JPH0247737B2 - Ofusetsutoinsatsufuoomuoyobisonoseizohoho - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属薄片と、その上に印刷されるべ
きパターンの形態で配設されるホトレジスト層と
を含むオフセツト印刷フオーム及びその製造方法
に関する。

通常、放電破壊プリンタ（電気腐食プリンタ）
用の記録担体は、基体上に付着された金属薄膜を
含み、少くとも金属薄膜に隣接した基体部分が非
導電性を示す。オフセツト印刷フオームは、像の
弁別が一つの面における親油性（oleophilic）領
域と疎油性（oleophobic）領域とによつて行われ
る平担な印刷フオームである。オフセツト印刷フ
オームは、少くとも２つの層、すなわち、機械的
に安定な薄片と、印刷されるべきパターンに対応
した形態を有し上記薄片上に形成される薄い層と
から成る。例えばアルミニウムから成る基体の露
光面は、疎油性を示すことが好ましく、例えば樹
脂層から成る層物質は親油性を示しインク吸収性
が良い。また、例えば合成薄片から成る担体物質
が親油性を示し、アルミニウムから成ることが好
ましい層面が疎油性を示すオフセツト印刷フオー
ムも存在する。

記録担体から作られるオフセツト印刷フオーム
は既に存在する。このような印刷フオームの製造
は、DE―AS1 496 152，DE―OS24 59 055，25
14 682及び24 33 448に開示されている。このよ
うにして製造されるオフセツト印刷フオームは、
担体薄片が親油性を示し、例えばアルミニウムか
ら成る付着層が疎油性を示す頻繁に使用されない
種類のものである。従来技術によつて製造される
オフセツト印刷フオームは、印刷後、すなわち印
刷の間おおいをしている例えばアルミニウムから
成る保護層が除去された後に得られる。さらに、
高解像度パターンは放電破壊プリンタによつて記
録担体に転写することができない。これは、オフ
セツト印刷フオームを機械的関点から十分安定に
するために印刷されるべき層を比較的厚くしなけ
ればならないためである。

このような欠点の無い下記の記録担体が本発明
者により生み出された。即ち限られた微小の凹凸
を有しインピーダンスが高い光吸収レジストから
成るほんの数μmの厚さの層を金属薄片が担持し、
上記レジスト層の上に非常に薄い金属層が蒸着さ
れる構成のものである。ここで、“薄い”とは厚
さが100nmより小さいことをいい、“高インピー
ダンス”とは、インピーダンスが、100MΩ／□
より大きいことをいう。この記録担体が印刻され
る際、電流が針によつて薄いアルミニウム層を通
るように案内され、アルミニウムが溶けた後接点
に光アークが形成され、光アークは溶けたアルミ
ニウムを蒸発させる。上述の凹凸並びに印刻され
るべき金属層の厚さが小さいために、解像度の高
いパターンを記録担体に転写できる。しかし上記
記録担体を印刷後直接オフセツト印刷フオームと
して使用してみたところ、アルミニウムの高い疎
油性及びレジストの高い親油性を得ることができ
なかつた。この湿潤性（wettability）の差は上
記記録担体をオフセツト印刷フオームとして使用
する上で欠くことのできないものであつた。さら
に、印刻された記録担体は、オフセツト印刷フオ
ームに必要な機械的安定度を有していなかつた。

本発明の目的は、機械的安定度が高く、高解像
度のパターンを得られやすく、オフセツト印刷に
必要なインクに対する湿潤性のはつきりした差の
得られるオフセツト印刷フオームを提供すること
にある。

また本発明の他の目的は、そのようなオフセツ
ト印刷フオームを、下記で述べる従来例のように
透明な写真技術を使用してオリジナル（原版）を
作る必要がなく、また作られたパターンをホトレ
ジスト層に写真製版により転写する必要もなく、
製造する方法を提供することにある。

