JP2002528290A - 印刷ステンシル及びその製造方法 - Google Patents

印刷ステンシル及びその製造方法

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JP2002528290A JP2000577530A JP2000577530A JP2002528290A JP 2002528290 A JP2002528290 A JP 2002528290A JP 2000577530 A JP2000577530 A JP 2000577530A JP 2000577530 A JP2000577530 A JP 2000577530A JP 2002528290 A JP2002528290 A JP 2002528290A
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フィゴヴ，マーレー
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Abstract

(57)【要約】 印刷ステンシル（５０）及びその製造方法が提供される。該印刷ステンシルは、固体又は液体の硬化材料（５４）を含浸させた不織組織で出来ていることが好ましい多孔質のステンシル担体層（５２）を有する。印刷ステンシルは、硬化放射線が透過性の領域及び不透過性の領域を画成すべくステンシル層の上に配置され又は該ステンシル層と一体とされたマスク（５６）を更に備えることができる。印刷ステンシルの製造方法は、ステンシル層を硬化放射線で選択的に照射し、これにより、インク透過性領域及びインキ不透過性領域を形成し、インク透過性領域が非硬化材料から成り、インク不透過性領域が硬化材料から成るようにするステップを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の分野】
本発明は、放射線硬化法を利用することにより製造される印刷ステンシルに関
する。
【０００２】
【発明の背景】
印刷方法は、ステンシル複写（謄写印刷）及びスクリーン印刷を含む。これら
は、ステンシルを利用し、インクがステンシルの上のインク透過性領域（像領域
）を通って紙に達し、像の印刷を許容する方法である。通常、輪転方法である複
写は、平台法であるスクリーン印刷よりもより精密な細部を印刷するために使用
される。
【０００３】 永年に亙って、謄写印刷及びスクリーン印刷の双方に対し、色々なステンシル
製造方法が開発され且つ使用されている。ステンシル製造方法はステンシルに像
領域を切り込むことを含む。このことは、当初、ステンシル材料を手で切り込む
ことにより行っていた。その他の方法は含浸組織又は独立的なフィルムの像領域
を切り込むため色々な機械的手段を使用する。また、ＩＲ吸収法又は電子的エッ
チング処理法によりステンシルに切り込むため電子光学的方法も使用されている
。１９８０年代以降、サーマルデジタル複写機が開発されている。これら機械に
おいて、薄いポリマー層に穴を形成するためサーマルヘッドを使用してステンシ
ルの切込みが行われる。
【０００４】 既存の印刷ステンシル及びその製造の例が図１及び図２に図示されている。 図１には、サーマルステンシル及びその製造方法が図示されている。サーマル
ステンシル１０は、細密な組織の基部１４の上に積層された薄いポリエステルフ
ィルム１２から成っている。サーマルヘッド１８を使用してポリエステルフィル
ム１２に穴１６を形成する。印刷する間、インク１５は穴１６を通じて紙１３に
接触可能となる。この技術は適正な品質が得られ、製造時間が短く且つデジタル
作業フローに適している。この技術は、現在製造される全てのデジタル複写機に
て使用されている。
【０００５】 図２には、レーザサーマルステンシルが図示され且つその製造方法が示してあ
る。該レーザサーマルステンシル２０は、紙組織基部２６の上に積層されたＩＲ
感知層２２と、薄いポリエステルフィルム２４とから成っている。本発明と同一
の譲受人及び共同発明者に譲渡されたＩＬ特許出願第１２０５６５０には、サー
