JPH0251833A - 寸法測定用走査型電子顕微鏡 - Google Patents
寸法測定用走査型電子顕微鏡Info
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- JPH0251833A JPH0251833A JP63201965A JP20196588A JPH0251833A JP H0251833 A JPH0251833 A JP H0251833A JP 63201965 A JP63201965 A JP 63201965A JP 20196588 A JP20196588 A JP 20196588A JP H0251833 A JPH0251833 A JP H0251833A
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 41
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 241000023308 Acca Species 0.000 description 2
- 102100021334 Bcl-2-related protein A1 Human genes 0.000 description 1
- 101000677540 Homo sapiens Acetyl-CoA carboxylase 2 Proteins 0.000 description 1
- 101000894929 Homo sapiens Bcl-2-related protein A1 Proteins 0.000 description 1
- 206010033799 Paralysis Diseases 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的1
(産業上の利用分野)
本発明は、寸法測定用走査型電子顕微鏡に関し、測定精
度を向上させたものである。
度を向上させたものである。
(従来の技術)
従来の走査型電子顕微鏡による寸法測定の例を第4図な
いし第6図を用いて説明する。まず、第4図は走査型電
子顕微鏡(SEM)により試料の拡大像を得る機構を原
理的に示している。同図中、41は電子ご一ムを細く絞
った走査電子プローブであり、この走査電子プローブ4
1により試料42の面上を2次元的に走査すると同時に
、これと同期しながらCRTを走査することによって試
料42から発生する2次電子量がCRT上に明暗として
表示され、拡大像43が得られるようになっている。し
たがって、走査型電子顕微鏡では、その倍率Mが、次式
で示されるように、試料42上の走査長さΩとCRT上
の走査長さLの比で与えられる。
いし第6図を用いて説明する。まず、第4図は走査型電
子顕微鏡(SEM)により試料の拡大像を得る機構を原
理的に示している。同図中、41は電子ご一ムを細く絞
った走査電子プローブであり、この走査電子プローブ4
1により試料42の面上を2次元的に走査すると同時に
、これと同期しながらCRTを走査することによって試
料42から発生する2次電子量がCRT上に明暗として
表示され、拡大像43が得られるようになっている。し
たがって、走査型電子顕微鏡では、その倍率Mが、次式
で示されるように、試料42上の走査長さΩとCRT上
の走査長さLの比で与えられる。
M=L、l ・・・(1)
このような走査型電子顕微鏡を用いて試料42の寸法測
定を行なう場合、予め測定を行なう倍率ごとに1画素4
4当り何ミクロンという校正値をもっておき、CRT上
の長さ、即ち画素数を求めることにより、試料42の寸
法を求めるという方法がとられている。
このような走査型電子顕微鏡を用いて試料42の寸法測
定を行なう場合、予め測定を行なう倍率ごとに1画素4
4当り何ミクロンという校正値をもっておき、CRT上
の長さ、即ち画素数を求めることにより、試料42の寸
法を求めるという方法がとられている。
そして、第5図に示づように試料は通常、基準試料位I
I W D oに置かれているが、ステージが2次元的
に移動した場合、或いは試料の平面度にむらがある場合
など試料位置WDが電子ビーム45の方向(上下方向)
にずれることがある。このようにずれると同図からも明
らかなように試料上の走査領域に変化が生じることにな
る。
I W D oに置かれているが、ステージが2次元的
に移動した場合、或いは試料の平面度にむらがある場合
など試料位置WDが電子ビーム45の方向(上下方向)
にずれることがある。このようにずれると同図からも明
