JPH0247695A - 文字パターン発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、表示装置や印刷装置に係り、特にベクトル・
フォントの高速な表示や印刷に好適な文字パターン発生
装置に関する。

〔従来の技術〕

従来のベクトルフォントの文字パターン発生装置は、特
公昭５３−４１０１７号公報で述べられている方式に基
づいているものがほとんどである。

すなわち、ビットマツプメモリにまず輪郭線を描画し１
次にその輪郭線を境界として文字の内部を塗り潰し、最
後に表示装置や印刷装置に、生成された文字パターンを
転送することにより行っている。

この方式の最も簡単かつ具体的なインプリメントの例と
しては、第２図に示すようなフォント・データ・テーブ
ルに基づく方法が考えられる。

第２図において、フォント・データ・テーブル５０は、
各文字の輪郭を近似した多角形の頂点座標配列５２と、
多角形内の塗り潰し開始点座標配列５３を持つ、必要な
文字についての上記配列を読出すには、文字コードをイ
ンデックスとし、各文字について、対応する頂点座標配
列５２と塗り潰し開始点座標配列５３の先頭アドレスを
持つインデックス・テーブル５１を参照して行う。

頂点座標配列５２は、Ｘ、ｙ方向の座標値の組からなり
、一つの多角形を構成する頂点列の最後には、終了コー
ドとして定めた座標値（例えば図のようにＸ、Ｙ座標共
ｕＶｒ）を格納し、次の配列からは一文字を構成する別
の多角形のデータを格納する。このテーブルを参照し、
描画したい文字サイズに合わせて座標値を拡大／縮小し
、文字展開バッファ５４上に各頂点間を直線で結ぶこと
により、文字パターンの輪郭を生成することができる。

塗り潰し開始点座標配列５３は、上記輪郭線内の一点の
座標からなる配列であり、この座標値を描画したい文字
サイズに合わせて座標変換し、座標変換後の文字展開バ
ッファ５４上の点を開始点として、その点を含む輪郭線
内を塗り潰すことにより、文字パターンを生成すること
ができる。

この方法では、拡大された文字パターンを表示する際、
多角形の角が目立ってしまう。このため、多角形をスプ
ライン変換して描画し、文字の輪郭に丸みを付ける方式
や、文字パターンを直線と円弧、楕円弧などの組合せで
構成することを考え、これに基づきフォント・データ・
テーブル５０を作成し、描画を行う方式など種々の輪郭
線発生方式が考えられている。

なお１以上のような輪郭線描画やその内部の塗り潰しの
個々の技術は、”　Ｆ　ｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ　　ｏ
ｆＩ　ｎｔｅｒａｃｔｉｖｅ　　Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　　
Ｇｒａｐｈｉｃｓ”　ｌ　９８２　。

Ｊ、Ｄ、ＦＯＬＥＹ　　＆　　Ａ、ＶＡＮＤＡＭ著など
のラスタ・グラフィックスの標準教科書に記述されてい
る公知の手法を組合せることで容易に実現できる。

また、このようなベクトルフォントの生成速度の改善に
ついては、「μＰＤ　　７２２０後継のグラフィクス・
コントローラＬＳＩ、コピーや塗りつぶし機能を強化」
日経エレクトロニクス１９８７．２．２３　（Ｎｏ、４
１５）、ＰＰ。

１３３〜１６１に述べられているように、直線やその他
の図形描画機能、輪郭線で囲まれた閉領域の塗り潰し機
能、メモリ上の矩形パターンを任意の別の位置へ転送す
る機能（以後ｂｉｔＢＬＴと呼ぶ）などをハードウェア
で持ち、高速に各処理を行う描画プロセッサが各社から
発表されている。

これらのプロセッサを用いて、先はど説明したベクトル
フォントの各描画プロセスを高速化することができ、比
較的低解像度の表示、印刷においては実現上充分な速度
が得られている。

