JPH025041A - 写真要素 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
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- G03C1/825—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antireflection means or visible-light filtering means, e.g. antihalation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は、ハレーション防止用色素またはアキュータン
ス用色素を導入した写真要素に関する。
ス用色素を導入した写真要素に関する。
発明の背景
感光性記録用材料は、記録された画像の画質を悪くする
原因であるハレーションとして知られている現像をこう
むる。このような悪化は、感光性層に突き当たった像形
成性の光線の一部が吸収されないで、感光性層で掩われ
ているフィルムベースを貫いて通過したときに生起する
。フィルムベースに到達した光線の一部がフィルムベー
スの後ろで反射し、その反射光は下側から感光性層に突
き当たる。従って、ある場合には、反射した光は、感光
性層の全露光に関して優位に影響を与える。感光性要素
において特に問題となることは、感光性要素を通過した
光が、散乱を引き起こす原因となることである。フィル
ムベースがら反射する散乱光は、感光性層を2回目に通
過するときに、意図された露光といってよい程度の露光
領域に隣接する領域を露光する原因となる。これカミ画
像を悪化させるのに影響を与える。ハロゲン化銀を基材
とした写真材料(フォトサーモグラフ材料を包含する)
は、この形式の画像悪化になりゃすい。なぜなら、感光
性層には光散乱性の粒子が含まれているからである。画
質に与える光の散乱の影響は、よく記録されており、例
えば、T、 H,James“The Theory
of the Photographic Proce
ss”、 4 thEdition 、 Chapte
r 20 、 Macmillan 1977に記述さ
れている。
原因であるハレーションとして知られている現像をこう
むる。このような悪化は、感光性層に突き当たった像形
成性の光線の一部が吸収されないで、感光性層で掩われ
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。フィルムベースに到達した光線の一部がフィルムベー
スの後ろで反射し、その反射光は下側から感光性層に突
き当たる。従って、ある場合には、反射した光は、感光
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光が、散乱を引き起こす原因となることである。フィル
ムベースがら反射する散乱光は、感光性層を2回目に通
過するときに、意図された露光といってよい程度の露光
領域に隣接する領域を露光する原因となる。これカミ画
像を悪化させるのに影響を与える。ハロゲン化銀を基材
とした写真材料(フォトサーモグラフ材料を包含する)
は、この形式の画像悪化になりゃすい。なぜなら、感光
性層には光散乱性の粒子が含まれているからである。画
質に与える光の散乱の影響は、よく記録されており、例
えば、T、 H,James“The Theory
of the Photographic Proce
ss”、 4 thEdition 、 Chapte
r 20 、 Macmillan 1977に記述さ
れている。
通常、写真要素中に、光吸収性層を含有させて光の散乱
の影響を最小にすることが行われている。この層の吸収
を効果的にするために、感光性層の感度と同じ波長にし
なければならない。透明なフィルムベース上に塗布され
た像形成性材料の場合には、光吸収性層は、しばしば、
感光性層からみてフィルムベースの裏側に塗布されてい
る。
の影響を最小にすることが行われている。この層の吸収
を効果的にするために、感光性層の感度と同じ波長にし
なければならない。透明なフィルムベース上に塗布され
た像形成性材料の場合には、光吸収性層は、しばしば、
感光性層からみてフィルムベースの裏側に塗布されてい
る。
そのように塗布することは、゛′ハレーション防止層″
として知られており、感光性層を通過した任意の光線の
反射を効果的に防止する。
として知られており、感光性層を通過した任意の光線の
反射を効果的に防止する。
これと同様な効果は、感光性層とフィルムベースとの間
にはさまれた光吸収性層によって達成させることができ
る。“ハレーション防止用下塗り層(antihala
tion underlayer ) ”として記述さ
れているこの構成は、透明なフィルムベースまたは不透
明なフィルムベース上に、感光性材料を塗布するのに適
用することができる。光吸収性物質を、散乱光線を吸収
するために、感光性層それ自体の中に添入させることも
できる。この目的のために用いられた物質は、パアキュ
ータンス用色素″として知られている。また、湿式処理
された写真要素の感光性層上に光吸収性層を塗布するこ
とによって画質を改良することも可能である。この種類
の塗布に関しては米国特許第4,312,941号明紺
書に記載されており、写真要素中の内部の表面間におけ
る散乱光線の多数の反射を防止することができる。
にはさまれた光吸収性層によって達成させることができ
る。“ハレーション防止用下塗り層(antihala
tion underlayer ) ”として記述さ
れているこの構成は、透明なフィルムベースまたは不透
明なフィルムベース上に、感光性材料を塗布するのに適
用することができる。光吸収性物質を、散乱光線を吸収
するために、感光性層それ自体の中に添入させることも
できる。この目的のために用いられた物質は、パアキュ
ータンス用色素″として知られている。また、湿式処理
された写真要素の感光性層上に光吸収性層を塗布するこ
とによって画質を改良することも可能である。この種類
の塗布に関しては米国特許第4,312,941号明紺
書に記載されており、写真要素中の内部の表面間におけ
る散乱光線の多数の反射を防止することができる。
可視光線および/または紫外線を吸収し、700nm以
下の波長に増感された従来の写真要素における画像を改
良する目的に適している多くの物質が知られている。こ
れに関連して、特にトリアリールメタン色素およびオキ
ソノール色素が広く用いられている。しかしながら、ス
ペクトルの近赤外線領域において吸収するハレーション
防止用色素およびアキュータンス用色素の要求がある。
下の波長に増感された従来の写真要素における画像を改
良する目的に適している多くの物質が知られている。こ
れに関連して、特にトリアリールメタン色素およびオキ
ソノール色素が広く用いられている。しかしながら、ス
ペクトルの近赤外線領域において吸収するハレーション
防止用色素およびアキュータンス用色素の要求がある。
この夕イブの色素は、近赤外線波長に分光増感されてい
る記録用材料、例えば、近赤外レーザーの出力(out
put )を記録するように設計されている材料のため
に必要である。赤外線吸収用顔料例えばカーボンブラッ
クによる塗布を用いることができる。
る記録用材料、例えば、近赤外レーザーの出力(out
put )を記録するように設計されている材料のため
に必要である。赤外線吸収用顔料例えばカーボンブラッ
クによる塗布を用いることができる。
しかし、この材料を使用することには、異論の余地があ
る。なぜならば、この材料は、現像処理中に脱色できな
いし、それ故カーボンブラックを、洗って取り去ること
を許容する現像液中に溶解する結合剤で塗布しなければ
ならないからである。
る。なぜならば、この材料は、現像処理中に脱色できな
いし、それ故カーボンブラックを、洗って取り去ること
を許容する現像液中に溶解する結合剤で塗布しなければ
ならないからである。
これは好ましくない汚染の原因となる。
通常、紫外線および可視光線に対する感光性材料のハレ
ーションを防止する目的および/またはアキュータンス
の目的に使用される有機色素のクラスは、近赤外線を強
く吸収する安定な誘導体を容易に生成しない。本明細書
においては、可視光線は波長400〜700nmの光線
を意味し、近赤外線は波長700〜1400 nmの光
