JPH025681B2 - - Google Patents
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- JPH025681B2 JPH025681B2 JP13690082A JP13690082A JPH025681B2 JP H025681 B2 JPH025681 B2 JP H025681B2 JP 13690082 A JP13690082 A JP 13690082A JP 13690082 A JP13690082 A JP 13690082A JP H025681 B2 JPH025681 B2 JP H025681B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/22—Alkali metal sulfides or polysulfides
- C01B17/32—Hydrosulfides of sodium or potassium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
本発明は炭酸ガスを含む硫化水素と苛性ソーダ
水溶液を反応させて連続的に水硫化ソーダ水溶液
を製造する方法に関する。 水硫化ソーダは脱毛剤、パルプの蒸解剤、脱毛
促進剤およびチオール化剤として広範囲な分野に
使用されている。 従来、水硫化ソーダ水溶液は硫化水素を苛性ソ
ーダ水溶液に吸収反応させて製造するが、具体的
には、例えばラツシヒリングを充填したガス吸収
塔を数基配置し、最前段の吸収塔下部より硫化水
素を連続的に送入し塔頂の排出口を経て次段に順
に送り、一方苛性ソーダ水溶液を最後段の吸収塔
上部より連続的に滴下し、ポンプ循環しながら一
部を前段の吸収塔に順に送り、最前段吸収塔より
水硫性ソーダ水溶液として取り出す連続製造法
や、苛性ソーダ水溶液を適宜の位置まで仕込んだ
気泡槽を数基配置し、最前段気泡槽の液中に硫化
水素を連続的に送り、気泡槽上部より次段の気泡
槽に順に送り、最前段気泡槽より水硫化ソーダ水
溶液を取り出す半連続法が採用されてきた（特公
昭38−11951）。 しかしながら、炭酸ガスを含む硫化水素から水
硫化ソーダ水溶液を製造する場合、従来法には多
くの問題点があつた。すなわち、炭酸ガスは次式
の如く苛性ソーダと瞬間的に反応して炭酸ソーダ
を生成し、炭酸ソーダは更に硫化水素と反応して
重炭酸ソーダを生成する。 2NaOH＋CO2→Na2CO3＋H2O (1) Na2CO3＋H2S→NaSH＋NaHCO3 (2) これら炭酸塩の生成は水硫化ソーダ水溶液製造
における苛性ソーダの損失となり、水硫化ソーダ
水溶液の品質をも低下させる。更にこれら炭酸塩
は、特に重炭酸ソーダの水硫化ソーダ水溶液に対
する溶解度が小さいために水硫化ソーダ水溶液中
に析出し、吸収塔、気泡槽、配管、バルブあるい
は計測装置等至る所で沈積、閉塞等のトラブルを
引き起し、安全な長期間連続運転は不可能であつ
た。 これら炭酸ガスに起因する問題点の対策とし
て、吸収反応系の温度を65℃以上に保つことによ
つて、次式による重炭酸ソーダの再分解と炭酸ガ
スの吸収反応を鈍化する方法が提案されている
（特公昭38−16851）。 2NaHCO3→Na2CO3＋H2O＋CO2 (3) しかしながら、この方法では反応温度を65℃以
上にあげるために、逆に前記(1)式の反応が促進さ
れ、しかも炭酸塩の水硫化ソーダ水溶液に対する
溶解度が増大するため、水硫化ソーダ水溶液中の
炭酸塩の減少速度は小さく、連続的に水硫化ソー
ダ水溶液を製造するにはぼう大な滞留時間を必要
とし、工業的には利用出来ないものであつた。 本発明は従来法の欠点を解消した新規な水硫化
ソーダ水溶液の連続製造法を提供することを目的
としてなされたものであり、炭酸ガスを含む硫化
