JPH0246396B2 - - Google Patents
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- JPH0246396B2 JPH0246396B2 JP56059074A JP5907481A JPH0246396B2 JP H0246396 B2 JPH0246396 B2 JP H0246396B2 JP 56059074 A JP56059074 A JP 56059074A JP 5907481 A JP5907481 A JP 5907481A JP H0246396 B2 JPH0246396 B2 JP H0246396B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高感度の乾式像形成フイルム乃至乾式
画像形成用フイルムに関する。特に、本発明は、
「高感度画像形成フイルムおよびその製造方法な
らびにそれを用いて画像を形成する方法」の名称
で特開昭54−46049号および「改良された不動態
化層を有する画像形成用フイルム」の名称で特願
昭55−121826号に開示されている分散像形成用フ
イルム乃至分散性画像形成用フイルムの改良に関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a highly sensitive dry imaging film or film for dry imaging. In particular, the present invention
JP-A No. 54-46049 under the title "High-sensitivity imaging film, method for producing the same, and method for forming images using the same" and under the title "Image-forming film with improved passivation layer" This invention relates to an improvement of a film for forming a dispersive image or a film for forming a dispersive image disclosed in Japanese Patent Application No. 121826/1982.
前記特開昭54−46049号に開示されている高感
度乾式画像形成用フイルムは、分散性画像形成材
料からなる高い光学濃度を示す実質的に不透明な
固体連続層を基板上に設けてなるものである。こ
の分散性画像形成材料層は多層構造を有し、個個
の層は比較的高い融点を有し且つ、比較的低融点
の共晶を作る異種の相互に不溶解な成分のそれぞ
れからなるものであつて、その積層間の各界面が
比較的低い融点を示すようになされている。 The high-sensitivity dry imaging film disclosed in JP-A-54-46049 comprises a substantially opaque solid continuous layer having a high optical density and comprising a dispersive imaging material on a substrate. It is. The dispersible imaging material layer has a multilayer structure, each layer having a relatively high melting point and each consisting of different mutually insoluble components forming a relatively low melting point eutectic. and each interface between the layers exhibits a relatively low melting point.
この様な分散性画像形成材料層に、界面部の比
較的低い融解点と関連する或る臨界温度以上に画
像形成層材料に吸収されるエネルギーを増加し得
るに充分な或る臨界値以上の量のエネルギーを印
加すると、低融解点の界面部は実質的に融解し、
別個の層の異種の実質的に相互に不溶解な成分が
実質的に融解した界面部に入り込んでゆくことに
より分散性画像形成材料層は実質的流動状態に変
化し、該流動状態において該画像形成材料の表面
張力の作用によつて上記実質的に不透明な画像形
成材料層が上記のエネルギーを受けた部分におい
て分散、即ちロールバツクせしめられ、ついで上
記エネルギーの印加後そのまま凍結して光透過可
能のオープニングおよび変形材料を含む不連続層
へ変化し、その分散した所で該材料層の光学濃度
が減少する。 Such a dispersible imaging material layer may have a temperature above a certain critical value sufficient to increase the energy absorbed by the imaging layer material above a certain critical temperature associated with the relatively low melting point of the interface. When an amount of energy is applied, the low-melting point interface substantially melts,
The dispersible imaging material layer changes to a substantially fluid state by the disparate, substantially mutually insoluble components of the separate layers entering the substantially molten interface, in which the dispersible imaging material layer changes to a substantially fluid state in which the image Under the action of the surface tension of the forming material, the substantially opaque layer of imaging material is dispersed, or rolled back, in the areas receiving the energy, and then remains frozen after application of the energy to form a light-transmissive layer. The opening and deformation transforms into a discontinuous layer containing the material, at which point the optical density of the material layer decreases.
このような画像形成フイルムを用いると、高コ
ントラストの画像を形成することも或いは連続階
調性画像すなわちグレースケール画像を形成する
こともできる。また、このようなフイルムにおい
ては、分散性画像形成材料層を基板上に形成する
に先だつて、その基板上に不動態化層を設けてお
くこともでき、更には第二の不動態化層を分散性
画像形成材料層の上に形成してもよい。これらの
不動態化層は、いずれも分散性画像形成材料の酸
化を防止または抑制し、従つて分散性画像形成材
料層の起り得る光学濃度の低下を長期間に亘つて
防止または抑制できるという効果を有する。ま
た、前記特開昭における画像形成用フイルムには
その基板と反対側に、好ましくは最外保護層が設
けられる。 Such imaging films can be used to produce high contrast images or continuous tone or gray scale images. In addition, in such a film, a passivation layer may be provided on the substrate prior to forming the dispersible image forming material layer on the substrate, and further a second passivation layer may be provided on the substrate. may be formed on the dispersible imaging material layer. All of these passivation layers have the effect of preventing or suppressing oxidation of the dispersible imaging material and thus preventing or suppressing possible optical density reduction of the dispersible imaging material layer over a long period of time. has. Further, the image forming film disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-12000 is preferably provided with an outermost protective layer on the side opposite to the substrate.
特願昭55−121826号に開示されている高感度画
像形成用フイルムは、特開昭54−46049号に記載
の画像形成用フイルムと同様、基板上に設けられ
た高い光学濃度を有する実質的に不透明な分散性
画像形成材料層を含有する。この分散性画像形成
材料層は、所定の元素、アロイまたは混合物のい
ずれかからなる単一の均質層で構成されたもので
もよく、或いはそれぞれ異なる元素、アロイまた
は混合物からなるいくつかの層を積層し、全体と
してひとつの画像形成層をなすように作られたも
のでもよい。この特願昭55−121826号に記載の画
像形成用フイルムには、この出願の名称にも示さ
れているように、改良された不動態化層が含まれ
ており、この場合も特開昭54−46049号における
と同様、この不動態化層は分散性画像形成材料層
のいずれの側にも設けることができる。この画像
形成用フイルムは高コントラスト画像形成にも或
いは連続階調性画像すなわちグレースケール画像
形成にも用いられる。また、この画像形成用フイ
ルムにも、好ましくは前述の特開昭に記載の画像
形成フイルムの場合と同様に、最外保護層が設け
られる。 The high-sensitivity image-forming film disclosed in Japanese Patent Application No. 55-121826 is similar to the image-forming film described in Japanese Patent Application Laid-open No. 54-46049. contains a layer of opaque dispersible imaging material. The layer of dispersible imaging material may consist of a single homogeneous layer of any of the given elements, alloys or mixtures, or may consist of several layers, each consisting of a different element, alloy or mixture. However, it may be formed so as to form one image forming layer as a whole. The image-forming film described in this patent application No. 121826/1982 includes an improved passivation layer, as indicated in the title of this application. As in No. 54-46049, this passivation layer can be provided on either side of the dispersible imaging material layer. The imaging film may be used for high contrast imaging or for continuous tone or gray scale imaging. Further, this image forming film is also preferably provided with an outermost protective layer as in the case of the image forming film described in JP-A-Sho.