疎油性を示す金属薄片上に、印刷されるべきパ
ターンの形態のホトレジスト層が重ね合わさせる
オフセツト印刷フオームは、例えば1980年に発行
されたAngewandte Chemieの第92頁乃至第95頁
に掲載されたH.W.Vollmann著の“Neue
Technologien zur Filmlosen Herstellung Von
Druckformen”という題の論文に開示されてい
る。このようなオフセツト印刷フオームは、アル
ミニウム薄片上のホトレジスト層を露光し、次に
現像して透明な写真像を作ることによつて製造さ
れるものである。しかし、本発明によるオフセツ
ト印刷フオームを製造するには、透明な写真技術
を使用してオリジナルを作る必要がなく、また作
られたパターンをホトレジスト層に写真製版によ
り転写する必要もない。本発明によるオフセツト
印刷フオームは、放電破壊プリンタによつて印刻
された記録担体から直接製造でき、非常にわずか
な時間及び装置によつて製造できるものである。
従来技術に従つて記録担体における直接印刻から
作られたオフセツト印刷フオームと比較すると、
本発明によるオフセツト印刷フオームは、機械的
に安定であり、非常に高い解像度のパターンも転
写することができる。

本発明による印刷フオームを製造する方法は、
ホトレジスト層の均一ブランケツト露光において
微小の凹凸を有する反射面上のホトレジスト層領
域は、非反射面上のホトレジスト層の領域よりも
２倍より大きい量の放射を受けるという驚くべき
事実を発見したことに基いて考え出されたもので
ある。ホトレジスト層の受ける放射の量が所定の
層厚さのホトレジストについて特定される量の約
３分の１であつたならば、個々のホトレジスト領
域が受ける放射の強さは、ホトレジストの現像の
間、ホトレジスト（この例ではポジ・レジストと
する）が非反射面上では残存し、反射面上では除
去されるを保証するのに十分な値となる。金属薄
片と、微小凹凸面を有し、金属片上に重ねられた
すす（soot）が充填される樹脂層と、微小凹凸面
を有し樹脂層の上に蒸着される薄い金属層とから
構成される記録担体は、薄い金属層が選択的に除
去されるように放電破壊プリンタによつて印刻さ
れた後、微小な凹凸を有する反射面部を示す。こ
こにおいて、薄い金属層が除去されたところにあ
る非反射面だけでない薄い金属面も依然として存
在している。このような記録担体がホトレジスト
層でコーテイングされ、次いで均一ブランケツト
放射を受けると、放電破壊プリンタによつて印刻
されたパターンに対応したパターンをホトレジス
ト層中に形成することができる。ホトレジスト中
でパターンによつてカバーされなかつたすす充填
層及び金属層の領域が除去されると、オフセツト
印刷フオームが完成する。ただし、金属薄片はす
す充填レジストでコーテイングされる前に疎油性
（oleophobic）になつていたものとする。微小凹
凸は放射の強さの差を増大させるが、これが無け
れば放射の差が生じないというわけではなく、薄
い金属層が完全に平滑な場合にも印刻されたパタ
ーンを有する上記記録媒体に放射の差が生じる。
この場合、放射の差は金属層に微小凹凸がある場
合よりも小さくなることは事実であるが、適当な
ホトレジスト及び処理条件を選択することにより
現像速度で有用な差を得るのに十分な放射の差を
得ることはできる。

以下、添付図面を参照して本発明によるオフセ
ツト印刷フオームの製造方法の一例について説明
する。

第１図は本発明によるオフセツト印刷フオーム
が製造される記録担体の一例を示す概略断面図で
ある。記録担体は、金属薄片１と、すすが充填さ
れたレジストすなわちすす及び必要ならば炭酸カ
ルシウムから成る充填剤を含むことが好ましいレ
ジストから成り金属薄片１の上に形成される層２
とを含む。すすは、カーボンからなり、例えばカ
ーボン、木、その他の炭素質の材料を不完全燃焼
させて形成される。層２の上には薄い金属層３が
蒸着される。金属薄片１は、アルミニウムから成
ることが好ましいが、疎油性を示すものならば他
の金属であつてもよい。アルミニウムは、例えば
陽極処理をすることによつて疎油性を示すように
なる。金属薄片１の厚さは0.1乃至0.3nmの間にあ
る。金属薄片１すなわち例えば陽極処理されたア
ルミニウムの薄片の上には平均して約2μmの厚さ
のすすが充填されたレジスト層が形成される。レ
ジスト物質は、硝酸セルロース、例えばアセトモ
ノブチレート（acetomonobutyrate）のような酪
酸セルロース（cellulose butyrate）を含む群の
中から選ぶことができる。レジストは可塑剤とし
てレジスト部分の約８乃至30重量％のクタル酸エ
ステルを含む。レジスト中のすす部分はレジスト
部分の15重量％より少ない。すすは、一次すす粒
子及び二次すす粒子を含んでいる。一次すす粒子
の寸法は約0.05μmであり、二次粒子の寸法は約
２乃至8μmである。一次すす粒子は、二次すす粒
子と同様、レジスト層中の浮遊光を吸収する働き
がある。二次すす粒子は、一次すす粒子複数個が
団塊状になつたものであり、約5μmのオーダの微
小凹凸をレジスト層に形成する。レジストは、例
えば固体含有量が約20乃至25重量％の酢酸エチル
が金属薄片１に与えられるときに有機溶媒中のレ
ジスト層２の成分が分散しその後溶媒が蒸発する
ことにより被着される。アルミニウムから成るこ
とが好ましく且つ約30nmの厚さの薄い金属層が
乾燥したレジスト層２の上に蒸着される。金属層
３はレジスト層２とほぼ同じ凹凸を有する。金属
層３の凹凸は放電破壊プリンタによつて記録媒体
を印刻するために好適であり、オフセツト印刷フ
オームの製造上利点がある。