水素と苛性ソーダ水溶液の反応にあたつて、 (1) 気泡槽２基と吸収塔１基を組み合わせた液ガ
ス向流接触方式とし、 (2) 反応系に窒素ガスを存在させ、 (3) 苛性ソーダ水溶液を反応系の第２気泡槽に供
給し、 (4) 50℃以下の低温下で反応させ、更に (5) 各気泡槽の滞留時間を制御する、 等により硫化水素を選択的に苛性ソーダと反応さ
せ得ることを見い出したことにもとづくものであ
る。 すなわち本発明は、炭素ガスを含む硫化水素と
苛性ソーダ水溶液を反応させて水硫化ソーダ水溶
液を連続製造するに際し、炭素ガスを含む硫化水
素１容量に対し窒素ガス0.05〜１容量の割合で、
これ等のガスを第１気泡槽の反応液中、苛性ソー
ダ水溶液が連続して供給されている第２気泡槽の
反応液中、次いで呼吸塔塔底の順に送入し、第１
気泡槽、第２気泡槽及び吸収塔内で硫化水素と苛
性ソーダを反応させた後、残つたガスを吸収塔塔
頂から排出し、一方、苛性ソーダ水溶液を連続し
て第２気泡槽に供給し、第２気泡槽中の反応液の
一部を吸収塔に循環し、残部の少なくとも一部を
第１気泡槽へ送る方法であつて、第１気泡槽にお
ける反応温度は15〜35℃で反応液の滞留時間は60
〜300分間、第２気泡槽における反応温度は30〜
50℃で反応液の滞留時間は30〜240分間であるこ
とを特徴とする水硫化ソーダ水溶液の連続製造方
法である。 工業的に利用される硫化水素は、主として、カ
ーバイドアセチレンガス、原油等の脱硫工程より
得られ、経済性を考慮すれば、本発明の方法にお
いて用いられる炭酸ガスを含む硫化水素中の炭酸
ガス含有量は、硫化水素に対して50モル％以下が
好ましい。 本発明においては、炭酸ガスを含む硫化水素と
ともに窒素ガスを反応系に送入するその目的は、
炭酸塩の生成を防止または抑制することであつ
て、反応系へ送入された窒素ガスは炭素ガスおよ
び硫化水素両方の分圧を低下させ、その分圧低下
により炭素ガスと苛性ソーダとの反応が著しく抑
制される。 他方、反応性の高い硫化水素と苛性ソーダの反
応は、窒素ガスの存在下でも進行するので、結果
として、硫化水素と苛性ソーダの反応が選択的に
行なわれるものと推定される。 一般に、送入される硫化水素中の炭酸ガス含有
量が多い場合は、送入する窒素ガスの量は多く必
要とし、該窒素ガスの量は第１気泡槽に送入する
炭素ガスを含む硫化水素１容量に対して0.05〜１
容量である。送入する窒素ガスの量がこの下限未
満では、炭酸ガスの分圧低下が不充分で、炭酸塩
の生成防止あるいは抑制の効果が不足し、他方、
この上限を超えると、硫化水素の分圧が低くなり
すぎて、未反応のまま反応系外へ排出される硫化
水素の量が多くなり、いずれ好ましくない。 窒素ガスの送入は硫化水素の選択的反応に効果
があるばかりでなく、気泡槽内の反応液の撹拌効
果も有する。 本発明の気泡槽とは、液槽の底部にガス噴出ノ
ズルを設けガスを微細粒として液中に分散させる
構造を有するものであつて、炭酸ガスを含む硫化
水素と窒素ガスは第１気泡槽の液中に、次いで第
１気泡槽の上部排出口から第２気泡槽の液中に送
入される。 第１気泡槽の反応温度は15〜35℃であり、好ま
しくは20〜30℃である。反応温度が35℃より高い
場合は、炭酸ガスの炭酸塩化が促進されるので好
ましくない。また反応温度が15℃より低い場合
は、硫化水素と苛性ソーダとの反応が発熱反応で
あるため多大な冷却設備を必要とするので経済的
でない。 第２気泡槽の反応温度は硫化水素と苛性ソーダ
との反応を促進させるために第１気泡槽よりもや
や高く30〜50℃とする。 本発明において各気泡槽内の反応液の滞留時間
は、例えば、硫化水素中の炭酸ガス含有量が多く
かつ、反応温度として当該範囲内の低温側を選ぶ
場合には長く必要とする如く、硫化水素中の炭酸
ガス含有量、反応温度および第２気泡槽に供給さ