ところで本発明によれば、ごく僅かな量のエネ
ルギーを印加するだけで画像が形成され、しかも
従来の乾式画像形成用フイルムでは到底得られな
かつたほどの感度を有する乾式画像形成用フイル
ムを提供することができる。因みにほんの一例を
挙げれば、本発明の画像形成用フイルムは、前述
した二件の日本国出願における高感度画像形成用
フイルムに比べて100倍以上も感度が良くなつて
いる。そのうえ、全く予期せざることであつた
が、本発明の画像形成用フイルムにおいて達成し
た感度の大巾な向上が前記二件の日本国出願にお
ける高感度画像形成用フイルムの連続階調性に悪
影響を及ぼすということは少しもなく、事実、驚
いたことには、本発明の画像形成用フイルムの連
続階調性は、前記日本国出願における高感度画像
形成フイルムで得られるものに比べ、グレースケ
ールのより広い範囲に亘つていることが判明し
た。また、本発明の画像形成用フイルムにおける
非常に高い感度のために前記日本国出願のフイル
ムの高コントラスト特性が変えられるということ
もない。従つて、本発明の画像形成用フイルム
は、高ガンマ値を有する高コントラスト画像形成
用フイルムとしても或いは低ガンマ値を有する連
続階調性すなわちグレースケール画像形成用フイ
ルムとしても優れた有用性を有する。 According to the present invention, it is possible to provide a dry image forming film which can form an image by applying a very small amount of energy and has a sensitivity that could never be obtained with conventional dry image forming films. be able to. To give just one example, the image forming film of the present invention is more than 100 times more sensitive than the high-sensitivity image forming films disclosed in the two Japanese applications mentioned above. Moreover, although it was completely unexpected, the drastic improvement in sensitivity achieved in the image forming film of the present invention had a negative impact on the continuous tone properties of the high-speed image forming films in the two Japanese applications. In fact, surprisingly, the continuous tone properties of the imaging film of the present invention are lower than those obtained with the high-sensitivity imaging film in the Japanese application. was found to cover a wider range of Also, the very high sensitivity of the imaging film of the present invention does not alter the high contrast characteristics of the film of the Japanese application. Therefore, the image-forming film of the present invention has excellent utility as a high-contrast image-forming film having a high gamma value, or as a continuous-tone or gray-scale image-forming film having a low gamma value. .
本発明の画像形成用フイルムは、分散性画像形
成材料層の分散量すなわち不連続状態への変換量
に対応して変調された光の強度を有する輻射エネ
ルギービーム（例えば干渉性レーザービーム）の
連続走査によつて画像形成を行なう方法、或いは
キセノンランプもしくはフラツシユバルブなどか
ら発せられる非干渉性輻射エネルギーを、完全フ
オーマツト化連続階調性画像形成用パターンを有
する画像マスクを通して印加することによつて画
像形成を行なう方法のいずれにも適用できる。連
続階調性すなわちグレースケール画像を形成させ
る後者の方法は、米国特許第3966317号および第
4123157号に記載されている如き、光反射性ハー
ドコピーからマイクロフオーム記録を形成するた
めの乾式画像形成装置で用いるのに特に適した方
法であり、かつ種々の重要性を有するものであ
る。これらの米国特許によれば、まず光反射ハー
ドコピーのマイクロ複写像を中間マスクフイルム
上に透明画像として形成し、輻射すなわち電磁エ
ネルギーのシヨートパルス印加によつてこのマス
クフイルム上のマイクロ複写の透明画像が分散性
画像形成材料層上に複写される。 The imaging film of the present invention comprises a continuous beam of radiant energy (e.g., a coherent laser beam) having a modulated light intensity corresponding to the amount of dispersion of the dispersive imaging material layer, that is, the amount of conversion into a discontinuous state. Imaging may be accomplished by scanning or by applying incoherent radiant energy, such as from a xenon lamp or flash bulb, through an image mask having a fully formatted continuous tone imaging pattern. It can be applied to any method of image formation. The latter method of forming continuous tone or grayscale images is described in U.S. Pat.
The method is particularly suitable for use in dry imaging devices for forming microform records from light-reflective hardcopy, such as that described in US Pat. No. 4,123,157, and is of various importance. According to these patents, a light-reflecting hard copy microcopy image is first formed as a transparent image on an intermediate masking film, and the microcopy transparent image on the masking film is created by application of shot pulses of radiation or electromagnetic energy. Copied onto the dispersible imaging material layer.
本発明の画像形成用フイルムは極めて高い感度
を有するため、前記特許に記載された装置の光照
射、レンズ系、中間マスクフイルムおよびフラツ
シユ系統に対する許容度をより大きくすることが
できるだけでなく、同時に、線図、印刷物および
写真その他などを含むハードコピーのマイクロ画
像を正確かつ精密に複写することが可能である。
また本発明の画像形成用フイルムは、ロール状に
巻き取り可能な可撓性シートもしくはストリツプ
の形で製造および使用できるので、画像形成中お
よびその前後における取扱いおよび保存が容易で
ある。そのうえ、本発明の画像形成用フイルムは
保存寿命が長く優れた記録保存安定性を有してい
る。 Because the imaging film of the present invention has a very high sensitivity, it not only allows greater tolerance to the light irradiation, lens system, intermediate mask film, and flash system of the device described in the patent, but at the same time It is possible to accurately and precisely reproduce hard copy micro-images, including diagrams, printed materials, photographs, and the like.