線を意味する。
ーションを防止する目的および/またはアキュータンス
の目的に使用される有機色素のクラスは、近赤外線を強
く吸収する安定な誘導体を容易に生成しない。本明細書
においては、可視光線は波長400〜700nmの光線
を意味し、近赤外線は波長700〜1400 nmの光
線を意味する。
スペクトルの可視領域を吸収するハレーション防止用色
素またはアキュータンス用色素は、湿式現像処理技術に
おける洗い出しまたは化学反応により、または熱現像技
術における熱漂白により、それらのいずれかによって写
真材料の現像処理中に無色になることが必要である。シ
アニン色素は、写真業界においていはよく知られており
、かつハロゲン化銀を基材とした材料の分光増感剤とし
て広く使用されている。通常、シアニン色素は、ハレー
ション防止用の目的またはアキュータンスの目的のため
には使用されていないし、また適当であるとも考えられ
ていない。それは、シアニン色素の水性媒体中への溶解
性が限定されており、かつ特に多量に存在したときに、
写真処理中において完全に脱色される性能がないためで
ある。
素またはアキュータンス用色素は、湿式現像処理技術に
おける洗い出しまたは化学反応により、または熱現像技
術における熱漂白により、それらのいずれかによって写
真材料の現像処理中に無色になることが必要である。シ
アニン色素は、写真業界においていはよく知られており
、かつハロゲン化銀を基材とした材料の分光増感剤とし
て広く使用されている。通常、シアニン色素は、ハレー
ション防止用の目的またはアキュータンスの目的のため
には使用されていないし、また適当であるとも考えられ
ていない。それは、シアニン色素の水性媒体中への溶解
性が限定されており、かつ特に多量に存在したときに、
写真処理中において完全に脱色される性能がないためで
ある。
本発明の目的は、水溶性であり、かつ近赤外線において
吸収する塗布物を形成することが可能であり、かつ写真
処理中に無色となる色素のクラスを提供することである
。
吸収する塗布物を形成することが可能であり、かつ写真
処理中に無色となる色素のクラスを提供することである
。
発明の概要
本発明により、1つまたはそれ以上の感光性層、および
ハレーション防止用色素またはアキュータンス用色素と
して、次式の化合物の1種またはそれ以上のハレーショ
ン防止有効量またはアキュータンス有効量を含有する写
真要素が提供される:式 [式中、 m +p = 2、好ましくはm=p=1であり、nは
、0または1であり、 Sは、0または1であり、 zlおよびz2は、独立的に、シアニン色素中に存在し
ているタイプのへテロ環式核を完成するのに必要な非金
属原子を表わし、かつさらに水溶性基例えばスルホネー
ト、カルボキシレート等を含んでおり、 R1およびR2は、独立的に、アルキル基、置換アルキ
ル基、アルケニル基、置換アルケニル基、またはアラル
キル基から成る群から選ばれ、かつ前記各基は20個以
下の炭素原子を有しており、R3およびR4は、独立的
に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニ
ル基、または置換アルケニル基から成る群から選ばれ、
かつ前記各基は10個以下の炭素原子を有しておりR5
、R6、R7、およびR8は、−緒になって、12個よ
り多くの炭素原子を含まず、独立的に、水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニ
ル基、アリール基、またはアルカリール基から成る群か
ら選ばれ、またはR5およびR6の1個は、R7および
R8の1個と一緒になって、炭素環式環例えばベンゼン
環を完成するのに必要な原子を表わし、ただし、この場
合には、R5−R8の前記他の基は存在しない、Qlお
よびQ2は、−緒になって、オキソノール色素またはメ
ロシアニン色素中に存在しているタイプの酸核を完成さ
ぜるのに必要な非金属原子を表わす] zlおよびz2により形成されるヘテロ環式核は、シア
ニン色素に関する技術界において知られている広範囲の
核のいずれでもよい。一般に、zlおよびz2は、それ
ぞれ、ペテロ環式環中に5〜6個の原子を有するヘテロ
環式核(この核は、任意的に置換基を有していてもよい
)を完成させるのに必要な非金属原子を表わす。好まし
くは、ヘテロ環式環は、C,N、01S1およびSeが
ら選ばれた環原子から構成される。このようなヘテロ環
式核の例には次のものが包含される: チアゾール系、例えば、チアゾール、4−メチルチアゾ
ール、4−フェニルチアゾール、5−メチルチアゾール
、5−フェニルチアゾール、4,5−ジメチルチアゾー
ル、4,5−ジフェニルチアゾール、4−(2−チエニ
ル)−チアゾール、ベンゾチアゾール系、例えば、ベン
ゾチアゾール、4−クロロベンゾチアゾール、5−クロ
ロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾール、7
−クロロベンゾチアゾール、4−メチルベンゾチアゾー
ル、5−メチルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチ
アゾール、5−ブロモベンゾチアゾール、6−ブロモベ
ンゾチアゾール、4−フェニルベンゾチアゾール、5−
フェニルベンゾチアゾール、4−メトキシベンゾチアゾ
ール、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベ
ンゾチアゾール、5−ヨードベンゾチアゾール、6−ヨ
ードベンゾチアゾール、4−エトキシベンゾチアゾール
、5−エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾ
チアゾール、5,6−シメトキシベンゾチアゾール、5
゜6−シオキシメチレンベンゾチアゾール、5−ヒドロ
キシベンゾチアゾール、6−ヒドロキシベンゾチアゾー
ル、 ナフトチアゾール系、例えば、ナフト[1,2]チアゾ
ール、ナフト[2,1]チアゾール、5−メトキシナフ
ト[2,1]チアゾール、5−エトキシナフト[2,1
]チアゾール、8−メトキシナフト[1,2]チアゾー
ル、7−メトキシナフト[1,2]チアゾール、 チアナフチノー7’ 、6’ 、4.5−チアゾール系
、例えば、4′−メトキシチアナフチノー7t 、 6
′。
ハレーション防止用色素またはアキュータンス用色素と
して、次式の化合物の1種またはそれ以上のハレーショ
ン防止有効量またはアキュータンス有効量を含有する写
真要素が提供される:式 [式中、 m +p = 2、好ましくはm=p=1であり、nは
、0または1であり、 Sは、0または1であり、 zlおよびz2は、独立的に、シアニン色素中に存在し
ているタイプのへテロ環式核を完成するのに必要な非金
属原子を表わし、かつさらに水溶性基例えばスルホネー
ト、カルボキシレート等を含んでおり、 R1およびR2は、独立的に、アルキル基、置換アルキ
ル基、アルケニル基、置換アルケニル基、またはアラル
キル基から成る群から選ばれ、かつ前記各基は20個以
下の炭素原子を有しており、R3およびR4は、独立的
に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニ
ル基、または置換アルケニル基から成る群から選ばれ、
かつ前記各基は10個以下の炭素原子を有しておりR5
、R6、R7、およびR8は、−緒になって、12個よ
り多くの炭素原子を含まず、独立的に、水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニ
ル基、アリール基、またはアルカリール基から成る群か
ら選ばれ、またはR5およびR6の1個は、R7および
R8の1個と一緒になって、炭素環式環例えばベンゼン
環を完成するのに必要な原子を表わし、ただし、この場
合には、R5−R8の前記他の基は存在しない、Qlお
よびQ2は、−緒になって、オキソノール色素またはメ
ロシアニン色素中に存在しているタイプの酸核を完成さ
ぜるのに必要な非金属原子を表わす] zlおよびz2により形成されるヘテロ環式核は、シア
ニン色素に関する技術界において知られている広範囲の
核のいずれでもよい。一般に、zlおよびz2は、それ
ぞれ、ペテロ環式環中に5〜6個の原子を有するヘテロ
環式核(この核は、任意的に置換基を有していてもよい
)を完成させるのに必要な非金属原子を表わす。好まし