れる苛性ソーダ水溶液の濃度等を考慮して、第１
気泡槽の反応液の滞留時間は60〜300分間とする。
滞留時間が60分間より短い場合は、未反応苛性ソ
ーダや中間体である硫化ソーダ（Na2S）が残存
するので好ましくない。また、滞留時間が300分
間より長い場合は多硫化ソーダ（Na2Sx）の副
生や気泡槽の容量が大きくなるので不経済であり
好ましくない。 また、第２気泡槽内の反応液の滞留時間は30〜
240分間である。滞留時間が30分間より短い場合
は未反応苛性ソーダや硫化ソーダが多く残存し、
好ましくない。滞留時間が240分間より長い場合
は、硫化水素の吸収が悪くなつて、硫化水素が反
応系外に排出され易くなり、気泡槽の容量が大き
くなるので不経済であり好ましくない。 第２気泡槽に供給される苛性ソーダ水溶液中の
苛性ソーダの量は第１気泡槽に送入される硫化水
素の量とほぼ化学当量でよく、苛性ソーダ濃度
は、所望の水硫化ソーダ水溶液濃度によつて適宜
変化させることができるが、通常好ましくは10〜
30重量％である。 本発明では苛性ソーダ水溶液を第２気泡槽に供
給することが重要であつて、例えば、後述の比較
例の様に吸収塔上部から苛性ソーダ水溶液を供給
すると、硫化水素の選択的吸収反応が全く期待で
きず、苛性ソーダは炭酸ガスとも反応し、生成水
硫化ソーダ水溶液中に炭酸塩が多量に混入してく
る。 本発明では、第２気泡槽の上部排出口から未反
応硫化水素、炭酸ガスおよび窒素ガスは吸収塔塔
底に送入される。吸収塔には第２気泡槽の反応液
の一部を循環させる。反応液の循環量は硫化水素
を選択的に吸収反応させるために第２気泡槽に供
給される苛性ソーダ水溶液１容量あたり５〜20倍
量が好ましい。吸収塔の温度は第２気泡槽の反応
液の一部が循環するので、第２気泡槽の反応温度
に左右されるが加温または冷却を必要としない。
吸収塔は一般に使用される充填塔や棚段塔が採用
できる。更に吸収塔は第２気泡槽の上部に連結す
ることも可能である。 本発明によれば、従来法による水硫化ソーダ水
溶液に比べ含有炭酸塩が少ないため、炭酸塩の析
出によるトラブルは回避され、長期間の連続製造
が可能となり、生成した水硫化ソーダ水溶液はそ
のまゝ、例えば、チオグリコール酸の製造に使用
できる。 次に、本発明を図面に沿つて更に具体的に説明
する。図面は本発明の実施例を説明する工程図で
ある。 炭酸ガスを含む硫化水素および窒素ガスは、そ
れぞれライン１およびライン２より連続して供給
され、ガス送入ノズル３から第１気泡槽Ａの液中
に送入される。第１気泡槽Ａには反応温度を15〜
35℃に維持できるように温度調節設備が付備され
ている。 未反応のガスは第１気泡槽Ａの上部よりライン
４を経てガス送入ノズル５から第２気泡槽Ｂの液
中に送入される。第２気泡槽Ｂには反応温度を30
〜50℃に維持できるように温度調節設備が付備さ
れている。未反応ガスは更に、第２気泡槽Ｂに連
結され、且つラツシヒリングを充填した吸収塔Ｃ
の塔底を送入される。 第２気泡槽Ｂの反応液の一部は循環ポンプＤに
より抜出され、ライン６を経て吸収塔Ｃの上部よ
り供給される。硫化水素は更に吸収塔Ｃで吸収さ
れ、吸収塔Ｃの塔頂からライン７を経て炭酸ガス
と窒素ガスが排出される。 一方、苛性ソーダ水溶液はライン８より第２気
泡槽Ｂへ連続して供給される。第２気泡槽Ｂ内の
反応液の滞留時間を30〜240分間に保ちながら、
循環ポンプＤにより第２気泡槽Ｂ内の反応液を抜
出し、ライン９を経て第１気泡槽Ａに送る。 ライン６には流量調節弁、ライン９には第２気
泡槽Ｂの液面調節弁が付備されている。 第１気泡槽Ａ内の反応液の滞留時間を60〜300
分間に保ちながら反応を完結させ、第１気泡槽Ａ
の底部より抜出ポンプＥによりライン１０を経て
水硫化ソーダ水溶液が抜出される。ライン１０に