らかなように試料上の走査領域に変化が生じることにな
る。
また、走査型電子顕微鏡では電子ビーム45を鋸歯状に
変化する磁界の中を通過させることにより第6図に示す
ようにローレンツ力F−e −v・8(e:電子の電荷
、■:電子の速度、B:磁界の強さ)によってビームを
曲げ試料上を走査するようにしている。第6図中、47
は磁界の作用領域である。したがって電子ビームの速度
■が異なると受けるローレンツ力Fが変わるためビーム
の偏向角が変わる。この結果、この場合にも試料上の走
査領域に変化を生じることになる。このように試料位I
WD又はビーム速度V(電子銃の加速電圧)が変化する
と倍率Mに変化が生じてしまう。
変化する磁界の中を通過させることにより第6図に示す
ようにローレンツ力F−e −v・8(e:電子の電荷
、■:電子の速度、B:磁界の強さ)によってビームを
曲げ試料上を走査するようにしている。第6図中、47
は磁界の作用領域である。したがって電子ビームの速度
■が異なると受けるローレンツ力Fが変わるためビーム
の偏向角が変わる。この結果、この場合にも試料上の走
査領域に変化を生じることになる。このように試料位I
WD又はビーム速度V(電子銃の加速電圧)が変化する
と倍率Mに変化が生じてしまう。
(発明が解決しようとする課題)
走査型電子顕微鏡で寸法測定を行なう場合、上述したよ
うに試料位置又はビームの加速電圧変化によって倍率に
変化が生じると、得られる画素数が変化するために測定
結果に誤差が生じてしまうという問題があった。
うに試料位置又はビームの加速電圧変化によって倍率に
変化が生じると、得られる画素数が変化するために測定
結果に誤差が生じてしまうという問題があった。
本発明は上記事情に基づいてなされたもので、試料位置
又はビームの加速電圧が変化した場合にも正確な寸法測
定を行なうことのできる寸法測定用走査型電子顕微鏡を
提供することを目的とする。
又はビームの加速電圧が変化した場合にも正確な寸法測
定を行なうことのできる寸法測定用走査型電子顕微鏡を
提供することを目的とする。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は上記課題を解決するために、電子ど一ムを被測
定試料上に合焦する自動焦点機構及び当該電子ビームを
前記被測定試料上に走査する走査手段を有する寸法測定
用走査型電子顕微鏡において、被測定試料の寸法測定時
における前記自動焦点機構による合焦状態を示す信号及
び電子ビームの加速電圧に応じて前記走査手段を制御し
当該電子ビームによる前記被測定試料上の走査領域を所
定領域とする走査f!4域υJll1手段を有すること
を要旨とする。
定試料上に合焦する自動焦点機構及び当該電子ビームを
前記被測定試料上に走査する走査手段を有する寸法測定
用走査型電子顕微鏡において、被測定試料の寸法測定時
における前記自動焦点機構による合焦状態を示す信号及
び電子ビームの加速電圧に応じて前記走査手段を制御し
当該電子ビームによる前記被測定試料上の走査領域を所
定領域とする走査f!4域υJll1手段を有すること
を要旨とする。
(作用)
上記構成において、被測定試料の寸法測定時に、自動焦
点機構による合焦状態を示す信号により試料位置が検出
される。そして、この試料位置及び電子ビームの加速電
圧に応じて走査手段における走査電圧が補正制御され、
被測定試料上の走査領域が所定の領域とされる。したが
って試料位置又は電子ビームの加速電圧が変化した場合
にも倍率が一定に保持されて正確な寸法測定が行なわれ
る。
点機構による合焦状態を示す信号により試料位置が検出
される。そして、この試料位置及び電子ビームの加速電
圧に応じて走査手段における走査電圧が補正制御され、
被測定試料上の走査領域が所定の領域とされる。したが
って試料位置又は電子ビームの加速電圧が変化した場合
にも倍率が一定に保持されて正確な寸法測定が行なわれ
る。
(実施例)
以下、本発明の実施例を第1図ないし第3図に基づいて
説明する。
説明する。
第1図は寸法測定用走査型電子顕微鏡の構成図である。
同図中、2は電子ビーム3を放射する電子銃、4は加速
高圧N源であり、その加速電圧は走査領域制御手段とし
ての中央演算装置1により読取ることができるようにな
っている。5は電子ビーム3を電磁的に軸合わせするた
めのアライメントコイル、6はアライメント電源、7は
集束レンズ、8は集束レンズ電源、9.1oは走査手段
としての上段走査コイル及び下段走査コイルであり、各
走査コイル9.10には、X方向及びY方向の走査信号
発生器15.16が走査アンプ13.14及び走査電源