Furthermore, since the image forming film of the present invention can be manufactured and used in the form of a flexible sheet or strip that can be wound into a roll, it is easy to handle and store before and after image formation. Moreover, the image forming film of the present invention has a long shelf life and excellent storage stability.
本発明の高感度画像形成フイルムは、要する
に、表面改質物質の層を分散性画像形成材料層の
少なくとも一方の表面に接するように設けたもの
であり、画像形成材料層の両面上に表面改質物質
層を有するものも本発明の一実施態様として含ま
れる。この表面改質物質としては、有機ポリマー
の如き有機材料を含包するが、画像形成工程中に
有機ポリマーが実質的に液状すなわち溶融状態と
なつたときの分散性画像形成材料に対する界面密
着力が極めて小さいかまたは殆んどないような有
機ポリマーの如き有機材料が好ましく用いられ
る。表面改質物質層を形成する方法としては、グ
ロー放電法、蒸着法、スパツター法などの如き真
空蒸着法がある。 In short, the high-sensitivity image-forming film of the present invention has a layer of a surface-modifying substance in contact with at least one surface of a dispersible image-forming material layer, and a layer of a surface-modifying substance is provided on both surfaces of the image-forming material layer. One embodiment of the present invention also includes a material layer. This surface modifying substance includes organic materials such as organic polymers, but when the organic polymer is in a substantially liquid or molten state during the image forming process, the interfacial adhesion to the dispersible image forming material is Organic materials such as organic polymers that are very small or nearly non-existent are preferably used. Methods for forming the surface-modifying material layer include vacuum deposition methods such as glow discharge method, vapor deposition method, and sputtering method.
本発明の画像形成用フイルムには、更に、大気
中に含まれる反応性成分（例えば酸素）などから
分散性画像形成材料を遮断する機能を持つた少な
くとも一層、最も有利には二層の不動態化層を含
有させることが望ましい。 The imaging film of the present invention further includes at least one, and most preferably two, layers of a passivation material having the function of shielding the dispersible imaging material from reactive components (e.g., oxygen) contained in the atmosphere. It is desirable to include a chemical layer.
また更に、本発明の画像形成用フイルムには、
望ましくは、基板およびこの基板の位置と反対側
に設けられた最外保護層が含まれる。これらの基
板および最外保護層は、他の各層とともにフイル
ムに所望の可撓性を付与できるよう、柔軟なプラ
スチツク材料から構成されることが好ましい。 Furthermore, the image forming film of the present invention includes:
Desirably, it includes a substrate and an outermost protective layer provided opposite the substrate. The substrate and the outermost protective layer are preferably constructed from a flexible plastic material so that, along with the other layers, they can impart the desired flexibility to the film.
本発明の他の諸目的及び諸利点は、特許請求の
範囲を含む本明細書及び図面を参照することによ
つて当業者に明らかとなろう。 Other objects and advantages of the invention will become apparent to those skilled in the art upon reference to the specification and drawings, including the claims.
添付図面において、第１図は、本発明の高感度
画像形成用フイルムの一例を示す模式化拡大断面
で、画像形成前のものを示す。 In the accompanying drawings, FIG. 1 is a schematic enlarged cross-section showing an example of the high-sensitivity image forming film of the present invention, before image formation.
第２図は、第１図と同様のフイルムに一定臨界
値以上の比較的低いエネルギーを印加することに
より画像形成された状態の比較的高い光学濃度を
有するフイルムを示す模式化拡大断面図であり、
フイルム上には連続階調性すなわちグレースケー
ルの画像が形成された状態を示す。 FIG. 2 is a schematic enlarged cross-sectional view showing a film having a relatively high optical density in a state where an image is formed by applying relatively low energy above a certain critical value to the same film as in FIG. ,
A continuous tone, ie, gray scale, image is formed on the film.
第３図は、第２図と同様の断面図で、第２図の
場合よりも高いエネルギーの印加により連続階調
性すなわちグレースケール画像が形成された状態
のフイルムを示す。 FIG. 3 is a cross-sectional view similar to FIG. 2, showing the film with a continuous tone or gray scale image formed by application of higher energy than in FIG.
第４図は、第２図および第３図と同様の断面図
で、更に高いエネルギーの印加によつて高コント
ラスト画像が第１図の画像形成用フイルム上に形
成された状態を示す。 FIG. 4 is a cross-sectional view similar to FIGS. 2 and 3, showing a state in which a high contrast image is formed on the image forming film of FIG. 1 by application of higher energy.
第５図は、本発明における高感度画像形成用フ
イルムの他の具体例の模式化拡大断面図であり、
分散性画像形成材料層と接して設けられた表面改
質物質層の位置が第１図、第２図および第３図の
場合と反対側に設けられている例を示す。 FIG. 5 is a schematic enlarged sectional view of another specific example of the high-sensitivity image forming film of the present invention,
An example is shown in which the surface modifying substance layer provided in contact with the dispersible image forming material layer is provided on the opposite side to that in FIGS. 1, 2 and 3.
第６図は、表面改質物質層を分散性画像形成材
料層の両側に有する高感度画像形成材料の例を示
す模式化拡大断面図である。 FIG. 6 is a schematic enlarged cross-sectional view showing an example of a high-sensitivity imaging material having surface-modifying substance layers on both sides of a dispersible imaging material layer.
第７図は、画像形成用フイルムを連続巻取方式
により製造するための装置の概略図である。 FIG. 7 is a schematic diagram of an apparatus for manufacturing an image forming film by a continuous winding method.
第８図は、第７図の装置におけるグロー放電蒸
着ステーシヨンの拡大概要図である。 FIG. 8 is an enlarged schematic diagram of the glow discharge deposition station in the apparatus of FIG.