マルステンシルと類似した構造のステンシルを切込むためレーザビームを使用す
ることが開示されている。電気的熱要素を使用することに加えて、ＩＲ感知層２
２のような、放射線吸収層内で熱を発生させるためにレーザビーム２８が使用さ
れ、ＩＲ感知層２２及びポリエステル層２４に穴２１を形成する。印刷する間、
インク２５は穴２１を通じて紙２５に接触可能となる。この方法にて高解像度の
ステンシルを迅速に製造することができる。今日迄、この方法は何ら商業的に具
体化されていない。
【０００６】 スクリーン印刷用の既存の紫外線ステンシル及びその製造方法の一例が図３に
図示されている。 ステンシル３０は、紫外線硬化材料（光ポリマー）３２と、微細メッシュ３８
とから成っている。像３３を保持する写真フィルム３４は光ポリマー３２上に載
せ、接触照射過程中、ステンシル３０を照射する間、マスクとして機能する。こ
の紫外線硬化材料は、写真フィルム３４内の透過性領域３１を通じて紫外線３６
にて照射されたときに硬化する。現像過程中、該フイルム３４を除去し、また、
ステンシルを洗い流し、メッシュ３８及び硬化した材料３９が残るようにする。
次に、紙３５にインク３７を印刷するためステンシルを使用する。インク３７は
、硬化した材料３９により画定された領域内で紙３５に接触できず、硬化した材
料３９の周りの非硬化領域３３´内でのみ紙３５に接触する。このようにして製
造されたスクリーン印刷ステンシルは、比較的高品質のものとなる。直接（オン
・メッシュ法）及び間接（オフ・メッシュ法）エマルジョン及び光ポリマーフィ
ルムを使用する、この原理には、多くの型式のものがある。
【０００７】 図４には、デジタルフレキソグラフィックプレート印刷法が図示され且つ米国
特許第５，２６２，２７５号及び米国特許第５，６０７，８１４号に記載された
ような、その製造方法が示されている。フレキソグラフィック印刷法は、ステン
シルを利用しないレリーフ印刷法である。フレキソグラフィックプレート４０は
、濃黒のＩＲ感知層４２により被覆された紫外線感知ポリマー４８から成ってい
る。層４２は、強力なＩＲレーザ４４によりエッチング処理され、プレート４８
を紫外線４６にて照射するための穴４３を有する一体のマスクを形成する。ラン
プ４６からの紫外線照射光は、硬化により、プレート上にレリーフ像４１を形成
する。紫外線ランプ４９により更に照射すると、硬化したプレート基部４１´が
形成される。処理後、紙４５にインク４７を印刷するためレリーフ像４１を使用
することができる。この方法は、ＩＲ及び紫外線の双方による強力な照射を必要
とする。この方法は、通常の紫外線プレートのように長いが、フィルムとの接触
照射は最早、不要となるため、高品質が得られる。
【０００８】 図３に図示したように、スクリーン印刷に対し且つ図４に図示したように、フ
レキソグラフィックプレート印刷に対し、紫外線硬化材料を利用していたが、か
かる材料は、印刷複写ステンシルの製造時には利用されず、また、オン・プレス
法では全く使用されていない。
【０００９】 複写のため、印刷ステンシルを製造する既存の方法（上記の特許及び図１、図
２に記載されたような方法）は、材料がサーマルヘッド又はレーザの何れかと熱
的に相互作用する色々な効果のため、製造されるステンシルの品質に限界がある
。現在のステンシル複写は、極めて粗い半色調の像を得る簡単な用途にのみ適用
が制限されている。
【００１０】
【発明の概要】
本発明の１つの目的は、公知の印刷ステンシルの制約を解決する、印刷ステン
シル及びその製造方法を提供することである。
【００１１】 このように、本発明の１つの好ましい実施の形態によれば、ステンシル複写法
に特に有用である印刷ステンシルが提供される。この印刷ステンシルは、固体又
は液体の放射線硬化材料を含浸させた多孔質のステンシル担体層、好ましくは、
不織組織を有する。印刷ステンシルは、硬化放射線に対して透過性領域及び不透
過性領域を画定すべくステンシル層上に配置され又はステンシル層と一体のマス