ところで、近年企業内印刷システムなどの市場拡大に伴
い、ベクトル・フォントによる高品質の文字描画を行い
ながら、さらに−層の印刷の高速化、高精細化が要求さ
れつつある。

このような要求に応え、近年ではレーザ・プリンタなど
のページプリンタの高速化、高精細化が急速に進んでい
る。

速度については、数年前まで１０枚／分程度が主流であ
ったのに対し、すでに２０枚／分のプリンタが増加して
おり、将来は４０枚／分以上のプリンタが増えるものと
考えられる。

精細度については、現在２４０〜３００ｄｐｉ（ｄｏｔ
　　ｐｅｒｉｎｃｈ）程度のものが多いが、４００〜４
８０ｄｐｉのものも増加しつつあり、現在高価な９６０
ｄｐｉ以上のプリンタも将来安価になり、需要が増加し
て行くものと考えられる。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、印刷速度を倍にするには１文字パターン発生
装置の処理速度も倍にする必要があり、精細度を倍にす
ると、同じ印刷速度を実現するのに文字パターン発生装
置の処理速度は４倍にする必要がある。

例えば、現在主流の２４０ｄｐｉで１０枚／分のプリン
タに比べ、精細度を４８０ｄｐｉとして２０枚／分の印
刷速度を実現するには１文字パターン発生装置の処理速
度を８倍向上させなければならない。

しかしながら、上記従来技術のベクトル・フォントによ
る文字パターン発生装置においては、プリンタやＣＲＴ
の解像度が高くなるにつれて、現状の描画プロセッサの
能力では文字パターン発生を高速に行うことが困難にな
るといった問題があった。

また、現状の描画プロセッサを改良し、動作周波数を高
くして高速化しようとすると、印刷用メモリや表示用メ
モリのアクセス速度が速度上のネックとなる。これを解
決するため印刷用メモリや表示用メモリに高速アクセス
が可能なメモリを用いると、大きなコスト増を招くとい
う問題があった。

本発明の目的は、現在ある描画用のプロセッサを用いて
、高解像度のプリンタやＣＲＴにおいても高速な文字表
示が可能な文字パターン発生装置を実現することにある
。

また、本発明のもう一つの目的は、描画用プロセッサの
高速化に対して、ページメモリや表示メモリに高速なメ
モリを使用せずに、比較的安価に性能向上を図ることが
できる文字パターン発生装置を実現することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために１本発明は、印刷または表示
用メモリと、システム全体を制御する主プロセッサとを
備える印刷または表示システムにおける文字パターン発
生装置において、第１、第２および第３の文字展開用メ
モリと、前記主プロセッサからの指示に従い、前記文字
展開用メモリに対して文字の輪郭線データを発生する輪
郭線発生手段と、前記展開用メモリに対して、前記輪郭
線発生手段の発生した輪郭線の内部を塗り潰す塗り潰し
手段と、該塗り潰し手段により塗り潰された生成文字パ
ターンを、前記文字展開用メモリから前記印刷または表
示メモリに転送する転送手段と、前記輪郭線発生手段、
前記塗り潰し手段および前記転送手段を、前記第１、第
２および第３文字展開用メモリに循環的に結合する選択
手段とを設けたものである。

前記「循環的に結合する」とは、例えば、ある時点で輪
郭線発生手段、塗り潰し手段および転送手段をそれぞれ
第３、第２および第１文字展開用メモリに接続した後、
次には第１．第３および第２文字展開用メモリに接続し
、さらにその次には第２、第１および第３文字展開用メ
モリに接続することをいう。すなわち、一つの文字展開
用メモリに着目すれば、まず輪郭線発生手段に１次に塗
り潰し手段に、さらに次に転送手段へと接続されるが、
第１、第２および第３の文字展開用メモリは、それぞれ
時間的にずれた関係で、上記各手段に接続される。上記
各手段に同時に一つの文字展開用メモリが割当てられる
ことはない。