くは、ヘテロ環式環は、C,N、01S1およびSeが
ら選ばれた環原子から構成される。このようなヘテロ環
式核の例には次のものが包含される: チアゾール系、例えば、チアゾール、4−メチルチアゾ
ール、4−フェニルチアゾール、5−メチルチアゾール
、5−フェニルチアゾール、4,5−ジメチルチアゾー
ル、4,5−ジフェニルチアゾール、4−(2−チエニ
ル)−チアゾール、ベンゾチアゾール系、例えば、ベン
ゾチアゾール、4−クロロベンゾチアゾール、5−クロ
ロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾール、7
−クロロベンゾチアゾール、4−メチルベンゾチアゾー
ル、5−メチルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチ
アゾール、5−ブロモベンゾチアゾール、6−ブロモベ
ンゾチアゾール、4−フェニルベンゾチアゾール、5−
フェニルベンゾチアゾール、4−メトキシベンゾチアゾ
ール、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベ
ンゾチアゾール、5−ヨードベンゾチアゾール、6−ヨ
ードベンゾチアゾール、4−エトキシベンゾチアゾール
、5−エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾ
チアゾール、5,6−シメトキシベンゾチアゾール、5
゜6−シオキシメチレンベンゾチアゾール、5−ヒドロ
キシベンゾチアゾール、6−ヒドロキシベンゾチアゾー
ル、 ナフトチアゾール系、例えば、ナフト[1,2]チアゾ
ール、ナフト[2,1]チアゾール、5−メトキシナフ
ト[2,1]チアゾール、5−エトキシナフト[2,1
]チアゾール、8−メトキシナフト[1,2]チアゾー
ル、7−メトキシナフト[1,2]チアゾール、 チアナフチノー7’ 、6’ 、4.5−チアゾール系
、例えば、4′−メトキシチアナフチノー7t 、 6
′。
4.5−チアゾール、
オキサゾール系、例えば、4−メチルオキサゾール、5
−メチルオキサゾール、4−フェニルオキサゾール、4
,5−ジフェニルオキサゾール、4−エチルオキサゾー
ル、4,5−ジメチルオキサゾール、5−フェニルオキ
サシーツ呟 ベンゾオキサゾール系、例えば、ベンゾオキサゾール、
5−クロロベンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキ
サゾール、5−フェニルベンゾオキサゾール、6−メチ
ルベンゾオキサゾール、5,6−ジメチルベンジオギザ
ゾール、4,5−ジメチルベンジオギザゾール、5−メ
トギシベンゾオキサゾール、5−エトキシベンゾオキサ
ゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、6−メドキシ
ベンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾー
ル、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール、 ナフトオキサゾール系、例えば、ナツト[1,2]オキ
サゾール、ナフト[2,1]オキサゾール、セレナゾー
ル系、例えば、4−メチルセレナゾール、4−フェニル
セレナゾール、 ベンゾセレナゾール系、例えば、ベンゾセレナゾール、
5−クロロベンゾセレナゾール、5−メチルベンゾセレ
ナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾール、5−ヒド
ロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナ
ゾール、 ナフトセレナゾール系、例えば、ナフト[1,2]セレ
ナゾール、ナフト[2,1]セレナゾール、チアゾリン
系、例えば、チアゾリン、4−メチルチアゾリン、 2−キノリン系、例えば、キノリン、3−メチルキノリ
ン、5−メチルキノリン、7−メチルキノリン、8−メ
チルキノリン、6−クロロキノリン、8クロロキノリン
、6−メチルキノリン、6−ニトキシキノリン、6−ヒ
ドロキシキノリン、8−ヒドロキシキノリン、 4−キノリン系、例えば、キノワン、6−メドキシキノ
リン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、 1−イソキノリン系、例えば、イソキノリンン、3.4
−ジヒドロイソキノリン、 3−インキノリン系、例えば、インキノリン、ベンゾイ
ミダゾール系、例えば、1,3−ジエチルベンゾイミダ
ゾール、1−エチル−3−フェニルベンゾイミダゾール
、 3.3−ジアルキルインドレニン系、例えば、3゜3−
ジメチルインドレニン、3,3.5−トリメチルインド
レニン、3,3.7−)ジメチルインドレニン 2−ピリジン系、例えば、ピリジン、5−メチルピリジ
ン、および 4−ピリジン系、例えば、ピリジン。
−メチルオキサゾール、4−フェニルオキサゾール、4
,5−ジフェニルオキサゾール、4−エチルオキサゾー
ル、4,5−ジメチルオキサゾール、5−フェニルオキ
サシーツ呟 ベンゾオキサゾール系、例えば、ベンゾオキサゾール、
5−クロロベンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキ
サゾール、5−フェニルベンゾオキサゾール、6−メチ
ルベンゾオキサゾール、5,6−ジメチルベンジオギザ
ゾール、4,5−ジメチルベンジオギザゾール、5−メ
トギシベンゾオキサゾール、5−エトキシベンゾオキサ
ゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、6−メドキシ
ベンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾー
ル、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール、 ナフトオキサゾール系、例えば、ナツト[1,2]オキ
サゾール、ナフト[2,1]オキサゾール、セレナゾー
ル系、例えば、4−メチルセレナゾール、4−フェニル
セレナゾール、 ベンゾセレナゾール系、例えば、ベンゾセレナゾール、
5−クロロベンゾセレナゾール、5−メチルベンゾセレ
ナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾール、5−ヒド
ロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナ
ゾール、 ナフトセレナゾール系、例えば、ナフト[1,2]セレ
ナゾール、ナフト[2,1]セレナゾール、チアゾリン
系、例えば、チアゾリン、4−メチルチアゾリン、 2−キノリン系、例えば、キノリン、3−メチルキノリ
ン、5−メチルキノリン、7−メチルキノリン、8−メ
チルキノリン、6−クロロキノリン、8クロロキノリン
、6−メチルキノリン、6−ニトキシキノリン、6−ヒ
ドロキシキノリン、8−ヒドロキシキノリン、 4−キノリン系、例えば、キノワン、6−メドキシキノ
リン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、 1−イソキノリン系、例えば、イソキノリンン、3.4
−ジヒドロイソキノリン、 3−インキノリン系、例えば、インキノリン、ベンゾイ
ミダゾール系、例えば、1,3−ジエチルベンゾイミダ
ゾール、1−エチル−3−フェニルベンゾイミダゾール
、 3.3−ジアルキルインドレニン系、例えば、3゜3−
ジメチルインドレニン、3,3.5−トリメチルインド
レニン、3,3.7−)ジメチルインドレニン 2−ピリジン系、例えば、ピリジン、5−メチルピリジ
ン、および 4−ピリジン系、例えば、ピリジン。
好ましくは、zlおよび/またはZ2は、ペンゾチアソ
゛−ルイ亥または3,3−ジアルキルインドレニン核を
完成させる。
゛−ルイ亥または3,3−ジアルキルインドレニン核を
完成させる。
このましくは、R1およびR2は、8個以下の炭素原子
を有している。更に好ましくは、R1およびR2は、4
個までの炭素原子を有する低級アルキル基である。この
アルキル基は、シアニンに関する技術界において知られ
ているような色素の性質に有害な影響を与えない任意の
置換基を含んでいてもよい。適当な置換アルキル基には
、アルコキシ−アルキル、ベンジル、カルボキシ−アル