クを更に備えている。例えば、硬化放射線に対して不透過性の領域がＩＲ放射線
により融除されない領域又はインクを含む領域である、ＩＲ感知層又はインクジ
ェット印刷層をこのマスクとすることができる。
【００１２】 このように、本発明の１つの好ましい実施の形態によれば、ステンシル担体層
と、放射線硬化材料を含浸させたステンシル層とを有する印刷ステンシルを製造
する方法も提供される。この方法は、ステンシル層を硬化放射線にて選択的に照
射し、これにより、インク透過性領域及びインク不透過性領域を形成し、インク
透過性領域が非硬化材料から成り、インク不透過性領域が硬化材料から成るよう
にするステップを備えている。
【００１３】 殆どの場合、印刷前に、インクが透過性の像領域を形成すべく非硬化材料をス
テンシルから除去する。 この方法は、硬化放射線で照射する前に、硬化放射線で照射された領域及び照
射されない領域を印刷ステンシル上に画定することにより、硬化放射線を選択的
に遮蔽すべくステンシル層の上にマスクを形成するステップを更に備えている。
【００１４】 このマスクは、非硬化材料をステンシルから除去する前に、除去することがで
きる。 本発明において、「領域」とは、例えば、マスクのような層の表面、又は例え
ば、含浸させたステンシルの表面の下方における層の全厚さを意味することが理
解されよう。
【００１５】 本発明の印刷ステンシルは、既存のステンシルよりも高品質であり、オフセッ
トリソグラフィの基準に近い、精密な細部、グラフィク要素、及び色印刷のため
ステンシル複写法にて使用することができる。このように、本発明は、複雑な印
刷法によってのみ現在、実現可能である、品質を実現する技術的に簡単な方法を
利用するものである。
【００１６】 ［発明の詳細な説明］ 本発明は、印刷ステンシル、及びその製造方法に関する。該印刷ステンシルは
、放射線硬化材料を含浸させたステンシル担体層を備えている。該ステンシル担
体層は、天然繊維及び合成繊維の混合体で出来ていることが好ましい、不織組織
から成っている。ステンシル担体層には、硬化放射線で照射したとき、重合化す
る固体又は液体の放射線硬化材料が含浸させてある。硬化材料は、液体及び固体
にてフォーミュレーションが異なる基本マトリックスと、異なる硬化放射線波長
に対し特定的な光励起剤とから成っている。
【００１７】 ステンシルの製造中、非像領域は硬化し、これにより、インクに対して不透過
性であるように、硬化材料に像が形成され、像領域（インク透過性領域）は、非
照射状態で且つ非硬化状態のままにおかれ、このため、最終的に、これらの像領
域は、インクが透過するのを許容する。放射線硬化性の性質のため、また、熱利
用方法により製造されたステンシルと比較して、このようにして製造されたステ
ンシルは、高密度スクリーン線（１５０線／インチ以上）及び細部の高鮮明度を
有する極めて高解像度（２０００画素／インチ以上）の像を保持することができ
る。本発明の硬化した材料の１つの有利な点は、この材料は機械的に堅牢であり
、このため、少なくとも数１０００枚の長時間の印刷運転に耐えることができる
点である。この硬化表面は、表面粗さ（Ｒｚ）が１μｍ範囲にある極めて平滑で
あり、その結果、高印刷品質が得られる。この方法の品質が実現可能である、そ
の他のステンシル製造方法は、存在しない。この方法は、オン・プレスステンシ
ル製造に適している。
【００１８】 次に、本発明の１つの好ましい実施の形態による、ＩＲレーザにより形成され
たマスクを有する紫外線硬化ステンシルを示す、図５ａ、図５ｂ及び図６につい
て説明する。
【００１９】 図５ａ及び図５ｂは、液体の硬化材料が図示されている。図５ａにおいて、全
体として、参照番号５０で示した印刷ステンシルは、麻のような、天然繊維と、
ポリエステル繊維のような合成繊維と、例えば、積層する、１５乃至３０μｍの
双方向ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）のような、薄い透明フィルム５４との混合体
で出来たものであることが好ましい不織組織層５２のステンシル担体層から成っ