なお１本明細書において、「文字」なる語は狭義の文字
に限るものではなく、図形、記号等も含むものと、する
。

〔作用〕

複数の文字から成る文字列を連続して描画する場合、主
プロセッサは、文字列中のある文字について１輪郭線発
生手段に対して第１、第２または第３文字展開用メモリ
の一つに輪郭描画を行わせる指示をし、塗り潰し手段に
対してはその文字の一つ前の文字の輪郭が書かれた他の
文字展開用メモリについてその塗り潰しを指示し、さら
に、転送手段に対しては、二つ前の塗り潰された文字の
書かれた残りの文字展開用メモリについてその文字パタ
ーンを、印刷または表示メモリに転送するよう指示する
。これにより、輪郭線発生手段、塗り潰し手段および転
送手段の動作が並行して行われる。

これら３手段の処理が終了すると、主プロセッサは１文
字パターン転送を行った文字展開用メモリを輪郭線発生
手段に、輪郭線を描画した文字展開用メモリを塗り潰し
プロセッサに、さらに塗り潰しが完了した文字展開用メ
モリを転送手段に割当て、各手段で前回の処理を行った
次の文字についての処理を並行して行う。

このような動作を繰返すことにより、複数の文字を連続
して描画する際、文字パターン生成の上記三つのプロセ
ス（すなわち輪郭線発生、塗り潰し、および転送）をい
わゆるパイプライン形式で並列に実行できるため、従来
の単一の描画プロセッサにより三つのプロセスをシーケ
ンシャルに行う場合に比べ、高速な文字描画を実現する
ことができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例について詳細に説明する。

第１図は本発明による一実施例のプリンタのハードウェ
ア構成図であり、パラレルまたはシリアル・インタフェ
ース１は、プリンタと、パソコンなどのホストとの間で
印刷の制御情報を授受する部分であり、ＣＰＵ３は、パ
ラレル／シリアルインタフェース１や後述する複数のプ
ロセッサを制御して文字展開および印刷処理を制御する
主プロセッサで、ローカルメモリ２は、ＣＰＵ３用の制
御プログ、ラム、データおよびホストからの印刷指示情
報を格納するものであり、これらはメインバス２１で結
合されている。

輪郭線発生プロセッサ２５は、ＣＰＵ３より指示された
文字コードや属性に対し、バス２２で結合されたフォン
ト・データＲＯＭ１２内に格納されたインデックス・テ
ーブル５１とそれが示す頂点座標配列５２の対応する部
分を参照し、これに従って直線や円弧を描画することに
より輪郭線を文字展開バッファと呼ぶメモリ１５または
１６または１７上に展開する。塗り潰しプロセッサ２６
は、ＣＰＵ３より指示された文字コードに対し、バス２
３で結合された塗り潰し点データＲＯＭ１３内に格納さ
れたインデックス・テーブル５１とそれが示す塗り潰し
開始点座標配列５３を参照し、これに従って文字展開バ
ッファ上の輪郭線内を塗り潰しパターンのデータで埋め
る。

ｂｉｔＢＬＴプロセッサ２７には、バス２４を介して印
刷する頁全体のイメージ・データを格納するページ・メ
モリ１８が接続されており、ｂｉｔＢＬＴプロセッサ２
７は、ＣＰＵ３から指示されたページメモリ１８上の位
置に、文字展開バッファ上に生成された文字パターンデ
ータを転送し、文字展開バッファ上の文字パターンを消
去する。

文字展開バッファとしては、バッファ１５．バッファ１
６．バッファ１７の３つの独立したメモリを用意する。

各バッファはマルチプレクサ１４−１．１４−２．１４
−３により、輪郭線発生プロセッサ２５、塗り潰しプロ
セッサ２６、ｂｉｔＢＬＴプロセッサ２７のいずれかの
プロセッサのバスに任意に接続可能であり、この切換え
は、ＣＰＵ３が工／○レジスタ５−４をアクセスするこ
とにより行うことができる。