第１図は印刻された後すなわちアルミニウム層
３の一部が選択的に除去された後の構造を示す。
印刻されるべき部分に針を接触させ、次に針及び
金属層３に電流を流し、印刻されるべきスポツト
の金属を溶かし、溶かされた金属を蒸発させるア
ークを形成させるようにして放電破壊プリンタに
よつて印刻が行われる。アークを形成する基本要
素は上述した金属層３の微小凹凸である。すなわ
ち、微小凹凸は局所フイールドの強さを非常に大
きなものにする。

次の処理過程において、噴霧又は浸液法におい
て第１図の構造体の上にホトレジスト４が被着さ
れる。アルミニウム層中で印刻されたパターンは
通常、後にオフセツト印刷フオームで転写される
のでホトレジストは一般にポジレジストである。
しかし、印刻されたパターンのネガをオフセツト
印刷フオームで転写することもできる。すなわ
ち、アルミニウム層３中に印刻されたパターンは
印刷頁において着色されない。これらの場合、ネ
ガ・レジストが使用される。以下の説明では、使
用されるホトレジストはポジ・レジストとする。
ホトレジスト層４の厚さは約１乃至5μmである。
ホトレジスト層４の厚さは、すすが充填されたレ
ジスト層２の溶媒中の露光されたホトレジストの
溶解度によつて実質的に決定される。ホトレジス
ト層４は150℃よりも低い温度で乾燥され、続い
て露光される。広帯域タングステン・ランプによ
つて行われることが好ましいブランケツト露光は
約２乃至５分の間行われる。ここで行われる処理
は次の通りである。すなわち、印刻の間アルミニ
ウム層３が除去された領域の上のホトレジスト層
４が光が横切り、続いてすすが充填されたレジス
ト層２中で放射が完全に吸収される。すなわち、
放射はホトレジスト層４のこれらの領域を１回だ
け横切る。しかし、ホトレジスト層４の下に依然
としてアルミニウム層３が存在する領域では、放
射はホトレジスト層４を通つた後アルミニウム層
３の面で反射する。アルミニウム層３の微小凹凸
のため、放射は非常に異なつた方向に反射し、ホ
トレジストとアルミニウムの境界面及びホトレジ
ストと空気との境界面において全反射が生じる。
上述した反射の効果は次の通りである。すなわち
アルミニウムが底に存在するホトレジスト４の領
域においては、ビームがホトレジスト層４をその
厚さ全体にわたつて平均で少なくとも２乃至３回
横切る。その結果、アルミニウム層３が下に存在
するホトレジスト領域はすすが充填されたレジス
ト層２上に直接被着された領域よりも強い放射を
受ける。

次の処理過程において、照射された後の第２図
に示された構造体がホトレジストに適した現像物
質に対して露出されれば、照射の強さの実質的相
違によつて、アルミニウム層３が下に依然として
存在するホトレジスト層４の個々の領域は完全に
除去され、他方、すすが充填されるレジスト層２
の上に直接被着されたホトレジスト層４は全く除
去さらないか又は非常にほんのわずか除去される
にとどまる。最も頻繁に使用されるポジ・レジス
ト（ノボラツク型のフエノール樹脂の重合体）の
一般的現像物質は、緩衝化アルカリ性水溶液なの
で、現像の間にアルミニウム層３が完全に除去さ
れる。現像されずに残されたホトレジスト層４の
領域は、記録担体すなわち金属層３中で放電破壊
プリンタによつて印刻されたパターンを再生す
る。