キルが包含される。
を有している。更に好ましくは、R1およびR2は、4
個までの炭素原子を有する低級アルキル基である。この
アルキル基は、シアニンに関する技術界において知られ
ているような色素の性質に有害な影響を与えない任意の
置換基を含んでいてもよい。適当な置換アルキル基には
、アルコキシ−アルキル、ベンジル、カルボキシ−アル
キルが包含される。
好ましくは、R3およびR4は、水素原子または1〜4
個の炭素原子を有する低級アルキル基を表わす。
個の炭素原子を有する低級アルキル基を表わす。
好ましくは、R5−R8は水素である。しの・しながら
、式(I)の色素の製造における中間体として使用でき
るある種の置換シクロペンタノンは、商業的に利用する
ことができる。例えば、3−メチル−シクロペンタノン
および3−フェニルシクロペンタノンであり、それ故R
5〜R8の1個は容易にこれらの置換基を表わすことが
できる。
、式(I)の色素の製造における中間体として使用でき
るある種の置換シクロペンタノンは、商業的に利用する
ことができる。例えば、3−メチル−シクロペンタノン
および3−フェニルシクロペンタノンであり、それ故R
5〜R8の1個は容易にこれらの置換基を表わすことが
できる。
QlおよびQ2によって完成された環.ri’:の酸核
は、好ましくは、C,S,N,OおよびSeから選ばれ
た環原子を有している。適当な部分は、追加的に、置換
基を有する次の核がら透導される:1,3 −インダン
ジオン、ピラゾロン、インキサゾロン例えば3−フェニ
ルイソキサシロン、オキシインドール、2,4.6−)
ジオキソへキサヒドロピリミジン、2−チオ−4,6−
ジオキソへキサヒドロピリミジン、3,5−ピラゾリジ
ンジオン、2(3H)−イミダゾール[1.2−alピ
リドン、5,7−シオキソー6、7−シヒドロー5−チ
アゾロ[3.2−a]ピリミジン、2−チオ−2,4−
オキサゾリジンジオン、2,4−チアゾリジンジオン、
チアシリジオン、4−チアゾリノン、2−イミノ−24
−オキサゾリジン、2,4−イミダシリンジオン、2−
チオ−2,4−イミダシリンジオン、5,5−ジアルキ
ル−1,3−シクロヘキサンジオン[これには、5。
は、好ましくは、C,S,N,OおよびSeから選ばれ
た環原子を有している。適当な部分は、追加的に、置換
基を有する次の核がら透導される:1,3 −インダン
ジオン、ピラゾロン、インキサゾロン例えば3−フェニ
ルイソキサシロン、オキシインドール、2,4.6−)
ジオキソへキサヒドロピリミジン、2−チオ−4,6−
ジオキソへキサヒドロピリミジン、3,5−ピラゾリジ
ンジオン、2(3H)−イミダゾール[1.2−alピ
リドン、5,7−シオキソー6、7−シヒドロー5−チ
アゾロ[3.2−a]ピリミジン、2−チオ−2,4−
オキサゾリジンジオン、2,4−チアゾリジンジオン、
チアシリジオン、4−チアゾリノン、2−イミノ−24
−オキサゾリジン、2,4−イミダシリンジオン、2−
チオ−2,4−イミダシリンジオン、5,5−ジアルキ
ル−1,3−シクロヘキサンジオン[これには、5。
5−ジメチル−1,3−シクロヘキサンジオン(ジメド
ン(dimedone ) )が包含される]、および
イソプロピリジンマノネート(Meldrum’s a
cid )。
ン(dimedone ) )が包含される]、および
イソプロピリジンマノネート(Meldrum’s a
cid )。
QlおよびQ2によって完成された好ましい環式核は、
次の式を有している: 式 [式中、 R9およびRIOは、独立的に、水素原子、アルキル基
またはシクロアルキル基(これらの基は置換されていて
もよい、例えば、ヒドロキシアルキル、アルコキシアル
キル、アルコキシカルボニル、ボッオキシアルキル)、
アルケニルまたは置換アルケニル、アリール基(この基
は置換されていてもよい)、またはアラルキル基を表わ
し、任意のこれらの基は25個までの炭素原子を含んで
いる。好ましくは、R9およびRIOは、−緒になって
少なくとも8個の炭素原子を含んでおり、かつ脂肪族基
であり、更に好ましくは、R9およびRIOの少なくと
も1個は、少なくとも8個の炭素原子を有するアルキル
基を表わす] 可視部の吸収が非常に低い式(I)の色素は、近赤外部
において吸収を示し、かつ最大吸収部において高い吸光
係数を保持している。一般に、本発明の色素は、最大吸
収波長(典型的には800nm以上)において、2.5
X 105〜3.OX 105のオーダーの吸光係数
を有している。しかしながら、一般的に、メタノール溶
液で測定したとき、700nmにおける吸収は、この値
の約10%低下し、650nmにおける吸収はこの値の
約2%低下する。
次の式を有している: 式 [式中、 R9およびRIOは、独立的に、水素原子、アルキル基
またはシクロアルキル基(これらの基は置換されていて
もよい、例えば、ヒドロキシアルキル、アルコキシアル
キル、アルコキシカルボニル、ボッオキシアルキル)、
アルケニルまたは置換アルケニル、アリール基(この基
は置換されていてもよい)、またはアラルキル基を表わ
し、任意のこれらの基は25個までの炭素原子を含んで
いる。好ましくは、R9およびRIOは、−緒になって
少なくとも8個の炭素原子を含んでおり、かつ脂肪族基
であり、更に好ましくは、R9およびRIOの少なくと
も1個は、少なくとも8個の炭素原子を有するアルキル
基を表わす] 可視部の吸収が非常に低い式(I)の色素は、近赤外部
において吸収を示し、かつ最大吸収部において高い吸光
係数を保持している。一般に、本発明の色素は、最大吸
収波長(典型的には800nm以上)において、2.5
X 105〜3.OX 105のオーダーの吸光係数
を有している。しかしながら、一般的に、メタノール溶
液で測定したとき、700nmにおける吸収は、この値
の約10%低下し、650nmにおける吸収はこの値の
約2%低下する。
本発明の色素は、従来技術に従ってアキュータンス色素
として湿式処理した写真要素またはフォトサーモグラフ
要素中に導入することができる。
として湿式処理した写真要素またはフォトサーモグラフ
要素中に導入することができる。
また、本発明の色素は、従来技術に従ってハレーション
防止層に導入することができる。例えば、湿式処理した
写真要素の場合において、ハレーション防止用バッキン
グ層、ハレーション防止用下塗り層として、またはオー
バーコート(overcoat )として導入すること
ができる。また、同じようなノナメチン色素は、アキュ
ータンス用色素およびハレーション防止用色素として使
用するのに適尚であることが予想される。
防止層に導入することができる。例えば、湿式処理した
写真要素の場合において、ハレーション防止用バッキン
グ層、ハレーション防止用下塗り層として、またはオー
バーコート(overcoat )として導入すること
ができる。また、同じようなノナメチン色素は、アキュ
ータンス用色素およびハレーション防止用色素として使
用するのに適尚であることが予想される。
従来技術からの区別
本発明は、近赤外線記録用媒体のための非汚染性ハレー
ション防止用システムとして、水溶性ホロポラ−色素(
holopolar dyes :最高に極性の色素)
の製造および使用を記述している。
ション防止用システムとして、水溶性ホロポラ−色素(
holopolar dyes :最高に極性の色素)
の製造および使用を記述している。
式(I)に類似している色素は、環状の水溶性基がない
ことが知られている。このクラスの色素は、ハロゲン化
銀乳剤の増感用として米国特許第2.955,939号
に記載されている。また、ハレーション防止用色素とし
て使用するために米国特許第4.581,325号に記
載されている。また、米国特許第3.194,805号
には、メロシアニンおよびアリーレン鎖置換基を含有す
るホロポラ−色素のクラス、およびこれらを分光増感用
色素として使用することが記載されている。
ことが知られている。このクラスの色素は、ハロゲン化
銀乳剤の増感用として米国特許第2.955,939号
に記載されている。また、ハレーション防止用色素とし
て使用するために米国特許第4.581,325号に記
載されている。また、米国特許第3.194,805号
には、メロシアニンおよびアリーレン鎖置換基を含有す
るホロポラ−色素のクラス、およびこれらを分光増感用
色素として使用することが記載されている。