さて、第１図、第５図および第６図において、
それぞれ１０，１２および１４で表わされている
高感度画像形成用フイルムには、いずれも好まし
くは透明な基板１６が含まれている。基板１６
は、本質的にはいかなる基板材料から作られてい
てもよいが、柔軟かつ透明なプラスチツクシート
材料からなるものが最も有利である。好ましいプ
ラスチツクシート材料の例としては、ポリエステ
ル、ポリアミド、酢酸セルロース、ポリエチレン
およびポリプロピレンなどからなるものが挙げら
れるが、なかでも米国ICIより販売されているメ
リネツクス・タイプ・オー・マイクロフイルム・
グレード（Melinex type Ｏ microfilm
grade）として知られているポリエステルすなわ
ちポリエチレンテレフタレートからなるプラスチ
ツクシートが特に好ましく用いられる。この基板
１６の厚さは約51〜255ミクロン（約２〜10ミ
ル）、好ましくは約75または100ミクロン〜180ミ
クロン（約３または４ミル〜７ミル）の範囲とす
る。 Now, in Figures 1, 5, and 6,
The high-speed imaging films, designated 10, 12, and 14, respectively, all include a substrate 16, which is preferably transparent. Substrate 16
The substrate may be made of essentially any substrate material, but is most advantageously made of a flexible, transparent plastic sheet material. Examples of preferred plastic sheet materials include those made of polyester, polyamide, cellulose acetate, polyethylene and polypropylene, among others Melinex Type O Microfilm, sold by ICI, USA.
Grade (Melinex type O microfilm
Particular preference is given to using plastic sheets made of polyester, ie polyethylene terephthalate, known as A. The thickness of the substrate 16 ranges from about 51 to 255 microns (about 2 to 10 mils), preferably about 75 or 100 microns to 180 microns (about 3 or 4 mils to 7 mils).
画像形成用フイルム１０，１２および１４に
は、分散性画像形成材料層１８、少なくとも一層
（第６図の場合には二層）の表面改質物質層２０
および二層の不動態化層２２も含まれる。これら
の各層１８，２０および２２については後述する
こととする。また、フイルム１０，１２および１
４には、好ましくは、実質的に不透明な最外保護
層２４が更に設けられる。保護層２４は、ポリウ
レタン、ポリ塩化ビニリデンまたはシリコン樹脂
などの重合体樹脂材料を用いて形成すればよい
が、なかでもビー・エフ・グツドリツチ社（B.F.
Goodrich Company）から「エステイン
（ESTANE）No.5715」の商品名で販売されている
ポリウレタン製品およびダウ・ケミカル社
（Dow Chemical Company）から「サラン
（SARAN）」という商品名で市販されているポリ
塩化ビニリデン製品を使用すると非常に優れた保
護層を形成することができる。保護層２４の厚さ
は、約0.1〜３ミクロン、好ましくは約0.5〜１ミ
クロンの範囲とすればよい。保護層を形成する方
法としては、スピンコーテイング、ロールコーテ
イング、スプレー、真空蒸着等を含む種々の方法
のいずれを用いてもよい。 The imaging films 10, 12 and 14 include a dispersible imaging material layer 18 and at least one (two in the case of FIG. 6) surface modifying material layer 20.
and two passivation layers 22 are also included. Each of these layers 18, 20 and 22 will be described later. Also, films 10, 12 and 1
4 is further provided with a preferably substantially opaque outermost protective layer 24. The protective layer 24 may be formed using a polymeric resin material such as polyurethane, polyvinylidene chloride, or silicone resin, among others, BF Gudrich Co., Ltd.
A polyurethane product sold under the trade name ESTANE No. 5715 by Goodrich Company and a polyurethane product sold under the trade name SARAN by Dow Chemical Company. Vinylidene chloride products can form a very good protective layer. The thickness of protective layer 24 may range from about 0.1 to 3 microns, preferably from about 0.5 to 1 micron. Any of a variety of methods may be used to form the protective layer, including spin coating, roll coating, spraying, vacuum deposition, and the like.
画像形成用フイルム１０，１２および１４にお
ける分散性画像形成材料層１８は、米国特許第
4000334号および「完全フオーマツト化画像形成
法（Method For Full Format Imaging）」の名
称で1975年５月13日に出願された米国特許出願第
577003号に開示されているような低融点非晶質半
導体（例えば、酸素以外のカルコゲン化元素およ
びこれらの混合物）を包含してもよい。これらに
は、記憶材料として知られかつ、エネルギーの影
響によつて或る状態から他の状態へと物理的に変
化しうる物性によつて特徴づけられている各種材
料が含まれ、これらの材料は、非晶状態もしくは
結晶状態で使用できる。このような材料の具体例
を挙げると、テルルおよびテルル含有の各種組成
物ならびにその他のカルコゲン化物、例えば、テ
ルル92.5原子部（以下、全て重量割合を示す）、
ゲルマニウム2.5原子部、ケイ素2.5原子部および
ヒ素2.5原子部からなる組成物；テルル95原子部
およびケイ素５原子部からなる組成物；およびテ
ルル90原子部、ゲルマニウム５原子部、ケイ素３
原子部およびアンチモン２原子部からなる組成物
などがある。また、画像形成材料層１８には、米
国特許第4082861号および第4137078号ならびに前
述の特開昭54−46049号に開示されているような
低融点の金属または合金が含まれていてもよい。
このような材料の例としては、ビスマス；ビスマ
スとスズおよび鉛との合金；ビスマスおよびその
酸化物の積層物；ビスマス、亜鉛、鉛、スズ、カ
ドミウムおよびインジウムからなる積層物などが
あり、これらの積層物は、その各界面において低
融点共晶を形成する。ここで断わつておきたいこ
とは、本願明細書において分散性画像形成材料層
という場合、この「層」という語は、所定の元素
もしくは組成物の均質系からなるもの、ならびに
種々の元素もしくは組成物のそれぞれを連続的に
積層し、全体として単一の分散性画像形成材料層
となるようにしたもののいずれをも含むものとす
るということである。画像形成材料層１８の厚さ
は、所望の不透明度によつて異なるが、画像形成
用フイルム完成品としたときの光学濃度が約１〜
５、好ましくは約1.2〜３となるような厚さにす
るのがよい。一般的には、画像形成材料層の厚さ
を約200〜2000Å、好ましくは約250〜1000Å程度
にしたときに最もよい結果が得られる。この層１
８を形成するには、スパツター法、真空蒸着法な
どによつて行なえばよい。 Dispersible imaging material layer 18 in imaging films 10, 12 and 14 is described in U.S. Pat.