ている。このフィルムは、ＩＲ吸収層５６にて被覆されている（例えば、上述の
ＩＬ特許出願第１２０５６５号に記載されたように）。組織５２には、液体の硬
化材料が含浸させてあり、このため、含浸型ステンシル６１が得られる。次に、
含浸型ステンシル６１を硬化放射線で照射する。
【００２０】 例えば、液体の硬化材料は、基本混合体と、特定の光励起剤との混合体から成
っている。液体の硬化材料の基本マトリックスは、例えば、２０乃至６０％のゼ
ノマール（Ｇｅｎｏｍｅｒ）３４５６（スイス、チューリッヒのラーン（Ｒａｈ
ｎ）が製造）と、３０乃至５０％のＳＲ９０９２１（米国、ペンシルベニア州、
サートマー（Ｓａｒｔｏｍｅｒ）が製造）と、５乃至１５％のＣＮ５５１（フラ
ンス、パリのクレイ・ヴァーリ（Ｃｒａｙ Ｖａｌｌｅｙ）が製造）と、２乃至
８％のアクティレーン（Ａｃｔｉｌａｎｅ）８００（英国、マンチェスタのアク
ロス（Ａｋｃｒｏｓ）が製造）とから成っている。紫外線（２００乃至４００ｎ
ｍ）硬化材料に使用される光励起剤は、例えば、２乃至６％のスピードキュア（
Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ）ＥＤＢ（英国、キャッスルフォードのリンブソン（Ｌａｍ
ｂｓｏｎ）が製造）と、２乃至６％のベェリシキュア（Ｖｅｌｉｓｉｃｕｒｅ）
ＢＴＦ（スイス、チューリッヒのラーンが製造）と、０．５乃至１．５％のクワ
ンタキュア（Ｑａｎｔａｃｕｒｅ）ＩＴＸ（スイス、チューリッヒのラーンが製
造）と、０．５乃至１．５％のイルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）６５１（スイ
ス、バーセルのチバ（Ｃｉｂａ）が製造）との混合体である。可視光線硬化材料
に使用される光励起剤は、例えば、４８８ｎｍの場合、０．２乃至１．５％のイ
ルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）７８４（スイス、バーセルのチバが製造）又は
０．１乃至１．２％のジェノキュア（Ｇｅｎｏｃｕｒｅ）ＣＱ（スイス、チュー
リッヒのラーンが製造）、及び５３２ｎｍの場合、例えば、Ｐｈ３ＢＢｕＮＭｅ
４、ＦＰｈ３ＢＨｅｘＮＭｅ４及びＭｅＳ２ＮａｐｈＢＭｅｎＭｅ４（可視光及
びＩＲ帯域用の新規な電子移動光励起剤、Ｋ．カンツ（Ｋｕｎｔｚ）、Ａ カニ
ングハム（Ｃｕｎｎｉｇｈａｍ）、シー，デ レオ／チバスペシャルティケミカ
ルズインコーポレーテッド、（Ｃ，Ｄｅ Ｌｅｏ／ＣＩＢＡ ｓｐｅｃｉａｌｔ
ｙ ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｉｎｃ．）スイス、バーゼル、ＩＳ＆Ｔ第４９回年次
会議、１９９６）と、１．１乃至０．５％のメチレンブルー（Ｍｅｔｈｙｌｅｎ
ｅ Ｂｌｕｅ）（ドイツ、セルツのリーデルデハエン（Ｒｉｅｄｅｌ ＤｅＨａ
ｅｎ）が販売）である。ＩＲ放射線（８１０乃至８３０ｎｍ）硬化材料に使用さ
れる光励起剤は、例えば、上述したように１乃至５％のホウ酸塩及び染料の組合
わせ体と、０．１乃至０．５％のＩＲ−７８６（米国、ウィスコンシン州、アル
ドリッヒ（Ａｌｄｒｉｃｈ）が販売）との混合体である。ホウ酸塩及び染料の組
み合わせ体に基づく可視光及びＩＲ放射線を含む、放射線硬化性フォーミュレー
ションを形成する基本的技術は、１９９１年ロンドンのシタテクノロジーズリミ
テッド（ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ Ｌｔｄ．，）からの被覆、イ
ンク及び塗料用の紫外線及びＥｂフォーミュレーションの化学組成及び技術（Ｃ
ｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ａｎｄ Ｅｂ ｆ
ｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ ｃｏａｔｉｎｇｓ，ｉｎｇ ＆ ｐａｉｎｔｓ
