液晶シャッタアレイヘッド Pending JPH0262254A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63214438A JPH0262254A (ja) 1988-08-29 1988-08-29 液晶シャッタアレイヘッド

Applications Claiming Priority (1)

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JP63214438A JPH0262254A (ja) 1988-08-29 1988-08-29 液晶シャッタアレイヘッド

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0262254A true JPH0262254A (ja) 1990-03-02

Family

ID=16655778

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63214438A Pending JPH0262254A (ja) 1988-08-29 1988-08-29 液晶シャッタアレイヘッド

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JP (1) JPH0262254A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6396299B1 (en) 1998-03-20 2002-05-28 Nec Corporation Method and apparatus for substrate defect testing by surface illumination
EP1197341A3 (en) * 2000-10-10 2003-07-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Transfer apparatus

Cited By (4)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6396299B1 (en) 1998-03-20 2002-05-28 Nec Corporation Method and apparatus for substrate defect testing by surface illumination
EP1197341A3 (en) * 2000-10-10 2003-07-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Transfer apparatus
US6714265B2 (en) 2000-10-10 2004-03-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Transfer apparatus
US7042530B2 (en) 2000-10-10 2006-05-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Transfer apparatus

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