No. 4000334 and U.S. Patent Application No. 4000334 filed May 13, 1975 entitled "Method For Full Format Imaging."
Low melting point amorphous semiconductors (eg, chalcogenated elements other than oxygen and mixtures thereof) such as those disclosed in No. 577003 may also be included. These include various materials known as memory materials and characterized by physical properties that can be physically changed from one state to another under the influence of energy; can be used in an amorphous or crystalline state. Specific examples of such materials include tellurium, various tellurium-containing compositions, and other chalcogenides, such as 92.5 atomic parts of tellurium (all percentages by weight are shown below);
A composition consisting of 2.5 atomic parts germanium, 2.5 atomic parts silicon and 2.5 atomic parts arsenic; a composition consisting of 95 atomic parts tellurium and 5 atomic parts silicon; and a composition consisting of 90 atomic parts tellurium, 5 atomic parts germanium and 3 atomic parts silicon.
There are compositions consisting of one atomic part and two atomic parts of antimony. Imaging material layer 18 may also include low melting point metals or alloys, such as those disclosed in U.S. Pat.
Examples of such materials include bismuth; alloys of bismuth with tin and lead; laminates of bismuth and its oxides; laminates of bismuth, zinc, lead, tin, cadmium and indium; The laminate forms a low melting point eutectic at each of its interfaces. It should be noted here that when referring to a dispersible imaging material layer in this specification, the term "layer" refers to a homogeneous system of a given element or composition, as well as a layer consisting of a homogeneous system of a given element or composition. It is intended to include any material in which each layer is successively laminated to form a single layer of dispersible imaging material as a whole. The thickness of the image-forming material layer 18 varies depending on the desired opacity, but the optical density of the finished image-forming film is approximately 1 to 1.
5, preferably about 1.2 to 3. Generally, best results are obtained when the thickness of the imaging material layer is on the order of about 200-2000 Å, preferably about 250-1000 Å. This layer 1
8 may be formed by a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like.
画像形成用フイルム１０，１２および１４を包
含する表面改質物質層２０は、図面に示されてい
る通り、分散性画像形成材料層１８と相接するよ
うに設けられている。先にも述べたように、この
層２０が層１８の片面だけまたは両面に隣接して
設けてあつても、いずれにせよこの層２０を設け
ることによつて、本発明の画像形成用フイルムの
感度が前述の特開昭54−46049号および特願昭55
−121826号に記載されているような高感度フイル
ムに比べて100倍以上も高くなるという驚くべき
効果が得られる。この層２０は、分散性画像形成
材料層１８の片面または両面上に真空蒸着法によ
り薄くて柔軟かつ透明な層を形成しうる有機もし
くは有機類似材料で作ることが好ましい。この層
２０には次のような特徴がある。すなわち、層１
８の材料が画像形成中に実質的に液状すなわち溶
融状態になつたとき、この材料と層２０の材料と
の間の界面密着性が極く低いかもしくは殆んどな
いため、層２０は、層１８のロールバツクすなわ
ち分散の度合を増大させるという見掛け上の効果
を有する。その結果、優れた連続階調特性および
高コントラスト特性を持つた画像形成フイルムが
得られるのである。これらの要因に加え、層１８
と２０との界面に静電荷が実質的に存在しないた
め、本発明のフイルムにおいては、従来の乾式画
像形成用フイルムの場合に比べて非常に弱いエネ
ルギーの印加によつて層１８の分散すなわちロー
ルバツクが起りうるのである。前記の各要件に加
え、層２０は分散性画像形成材料に対して化学的
に不活性であつて、かつ不動態化層に対しては画
像形成用フイルムにおける構造上および画像形成
上の要件を満たすような密着力を保持していなけ
ればならない。また、低コストで製造を行うため
には、グロー放電蒸着装置、蒸着装置、スパツタ
ー装置などの如き標準的な真空蒸着装置を用いた
高速蒸着によつて層２０を形成できることが望ま
しい。表面改質物質層２０の厚みは、隣接する層
１８の表面との界面密着性を変えるに必要なだけ
あればよく、本質的には単分子の厚みでその効果
は得られるが、一般的には、表面改質物質層の厚
さを通常約300Åまで、好ましくは約25Åから約
200もしくは250Åの範囲としたとき最適な効果が
得られる。 A surface modifying material layer 20 containing imaging films 10, 12 and 14 is provided in contact with dispersible imaging material layer 18, as shown in the drawings. As mentioned above, whether layer 20 is provided adjacent to only one side or both sides of layer 18, the provision of layer 20 improves the imaging film of the present invention. The sensitivity is based on the aforementioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-46049 and Patent Application No. 1983.
The surprising effect is that the sensitivity is more than 100 times higher than that of the high-sensitivity film described in No. 121826. This layer 20 is preferably made of an organic or organic-like material that can be vacuum deposited to form a thin, flexible, transparent layer on one or both sides of the dispersible imaging material layer 18. This layer 20 has the following characteristics. That is, layer 1
When material No. 8 becomes substantially liquid or molten during imaging, there is very little or no interfacial adhesion between this material and the material of layer 20, so that layer 20 This has the apparent effect of increasing the degree of rollback or dispersion of layer 18. As a result, an imaging film with excellent continuous tone and high contrast properties is obtained. In addition to these factors, layer 18
Since there is substantially no electrostatic charge at the interface between layer 18 and layer 20, the film of the present invention is capable of dispersing or rolling back layer 18 by applying much weaker energy than in conventional dry imaging films. can occur. In addition to the requirements listed above, layer 20 is chemically inert to the dispersible imaging material and meets the structural and imaging requirements of the imaging film for the passivation layer. It must maintain adhesion that satisfies the requirements. Additionally, for low cost manufacturing, it is desirable to be able to form layer 20 by high speed deposition using standard vacuum deposition equipment such as glow discharge deposition equipment, evaporation equipment, sputtering equipment, and the like. The thickness of the surface-modifying substance layer 20 is only required to change the interfacial adhesion with the surface of the adjacent layer 18, and essentially the thickness of a single molecule can achieve this effect, but generally The thickness of the surface modification material layer is typically up to about 300 Å, preferably from about 25 Å to about
The optimum effect is obtained when the range is 200 or 250 Å.