）、デートリカー（Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒ）Ｖｏｌ．３、第９章に記載されている
。最近開発されたＩＲ感知光励起剤は、「可視光及びＩＲ帯域に対する新たな電
子移動光励起剤」。に記載されている（Ｋ．カンツ、Ａ カニングハム、Ｃ，デ
レオ、チバスペシャルティケミカルズインコーポレーテッド、スイス、バーゼ
ル、ＩＳ＆Ｔ第４９回年次会議、１９９６）。
【００２１】 ＩＲ感知層５６は、例えば、ＮｄＹＡＧのようなＩＲレーザ５８により選択的
に融除され、照射過程にて像を形成する。次に、この像は、全体的な放射線照射
源５１に対する一体形マスクとして使用される（例えば、従来の紫外線ランプを
使用して）。この全体的な照射源は、ＩＲ感知層５６（マスク）内の放射線透過
性領域（融除領域）５９を通じて含浸型ステンシル６１の硬化材料を硬化させ、
これにより、放射線硬化した容積５３が得られるようにする。この照射後、イン
ク５５が非硬化材料６３を透過し且つ該材料を排除するのを許容し得るようにフ
ィルム５４を剥ぎ取る。非硬化材料６３が剥ぎ取られると、透明な像領域が形成
され、インク５５はこの像領域を通って紙５７に達することができる。
【００２２】 図５ｂには、液体の硬化材料が紫外線硬化性インクである１つの特定の実施の
形態が図示されている。図５ａに図示したような、不織組織層５２であるステン
シル担体層には、放射線照射する前に、紫外線硬化性インクを含浸させ、これに
より、含浸型ステンシル６１´が得られるようにする。
【００２３】 例えば、紫外線硬化性インクは、スクリーン印刷に一般的に使用されるインク
である、ＵＶＩスピード（ＵＶＩＳＰＥＥＤ）シリーズ（英国、ブロートステア
ズのセリコル（Ｓｅｒｉｃｏｌ）が製造）又はＵＮＶシリーズ（ドイツ、ナーレ
ンバーグのウェイデルホルド（Ｗｅｉｄｅｒｈｏｌｄ）が製造）の何れかとする
ことができる。
【００２４】 ＩＲ感知層５６は、図５ａに図示するように、マスクを形成すべく選択的に融
除し、ステンシル６１´は、図５ａに図示するようにマスクを通じて照射する。 この実施の形態において、後で、印刷過程中、組織層５２には、印刷のために
も使用される硬化性の液体インクが含浸されているため、特殊な液体の硬化材料
は何ら不要である。インクの乾燥を促進するため、通常、スクリーン印刷にて紫
外線が使用される。同一の紫外線は、過程を僅かだけ調整することにより、印刷
前のステップにてステンシル６１´内のインクを硬化させるために利用すること
ができる。最終的に、非硬化材料は印刷中に使用されるインクと同一であるから
、この実施の形態にて非硬化材料を除去する図５ａに図示した追加的なステップ
は不要である。この実施の形態の有利な点は、オン・プレス過程を簡略化し且つ
容易にすることの双方の点にあることは当業者にとって明らかである。
【００２５】 図６には、固体又は半固体の硬化材料が図示されている。図６に図示した方法
は、製造中、組織層（図５ａ及び図５ｂの参照番号５２）に固体である硬化材料
を含浸させ、これにより含浸型ステンシル担体層６２を形成する点を除いて、図
５ａ及び図５ｂに図示した方法と同様である。硬化領域６２は、図５ａに図示す
るように形成される。固体の非硬化材料６２´は印刷インク６６と接触するとき
、可溶性となる。
【００２６】 硬化材料の基本的マトリックスは、例えば、４５乃至７０％のエベクリル（Ｅ
ＢＥＣＲＹＬ）ＩＲＲ１５６（ベルギー、ＵＣＢドロージェンボス（Ｄｒｏｇｅ
ｎｂｏｓｓ）が製造）と、５乃至３５％のアクティレーン（Ａｃｔｉｌａｎｅ）
１６５（英国、マンチェスターのアクロス（Ａｋｃｒｏｓ）が製造）と、５乃至
２０％のＳＲ４９４（米国、ベンシルベニア州、サートーマー（Ｓａｒｔｏｍｅ
ｒ）が製造）との混合体である。図５ａの方法に関して説明したように特定の光
励起剤を添加することができる。
【００２７】 この方法は、既に組織内に存在する放射線硬化材料にてステンシル６２を製造
することを可能にする。固体材料は、特殊な像保持層６８を使用せずに、特殊な