ＣＰＵ３からの他のプロセッサへの処理指示は。

ＣＰＵ３と各プロセッサの両方のバスからアクセス可能
な共有メモリにＣＰＵ３が処理内容を示すデータを設定
しておき、Ｉ１０レジスタ５−１〜５−３のアクセスに
より各プロセッサに割込みをかけることによって行う。

共有メモリ４はＣＰＵ３と輪郭線発生プロセッサ２５の
バスに、共有メモリ６はＣＰＵ３と塗り潰しプロセッサ
２６のバスに、共有メモリ７はＣＰＵ３とｂｉｔＢＬＴ
プロセッサ２７のバスにそれぞれ接続されており、ＣＰ
Ｕ３から各サブ・プロセッサへの処理内容を指示するパ
ラメータの通知や各サブ・プロセッサからＣＰＵ３への
エラー通知に用いられる。

輪郭線発生プロセッサ２５、塗り潰しプロセッサ２６、
ｂｉｔＢＬＴプロセッサ２７は、ＣＰＵ３から要求され
た処理が終了すると、Ｉ１０レジスタ５−６〜５−８に
アクセスして、割込みコントローラ８を介してＣＰＵ３
に割込みをかけ、これによりＣＰＵ３は処理の終了を知
ることができる。

また、ページ・メモリ１８に一頁分の展開が完了すると
、ＣＰＵ３は、Ｉ１０レジスタ５−５をアクセスしてＬ
Ｐ制御回路２０に印刷指示の割込みをかける。

ＬＰ制御回路２０はこれに対し、ページ・メモリ１８の
データをパラレル／シリアル（Ｐ／Ｓ）変換回路１９を
介してビデオ信号としてプリンタ・エンジンに送出する
。

次に、このようなハードウェア上で行なわれるＣＰＵ３
の文字列発生処理を詳細に述べる。以下に説明する処理
を実現するプログラムはローカルメモリ２上に格納する
。

第３図のフローチャート１００はＣＰＵ３のメイン・フ
ローである。ＣＰＵ３の処理は、まず、パラレル／シリ
アルインタフェース１を介し、ホストから文字コード列
や文字数データ、属性情報を含む文字列描画パラメータ
を取得する（ステップ１０１）。次にイベント・フラグ
・テーブル９０をＬＬ　ＯＩＩに初期設定する（ステッ
プ１０２）。

イベント・フラグ・テーブル９０は、Ｉ郭線描画プロセ
ッサ２５用のフラグ９１、塗り潰しプロセッサ２６用の
フラグ９２、ｂｉｔＢＬＴプロセッサ２７用のフラグ９
３から成り、各プロセッサから処理終了の割込みがＣＰ
Ｕ３にかけられると、第４図のフロー１２０に示すよう
な割込み処理をＣＰＵ３が実行し、割込みをかけたプロ
セッサに対応したフラグの値を１１１　ＩＩにセットす
る（ステップ１２１）。

次に、文字列描画パラメータから文字数を判定しくステ
ップ１０３）、文字数が１，２個の場合は列外処理を行
うが、３文字以上であればステップ１０４からステップ
１０７の、本発明の効果が顕著に現われる処理が行われ
るので、まずこの場合について第５図〜第８図を用いて
説明する。

３文字以上の文字列を描画するときには、まず文字列先
頭処理１３０が実行される。この処理フローを第５図に
示す。まず、輪郭線発生プロセッサ２５のバスに文字展
開バッファ１５を接続しくステップ１３１）、１文字目
の文字コードや文字属性を共有メモリ４に設定して、輪
郭線発生プロセッサ２５に割込みをかけて、描画を指示
する（ステップ１３２）。

次に、輪郭線発生プロセッサ２５の処理が完了したかど
うかをイベント・フラグ・テーブル９０のフラグ９１が
“１′″に変わるまで処理を待ち続け（ステップ１３３
）、”１”に変わると、イベント・フラグ・テーブルを
ＬＬ　Ｏ７１にリセットして（ステップ１３４）、次の
処理ステップに移る。