本発明の高感度画像形成用フイルムにおける層
２０を形成するために用いられる有機もしくは有
機類似材料の具体例を挙げると、メタン、エタ
ン、エテン、プロパン、プロペン、ブタン、ブデ
ン、イソブタン、フツ化イソブチル、四フツ化炭
素、六フツ化炭素、フツ化エチリデン、クロロト
リフロロメタン、ジフロロジクロロメタン、フツ
化イソプロピル、フツ化イソプロピリデンなどの
如き重合性単量体材料およびこれらの共重合性混
合物がある。また、モノシラン、クロロシラン、
メチルモノシラン、ジメチルシラン、トリフロロ
シランなどの重合性有機類似材料およびこれらの
共重合性混合物も有用である。これらのなかで
も、四フツ化炭素のようなフツ素化炭化水素類が
好ましく用いられる。ここで注目すべきことは、
画像形成用フイルムにおける層２０の形成に有用
な表面改質材料の最も有利なものが気体であると
いう点である。このような気体状の材料は、真空
蒸着法（または層２０の場合は、グロー放電法、
蒸着法スパツター法など）によつて画像形成用フ
イルムの各層の形成がなされる蒸着室において連
続的に大量生産を行なう場合にそのまますぐに適
用できるという利点を有する。しかしながら、通
常は液体であつても、簡単に気化してグロー放電
法などによる真空蒸着が可能な表面改質材料（特
に有機または有機類似材料）も層２０の形成に使
用できるものと理解され得よう。そのような材料
の例を挙げると、ペンタン、１−ペンテン、ヘキ
サン、１−ヘキセンなどがある。 Specific examples of organic or organic-like materials used to form layer 20 in the high-sensitivity imaging film of the present invention include methane, ethane, ethene, propane, propene, butane, butene, isobutane, isobutyl fluoride. , carbon tetrafluoride, carbon hexafluoride, ethylidene fluoride, chlorotrifluoromethane, difluorodichloromethane, isopropyl fluoride, isopropylidene fluoride, etc., and copolymerizable mixtures thereof. . In addition, monosilane, chlorosilane,
Also useful are polymerizable organic analogs such as methylmonosilane, dimethylsilane, trifluorosilane, and copolymerizable mixtures thereof. Among these, fluorinated hydrocarbons such as carbon tetrafluoride are preferably used. What should be noted here is that
The most advantageous surface-modifying materials useful in forming layer 20 in the imaging film are gases. Such gaseous materials can be deposited by vacuum evaporation (or in the case of layer 20, by glow discharge,
It has the advantage that it can be immediately applied to continuous mass production in a vapor deposition chamber where each layer of an image forming film is formed by a vapor deposition method, a sputter method, etc.). However, it may be understood that surface-modified materials (particularly organic or organic-like materials), which are normally liquid but which can be easily vaporized and vacuum-deposited by glow discharge methods or the like, can also be used to form layer 20. Good morning. Examples of such materials include pentane, 1-pentene, hexane, 1-hexene, and the like.
本発明の画像形成用フイルムを構成する不動態
化層２２は、分散性画像形成材料層１８中の各成
分の酸化を防止もしくは実質的に抑制するような
遮断層を有効に与えうる材料であればどのような
ものから形成されていてもよい。不動態化層の形
成に使用できる材料の具体例としては、一酸化ケ
イ素、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ゲ
ルマニウム、酸化テルル、酸化スズ、酸化ベリリ
ウムなどが挙げられる。不動態化層形成に特に好
ましい材料としては、先に述べた特願昭55−
121826号に開示されている各種材料がある。この
材料には第４族金属の酸化物が含まれるが、これ
らの酸化物のうちでも有利なものは、非晶形のも
のならびにこれらを金属もしくは半導体の非晶質
酸化物もしくはハロゲン化物と混合してアロイ
（固溶体）を作ることにより上記非晶状態を安定
化したものである。このような混合物型の具体例
としては、下記のようなものが挙げられる（カツ
コ外に下書きされた数字は、各成分化合物をルツ
ボ中で混合したときのそれぞれの占める重量割合
の近似値である）。 The passivation layer 22 constituting the image forming film of the present invention may be any material that can effectively provide a barrier layer that prevents or substantially suppresses oxidation of each component in the dispersible image forming material layer 18. It may be formed from any material. Specific examples of materials that can be used to form the passivation layer include silicon monoxide, silicon dioxide, aluminum oxide, germanium oxide, tellurium oxide, tin oxide, beryllium oxide, and the like. Particularly preferable materials for forming the passivation layer include the above-mentioned patent application 1983-
There are various materials disclosed in No. 121826. The materials include oxides of Group 4 metals, advantageously those in amorphous form and their mixtures with amorphous oxides or halides of metals or semiconductors. The amorphous state is stabilized by creating an alloy (solid solution). Specific examples of such mixture types include the following (the numbers written outside the box are approximate values of the weight proportions of each component compound when mixed in a crucible). ).
（GeO2）0.70（Al2O3）0.10（B2O3）0.10（PbO）0.10
（GeO2）0.80（Al2O3）0.10（PbO）0.10
（GeO2）0.85（TiO2）0.10（Al2O3）0.05
（GeO2）0.80（Al2O3）0.05（PbO）0.05（K2O）0.10
（GeO2）0.80（Al2O3）0.10（PbO）0.05（K2O）0.05
（GeO2）0.70（Al2O3）0.10（TiO2）0.10（PbO）0.05
（K2O）0.05
（GeO2）0.75（Al2O3）0.10（TiO2）0.05（MgO）0.05
（K2O）0.05
不動態化層２２は、実質的に孔や気孔を含まな
い連続層であつて、かつ画像形成用フイルムをロ
ール状に巻き取る際にひび割れしたり折れたりす
ることのないよう柔軟性を有したものでなければ
ならない。このような柔軟性を持たせるには、不
動態化層の厚さを約75〜450Å、特に好ましくは
約100〜200Åとすればよいことが経験上判つてい
る。不動態化層を最も効率よく形成するには電子
線源を利用した真空蒸着法を用いるとよい。(GeO 2 ) 0.70 (Al 2 O 3 ) 0.10 (B 2 O 3 ) 0.10 (PbO) 0.10 (GeO 2 ) 0.80 (Al 2 O 3 ) 0.10 (PbO) 0.10 (GeO 2 ) 0.85 (TiO 2 ) 0.10 ( Al 2 O 3 ) 0.05 (GeO 2 ) 0.80 (Al 2 O 3 ) 0.05 (PbO) 0.05 (K 2 O) 0.10 (GeO 2 ) 0.80 (Al 2 O 3 ) 0.10 (PbO) 0.05 (K 2 O) 0.05 (GeO 2 ) 0.70 (Al 2 O 3 ) 0.10 (TiO 2 ) 0.10 (PbO) 0.05
(K 2 O) 0.05 (GeO 2 ) 0.75 (Al 2 O 3 ) 0.10 (TiO 2 ) 0.05 (MgO) 0.05
(K 2 O) 0.05 The passivation layer 22 is a continuous layer that does not substantially contain pores or pores, and does not crack or break when the image forming film is wound into a roll. It must be as flexible as possible. Experience has shown that to provide such flexibility, the thickness of the passivation layer should be between about 75 and 450 Å, particularly preferably between about 100 and 200 Å. In order to form the passivation layer most efficiently, it is preferable to use a vacuum evaporation method using an electron beam source.