像保持層（ＢＯＰＰ）６８の上に又はそれ自体の上に直接ＩＲ感知層６４を保持
し、これにより、この過程を簡略化することができる。この場合、僅か数ミクロ
ンの厚さであるＩＲ感知層６４を印刷前、別個の剥ぎ取りステップを必要とせず
に、層６４を溶融させることで印刷過程中に使用されるインクにより直接、排除
することが可能なことで更に簡略化される。
【００２８】 印刷前の非硬化材料の除去は、印刷のため使用されるインクと接触したときに
溶融した非硬化材料を機械的に排除することにより実現され、又は、非硬化材料
が接着したポリプロピレンフィルムを剥ぎ取ることにより行うことができる（硬
化材料はフィルムに接着しない）。含浸型ステンシルを加熱することは、非硬化
材料を溶融させ且つその非硬化材料をポリプロピレンフィルムに接着させ、これ
により、排除過程を容易にすることになる。
【００２９】 次に、液体（図７）又は固体（図８）の硬化材料ステンシルを直接的にレーザ
硬化する方法を示し且つ本発明の１つの好ましい実施の形態によるその製造方法
を示す図７及び図８に関して説明する。
【００３０】 図７には、組織７２に液体の硬化材料を含浸させた印刷ステンシルが全体とし
て参照番号７０で示してある。この材料（図５ａ及び図５ｂに図示するようなも
の）は、紫外線源（例えば、第三の調和ＮｄＹＡＧレーザ）又はＩＲレーザ（例
えば、ダイオードレーザ）或いは可視レーザ（例えば、第二の調和ＮｄＹＡＧ５
３２ｎｍ又はアルゴンレーザ４８８ｎｍ）のような放射線７４により直接、像が
形成され、このため選択的に硬化されて（容積７３は硬化、容積７１は非硬化）
、印刷ステンシルを形成する。図５ａ及び図５ｂに図示したものと同様のフォー
ミュレーションを使用して、光励起剤の感度とレーザ波長とを特定的に釣合わせ
て放射線で硬化させることができる。表面に滑らかさを付与し且つ非硬化材料７
１の除去を容易にし、像領域を形成するため、液体の硬化材料を含浸させたステ
ンシル７２の上にカバーフィルム７６（図５ａの担体フィルム５４と同様）を使
用することができる。次に、インク７５が像領域を通って紙７７に達するように
する。
【００３１】 図８には、その製造中、固体の硬化材料を含浸させたステンシル８２が図示さ
れている。この材料（図６に図示するような）は、図７に図示するように、放射
線８４により直接、像が形成され、このため、選択的に硬化されて（領域８３は
硬化、領域８２´は非硬化）印刷ステンシルを形成する。図６に図示した過程と
同様に、固体の非硬化材料８２´は、印刷インク８５と接触したとき、可溶性と
なり、インク８５が紙８７に達するのを許容する。この過程は、ステンシルに滑
らかな表面を持たせるべく何らカバーフィルム（図７の参照番号７６で示すよう
な）が不要なことにより簡略化される。
【００３２】 次に、インクジェット印刷により形成されたマスクを有する紫外線硬化ステン
シルを示す図９に関して説明する。全体として参照番号９０で示したこのステン
シル及びその製造方法は図５ａ、図５ｂ及び図６に図示したものと同様である。
しかし、マスクの像は、レーザ融除により形成されず、黒インク９１のインクジ
ェット印刷により形成される。インク９１は、一般的な産業用又は家庭用のイン
クジェットプリンタにて使用されるようなインクジェットヘッド９４によりドロ
ップオンデマンド法により施される。インク９５を有する領域と、インク９３を
保持しない領域とを含むインクジェット印刷層９２は、硬化材料を含浸させたス
テンシル９８の上に施される。このインクは、硬化材料含浸型ステンシル９８の
上に直接、印刷し（図６に図示するように、固体又は半固体の硬化材料が使用さ
れるとき）又は硬化材料含浸型ステンシル９８の上方でカバーフィルム９６の上
に印刷することができる（図５ａ及び図５ｂに図示するように、液体の硬化材料
が使用されるとき）。印刷層９２は、ステンシル９８が硬化放射線９７で照射さ
れている間に、硬化領域すなわち容積１００を選択的に形成するためのマスクと
して機能する。印刷層９２は、ステンシル９８の上に直接、印刷されているなら