アキュータンスの目的のために使用するための式(I)
の色素の最小量は、増感の目的のために使用された色素
の最大量の限度を越える。例えば、米国特許第2,95
5,939号に記載されたハロゲン化銀乳剤中に使用さ
れた増感用色素の量は、一般的に、乳剤の1eにつき5
〜100mgの範囲、通常は10〜20mgであるが、
本発明によってアキュータンスの目的のために使用する
量は、一般的に、乳剤の1eにつき200〜1000m
gの範囲において使用する。
の色素の最小量は、増感の目的のために使用された色素
の最大量の限度を越える。例えば、米国特許第2,95
5,939号に記載されたハロゲン化銀乳剤中に使用さ
れた増感用色素の量は、一般的に、乳剤の1eにつき5
〜100mgの範囲、通常は10〜20mgであるが、
本発明によってアキュータンスの目的のために使用する
量は、一般的に、乳剤の1eにつき200〜1000m
gの範囲において使用する。
米国特許第2,895,955号、He5eltine
et al、には、近赤外線領域を吸収するベンゾイ
ンドール核を含有するトリカルボシアニン色素が記載さ
れている(この特許には化合物Eと称せられている)。
et al、には、近赤外線領域を吸収するベンゾイ
ンドール核を含有するトリカルボシアニン色素が記載さ
れている(この特許には化合物Eと称せられている)。
米国特許第3,148,187号、He5eltine
には、シアニン色素およびメロシアニン色素のための直
接に核にスルホン化する方法が記載されている。
には、シアニン色素およびメロシアニン色素のための直
接に核にスルホン化する方法が記載されている。
米国特許第3,573,921号、Jenkins e
t al、には、ある種の3,5−ピラゾリジンジオン
化合物から製造された多核の増感用色素が記載されてい
る。
t al、には、ある種の3,5−ピラゾリジンジオン
化合物から製造された多核の増感用色素が記載されてい
る。
米国特許第3,637,676号、He5eltine
et al、には、ジラクトン環を含有するポリメチ
ン色素が記載されている。これらの色素は、光学的な増
感剤として、または、フィルター用の色素として使用す
ることができる。
et al、には、ジラクトン環を含有するポリメチ
ン色素が記載されている。これらの色素は、光学的な増
感剤として、または、フィルター用の色素として使用す
ることができる。
米国特許第3,573,921号には、実施例1に、1
,2−ジフェニル−3,5−ピラゾリジンジオンのよう
なメロシアニン色素が記載されている。しかし、5O3
eによる環置換については記載されていない(これは、
発明の詳細な説明の中においてさえも記載されていない
)。増感用色素をAgX乳剤に添加することが記載さ、
れているだけである。
,2−ジフェニル−3,5−ピラゾリジンジオンのよう
なメロシアニン色素が記載されている。しかし、5O3
eによる環置換については記載されていない(これは、
発明の詳細な説明の中においてさえも記載されていない
)。増感用色素をAgX乳剤に添加することが記載さ、
れているだけである。
米国特許第2,955,939号には、増感剤としての
ホロポーラ−色素が記載されており、実施例においては
、トリメチン色素、ペンタメチン色素、およびヘプタメ
チン色素が記載されている。また、実施例においては、
異った中間の環、例えばバルビッル酸、2−チオバルビ
ッル酸、ロダニン、+ 7−J−フチノン−1,1−ジ
オキサイド、イソオキサシロン、およびピラゾロン等が
記載されている。
ホロポーラ−色素が記載されており、実施例においては
、トリメチン色素、ペンタメチン色素、およびヘプタメ
チン色素が記載されている。また、実施例においては、
異った中間の環、例えばバルビッル酸、2−チオバルビ
ッル酸、ロダニン、+ 7−J−フチノン−1,1−ジ
オキサイド、イソオキサシロン、およびピラゾロン等が
記載されている。
米国特許第4,256,819号には、電気泳動の移動
による画像形成法が記載されている。これらの方法に用
いられる色素は、米国特許第2,955,939号の色
素に類似している。ただし、スルホン化されたものは記
載されていない。
による画像形成法が記載されている。これらの方法に用
いられる色素は、米国特許第2,955,939号の色
素に類似している。ただし、スルホン化されたものは記
載されていない。
米国特許第3,194,805号には、アリーレン鎖に
置換基を有するメロシアニンおよびホロポーラ−色素が
記載されている。
置換基を有するメロシアニンおよびホロポーラ−色素が
記載されている。
米国特許第3,637,676号には、ジラクトン環を
含有するポリメチン色素が記載されている。その実施例
には次の式のトリメチンが記載されている:式 式(I)によって表わされる本発明の色素の合成には、
次の工程が包含される: (1)へテロ環式化合物の環のスルホン化:(2)スル
ホン化されたベテロ環のアンモニウム塩の製造: (CH−CH)n (3)α−ケトメチレン化合物とシクロペンタノンとの
縮合: 、・・・Q2 (5)式(I)の色素の製造: 2 (A) +(C)→式(I)の色素第1表に、製造
した式(I)の染料、および比較のための色素の他のク
ラスを示した。また、第1表には、これらの化合物を製
造するための文献も示した。また、色素の構造は以下に
列挙した。
含有するポリメチン色素が記載されている。その実施例
には次の式のトリメチンが記載されている:式 式(I)によって表わされる本発明の色素の合成には、
次の工程が包含される: (1)へテロ環式化合物の環のスルホン化:(2)スル
ホン化されたベテロ環のアンモニウム塩の製造: (CH−CH)n (3)α−ケトメチレン化合物とシクロペンタノンとの
縮合: 、・・・Q2 (5)式(I)の色素の製造: 2 (A) +(C)→式(I)の色素第1表に、製造
した式(I)の染料、および比較のための色素の他のク
ラスを示した。また、第1表には、これらの化合物を製
造するための文献も示した。また、色素の構造は以下に
列挙した。
(4)工程(3)の縮合生成物とエチルイソホルムアニ
ノドとの反応; 、・・−Q2 C2H5 C2H5 2H5 (CH2)4 SOa Na 製造方法についての文献** US 4,581,325 US4,581,325 US 4,581,325 US 4,581,325 US 3,482,978 US 3,482,978 US 2895.955 US 2,895,955 US 2,895,955 色素No、2の製造を以下に詳細に示した。
ノドとの反応; 、・・−Q2 C2H5 C2H5 2H5 (CH2)4 SOa Na 製造方法についての文献** US 4,581,325 US4,581,325 US 4,581,325 US 4,581,325 US 3,482,978 US 3,482,978 US 2895.955 US 2,895,955 US 2,895,955 色素No、2の製造を以下に詳細に示した。
実施例1
色素No、2の製造
(a)2−メチル−6−スルホベンゾチアゾールの製造
: 撹拌棒、温度計、冷却器、および加熱用マントルを備え
た250mでの丸底フラスコ中に、2−メチルベンゾチ
アゾール(60g、0.4モル)を仕込んだ。撹拌しな
がら、濃硫酸100m6を添加し、次いで80°Cに昇
温した。発煙硫酸(80m/、30%)を2分間かけて
添加し、温度を115°Cに上げ、暗色の液を生成させ
た。この反応液に塩化第2鉄(0,3g )を添加し、
200°Cにて1時間加熱した。この反応液を50°C
に冷却し、よく撹拌しながら、冷却したアセトン(10
°C)の6e中に注入した。得られたスラリーを15分
間撹拌した。撹拌を止め、アセトンを固体からデカント
(decant) I、た。この操作をアセトンの2e
を用いて繰返し、得られたスラリーを濾過し、アセトン
ですすいだ。63g(68,5%)が回収された。得ら
れた固体をメタノール300mffでスラノーにし、そ
れを加熱して15分間還流させた。このスラリーを10
°Cに冷却し、濾過し、乾燥した。
: 撹拌棒、温度計、冷却器、および加熱用マントルを備え
た250mでの丸底フラスコ中に、2−メチルベンゾチ
アゾール(60g、0.4モル)を仕込んだ。撹拌しな
がら、濃硫酸100m6を添加し、次いで80°Cに昇
温した。発煙硫酸(80m/、30%)を2分間かけて