ところで、本発明の好適な具体例においては、
それぞれ不動態化層２２をフイルムの構成要素と
して含むことを示しているが、基板１６および最
外保護層２４などが自身に分散性画像形成材料の
酸化を抑制ないし防止しうる機能を備えているよ
うな場合には、層２２は必ずしも必要でないこと
は明らかであろう。 By the way, in a preferred embodiment of the present invention,
Although shown as including a passivation layer 22 as a component of the film, the substrate 16, the outermost protective layer 24, etc. have the function of suppressing or preventing oxidation of the dispersible image forming material. It will be clear that in such cases layer 22 is not necessarily necessary.
前述の如く、画像形成用フイルムを構成する各
層を形成する際の最も好ましい方法は真空蒸着法
である。分散形成材料層１８および不動態化層２
２の形成には抵抗加熱もしくは電子線源を用いた
真空蒸着法が好ましく、一方、表面改質物質層２
０を形成するには、前記の如く、グロー放電法蒸
着法、スパツター法などが好ましく用いられる。
次に、第７図および第８図を参照しながら、分散
性画像形成材料層１８、表面改物質層２０および
不動態化層２２の形成を連続巻取方式で行なう例
について説明がなされる。 As mentioned above, the most preferred method for forming each layer constituting the image forming film is the vacuum deposition method. Dispersion-forming material layer 18 and passivation layer 2
Resistance heating or a vacuum deposition method using an electron beam source is preferable for forming the surface-modifying material layer 2.
To form 0, as described above, glow discharge vapor deposition, sputtering, etc. are preferably used.
Next, with reference to FIGS. 7 and 8, an example in which the dispersible image forming material layer 18, surface modifying material layer 20, and passivation layer 22 are formed by a continuous winding method will be described.
第７図には、連続巻取法によつて本発明の画像
形成用フイルムを製造するための装置の概略が示
されている。この装置（図面中では装置全体を３
０で示してある）には真空室３２が含まれる。こ
の真空室３２の中に、ウエブ巻出スプール３４、
金属製回転ドラム３６およびウエブ巻取スプール
３８があつて、これらの上を基板１６が走行す
る。また、この装置には、金属回転ドラム３６の
外周に沿つて設けられた金属壁を有するグロー室
４０およびボート４２で表わされる複数個の蒸着
源も含まれる。ボート４２中に入れられている各
種材料は、例えば電子線照射装置（図面には示さ
れていない）により選択的に気化させられて、ド
ラム３６上を走行する基板１６上に蒸着する。装
置３０には、ウエブの位置を決めるためのアイド
ラー（図面には示されていない）をドラム３６と
ウエブ巻取スプール３８の間に設けておくことが
望ましく、更には、電子線照射装置の蒸着能を電
子制御するための結晶速度制御器（図示されてい
ない）および個々の層を基板１６上へ形成する各
材料の蒸着状態を光学濃度で調べるための光学監
視装置（図示されていない）も備えておくことが
望ましい。真空室３２は、粒子トラツプ４６およ
び制御バルブ４８を介して真空ポンプ４４により
排気される。 FIG. 7 schematically shows an apparatus for producing the image forming film of the present invention by a continuous winding method. This device (in the drawing, the entire device is 3
0) includes a vacuum chamber 32. Inside this vacuum chamber 32, a web unwinding spool 34,
There is a metal rotating drum 36 and a web take-up spool 38 over which the substrate 16 runs. The apparatus also includes a plurality of deposition sources represented by a glow chamber 40 and a boat 42 having metal walls around the outer periphery of a metal rotating drum 36. The various materials contained in the boat 42 are selectively vaporized, for example by an electron beam irradiation device (not shown in the drawings), and deposited onto the substrate 16 running on the drum 36. It is preferable that the apparatus 30 is provided with an idler (not shown in the drawings) between the drum 36 and the web take-up spool 38 for determining the position of the web. A crystal velocity controller (not shown) for electronically controlling the performance and an optical monitoring device (not shown) for checking the optical density of the deposition of each material forming the individual layers on the substrate 16. It is advisable to be prepared. Vacuum chamber 32 is evacuated by vacuum pump 44 via particle trap 46 and control valve 48.