は第１気泡槽Ａの液面調節弁が付備されている。 実施例 炭酸ガス12モル％を含む硫化水素48Nm3／hrお
よび窒素ガス25Nm3／hrで図面に示したようにそ
れぞれライン１およびライン２より連続して供給
し、ガス送入ノズル３から第１気泡槽Ａの液中に
送入した。第１気泡槽Ａは容量1100の堅型気泡
槽であり、温度調節設備により、第１気泡槽Ａの
反応温度を25℃に維持した。 未反応ガスは、第１気泡槽Ａの上部よりライン
４を経てガス送入ノズル５から第２気泡槽Ｂの液
中に送入された。第２気泡槽Ｂは容量1300の横
型気泡槽であり、温度調節設備により第２気泡槽
Ｂの反応温度を40℃に維持した。未反応ガスは更
に、第２気泡槽Ｂに連結された吸収塔Ｃの塔底に
送入された。吸収塔Ｃは12mmのラツシヒリングを
充填した直径30cm、高さ150cmの充填塔である。 第２気泡槽Ｂの反応液の一部を循環ポンプＤに
より抜出し、ライン６を経て2000／hrに調節し
ながら吸収塔Ｃの上部より供給した。吸収塔Ｃの
塔頂からライン７を経て平均表−１に示す組成の
ガスを排出し、系外の除害設備に導いた。 一方、21重量％苛性ソーダ水溶液を374Kg／hr
（304／hr）でライン８より連続して第２気泡槽
Ｂに供給した。第２気泡槽Ｂ内の反応液の液面を
700に保ちながら（滞留時間110分）、循環ポン
プＤにより第２気泡槽Ｂ内の反応液を抜出し、ラ
イン９を経て第１気泡槽Ａに送つた。 第１気泡槽Ａ内の反応液の液面を900（滞留
時間142分）に保ちながら反応を完成させ、第１
気泡槽Ａの底部より抜出ポンプＥによりライン１
０を経て平均表−２に示す組成の生成液を抜出し
た。 上記条件で１カ月間運転しても炭酸塩の析出に
するトラブルは全く無かつた。水硫化ソーダ収率
（対硫化水素）が99.5％、炭酸ガス分離除去率は
85.2％であつた。
水溶液を反応させて連続的に水硫化ソーダ水溶液
を製造する方法に関する。 水硫化ソーダは脱毛剤、パルプの蒸解剤、脱毛
促進剤およびチオール化剤として広範囲な分野に
使用されている。 従来、水硫化ソーダ水溶液は硫化水素を苛性ソ
ーダ水溶液に吸収反応させて製造するが、具体的
には、例えばラツシヒリングを充填したガス吸収
塔を数基配置し、最前段の吸収塔下部より硫化水
素を連続的に送入し塔頂の排出口を経て次段に順
に送り、一方苛性ソーダ水溶液を最後段の吸収塔
上部より連続的に滴下し、ポンプ循環しながら一
部を前段の吸収塔に順に送り、最前段吸収塔より
水硫性ソーダ水溶液として取り出す連続製造法
や、苛性ソーダ水溶液を適宜の位置まで仕込んだ
気泡槽を数基配置し、最前段気泡槽の液中に硫化
水素を連続的に送り、気泡槽上部より次段の気泡
槽に順に送り、最前段気泡槽より水硫化ソーダ水
溶液を取り出す半連続法が採用されてきた（特公
昭38−11951）。 しかしながら、炭酸ガスを含む硫化水素から水
硫化ソーダ水溶液を製造する場合、従来法には多
くの問題点があつた。すなわち、炭酸ガスは次式
の如く苛性ソーダと瞬間的に反応して炭酸ソーダ
を生成し、炭酸ソーダは更に硫化水素と反応して
重炭酸ソーダを生成する。 2NaOH＋CO2→Na2CO3＋H2O (1) Na2CO3＋H2S→NaSH＋NaHCO3 (2) これら炭酸塩の生成は水硫化ソーダ水溶液製造
における苛性ソーダの損失となり、水硫化ソーダ
水溶液の品質をも低下させる。更にこれら炭酸塩
は、特に重炭酸ソーダの水硫化ソーダ水溶液に対
する溶解度が小さいために水硫化ソーダ水溶液中
に析出し、吸収塔、気泡槽、配管、バルブあるい
は計測装置等至る所で沈積、閉塞等のトラブルを
引き起し、安全な長期間連続運転は不可能であつ
た。 これら炭酸ガスに起因する問題点の対策とし
て、吸収反応系の温度を65℃以上に保つことによ
つて、次式による重炭酸ソーダの再分解と炭酸ガ