添加し、温度を115°Cに上げ、暗色の液を生成させ
た。この反応液に塩化第2鉄(0,3g )を添加し、
200°Cにて1時間加熱した。この反応液を50°C
に冷却し、よく撹拌しながら、冷却したアセトン(10
°C)の6e中に注入した。得られたスラリーを15分
間撹拌した。撹拌を止め、アセトンを固体からデカント
(decant) I、た。この操作をアセトンの2e
を用いて繰返し、得られたスラリーを濾過し、アセトン
ですすいだ。63g(68,5%)が回収された。得ら
れた固体をメタノール300mffでスラノーにし、そ
れを加熱して15分間還流させた。このスラリーを10
°Cに冷却し、濾過し、乾燥した。
回収物50g(54,3%)を得た。
(b)2−メチル−6−スルホベンゾチアゾールのナト
リウム塩の製造; 磁式撹拌棒を備えた2でビーカー中に、2−メチル−6
−スルホベンゾチアゾールの45 g (0,196モ
ル)を仕込んだ。このビーカーに、一定の撹拌をしなが
らメタノール1eを加えた。次いで20分間かけて重炭
酸ナトリウム(49g)を加え、次いでこの混合物を追
加して25分間撹拌した。30分後に、殆んど全てのベ
ンゾチアゾールが溶解した。添加の終了時の温度は50
°Cであり、最終pHは10.0であった。無水の硫酸
マグネシウム(20g)を加え、15分間撹拌した。こ
のスラリーを濾過し、固体をメタノールですすいだ。濾
液を回転式蒸発器にかけてメタノールをストリップし、
得られた固体を減圧にて70°Cで乾燥した。回収物4
8 g (97,6%)を得た。
リウム塩の製造; 磁式撹拌棒を備えた2でビーカー中に、2−メチル−6
−スルホベンゾチアゾールの45 g (0,196モ
ル)を仕込んだ。このビーカーに、一定の撹拌をしなが
らメタノール1eを加えた。次いで20分間かけて重炭
酸ナトリウム(49g)を加え、次いでこの混合物を追
加して25分間撹拌した。30分後に、殆んど全てのベ
ンゾチアゾールが溶解した。添加の終了時の温度は50
°Cであり、最終pHは10.0であった。無水の硫酸
マグネシウム(20g)を加え、15分間撹拌した。こ
のスラリーを濾過し、固体をメタノールですすいだ。濾
液を回転式蒸発器にかけてメタノールをストリップし、
得られた固体を減圧にて70°Cで乾燥した。回収物4
8 g (97,6%)を得た。
(c)2−メチル−3−エチル−6−スルホベンゾチア
ゾリウムトシレートのナトリウム塩の製造:機械式撹拌
機、温度計、冷却器、および加熱用マントルを備えた5
00mffのフラスコ中に、2−メチル−6−スルホベ
ンゾチアゾール(40g10.159モル)のナトリウ
ム塩を仕込んだ。それに、撹拌しながら、エチル−p−
トルエンスルホネート(169g、 0.845モル)
およびジメチルホルムアミド7 meを加え、この混合
物を175°Cにて3時間加熱した。それに2,6−シ
メチルー4−ヘプタノン(25mぞ)を加え、撹拌し、
次いでこの塊状物を60°Cに冷却した。このどろどろ
した流体を、よく撹拌したアセトンの250m6中に注
入し、生成物を沈殿させた。スラリーを冷却し、濾過し
、80°Cにて2時間乾燥した。回収物61.5 g
(85,6%)を得た。
ゾリウムトシレートのナトリウム塩の製造:機械式撹拌
機、温度計、冷却器、および加熱用マントルを備えた5
00mffのフラスコ中に、2−メチル−6−スルホベ
ンゾチアゾール(40g10.159モル)のナトリウ
ム塩を仕込んだ。それに、撹拌しながら、エチル−p−
トルエンスルホネート(169g、 0.845モル)
およびジメチルホルムアミド7 meを加え、この混合
物を175°Cにて3時間加熱した。それに2,6−シ
メチルー4−ヘプタノン(25mぞ)を加え、撹拌し、
次いでこの塊状物を60°Cに冷却した。このどろどろ
した流体を、よく撹拌したアセトンの250m6中に注
入し、生成物を沈殿させた。スラリーを冷却し、濾過し
、80°Cにて2時間乾燥した。回収物61.5 g
(85,6%)を得た。
(d) エチルイソホルムアニリドの製造:機械式撹
拌機、vigreuxカラム、蒸留ヘッド(head)
、温度計、冷却器、および加熱用マントルを備えた1e
フラスコ中に、アニリン(180g、1.94モル)お
よびトリエチルオルソホルメート(300g、 2.0
2モル)を仕込んだ。この反応物を加熱し、還流しく1
20°C)、溜出液の250mぞを60分間かけて除去
した。この暗色液に、還流状態に加熱を続けながら、ト
リエチルオルソホルメートの75mffを加えた。21
0°Cに達した反応温度で、6時間かけて液体の75m
6を溜去した。25°Cに冷却し、ヘキサンの300m
6を加え、15分間撹拌し、濾過した。得られた濾液を
蒸溜し、78−82°C/ 2 mmにおける主溜分を
カットした。IRは、目的化合物と一致した。
拌機、vigreuxカラム、蒸留ヘッド(head)
、温度計、冷却器、および加熱用マントルを備えた1e
フラスコ中に、アニリン(180g、1.94モル)お
よびトリエチルオルソホルメート(300g、 2.0
2モル)を仕込んだ。この反応物を加熱し、還流しく1
20°C)、溜出液の250mぞを60分間かけて除去
した。この暗色液に、還流状態に加熱を続けながら、ト
リエチルオルソホルメートの75mffを加えた。21
0°Cに達した反応温度で、6時間かけて液体の75m
6を溜去した。25°Cに冷却し、ヘキサンの300m
6を加え、15分間撹拌し、濾過した。得られた濾液を
蒸溜し、78−82°C/ 2 mmにおける主溜分を
カットした。IRは、目的化合物と一致した。
(e)5−シクロペンチリデン−1,3−ジメチルバル
ビッル酸の製造: 撹拌機、パレットトラップ(Barrett trap
)、冷却器、および加熱用マントルを備えた250m
/フラスコ中に、撹拌しながら、N、N−ジメチルバル
ビッル酸(15,6g、 0.1モル)、シクロペンタ
ノン(8,4g、0.01モル)、酢酸アンモニウム(
2,3g、 0.04モル)、酢酸(4ml )の混合
物を仕込んだ。この混合物を、6時間加熱還流させ、水
の2 mlを共沸蒸溜によって除去した。反応物を冷却
し、水の35mで部で3回水洗した。有機相を減圧下で
60°Cに加熱し、溶媒を除去した。得られた固体を無
水エタノールの125mぞから再結晶し、0°Cに冷却
し、濾過し、冷エタノールですすいだ。回収物12.5
g(56,3%)を得た。この融点は110〜112
°Cであった。
ビッル酸の製造: 撹拌機、パレットトラップ(Barrett trap
)、冷却器、および加熱用マントルを備えた250m
/フラスコ中に、撹拌しながら、N、N−ジメチルバル
ビッル酸(15,6g、 0.1モル)、シクロペンタ
ノン(8,4g、0.01モル)、酢酸アンモニウム(
2,3g、 0.04モル)、酢酸(4ml )の混合
物を仕込んだ。この混合物を、6時間加熱還流させ、水
の2 mlを共沸蒸溜によって除去した。反応物を冷却
し、水の35mで部で3回水洗した。有機相を減圧下で
60°Cに加熱し、溶媒を除去した。得られた固体を無
水エタノールの125mぞから再結晶し、0°Cに冷却
し、濾過し、冷エタノールですすいだ。回収物12.5
g(56,3%)を得た。この融点は110〜112
°Cであった。
(f) 5−(2,5−ジアニリノメチレンシクロペ
ンチリデン)−1,3−ジメチルバルビッル酸の製造:
温度計、磁式撹拌機、冷却器、および加熱用マントルを
備えた100m6フラスコ中に、5−シクロペンチリデ
ン−1,3−ジメチルバルビッル酸(11,1g10.
05モル)、エチルイソホルムアニリド(17,9g、
0.12モル)およびジメチルホルムアミドの35m
eを仕込んだ。この混合物を20°Cに冷却し、メタノ
ール50m4’を加えた。次いで、この混合物を冷却し
ながら10分間撹拌し、濾過し、フィルター上をメタノ
ールですすいだ。固体を水を用いて2回スラリー化し、
次いでメタノールを用いて2回スラリー化した。各スラ
リー間で濾過した。固体を8000にて3時間乾燥した
。回収物8.0 g (40,3%)を得た。この融点
は〉250°Cであり、λmax(MeOH)は545
nmであった。
ンチリデン)−1,3−ジメチルバルビッル酸の製造:
温度計、磁式撹拌機、冷却器、および加熱用マントルを
備えた100m6フラスコ中に、5−シクロペンチリデ
ン−1,3−ジメチルバルビッル酸(11,1g10.