以上の処理ステップは第８図の■に当る。この図で各プ
ロセッサと各文字展開バッファ間の太線は。

それぞれのバスの接続状態を示す。また、文字展開バッ
ファ内の図は処理の内容を示しており、白抜きの文字は
輪郭線が描かれた状態、黒く塗った文字は、塗り潰され
た状態、白抜きの矢印がバッファの外に向けて描れてい
るのは、ページ・メモリへ文字データが転送されたこと
を示し、（クリア）という表現は、文字展開バッファに
展開された文字パターンが消去されたことを示す。

次のステップ■では、輪郭線発生プロセッサ２５を文字
展開バッファ１６に接続し直して、塗り潰しプロセッサ
２６を文字展開バッファ１５に接続する（ステップ１３
５）。次に２文字目の文字コードや文字属性を共有メモ
リ４に設定し、輪郭線発生プロセッサ２５に描画を指示
しくステップ１３６）、続いて、１文字目の文字コード
を共有メモリ６に設定し、塗り潰しプロセッサ２６に塗
り潰しを指示する。この後１輪郭線発生プロセッサ２５
と塗り潰しプロセッサ２６のそれぞれに対応するイベン
ト・フラグ９１．９２が両方ｒｒ　Ｉ　Ｉｆになるまで
処理を待ち続け（ステップ１３８）。

両方“１″になった時点でイベント・フラグ・テーブル
９０を１１０１＋にリセットしくステップ１３９）、文
字列先頭処理１３０が終了する。

次に文字列先頭からの順番を示すテーブルＮの値を′″
３″とし、第６図に示す文字列描画処理１４０を実行す
る。

第６図の処理モジュールでは、まず輪郭線発生プロセッ
サ２５に（（Ｎ−１）ＭＯＤ３＋１）番目の文字展開バ
ッファを、塗り潰しプロセッサ２６に（（Ｎ−２）ＭＯ
Ｄ３＋１）番目の文字展開バッファを、ｂｉｔＢＬＴプ
ロセッサ２７に（Ｎ　　ＭＯＤ３＋１）番目の文字展開
バッファをそれぞれ接続する（ステップ１４１）。なお
ＡＭＯＤ　　Ｂは、ＡをＢで割った剰余を求める演算で
ある。

次に、Ｎ文字目の文字コードや文字属性を共有メモリ４
に設定し１輪郭線発生プロセッサ２５に描画を指示する
（ステップ１４２）、続いて、Ｎ−１文字目の文字コー
ドを共有メモリ６に設定して、塗り潰しプロセッサ２６
に塗り潰しを指示しくステップ１４３）、さらにＮ−２
番目の表示位置を共有メモリ７に設定して、ｂｉｔＢＬ
Ｔプロセッサ２７に文字パターン転送および文字展開バ
ッファ・クリアを指示する（ステップ１４４）。

この後、すべてのイベント・フラグがＩＺ　Ｉ　ＰＩに
なるまで処理を待ち（ステップ１４５）、すべてＩｔ　
１１７になるとイベントフラグテーブルを０”にリセッ
トする（ステップ１４６）。

このような処理をＮを１つずつ増加させながら（ステッ
プ１４７）、文字列最後の文字輪郭を描画し終えるまで
繰返しくステップ１４８）　、終了すると文字列描画処
理を終了する。この間の処理は、第８図ては■〜■のス
テップにあたる。

第６図のフローチャートでステップ１４２〜１４４のパ
ラメータ設定処理は文字の描画処理に比べて無視できる
程短時間に実行され、各ステップにおいて、実質的に輪
郭線描画、塗り潰し、文字パターン転送の各処理を並行
して実行することができる。