スの吸収反応を鈍化する方法が提案されている
（特公昭38−16851）。 2NaHCO3→Na2CO3＋H2O＋CO2 (3) しかしながら、この方法では反応温度を65℃以
上にあげるために、逆に前記(1)式の反応が促進さ
れ、しかも炭酸塩の水硫化ソーダ水溶液に対する
溶解度が増大するため、水硫化ソーダ水溶液中の
炭酸塩の減少速度は小さく、連続的に水硫化ソー
ダ水溶液を製造するにはぼう大な滞留時間を必要
とし、工業的には利用出来ないものであつた。 本発明は従来法の欠点を解消した新規な水硫化
ソーダ水溶液の連続製造法を提供することを目的
としてなされたものであり、炭酸ガスを含む硫化
水素と苛性ソーダ水溶液の反応にあたつて、 (1) 気泡槽２基と吸収塔１基を組み合わせた液ガ
ス向流接触方式とし、 (2) 反応系に窒素ガスを存在させ、 (3) 苛性ソーダ水溶液を反応系の第２気泡槽に供
給し、 (4) 50℃以下の低温下で反応させ、更に (5) 各気泡槽の滞留時間を制御する、 等により硫化水素を選択的に苛性ソーダと反応さ
せ得ることを見い出したことにもとづくものであ
る。 すなわち本発明は、炭素ガスを含む硫化水素と
苛性ソーダ水溶液を反応させて水硫化ソーダ水溶
液を連続製造するに際し、炭素ガスを含む硫化水
素１容量に対し窒素ガス0.05〜１容量の割合で、
これ等のガスを第１気泡槽の反応液中、苛性ソー
ダ水溶液が連続して供給されている第２気泡槽の
反応液中、次いで呼吸塔塔底の順に送入し、第１
気泡槽、第２気泡槽及び吸収塔内で硫化水素と苛
性ソーダを反応させた後、残つたガスを吸収塔塔
頂から排出し、一方、苛性ソーダ水溶液を連続し
て第２気泡槽に供給し、第２気泡槽中の反応液の
一部を吸収塔に循環し、残部の少なくとも一部を
第１気泡槽へ送る方法であつて、第１気泡槽にお
ける反応温度は15〜35℃で反応液の滞留時間は60
〜300分間、第２気泡槽における反応温度は30〜
50℃で反応液の滞留時間は30〜240分間であるこ
とを特徴とする水硫化ソーダ水溶液の連続製造方
法である。 工業的に利用される硫化水素は、主として、カ
ーバイドアセチレンガス、原油等の脱硫工程より
得られ、経済性を考慮すれば、本発明の方法にお
いて用いられる炭酸ガスを含む硫化水素中の炭酸
ガス含有量は、硫化水素に対して50モル％以下が
好ましい。 本発明においては、炭酸ガスを含む硫化水素と
ともに窒素ガスを反応系に送入するその目的は、
炭酸塩の生成を防止または抑制することであつ
て、反応系へ送入された窒素ガスは炭素ガスおよ
び硫化水素両方の分圧を低下させ、その分圧低下
により炭素ガスと苛性ソーダとの反応が著しく抑
制される。 他方、反応性の高い硫化水素と苛性ソーダの反
応は、窒素ガスの存在下でも進行するので、結果
として、硫化水素と苛性ソーダの反応が選択的に
行なわれるものと推定される。 一般に、送入される硫化水素中の炭酸ガス含有
量が多い場合は、送入する窒素ガスの量は多く必
要とし、該窒素ガスの量は第１気泡槽に送入する
炭素ガスを含む硫化水素１容量に対して0.05〜１
容量である。送入する窒素ガスの量がこの下限未
満では、炭酸ガスの分圧低下が不充分で、炭酸塩
の生成防止あるいは抑制の効果が不足し、他方、
この上限を超えると、硫化水素の分圧が低くなり
すぎて、未反応のまま反応系外へ排出される硫化
水素の量が多くなり、いずれ好ましくない。 窒素ガスの送入は硫化水素の選択的反応に効果
があるばかりでなく、気泡槽内の反応液の撹拌効
果も有する。 本発明の気泡槽とは、液槽の底部にガス噴出ノ
ズルを設けガスを微細粒として液中に分散させる
構造を有するものであつて、炭酸ガスを含む硫化
水素と窒素ガスは第１気泡槽の液中に、次いで第
１気泡槽の上部排出口から第２気泡槽の液中に送
入される。 第１気泡槽の反応温度は15〜35℃であり、好ま