05モル)、エチルイソホルムアニリド(17,9g、
0.12モル)およびジメチルホルムアミドの35m
eを仕込んだ。この混合物を20°Cに冷却し、メタノ
ール50m4’を加えた。次いで、この混合物を冷却し
ながら10分間撹拌し、濾過し、フィルター上をメタノ
ールですすいだ。固体を水を用いて2回スラリー化し、
次いでメタノールを用いて2回スラリー化した。各スラ
リー間で濾過した。固体を8000にて3時間乾燥した
。回収物8.0 g (40,3%)を得た。この融点
は〉250°Cであり、λmax(MeOH)は545
nmであった。
(g) 色素No、2の製造:
温度計、撹拌機、還流冷却器、および油浴を備えた10
0m6フラスコ中に、2−メチル−3−エチル−6−ス
ルホベンゾチアゾリウムトシレートのナトリウム塩(4
,51g、0.01モル)、および5−(2゜5−ジア
ニリノメチレンシクロペンチリデン)−1゜3−ジメチ
ルバルビッル酸(1,98g、0.005モル)、ジメ
チルホルムアミドの20rm’を、およびトリエチルア
ミンの3 meを一般に混合した。この混合物を、撹拌
しながら100°Cに5分間加熱した。反応混合物を激
しく撹拌しながらヘキサンの200m4’中に注入した
。続けて10分間撹拌し、ヘキサンを油状物からデカン
トした。ヘキサン処理を繰返した。アセトン(300m
6)を油状物に加え、この混合物を15分間撹拌した。
0m6フラスコ中に、2−メチル−3−エチル−6−ス
ルホベンゾチアゾリウムトシレートのナトリウム塩(4
,51g、0.01モル)、および5−(2゜5−ジア
ニリノメチレンシクロペンチリデン)−1゜3−ジメチ
ルバルビッル酸(1,98g、0.005モル)、ジメ
チルホルムアミドの20rm’を、およびトリエチルア
ミンの3 meを一般に混合した。この混合物を、撹拌
しながら100°Cに5分間加熱した。反応混合物を激
しく撹拌しながらヘキサンの200m4’中に注入した
。続けて10分間撹拌し、ヘキサンを油状物からデカン
トした。ヘキサン処理を繰返した。アセトン(300m
6)を油状物に加え、この混合物を15分間撹拌した。
得られた固体を濾過し、アセトンでよく洗った。乾燥し
た回収物4.5 g (87,5%)を得た。このAm
aX(MeOH)は817mmであった。
た回収物4.5 g (87,5%)を得た。このAm
aX(MeOH)は817mmであった。
実施例2
色素の評価は、7ミル(mil )のポリエステルベー
ス上に色素を含有するハレーション防止用バツキイング
層を塗布することによって行った。各色素を水に溶解し
、これを40°Cにおいてゼラチン水溶液に加えた。ま
た、界面活性剤およびホルムアルデヒド(4,3mF:
、4%)を加えた。最終の溶液は5%ゼラチンであった
。色素、ゼラチン混合物を、下塗りしたポリエステルベ
ース上に65 m6 / m”において塗布した。AH
塗布物の特性を第2表に示した。
ス上に色素を含有するハレーション防止用バツキイング
層を塗布することによって行った。各色素を水に溶解し
、これを40°Cにおいてゼラチン水溶液に加えた。ま
た、界面活性剤およびホルムアルデヒド(4,3mF:
、4%)を加えた。最終の溶液は5%ゼラチンであった
。色素、ゼラチン混合物を、下塗りしたポリエステルベ
ース上に65 m6 / m”において塗布した。AH
塗布物の特性を第2表に示した。
第2表に列挙した結果は、ホロポーラ色素(色素No、
1−4)が水溶性シアニン色素(A−D)よりも特別な
利益を供することを示している。水溶性シアニン色素E
は、強い近赤外線の吸収性塗布を与えるが、しかし、自
動現像処理後の汚染が高いという欠点を有している。シ
アニン色素A−Dは、メタノール中において760−8
10 nmに強い最大吸光度を有していた。しかし、こ
れらの色素を水に添加し、ゼラチン溶液として塗布する
ときは、吸光度曲線は低波長に移動した。
1−4)が水溶性シアニン色素(A−D)よりも特別な
利益を供することを示している。水溶性シアニン色素E
は、強い近赤外線の吸収性塗布を与えるが、しかし、自
動現像処理後の汚染が高いという欠点を有している。シ
アニン色素A−Dは、メタノール中において760−8
10 nmに強い最大吸光度を有していた。しかし、こ
れらの色素を水に添加し、ゼラチン溶液として塗布する
ときは、吸光度曲線は低波長に移動した。
実施例3
色素による塗布が、許容可能な汚染レベルを達成したか
否かを決定するために、自動現像処理の効果を、AHに
ついて評価した。現像処理は、Kodak X −Om
at現像剤および定着剤を使用するKodak SPプ
ロセッサーによって90秒間行った。
否かを決定するために、自動現像処理の効果を、AHに
ついて評価した。現像処理は、Kodak X −Om
at現像剤および定着剤を使用するKodak SPプ
ロセッサーによって90秒間行った。
色素No、 1−4およびEを使用したものを現像処理
した後に、820 nmにおける吸光度を読みとり、汚
染の程度を評価した。塗布物2−4は、処理後に、汚染
の増加は視覚的な光学濃度で0.01より少ないことを
示した。2つの許容できない汚染は、淡い青色のキャス
ト(caβt)を有する色素No、1であり、濃い緑黄
色の汚染を有する色素No、Eであった。これらの結果
を第3表に列挙した。
した後に、820 nmにおける吸光度を読みとり、汚
染の程度を評価した。塗布物2−4は、処理後に、汚染
の増加は視覚的な光学濃度で0.01より少ないことを
示した。2つの許容できない汚染は、淡い青色のキャス
ト(caβt)を有する色素No、1であり、濃い緑黄
色の汚染を有する色素No、Eであった。これらの結果
を第3表に列挙した。
実施例4
平均粒径0.24マイクロメーターを有する塩化銀64
%および臭化銀36%を有する乳剤をダブリニジエツト
沈殿法により造った。この乳剤を、p−)ルエンスルフ
ィン酸、チオ硫酸ナトリウム、および四塩化金ナトリウ
ム(NaAuC6゜)で熟成した。
%および臭化銀36%を有する乳剤をダブリニジエツト
沈殿法により造った。この乳剤を、p−)ルエンスルフ
ィン酸、チオ硫酸ナトリウム、および四塩化金ナトリウ
ム(NaAuC6゜)で熟成した。
乳剤の最終の製造物は、5%のゼラチンおよび銀1モル
につき乳剤2500 gのレベルになるように水および
ゼラチンを添加したものから成っていた。
につき乳剤2500 gのレベルになるように水および
ゼラチンを添加したものから成っていた。
pHを7.0に調節し、pAgを7.2に調節した。メ
タノールに溶かした赤外線増感用色素(F)を30mg
1モルAgにおいて添加した。また、塗布前に、メタノ
ールに溶かしたフェニル−5−メルカプトテトラゾール
(115mg 1モルAg)、ポリ(エチルアクリレー
ト)(30g1モルAg)、ホルムアルデヒド硬膜剤、
および界面活性剤を添加した。この材料を2.4gAg
/ m2にて塗布した。
タノールに溶かした赤外線増感用色素(F)を30mg
1モルAgにおいて添加した。また、塗布前に、メタノ
ールに溶かしたフェニル−5−メルカプトテトラゾール
(115mg 1モルAg)、ポリ(エチルアクリレー
ト)(30g1モルAg)、ホルムアルデヒド硬膜剤、
および界面活性剤を添加した。この材料を2.4gAg
/ m2にて塗布した。
(F)C2H5工
この乳剤を、
(1)透明なポリエステルベース(試料1)、(2)実
施例2のようにして色素No、2を含むゼラチン液を反
対側に塗布したポリエステルベース(試料2)、 上に塗布した。
施例2のようにして色素No、2を含むゼラチン液を反
対側に塗布したポリエステルベース(試料2)、 上に塗布した。
これらの塗布物を、3Mレーザー画像形成機(3MLa
ser Imager)中に絹み込まれた820 nm
レーザーダイオード(laser diode)で画像
形成させることによって評価した。SMPTEテストタ
ーゲット(testtarget )を前記両方のポリ
エステルベース上にプリントし、次いで自動X線現像処
理を行った。バッキングのない試料1は、激しいハレー
ションを示したが、試料2は容認できるレベルにハレー
ションを減少させた。
ser Imager)中に絹み込まれた820 nm
レーザーダイオード(laser diode)で画像
形成させることによって評価した。SMPTEテストタ
ーゲット(testtarget )を前記両方のポリ
エステルベース上にプリントし、次いで自動X線現像処
理を行った。バッキングのない試料1は、激しいハレー
ションを示したが、試料2は容認できるレベルにハレー
ションを減少させた。
前述の記載の中には、ある広さの変容、変化、および置
換等が意図されており、かつ若干の例においては、本発
明のある種の特徴は、他の特徴の相応する使用なしに使
用することがあるであろう。従って、特許請求の範囲は
、広く、かつ本明細書に記載された発明の精神及び範囲
と一致した方法において解釈することか適当である。
換等が意図されており、かつ若干の例においては、本発
明のある種の特徴は、他の特徴の相応する使用なしに使
用することがあるであろう。従って、特許請求の範囲は
、広く、かつ本明細書に記載された発明の精神及び範囲
と一致した方法において解釈することか適当である。
Claims (10)
- (1)基体上に1つまたはそれ以上のハロゲン化銀感光
性層を含有する写真要素であつて、かつこの写真要素に
は、ハレーシヨン防止用色素としてハロゲン化銀を含ま
ない少なくとも1つの層の中に、化合物のλ_m_a_
xにおいて0.1以上の透過光学濃度を与える少なくと
も1種の化合物のハレーシヨン防止有効量を含有してお