11.12を介して接続されている。17はブランキン
グ回路である。
高圧N源であり、その加速電圧は走査領域制御手段とし
ての中央演算装置1により読取ることができるようにな
っている。5は電子ビーム3を電磁的に軸合わせするた
めのアライメントコイル、6はアライメント電源、7は
集束レンズ、8は集束レンズ電源、9.1oは走査手段
としての上段走査コイル及び下段走査コイルであり、各
走査コイル9.10には、X方向及びY方向の走査信号
発生器15.16が走査アンプ13.14及び走査電源
11.12を介して接続されている。17はブランキン
グ回路である。
また、18は対物レンズ、19は対物レンズ電源であり
自動焦点機構20により制御されている。
自動焦点機構20により制御されている。
この自動焦点機構20により、対物レンズ電源19から
対物レンズ18に流れる電流値が制御されて電子ビーム
3が被測定試料22上に合焦されるようになっている。
対物レンズ18に流れる電流値が制御されて電子ビーム
3が被測定試料22上に合焦されるようになっている。
そして、このとき対物レンズ18に流れる電流値が電流
検出器21により電圧値に変換され、この電圧信号が合
焦状態を示す信号として中央演算装置1に導かれている
。
検出器21により電圧値に変換され、この電圧信号が合
焦状態を示す信号として中央演算装置1に導かれている
。
そして、集束レンズ7で集束された電子ビーム3が、走
査コイル9.10によって偏向され、被測定試料22上
に走査される。このとき発生する2次電子が2次電子検
出器24によって検出されアンプ25.26を介して寸
法測定器27に導かれる。寸法測定器27では、被測定
試料22中の対象となるパターンのCRT28上での画
素数と測定倍率における前述の校正値からそのパターン
の寸法値が計算されるようになっている。
査コイル9.10によって偏向され、被測定試料22上
に走査される。このとき発生する2次電子が2次電子検
出器24によって検出されアンプ25.26を介して寸
法測定器27に導かれる。寸法測定器27では、被測定
試料22中の対象となるパターンのCRT28上での画
素数と測定倍率における前述の校正値からそのパターン
の寸法値が計算されるようになっている。
この実施例の寸法測定用走査型電子顕微鏡は、測定精度
向上のため、上述のような測定機構に加えて、さらに中
央演算装置1内に走査電圧補正テーブルが設けられ、こ
の走査電圧補正テーブルから導びかれた補正電圧が走査
信号発生器15.16から出力される走査信号に加算さ
れるようになっている。
向上のため、上述のような測定機構に加えて、さらに中
央演算装置1内に走査電圧補正テーブルが設けられ、こ
の走査電圧補正テーブルから導びかれた補正電圧が走査
信号発生器15.16から出力される走査信号に加算さ
れるようになっている。
以下、その走査電圧補正テーブルの作成方法及び走査電
圧補正テーブルから補正電圧を導く方法について、第2
図及び第3図を用いてさらに詳しく説明する。
圧補正テーブルから補正電圧を導く方法について、第2
図及び第3図を用いてさらに詳しく説明する。
この走査電圧補正テーブルの作成に関連して、中央演算
装置1の部分には、ボリューム29、切換スイッチ30
、A/Dコンバータ31.D/Aコンバータ32及びバ
スドライバ33.34等が付設されている。
装置1の部分には、ボリューム29、切換スイッチ30
、A/Dコンバータ31.D/Aコンバータ32及びバ
スドライバ33.34等が付設されている。
そしてまず、切換スイッチ30はO−1が導通状態とな
るようにしておき、バスドライバは33が導通で34が
絶縁状態としておく。また、ビーム方向に上下できるス
テージ23上に基準パターン(試料)を載せ、基準パタ
ーンの位置が基準試料位置となるようにしておく。この
ようにしたのち、電子ビームの加速電圧は、例えばAC
C2として基準パターンの測長を行ない、その測長値が
公称値となるようにボリューム29を操作して走査信号
発生器15.16からの走査信号に加算する電圧VSC
を調整し、走査型電子顕微鏡の倍率を調整する。このと
きのボリューム29の電圧値VscをA/Dコンバータ
31を介して中央演算装置!!1に取込む。上記と同様
のことを、ステージ23を基準試料位置から上下に動か
しながら(jなうと、第2図に示すように、加速電圧A
CC2についての特性線を得ることができる。同図中、
横軸のVFCは、電流検出器21の出力電圧値であり、
基準試料位置からのずれ伝に対応した値を表わしている
。また、VS T D F Cは基準試料位置における