しくは20〜30℃である。反応温度が35℃より高い
場合は、炭酸ガスの炭酸塩化が促進されるので好
ましくない。また反応温度が15℃より低い場合
は、硫化水素と苛性ソーダとの反応が発熱反応で
あるため多大な冷却設備を必要とするので経済的
でない。 第２気泡槽の反応温度は硫化水素と苛性ソーダ
との反応を促進させるために第１気泡槽よりもや
や高く30〜50℃とする。 本発明において各気泡槽内の反応液の滞留時間
は、例えば、硫化水素中の炭酸ガス含有量が多く
かつ、反応温度として当該範囲内の低温側を選ぶ
場合には長く必要とする如く、硫化水素中の炭酸
ガス含有量、反応温度および第２気泡槽に供給さ
れる苛性ソーダ水溶液の濃度等を考慮して、第１
気泡槽の反応液の滞留時間は60〜300分間とする。
滞留時間が60分間より短い場合は、未反応苛性ソ
ーダや中間体である硫化ソーダ（Na2S）が残存
するので好ましくない。また、滞留時間が300分
間より長い場合は多硫化ソーダ（Na2Sx）の副
生や気泡槽の容量が大きくなるので不経済であり
好ましくない。 また、第２気泡槽内の反応液の滞留時間は30〜
240分間である。滞留時間が30分間より短い場合
は未反応苛性ソーダや硫化ソーダが多く残存し、
好ましくない。滞留時間が240分間より長い場合
は、硫化水素の吸収が悪くなつて、硫化水素が反
応系外に排出され易くなり、気泡槽の容量が大き
くなるので不経済であり好ましくない。 第２気泡槽に供給される苛性ソーダ水溶液中の
苛性ソーダの量は第１気泡槽に送入される硫化水
素の量とほぼ化学当量でよく、苛性ソーダ濃度
は、所望の水硫化ソーダ水溶液濃度によつて適宜
変化させることができるが、通常好ましくは10〜
30重量％である。 本発明では苛性ソーダ水溶液を第２気泡槽に供
給することが重要であつて、例えば、後述の比較
例の様に吸収塔上部から苛性ソーダ水溶液を供給
すると、硫化水素の選択的吸収反応が全く期待で
きず、苛性ソーダは炭酸ガスとも反応し、生成水
硫化ソーダ水溶液中に炭酸塩が多量に混入してく
る。 本発明では、第２気泡槽の上部排出口から未反
応硫化水素、炭酸ガスおよび窒素ガスは吸収塔塔
底に送入される。吸収塔には第２気泡槽の反応液
の一部を循環させる。反応液の循環量は硫化水素
を選択的に吸収反応させるために第２気泡槽に供
給される苛性ソーダ水溶液１容量あたり５〜20倍
量が好ましい。吸収塔の温度は第２気泡槽の反応
液の一部が循環するので、第２気泡槽の反応温度
に左右されるが加温または冷却を必要としない。
吸収塔は一般に使用される充填塔や棚段塔が採用
できる。更に吸収塔は第２気泡槽の上部に連結す
ることも可能である。 本発明によれば、従来法による水硫化ソーダ水
溶液に比べ含有炭酸塩が少ないため、炭酸塩の析
出によるトラブルは回避され、長期間の連続製造
が可能となり、生成した水硫化ソーダ水溶液はそ
のまゝ、例えば、チオグリコール酸の製造に使用
できる。 次に、本発明を図面に沿つて更に具体的に説明
する。図面は本発明の実施例を説明する工程図で
ある。 炭酸ガスを含む硫化水素および窒素ガスは、そ
れぞれライン１およびライン２より連続して供給
され、ガス送入ノズル３から第１気泡槽Ａの液中
に送入される。第１気泡槽Ａには反応温度を15〜
35℃に維持できるように温度調節設備が付備され
ている。 未反応のガスは第１気泡槽Ａの上部よりライン
４を経てガス送入ノズル５から第２気泡槽Ｂの液
中に送入される。第２気泡槽Ｂには反応温度を30
〜50℃に維持できるように温度調節設備が付備さ
れている。未反応ガスは更に、第２気泡槽Ｂに連
結され、且つラツシヒリングを充填した吸収塔Ｃ
の塔底を送入される。 第２気泡槽Ｂの反応液の一部は循環ポンプＤに
より抜出され、ライン６を経て吸収塔Ｃの上部よ
り供給される。硫化水素は更に吸収塔Ｃで吸収さ