文字列描画処理が終了すると最後に第７図に示す文字列
末尾処理（ステップ１５０）を実行する。

このときＮの値は文字列の文字数＋１になっている。

第７図の文字列末尾処理では、まず、塗り潰しプロセッ
サ２６のパスに（（Ｎ−２）ＭＯＤａ＋１）番目の文字
展開バッファを、ｂｉｔＢＬＴプロセッサ２７のパスに
（Ｎ　　ＭＯＤ３＋１）番目の文字展開バッファを接続
する（ステップ１５１）。

次に、Ｎ−１文字番目の文字コードを共有メモリ６に設
定して塗り潰しプロセッサ２６に塗り潰しを指示しくス
テップ１５２）、続いて、Ｎ−２文字目の文字について
表示位置を共有メモリ７に設定してｂｉｔＢＬＴプロセ
ッサ２７に文字パターン転送および文字展開バッファ・
クリアを指示する（ステップ１５３）。

この後、塗り潰しプロセッサ２６、ｂｉｔＢＬＴプロセ
ッサ２７のそれぞれに対応したイベントフラグ９２．９
３が“１″になるまで処理を待ち（ステップ１５４）、
両方共１になるとイベントフラグテーブル９０を０にリ
セットしくステップ１５５）、第８図の■のステップが
完了する。

その次に、ｂｉｔＢＬＴプロセッサ２７に（（Ｎ−２）
ＭＯＤ３＋１）番目の文字展開バッファを接続する（ス
テップ１５６）。そして、Ｎ−１番目の文字すなわち文
字列末尾の文字の表示位置を共有メモリ７に設定し、ｂ
ｉｔＢＬＴプロセッサ２７に文字パターン転送および文
字展開バッファ・クリアを指示する（ステップ１５７）
。

この後、ｂｉｔＢＬＴプロセッサ２７に対応したイベン
トフラグ９３がＩｔ　Ｉ　ＩＴになるまで処理を待ち（
ステップ１５８）、フラグが１”になると、イベント・
フラグ・テーブル９０を“０”にリセットして、第８図
の■のステップが完了し、文字列描画処理全体が終了す
る。

文字数が２文字の場合は第３図に示すように文字列先頭
処理（ステップ１３０）を実行した後。

Ｎの値を“３″として文字列末尾処理（ステップ１５０
）を実行することにより文字列を発生できる。

文字数が１文字の場合は、第９図の一文字描画処理１６
０を実行する。このときには、文字展開バッファは１番
目のもののみを用いる。

すなわち、第９図の一文字描画処理１６０においては、
まず輪郭線発生プロセッサ２５を文字展開バッファ１５
に接続して（ステップ１６１）。

輪郭線発生プロセッサに文字の輪郭線描画を指示しくス
テップ１６２）、描画が完了すれば（ステップ１６３）
、イベント・フラグ・テーブル９０を＃　ＯＩＩにリセ
ットする（ステップ１６４）。

次に、塗り潰しプロセッサ２６を文字展開バッファ１５
に接続して（ステップ１６５）、塗り潰しプロセッサ２
６に文字の塗り潰しを指示しくステップ１６６）、塗り
潰しが完了すれば（ステップ１６７）、イベント・フラ
グ・テーブル９０をＩＩ　Ｏ１１にリセットする（ステ
ップ１６８）。

最後に、ｂｉｔＢＬＴプロセッサ２７を文字展開バッフ
ァ１５に接続して（ステップ１６９）、ｂｉｔＢＬＴプ
ロセッサ２７に文字パターン転送および文字展開バッフ
ァ１５のクリアを指示し、処理が完了すれば（ステップ
１７１）、イベント・フラグ・テーブル９０を“○″に
リセットし、文字パターン発生が完了する。

