JPH0256212A

JPH0256212A - 排ガス処理装置

Info

Publication number: JPH0256212A
Application number: JP20391588A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Tokunaga; 博徳永; Fujio Noguchi; 野口　富士男; Hiroyuki Kamimura; 上村　広行; Yoshihiro Ueda; 植田　美洋
Original assignee: SANTEKUNO KK; SOOA KIKI KK; Sony Corp
Current assignee: SANTEKUNO KK; SOOA KIKI KK; Sony Corp
Priority date: 1988-08-18
Filing date: 1988-08-18
Publication date: 1990-02-26
Anticipated expiration: 2013-06-25
Also published as: JP2769324B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］この発明は排ガス処理装置に関する。

この発明の排ガス処理装置は、半導体、化学薬品などの
製造工場、試験研究室等で発生した排ガスを捕集する場
合などに用いられる。

［従来の技術］半導体、化学薬品などの製造工程で発生した排ガスの処
理に、スクラバーが広く用いられている。スクラバーは
水その他の液体を利用してガス中に浮遊する固体または
液体粒子を捕集する。スクラバーでは、使用する中和剤
あるいは吸収液などの液体の種類と吸収されるガスの種
類とによっては、液体とガスとがスクラバー内で反応し
て多量の白煙　（ミスト）か生じることがある。このミ
ストは液体微粒子よりなっており、そのほとんどが粒径
１μｍ以上である。

しかし、スクラバー内で完全にミストを吸収することが
できず、かなりの量のミストがスクラバーから排出され
ていた。そこで、従来ではスクラバーの出側に湿式電気
集塵機を設け、これにより微細な粒子を捕集していた。

［発明が解決しようとする課題］スクラバーから排出されるミストはＨＣＩなどの強酸を
含んでいる。このため、多量の強酸が湿式電気集塵機に
持ち込まれ、湿式電気集塵機の構成部材は腐食していた
。構成部材がステンレス鋼製であっても寿命はせいぜい
１年位であった。また、湿式電気集塵機は高価であり、
保守が面倒であった。

そこで５この発明は長期間の使用に耐え、廉価であると
ともに保守が容易な排ガス処理装置を提供しようとする
ものである。

［課題を解決するための手段］この発明の排ガス処理装置は、スクラバーに連絡する下
部室、複数の連通孔を有する仕切板を介して前記下部室
の頂部に接続され、かつ大気に通じている上部室、およ
び前記仕切板上に垂直に支持され、頂部が塞がれている
とともに底部開口が連通孔を介して前記下部室に連絡し
ている複数の複層円筒フィルターとからなっている。

フィルター本体は、ｐｖｃ　（ポリ塩化ビニル）繊維な
どの可撓性のある布よりなりでいる。このフィルター布
材の複数枚を重ねて支持体に巻き付け、複層円筒フィル
ターを構成する。支持体として、円筒状に形成した金網
あるいは円筒状フレームなどを用いる。フィルター布材
の重ね合せる枚数すなわち層数は、２〜４程度が適当で
ある。フィルター布材は外径寄りの層はど緻密になって
いる。

フィルター布材のかさ比重は５〜２０　ｋｇ７ｍ３程度
が適当であり、また各層の厚みは５〜１５　ｍｍ程度が
適当である。

［作用］スクラバーからの排ガスは、ファンにより下部室に押し
込まれ、または吸引されたて円筒フィルターの底部開口
からフィルター内に入る。そして、排ガスはフィルター
を内径側から外径側に通過し、上部室に流出する。この
とき、排ガスの液体微粒子は粗なものから順次フィルタ
ーにより吸着される。そして、液体微粒子は、いわゆる
セルフクリーニング効果によって円筒フィルターから排
出される。すなわち、フィルターで捕集された液体微粒
子は成長しつつ液滴となってフィルターを流下する。そ
して、液滴は気流の上昇力にに抗しつつフィルターから
離れて重力により下部室に落下し、再びもとの液体とな
りドレンとして排出される。また、排ガスに固体微粒子
が含まれている場合には、円筒フィルターは次第に目詰
り状態となるので、適当な時期に洗浄する。

［実施例］第１図はこの発明の排ガス処理装置の配置を示す立面図
である。この排ガス処理装置は、半導体製造設備に設け
られている。

スクラバー１の出側からダクト３が延びており、ダクト
３の先端にファン５が接続されている。そして、ファン
５の排気側に排ガス処理装置１１が設けられている。

第２図は排ガス処理装置１１の縦断面図である。

排ガス処理装置１１は、下部室１２および上部室１４と
を備えている。下部室１２は上記ファン５に連絡してい
る。また、上部室１４は複数の連通孔１８を有する仕切
板１７を介して前記下部室１２の頂部に接続されている
。