れ、吸収塔Ｃの塔頂からライン７を経て炭酸ガス
と窒素ガスが排出される。 一方、苛性ソーダ水溶液はライン８より第２気
泡槽Ｂへ連続して供給される。第２気泡槽Ｂ内の
反応液の滞留時間を30〜240分間に保ちながら、
循環ポンプＤにより第２気泡槽Ｂ内の反応液を抜
出し、ライン９を経て第１気泡槽Ａに送る。 ライン６には流量調節弁、ライン９には第２気
泡槽Ｂの液面調節弁が付備されている。 第１気泡槽Ａ内の反応液の滞留時間を60〜300
分間に保ちながら反応を完結させ、第１気泡槽Ａ
の底部より抜出ポンプＥによりライン１０を経て
水硫化ソーダ水溶液が抜出される。ライン１０に
は第１気泡槽Ａの液面調節弁が付備されている。 実施例 炭酸ガス12モル％を含む硫化水素48Nm3／hrお
よび窒素ガス25Nm3／hrで図面に示したようにそ
れぞれライン１およびライン２より連続して供給
し、ガス送入ノズル３から第１気泡槽Ａの液中に
送入した。第１気泡槽Ａは容量1100の堅型気泡
槽であり、温度調節設備により、第１気泡槽Ａの
反応温度を25℃に維持した。 未反応ガスは、第１気泡槽Ａの上部よりライン
４を経てガス送入ノズル５から第２気泡槽Ｂの液
中に送入された。第２気泡槽Ｂは容量1300の横
型気泡槽であり、温度調節設備により第２気泡槽
Ｂの反応温度を40℃に維持した。未反応ガスは更
に、第２気泡槽Ｂに連結された吸収塔Ｃの塔底に
送入された。吸収塔Ｃは12mmのラツシヒリングを
充填した直径30cm、高さ150cmの充填塔である。 第２気泡槽Ｂの反応液の一部を循環ポンプＤに
より抜出し、ライン６を経て2000／hrに調節し
ながら吸収塔Ｃの上部より供給した。吸収塔Ｃの
塔頂からライン７を経て平均表−１に示す組成の
ガスを排出し、系外の除害設備に導いた。 一方、21重量％苛性ソーダ水溶液を374Kg／hr
（304／hr）でライン８より連続して第２気泡槽
Ｂに供給した。第２気泡槽Ｂ内の反応液の液面を
700に保ちながら（滞留時間110分）、循環ポン
プＤにより第２気泡槽Ｂ内の反応液を抜出し、ラ
イン９を経て第１気泡槽Ａに送つた。 第１気泡槽Ａ内の反応液の液面を900（滞留
時間142分）に保ちながら反応を完成させ、第１
気泡槽Ａの底部より抜出ポンプＥによりライン１
０を経て平均表−２に示す組成の生成液を抜出し
た。 上記条件で１カ月間運転しても炭酸塩の析出に
するトラブルは全く無かつた。水硫化ソーダ収率
（対硫化水素）が99.5％、炭酸ガス分離除去率は
85.2％であつた。
【表】
【表】
比較例 １
実施例における21重量％苛性ソーダ水溶液を吸
収塔Ｃの塔頂から供給した以外は実施例と同一条
件で実施した。運転開始後３日間で、炭酸塩が第
１気泡槽Ａの底部及びライン１０に析出沈積し、
生成液の抜出が不能になつた。 比較例 ２ 実施例における21重量％苛性ソーダ水溶液を吸
収塔Ｃの塔頂から供給し、かつ窒素ガスの送入を
行なわなかつた以外は実施例と同一条件で実施し
た。運転開始後24時間で、炭酸塩がガス送入ノズ
ル３、第１気泡槽Ａの底部及びライン１０に析出
沈積し、連続運転の継続が不能になつた。
収塔Ｃの塔頂から供給した以外は実施例と同一条
件で実施した。運転開始後３日間で、炭酸塩が第
１気泡槽Ａの底部及びライン１０に析出沈積し、
生成液の抜出が不能になつた。 比較例 ２ 実施例における21重量％苛性ソーダ水溶液を吸
収塔Ｃの塔頂から供給し、かつ窒素ガスの送入を
行なわなかつた以外は実施例と同一条件で実施し
た。運転開始後24時間で、炭酸塩がガス送入ノズ
ル３、第１気泡槽Ａの底部及びライン１０に析出
沈積し、連続運転の継続が不能になつた。
図面は本発明方法の実施例を示す概略工程図で
ある。 符号、Ａ……第１気泡槽、Ｂ……第２気泡槽、
Ｃ……吸収塔、Ｄ……循環ポンプ、Ｅ……抜出ポ
ンプ、１……硫化水素供給管、２……窒素ガス供