このように、１文字の場合は、従来の方法通り、輪郭線
描画、塗り潰し、文字パターン転送の３つのプロセスが
シーケンシャルに行われる。

以上の実施例によると、−行または一頁単位で文字列表
示をホストが要求し、ページ・メモリ１８に印刷イメー
ジを展開するような通常の文書印刷において、１文字当
りの文字パターン発生時間を、輪郭線描画、塗り潰し、
文字パターン転送の各プロセスのうち最も遅いものの処
理時間程度に押えることができる。３つプロセスの時間
が同じであれば、各プロセスをシーケンシャルに行う場
合に比べ、最大３倍近い文字パターン発生速度を実現で
きる。

また、直線描画、塗り潰しなどを行う各描画プロセッサ
のクロックの高速化が進んだ時、その高速性を生かすた
めには、メモリの読出し／書込み時間の短い高速なメモ
リを使用する必要が生ずる。

本実施例によれば、ページ・メモリ１８から文字展開バ
ッファが独立しており、文字展開バッファのサイズは、
システムで必要な最大文字サイズが展開できる量だけ用
意すれば良いため、このバッファのみに高速なメモリ素
子を用い、ページ・メモリ１８には安価な定速メモリを
用いることにより、比較的低コストで文字パターン発生
速度の向上が望める。

なお、輪郭線発生プロセッサ２５や塗り潰しプロセッサ
２６、ｂｉｔＢＬＴプロセッサ２７は、専用プロセッサ
である必要はなく、汎用のマイクロプロセッサと、その
動作プログラムおよびデータ用メモリ、さらに図形描画
を支援するハードウェア（例えばデータのマスク処理や
シフト処理、直線の点列発生のみを行うプロセッサなど
）を用いて同等な処理を実現することができる。

この場合、速度的には専用プロセッサを用いたものに比
べ遅くなると考えられるが、各専用プロセッサの大きな
開発コストをかけずに１本発明を実施することができる
。

〔発明の効果〕

本発明によれば、次のような効果がある。

まず１文字発生を複数のプロセスに分割し、各プロセス
をパイプライン処理することにより、従来の文字パター
ン発生方式に比べ、高速な処理を行うことができる。

また、文字展開バッファに、最大文字サイズに合わせた
必要最小限の高速メモリを用いることにより、描画プロ
セッサの動作クロック周波数向上時に、大容量のページ
メモリや表示メモリに高速メモリを使用しなくても比較
的安価でシステム全体の性能向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例のハードウェア構成図、第
２図は、従来の文字パターン発生方式のテーブル構成お
よび処理手順の説明図、第３図は５文字列描画処理のメ
インフロー図、第４図は、サブプロセッサからの割込み
処理フロー図、第５図は、文字列描画における初期処理
フロー図、第６図は、文字列描画の主要処理部フロー図
、第７図は、文字列描画における後処理フロー図、第８
図は、文字パターン発生のプロセス説明図、第９図は、
−文字の文字描画処理フロー図である。 ３・・・ＣＰＵ、 １４・・・マルチ・プレクサ、 １５・・・文字展開バッファ、 １６・・・文字展開バッファ。 １７・・・文字展開バッファ、 １８・・・ページ・メモリ、 ２５・・・輪郭線発生プロセッサ、 ２６・・・塗り潰しプロセッサ、 ２７・・・ｂｉｔＢＬＴプロセッサ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、印刷または表示用メモリと、システム全体を制御す
   る主プロセッサとを備える印刷または表示システムにお
   ける文字パターン発生装置において、 第１、第２および第３の文字展開用メモリと、前記主プ
   ロセッサからの指示に従い、前記文字展開用メモリに対
   して文字の輪郭線データを発生する輪郭線発生手段と、 前記展開用メモリに対して、前記輪郭線発生手段の発生
   した輪郭線の内部を塗り潰す塗り潰し手段と、 該塗り潰し手段により塗り潰された生成文字パターンを
   、前記文字展開用メモリから前記印刷または表示メモリ
   に転送する転送手段と、前記輪郭線発生手段、前記塗り
   潰し手段および前記転送手段を、前記第１、第２および
   第３文字展開用メモリに循環的に結合する選択手段とを
   設けたことを特徴とする文字パターン発生装置。