り、前記化合物が、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) m+p=2、 nは、0または1であり、 sは、0または1であり、 Z^1およびZ^2は、独立的に、シアニン色素中に存
在しているタイプのヘテロ環式核を完成するのに必要な
非金属原子を表わし、かつさらに水溶性基例えばスルホ
ネート、カルボキシレート等を含んでおり、 R^1およびR^2は、独立的に、アルキル基、置換ア
ルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、またはア
ラルキル基から成る群から選ばれ、かつ前記各基は20
個以下の炭素原子を有しており、R^3およびR^4は
、独立的に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、
アルケニル基、または置換アルケニル基から成る群から
選ばれ、かつ前記各基は10個以下の炭素原子を有して
おり R^5、R^6、R^7、およびR^8は、一緒になつ
て、12個より多くの炭素原子を含まず、独立的に、水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニルカリ
ール基から成る群から選ばれ、または R^5およびR^6の1個は、R^7およびR^8の1
個と一緒になつて、炭素環式環を完成するのに必要な原
子を表わし、ただし、この場合には、R^5〜R^8の
前記他の基は存在しない、 Q^1およびQ^2は、一緒になつて、オキソノール色
素またはメロシアニン色素中に存在しているタイプの酸
核を完成させるのに必要な非金属原子を表わす] であることを特徴とする、前記の写真要素。 - (2)Z^1およびZ^2が、置換基を有していてもよ
い5または6員のヘテロ環式核を完成していることを特
徴とする、請求項(1)の写真要素。 - (3)Z^1および1またはZ^2が、チアゾール、ベ
ンゾチアゾール、ナフトチアゾール、チアナフテノ−7
′,6′,4,5−チアゾール、オキサゾール、ベンゾ
オキサゾール、ナフトオキサゾール、セレナゾール、ベ
ンゾセレナゾール、ナフトセレナゾール、チアゾリン、
2−キノリン、4−キノリン、1−イソキノリン、3−
イソキノリン、ベンゾイミダゾール、3,3−ジアルキ
ルインドレニン、2−ピリジン、および4−ピリジンか
ら成る群から選ばれたヘテロ環式核であつて、これらの
核の各々は置換基を有していてもよいヘテロ環式核を完
成していることを特徴とする、請求項(2)の写真要素
。 - (4)Z^1および1またはZ^2が、ベンゾチアゾー
ル核、または3,3−ジアルキルインドレニンおよび水
溶性基を含有している3,3−ジアルキルインドレニン
核を完成させていることを特徴とする、請求項(1)の
写真要素。 - (5)Q^1およびQ^2が、インダンジオン、ピラゾ
ロン、イソオキサゾロン、オキシインドール、2,4,
6−トリオキソヘキサヒドロピリミジン、2−チオ−4
,6−ジオキソヘキサヒドロピリミジン、3,5−ピラ
ゾリジンジオン、2(3H)−イミダゾロ[1,2−a
]ピリドン、5,7−ジオキソ−6,7−ジヒドロ−5
−チアゾロ[3,2−a]ピリミジン、2−チオ−2,
4−オキサゾリジンジオン、チアナフテノンジオキサイ
ド、2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン、4−チア
ゾリノン、2−イミノ−2,4−オキサゾリノン、2,
4−イミダゾリンジオン、2−チオ−2,4−イミダゾ
リンジオン環式基、5,5−ジアルキル−1,3−シク
ロヘキサンジオン、またはイソプロピリジンマロネート
から成る群から選ばれた置換基を任意的に有していても
よい核の1つの誘導体である部分を完成していることを
特徴とする、請求項(1)の写真要素。 - (6)Q^1およびQ^2によつて完成された部分が、
少なくとも1種の脂肪族基または主として脂肪族基を含
有していることを特徴とする、請求項(5)の写真要素
。 - (7)Q^1およびQ^2が、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^9およびR^1^0は、独立的に、水素原
子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換
アルケニル基、アリール基、置換アリール基、またはア
ラルキル基から成る群から選ばれ、かつ前記基の各々は
25個以下の炭素原子を有している)の部分を完成して
いることを特徴とする、請求項(6)の写真要素。 - (8)写真要素が従来の湿式処理された写真要素である
ことを特徴とする、請求項(5)の写真要素。 - (9)写真要素がハロゲン化銀フォトサーモグラフ要素
を包含するフォトサーモグラフ要素であることを特徴と
する、請求項(5)の写真要素。 - (10)式( I )の色素が、基体と1つまたはそれ以
上の感光性層との間の下塗り層として、基体上のハレー
シヨン防止用バッキング中に、感光性層上のオーバーコ
ート中に、または感光性層中に存在していることを特徴
とする、請求項(5)の写真要素。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US157653 | 1980-06-09 | ||
US15765388A | 1988-02-19 | 1988-02-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH025041A true JPH025041A (ja) | 1990-01-09 |
Family
ID=22564674
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3812889A Pending JPH025041A (ja) | 1988-02-19 | 1989-02-17 | 写真要素 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0329491A3 (ja) |
JP (1) | JPH025041A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05346644A (ja) * | 1992-04-17 | 1993-12-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | レーザ記録用感光材料の処理方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5380635A (en) * | 1994-02-28 | 1995-01-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dihydroperimidine squarylium dyes as antihalation and acutance materials for photographic and photothermographic articles |
JP3922953B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2007-05-30 | 富士フイルム株式会社 | 熱現像感光材料 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE627309A (ja) * | 1962-01-22 | |||
DE1547772A1 (de) * | 1966-01-19 | 1969-11-20 | Eastman Kodak Co | Verfahren zum Stabilisieren von waessrigen Loesungen photographischer spektraler Sensibilisierungsfarbstoffe |
EP0102781B1 (en) * | 1982-08-20 | 1988-02-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Cyanine dyes |
DE3769377D1 (de) * | 1986-07-02 | 1991-05-23 | Eastman Kodak Co | Infrarot absorbierende farbstoffe und diese enthaltende photographische elemente. |
-
1989
- 1989-02-17 JP JP3812889A patent/JPH025041A/ja active Pending
- 1989-02-20 EP EP89301637A patent/EP0329491A3/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05346644A (ja) * | 1992-04-17 | 1993-12-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | レーザ記録用感光材料の処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0329491A3 (en) | 1990-07-25 |
EP0329491A2 (en) | 1989-08-23 |
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