ば、非硬化材料９８´と共に、又は非硬化材料９８´を除去する前に、カバーフ
ィルム９６を剥ぎ取ると共に除去される。インクジェットヘッド９４のコストは
強力なＩＲレーザのコストよりも遥かに低廉であるため、この方法は、比較的経
済的に具体化可能である。
【００３３】 当業者には、本発明は、特に図示し且つ上記に記載したものによってのみ制限
されないことが理解されよう。放射線硬化ステンシルの原理は、色々な方法にて
具体化可能である。これら方法は、硬化材料の型式（固体又は液体）、その波長
の感度及びデジタル像が付与される方法及び多分、幾つかの工程の細部の点で相
違する。本発明の範囲は特許請求の範囲の記載によってのみ規定される。
【図面の簡単な説明】
【図１】 従来技術のサーマルステンシル及びその製造方法を示す図である。
【図２】 従来技術のレーザサーマルステンシル及びその製造方法を示す図である。
【図３】 従来技術のスクリーン印刷紫外線ステンシル及びその製造方法を示す図である
。
【図４】 従来技術のデジタルフレキソグラフィックプレート及びその製造方法を示す図
である。
【図５】 ５ａは、本発明の１つの好ましい実施の形態に従い、ＩＲレーザにより形成さ
れたマスクを有する液体紫外線硬化ステンシル及びその製造方法を示す図である
。 ５ｂは、液体紫外線硬化材料が紫外線硬化インクである、図５ａに図示したス
テンシルの特定の実施の形態の図である。
【図６】 本発明の１つの好ましい実施の形態に従い、ＩＲレーザにより形成されたマス
クを有する固体紫外線硬化ステンシル及びその製造方法を示す図である。
【図７】 本発明の１つの好ましい実施の形態に従い、液体硬化材料ステンシルの直接的
なレーザ硬化法及び該ステンシルの製造方法を示す図である。
【図８】 本発明の１つの好ましい実施の形態に従い、固体硬化材料ステンシルの直接的
なレーザ硬化法及び該ステンシルの製造方法を示す図である。
【図９】 本発明の１つの好ましい実施の形態に従い、インクジェット印刷により形成さ
れたマスクを有する紫外線硬化ステンシル及びその製造方法を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｒ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ， ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，Ｋ Ｚ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ， ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，Ｓ Ｋ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ Ｆターム(参考） 2H084 AA25 AA30 AE05 BB04 BB07 CC09 CC10 2H097 CA12 GA50 LA05 2H114 AB04 AB22 AB34 BA01 BA10 DA47 DA56 DA76 EA02 GA11

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 放射線硬化材料を含浸させた多孔質ステンシル担体層を備え
    る印刷ステンシル。
  2. 【請求項２】 請求項１による印刷ステンシルにおいて、前記ステンシル担
    体層が不織層である、印刷ステンシル。
  3. 【請求項３】 請求項１による印刷ステンシルにおいて、前記放射線硬化材
    料が、硬化前、固体である、印刷ステンシル。
  4. 【請求項４】 請求項１による印刷ステンシルにおいて、前記放射線硬化材
    料が、硬化前、液体である、印刷ステンシル。
  5. 【請求項５】 請求項１による印刷ステンシルにおいて、前記放射線硬化材
    料が、印刷過程中にも使用可能なインクである、印刷ステンシル。
  6. 【請求項６】 請求項１による印刷ステンシルにおいて、硬化放射線を選択
    的に遮蔽し得るように前記印刷ステンシルの上に配置され又は該印刷ステンシル