電圧値を示している。
るようにしておき、バスドライバは33が導通で34が
絶縁状態としておく。また、ビーム方向に上下できるス
テージ23上に基準パターン(試料)を載せ、基準パタ
ーンの位置が基準試料位置となるようにしておく。この
ようにしたのち、電子ビームの加速電圧は、例えばAC
C2として基準パターンの測長を行ない、その測長値が
公称値となるようにボリューム29を操作して走査信号
発生器15.16からの走査信号に加算する電圧VSC
を調整し、走査型電子顕微鏡の倍率を調整する。このと
きのボリューム29の電圧値VscをA/Dコンバータ
31を介して中央演算装置!!1に取込む。上記と同様
のことを、ステージ23を基準試料位置から上下に動か
しながら(jなうと、第2図に示すように、加速電圧A
CC2についての特性線を得ることができる。同図中、
横軸のVFCは、電流検出器21の出力電圧値であり、
基準試料位置からのずれ伝に対応した値を表わしている
。また、VS T D F Cは基準試料位置における
電圧値を示している。
さらに、実用範囲となる電子ビームの加速電圧において
、例えばACCI等の幾つかの加速電圧を選び、上述と
同様のことを行なうことによって、第2図に示すような
走査電圧補正テーブル(補正式)が得られる。
、例えばACCI等の幾つかの加速電圧を選び、上述と
同様のことを行なうことによって、第2図に示すような
走査電圧補正テーブル(補正式)が得られる。
次に、上述のようにして得られた走査電圧補正テーブル
を用いて被測定試料22の寸法測定を行なう場合は、切
換スイッチ30はO−2が導通となるようにしておき、
バスドライバは34が導通で33が絶縁状態としておく
。中央演算装置1の読出した加速電圧及び試料位置に対
応した電圧値を第3図中、それぞれACCa及びVaF
Cとする。この時、中央演算装置1はACCaをはさむ
加速電圧ACCI 、ACC2の両直線の式よりACC
aの直線の式を比例配分により求める。そして、このA
CCaの直線の式から補正電圧vascが求められる。
を用いて被測定試料22の寸法測定を行なう場合は、切
換スイッチ30はO−2が導通となるようにしておき、
バスドライバは34が導通で33が絶縁状態としておく
。中央演算装置1の読出した加速電圧及び試料位置に対
応した電圧値を第3図中、それぞれACCa及びVaF
Cとする。この時、中央演算装置1はACCaをはさむ
加速電圧ACCI 、ACC2の両直線の式よりACC
aの直線の式を比例配分により求める。そして、このA
CCaの直線の式から補正電圧vascが求められる。
この補正電圧VascをD/Aコンバータ32を介して
走査信号発生器15.16からの走査信号に加え合せる
。この補正電圧vaSCは先に走査電圧補正テーブルを
作成する際にボリューム29によって発生させたものと
全く等価であるので、寸法測定時に電子ビームの加速電
圧又は試料位置が変化した場合にも走査型電子顕微鏡の
倍率が一定に保たれて正確な寸法測定が行なわれる。
走査信号発生器15.16からの走査信号に加え合せる
。この補正電圧vaSCは先に走査電圧補正テーブルを
作成する際にボリューム29によって発生させたものと
全く等価であるので、寸法測定時に電子ビームの加速電
圧又は試料位置が変化した場合にも走査型電子顕微鏡の
倍率が一定に保たれて正確な寸法測定が行なわれる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
例えば走査型レーザ顕微鏡においては苅物レンズの位置
を直接読取るようにすれば同様の考え方で本発明を適、
用することができる。そしてこの場合は光の速度は一定
であるので加速電圧による補正という考え方は必要がな
くなる。
例えば走査型レーザ顕微鏡においては苅物レンズの位置
を直接読取るようにすれば同様の考え方で本発明を適、
用することができる。そしてこの場合は光の速度は一定
であるので加速電圧による補正という考え方は必要がな
くなる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、被測定試料の寸
法測定時に、自動焦点機構による合焦状態を示す信号に
より試料位置が検出され、この試料位置及び電子ビーム
の加速電圧に応じて走査手段が制御されて被測定試料上
の走査領域が所定の領域とされる。したがって試料位置
又は電子ビームの加速電圧が変化した場合にも倍率が一
定に保持されて正確な寸法測定を行なうことができる。
法測定時に、自動焦点機構による合焦状態を示す信号に
より試料位置が検出され、この試料位置及び電子ビーム