上部室１４内には複数の支持体２１が配置されている。

支持体２１は円筒状に形成された金網２２を備えており
、金網２２の下端にフランジ２４が、また上端にカバー
２５がそれぞれ取り付けられている。支持体２１は第３
図に示すようにフランジ２４においてボルト２６により
上記仕切板１７に、またカバー２５においてスペーサー
２７およびボルト２８により上部室１４の頂板１５にそ
れぞれ固定されている。

円筒状金網２２の外周に、第３図に示すように円筒フィ
ルター３１か取り付けられている。円筒フィルター３１
はＰｖＣ布材よりなり、第１層３２、第２層３３および
第３層３４の三つの層からなっている。

フィルター布材の密度は第１層３２が最も粗く、第３層
３４がもっとも密となっている。この実施例では、第１
層３２、第２層３３および第３層３４のフィルター布材
のかさ比重は、それぞれ９　ｋｇ／ｍ’、１０　ｋｇ／
Ｉ［１３および１５　ｋｇ／ｍ３である。また、各層の
フィルター布材の厚みは　１ｏｉＬｆｉである。第３層
３４の外周にポリプロピレン布を巻き付け、さらにバン
ド（いずれも図示しない）で締め付けて、各層のフィル
ター布材を円筒状金網２２に固定する。円筒フィルター
３１は底部３６が連通孔１８を介して餌記下部室１２に
連絡しており、頂部はカバー２５により閉じている。な
お、この実施例では、円筒フィルター３１の内径は　１
８０ｍｍ、高さは　２．５ｍであり、フィルター１本の
排ガス処理能力は６　ｍ３７ｍ１ｎである。

Ｌ部室１４は排気塔３８を介して大気に通じている。

ここで、上記のように構成された排ガス処理装置の作用
について説明する。

この実施例では、スクラバー１内で、８０Ｉｌ＋　ＮＨ３→Ｎ１１４ＣＪＺ）ＩＮＯ＋Ｎｌ＋３→Ｎ１１４ＮＯ。

などの酸・アルカリの中和反応、および特ガスと０□、
■２０などとの反応が生じる。この結果、スクラバー１
内で多量の白煙が発生する。

白煙Ｇはファン５により下部室１２に押し込まれ、円筒
フィルター３１内に底部開口から流入する。そして、白
煙Ｇは円筒フィルター３１の第１層３２、第２層３３お
よび第３層３４と順次通過し、上部室１４に流出する。

このとき、白煙Ｇの粒子は粗なものから円筒フィルター
３１により吸着される。

上記排ガス処理装置１１の出口において、ＪＩＳ規格に
従ってガス濃度を測定した。その結果は、次のように定
量限界以下であった。

１１（：Ｉｌ：　１．Ｏｐｐｍ以下Ｎ１１３　：　１．ＯｐｐＩｎ以下ＨＦ　：　０．４　ｍｇ７Ｎｍ３以下ＮＮＯ，−ＮＯＸ　：　０．５　ｐｐｍ以下［発明の効
果］この発明の排ガス処理装置は、複層の円筒フィルターに
より排ガスを処理するので、装置が腐食することはない
。また、装置が簡単、廉価であり、保守も容易である。

ちなみに、半導体製造設備のスクラバーに設置した、こ
の発明による排ガス処理装置は、２年間経過しても全く
腐食などの損傷は見られなかった。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の排ガス処理装置の配置を示す立面図
、第２図は排ガス処理装置の一例を示す縦断面図、およ
び第３図は円筒フィルターの詳細を示す縦断面図である
。１・・・スクラバー、３・・・ダクト、５・・・ファン
、１１・・・排ガス処理装置、１２−・・下部室、１４
・・・上部室、１７・・・仕切板、Ｉ８・・・連通孔、
２１−・・支持体、２２−・・金網、３１・・・円筒フ
ィルター、３８・・・排気塔、Ｇ−・・排ガス。特許出願入代・埋入

Claims

【特許請求の範囲】

１、スクラバーの出側に配置され、出側または入側にフ
ァンが接続された排ガス処理装置において、前記スクラ
バーに連絡する下部室、複数の連通孔を有する仕切板を
介して前記下部室の頂部に接続され、かつ大気に通じて
いる上部室、および前記仕切板上に垂直に支持され、頂
部が塞がれているとともに底部開口が連通孔を介して前
記下部室に連絡している複数の複層円筒フィルターとか
らなることを特徴とする排ガス処理装置。