給管、３……ガス送入ノズル、４……ガス移送
管、５……ガス送入ノズル、６……第２気泡槽反
応液循環管、７……オフガス排出管、８……苛性
ソーダ水溶液供給管、９……第２気泡槽反応液移
送管、１０……生成液排出管。
ある。 符号、Ａ……第１気泡槽、Ｂ……第２気泡槽、
Ｃ……吸収塔、Ｄ……循環ポンプ、Ｅ……抜出ポ
ンプ、１……硫化水素供給管、２……窒素ガス供
給管、３……ガス送入ノズル、４……ガス移送
管、５……ガス送入ノズル、６……第２気泡槽反
応液循環管、７……オフガス排出管、８……苛性
ソーダ水溶液供給管、９……第２気泡槽反応液移
送管、１０……生成液排出管。
Claims (1)
- １ 炭酸ガスを含む硫化水素と苛性ソーダ水溶液
を反応させて水硫化ソーダ水溶液を連続製造する
に際し、炭酸ガスを含む硫化水素１容量に対し窒
素ガス0.05〜１容量の割合で、これ等のガスを第
１気泡槽の反応液中、苛性ソーダ水溶液が連続し
て供給されている第２気泡槽の反応液中、次いで
吸収塔塔底の順に送入し、第１気泡槽、第２気泡
槽及び吸収塔内で硫化水素と苛性ソーダを反応さ
せた後、残つたガスを吸収搭頂から排出し、一
方、苛性ソーダ水溶液を連続して第２気泡槽に供
給し、第２気泡槽中の反応液の一部を吸収塔に循
環し、残部の少なくとも一部を第１気泡槽へ送る
方法であつて、第１気泡槽における反応温度は15
〜35℃で反応液の滞留時間は60〜300分間、第２
気泡槽における反応温度は30〜50℃で反応液の滞
留時間は30〜240分間であることを特徴とする水
硫化ソーダ水溶液の連続製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13690082A JPS5926902A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | 水硫化ソ−ダ水溶液の連続製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13690082A JPS5926902A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | 水硫化ソ−ダ水溶液の連続製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5926902A JPS5926902A (ja) | 1984-02-13 |
| JPH025681B2 true JPH025681B2 (ja) | 1990-02-05 |
Family
ID=15186185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13690082A Granted JPS5926902A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | 水硫化ソ−ダ水溶液の連続製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5926902A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4252657B2 (ja) * | 1999-02-25 | 2009-04-08 | 出光興産株式会社 | 無水アルカリ金属硫化物の製造方法 |
-
1982
- 1982-08-06 JP JP13690082A patent/JPS5926902A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5926902A (ja) | 1984-02-13 |
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