の加速電圧に応じて走査手段が制御されて被測定試料上
の走査領域が所定の領域とされる。したがって試料位置
又は電子ビームの加速電圧が変化した場合にも倍率が一
定に保持されて正確な寸法測定を行なうことができる。
第1図ないし第3図は本発明に係る寸法測定用走査型電
子顕微鏡の実施例を示すもので、第1図は構成図、第2
図は走査領域制御手段における走査電圧補正テーブルの
一例を示す図、第3図は同士走査電圧補正テーブルから
補正電圧の導出作用を説明するための図、第4図は従来
の走査型電子顕微鏡における試料の拡大像を得る機構を
説明するための図、第5図は試料位置のずれによる試料
上の走査領域の変化を説明するための図、第6図は加速
電圧の変動による試料上の走査領域の変化を説明するた
めの図である。 1:中央演痺装置(走査領域制御手段)、4:加速電圧
電源、 9.1o:上段及び下段の走査コイル(走査手段)、 15.16:走査信号発生器、 20:自動焦点機構、 27:寸法測定器。
子顕微鏡の実施例を示すもので、第1図は構成図、第2
図は走査領域制御手段における走査電圧補正テーブルの
一例を示す図、第3図は同士走査電圧補正テーブルから
補正電圧の導出作用を説明するための図、第4図は従来
の走査型電子顕微鏡における試料の拡大像を得る機構を
説明するための図、第5図は試料位置のずれによる試料
上の走査領域の変化を説明するための図、第6図は加速
電圧の変動による試料上の走査領域の変化を説明するた
めの図である。 1:中央演痺装置(走査領域制御手段)、4:加速電圧
電源、 9.1o:上段及び下段の走査コイル(走査手段)、 15.16:走査信号発生器、 20:自動焦点機構、 27:寸法測定器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 電子ビームを被測定試料上に合焦する自動焦点機構及び
当該電子ビームを前記被測定試料上に走査する走査手段
を有する寸法測定用走査型電子顕微鏡において、 被測定試料の寸法測定時における前記自動焦点機構によ
る合焦状態を示す信号及び電子ビームの加速電圧に応じ
て前記走査手段を制御し当該電子ビームによる前記被測
定試料上の走査領域を所定領域とする走査領域制御手段
を有することを特徴とする寸法測定用走査型電子顕微鏡
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63201965A JPH0251833A (ja) | 1988-08-15 | 1988-08-15 | 寸法測定用走査型電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63201965A JPH0251833A (ja) | 1988-08-15 | 1988-08-15 | 寸法測定用走査型電子顕微鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0251833A true JPH0251833A (ja) | 1990-02-21 |
Family
ID=16449697
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63201965A Pending JPH0251833A (ja) | 1988-08-15 | 1988-08-15 | 寸法測定用走査型電子顕微鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0251833A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04122900A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-23 | Nissin High Voltage Co Ltd | 電子線分布自動補正機能付電子線照射装置 |
-
1988
- 1988-08-15 JP JP63201965A patent/JPH0251833A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04122900A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-23 | Nissin High Voltage Co Ltd | 電子線分布自動補正機能付電子線照射装置 |
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