    と一体のマスクを更に備える、印刷ステンシル。
  7. 【請求項７】 請求項６による印刷ステンシルにおいて、前記マスクが、硬
    化放射線が透過可能な領域と、硬化放射線が透過不能な領域とを有する層である
    、印刷ステンシル。
  8. 【請求項８】 請求項７による印刷ステンシルにおいて、前記マスクがＩＲ
    感知層又はインクジェット印刷層であり、硬化放射線が透過可能な領域が、ＩＲ
    放射線により融除された領域又はインクが存在しない領域であり、硬化放射線が
    透過不能な領域が、ＩＲ放射線による融除されない領域又はインクを保持する領
    域である、印刷ステンシル。
  9. 【請求項９】 放射線硬化材料を含浸させた多孔質ステンシル担体層を備え
    る印刷ステンシルを製造する方法において、 前記印刷ステンシルを硬化放射線で選択的に照射し、これによりインク透過
    性領域及びインク不透過性領域を形成し、該インク透過性領域が非硬化材料から
    成り、前記インク透過性領域が硬化材料から成るようにするステップを備える、
    方法。
  10. 【請求項１０】 請求項９による方法において、印刷ステンシルの選択的な
    照射が、ステンシルの上の選択された領域を硬化放射線で直接的に照射すること
    により、行われる、方法。
  11. 【請求項１１】 請求項９による方法において、硬化放射線の照射前に、ス
    テンシル層にマスクを形成し、印刷ステンシル上に硬化放射線にて照射された領
    域と、硬化放射線により照射されない領域とを画成することを更に備える、方法
    。
  12. 【請求項１２】 請求項１１による方法において、印刷ステンシルの前記選
    択的な照射が、前記ステンシル層の全体を該層の上に配置されたマスクを使用し
    て照射することにより行われる、方法。
  13. 【請求項１３】 請求項１１による方法において、前記ステンシル層に硬化
    放射線を選択的に遮蔽する層を施すことにより、該ステンシル層の上にマスクが
    形成される、方法。
  14. 【請求項１４】 請求項１３による方法において、前記硬化放射線を選択的
    に遮蔽する前記層が、ＩＲ感光層又はインクジェット印刷層であり、 硬化放射線の前記選択的な遮蔽が、前記ＩＲ感光層をＩＲ放射線により選択
    的に照射し、これにより、融除領域及び非融除領域を形成し、該非融除領域が、
    前記印刷ステンシル上に硬化放射線にて照射されない領域を画定し、 又はインクジェット印刷により、前記インクジェット印刷層がインクを有す
    る領域を形成し、該インクを有する領域が印刷ステンシル上に硬化放射線で照射
    されない領域を画成する、方法。
  15. 【請求項１５】 請求項９による方法において、前記非硬化材料を前記ステ
    ンシルから除去するステップを更に備える、方法。
  16. 【請求項１６】 請求項９による方法において、前記放射線硬化材料が、印
    刷過程中にも使用可能なインクである、方法。
  17. 【請求項１７】 請求項１１による方法において、前記マスクを除去するス
    テップを更に備える、方法。
  18. 【請求項１８】 請求項１７による方法において、前記マスクの除去と同時
    に又は該除去に続いて、前記非硬化材料を前記ステンシルから除去するステップ
    を更に備える、方法。
  19. 【請求項１９】 硬化放射線にて選択的に照射される放射線硬化材料を含浸
    させた多孔質のステンシル担体層を備える印刷ステンシルにおいて、該多孔質ス
    テンシル担体層が、硬化放射線で選択的に照射される前に、放射線硬化材料を含
    浸される、印刷ステンシル。
  20. 【請求項２０】 ステンシル複写、図形要素の印刷及びカラー印刷において
    、請求項１による印刷ステンシルの使用。
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