次の処理過程において、ホトレジスト層４によ
つてカバーされなかつたすすの充填されたレジス
ト層２の領域が除去される。使用されるレジスト
に応じて、多少濃い酢酸が使用される。例をあげ
ると、硝酸セルロースのレジストの場合には、80
％を越える酢酸が使用され、アセトモノブチレー
ト・セルロースをベースとしたレジストの場合に
は約50乃至60％の酢酸が使用され、Chicago
Molted ProductsによりＢ―120として販売され
ているレジスト材のように酪酸セルロースを含む
樹脂の場合には30％の酢酸が使用される。レジス
ト層２の除去には約２乃至５分を要する。第４図
はこのようにして製造された本発明によるオフセ
ツト印刷フオームの完成品を示す概略断面図であ
る。

本発明によるオフセツト印刷フオーマツトの一
例は、0.2mmの厚さの陽極処理されたアルミニウ
ム薄片と、レジスト材として上述のChicago
Molted ProductsからＢ―120として販売されて
いる酪酸セルロース、可塑剤としてフタル酸エス
テル、炭酸カルシウムの形のアノーガニツク充填
剤（anorganic filler）、及びすすを含み平均約
2μmの厚さで微小凹凸を有しアルミニウム薄片の
上に被着されるすす充填レジスト層２と、このレ
ジスト層２上に蒸着される約30nmの厚さのアル
ミニウム層３とから成る記録担体に基く。フタル
酸エステルと充填剤はレジスト材部分の約20重量
％の量だけ含有される。層３及び２にブランケツ
ト噴露することにより、記録担体はノボラツク型
のフエノールホルムアルデヒド樹脂及び増感剤と
してジアゾナフトキノン
（diazonaphthoquinone）を含むポジ・レジスト
から成る約2μmの厚さの層４が被着される。上述
の種類のホトレジストは例えばShipleyから
1380Hの商標名で販売されている。ホトレジスト
層は150℃より低い温度で乾燥される。次にホト
レジスト層４は1000ワツトの広帯域タングステ
ン・ランプで約３分間ブランケツト露光される。
このようにして得られた構造体は、緩衝化アルカ
リ水溶液現像体によつて数分間現像され、層３の
上のホトレジスト及び続いて層３それ自体が除去
される。これにより得られた構造体はホトレジス
ト層４でおおわれていないレジスト層２の領域を
除去するために30％の酢酸によつて３乃至５分間
処理される。このようにして得られた構造体はさ
らに別の処理を付加することなくオフセツト印刷
フオームとして使用され得る。このオフセツト印
刷フオームは、機械的安定度が高いこと、及びイ
ンクについての湿潤性に関してはつきり区別され
る金属薄片１とホトレジスト層４によつて特徴付
けられる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第３図及び第４図は、放電破
壊プリンタにより印刻される記録担体から製造さ
れる本発明によるオフセツト印刷フオームの一例
の各製造段階における形態を示す概略断面図であ
る。 １……金属薄片、２……すす充填レジスト層、
３……金属層、４……ホトレジスト。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 疎油性を示す金属薄片と、印刷されるべきパ
   ターンの形態の親油性を示すホトレジスト層とを
   含むオフセツト印刷フオームにおいて、 高インピーダンス光吸収レジストから成る、微
   小凹凸を有するレジスト層が前記金属薄片と前記
   ホトレジスト層との間に設けられたことを特徴と
   するオフセツト印刷フオーム。 ２ 疎油性を示す金属薄片の上に、高インピーダ
   ンス光吸収レジストから成る、微小凹凸を有する
   レジスト層と、所望のパターンを生じるための金
   属層とを重畳した記録担体からオフセツト印刷フ
   オームを製造する方法にして、 該金属層に放電破壊プリンタで所望のパターン
   を印刷して、前記金属層の一部を選択的に除去し
   た構造体をつくり、 該構造体の上に、親油性を示すポジ又はネガの
   ホトレジスト層を付着し、 該付着後にブランケツト露光して、前記金属層
   の除去されない部分の上のホトレジスト層部分の
   方が、除去された部分の上のホトレジスト層部分
   の方より多く光がその層内を通過するようにし、 該露光後の構造体を現像して、前記光の通過量
   の差により選択されたホトレジスト層部分と表面
   に残つた金属層部分とを除去し、そして 表面に残つたレジスト部分を除去し、 これによつて前記印刷パターンのポジ又はネガ
   のパターンのホトレジスト層を有するオフセツト
   印刷フオームを製造する方法。