第８図に明示されるように、グロー室４０は、
RFまたはDC電源に接続され、かつ不必要な箇所
でのプラズマ放電を防止するために適当な絶縁材
料５２で裏打ちされたカソード５０を有する。グ
ロー室４０の金属壁はアースされている（図示さ
れていない）。グロー放電蒸着によつて蒸着すべ
き材料は、一本ないしそれ以上の導管５４を通つ
て室４０内へ供給される。グロー室４０内の真空
圧を測定するための圧力計５６が備えられてお
り、この圧力計５６は真空ポンプ４４の制御にも
一役買つている。グロー室４０からの排気ガス
は、グロー室４０の壁とドラム３６上の基板１６
の表面との間にある狭い開口部すなわちクリアラ
ンス５８を通つて真空室３２内へ流れ込む。ドラ
ム３６は接地されており（図示されていない）、
表面改質物質層２０のグロー放電蒸着のためのア
ース電極として機能する。回転ドラム３６は、熱
水もしくは冷水またはその他の液体を用いて加熱
もしくは冷却することができる。その際、これら
の液体は、真空室３２外の大気と通じている液体
供給用回転トラフ（図示されていない）を用いて
ドラム内を循環させるようにするとよい。ドラム
の温度測定ないし制御は、熱交換液体の温度を測
定ないし制御することによつて真空室３２の外側
から行なう。 As clearly shown in FIG. 8, the glow chamber 40 is
It has a cathode 50 connected to an RF or DC power source and lined with a suitable insulating material 52 to prevent plasma discharge where it is not needed. The metal walls of the glow chamber 40 are grounded (not shown). Material to be deposited by glow discharge deposition is fed into chamber 40 through one or more conduits 54. A pressure gauge 56 is provided for measuring the vacuum pressure within the glow chamber 40, and this pressure gauge 56 also plays a role in controlling the vacuum pump 44. Exhaust gas from the glow chamber 40 is directed toward the walls of the glow chamber 40 and the substrate 16 on the drum 36.
into the vacuum chamber 32 through a narrow opening or clearance 58 between the surface of the The drum 36 is grounded (not shown);
It functions as a ground electrode for glow discharge deposition of the surface modification material layer 20. Rotating drum 36 can be heated or cooled using hot or cold water or other liquids. In this case, these liquids may be circulated within the drum using a rotating liquid supply trough (not shown) that communicates with the atmosphere outside the vacuum chamber 32. The temperature of the drum is measured and controlled from outside the vacuum chamber 32 by measuring and controlling the temperature of the heat exchange liquid.
第７図および第８図にその概略を示した装置を
用いて本発明の高感度フイルムを製造する際に
は、真空ポンプ４４により真空室３２内の圧力が
約５×10-5トル以下になるまで排気を行ない、巻
出スプール３４から基板１６を繰り出して水冷ド
ラム３６上を通つて巻取スプール３８まで導びい
た後、ポリエステル基板１６から先ずガス抜きを
行なうために基板１６を約３ｍ／分（10フイー
ト／分）の速度で巻出スプール３４へ巻き戻す。
次に、巻出スプール３４から約３ｍ／分（10フイ
ート／分）の速度で基板１６を繰り出し、電子線
照射装置を用いてポート４２のうちのいずれかに
入つている材料、例えばGeO2を約60Å／秒の速
度で蒸着させて厚さ約150ÅのGeO2からなる第１
の不動態化層を基板１６上に形成する。蒸着速度
の制御は、電子線照射装置の蒸着能を電子制御す
る結晶速度制御器（図示されていない）を用いて
行なわれる。しかる後、不動態化層で覆われた基
板は、次の蒸着を行なうために巻出スプール３４
へ巻き戻される。次いで、この不動態化層被覆基
板を再びボート４２の方向へ約３ｍ／分（10フイ
ート／分）の速度で走行させながら、別の電子線
照射装置を用い、例えばビスマスとスズを共蒸着
させて前記基板上に厚さ約400Åのビスマスとス
ズからなる層を約150Å／秒の速度で形成させる。
この場合も蒸着速度の制御を結晶速度制御器によ
つて行なうとともに、この工程中は光学監視装置
によりフイルムの光学濃度を監視する。GeO2か
らなる不動態化層および共蒸着ビスマス−スズの
分散性画像形成材料層を有する基板は、分散性画
像形成材料層の上に表面改質物質層を蒸着するた
めに再び巻出スプール３４へ巻き戻される。 When manufacturing the high-sensitivity film of the present invention using the apparatus schematically shown in FIGS. 7 and 8, the pressure in the vacuum chamber 32 is reduced to about 5×10 -5 Torr or less by the vacuum pump 44. After unwinding the substrate 16 from the unwinding spool 34 and leading it to the take-up spool 38 over the water-cooled drum 36, the substrate 16 is moved about 3 m/min to degas the polyester substrate 16. (10 feet/minute) onto the unwind spool 34.
Next, the substrate 16 is unwound from the unwind spool 34 at a speed of approximately 3 m/min (10 ft/min), and an electron beam irradiator is used to remove the material, such as GeO 2 , contained in any of the ports 42. A first layer of GeO 2 with a thickness of about 150 Å deposited at a rate of about 60 Å/sec.
a passivation layer is formed on the substrate 16. The deposition rate is controlled using a crystal rate controller (not shown) that electronically controls the deposition capacity of the electron beam irradiation device. Thereafter, the passivation layer covered substrate is placed on the unwind spool 34 for the next deposition.
is rewound to. Next, while the passivation layer coated substrate is again moved toward the boat 42 at a speed of about 3 m/min (10 ft/min), for example, bismuth and tin are codeposited using another electron beam irradiation device. A layer of bismuth and tin having a thickness of about 400 Å is formed on the substrate at a rate of about 150 Å/sec.
In this case as well, the deposition rate is controlled by a crystallization rate controller, and the optical density of the film is monitored by an optical monitoring device during this process. The substrate with the passivating layer of GeO 2 and the co-deposited bismuth-tin dispersive imaging material layer is again placed on the unwind spool 34 to deposit a surface modification material layer over the dispersive imaging material layer. is rewound to.
図面から明らかなように、カソード５０とドラ
ム３６の接地された金属壁との間にあるグロー室
４０内の空間は、両者の間でグロー放電を行なわ
せてプラズマを発生させるためのものである。表
面改質物質層の蒸着を行なうにあたつては、まず
ポンプ４４により真空室３２内を約20ミリトルま
で減圧しておく。しかる後、例えば四フツ化炭素
（CF4）からなる重合性気体を１本ないし２本の
導管５４によりグロー室４０内へ送り込む。その
際、グロー室４０の圧力を約0.1〜２トル、好ま
しくは約0.1〜0.5トルの範囲内に保つた状態で、
気体を約10〜50標準立方センチ／分の一定割合で
供給する。グロー室４０内の分圧と室内へ供給さ
れた気体によつて室内には前記気体を含有する雰
囲気が形成される。この雰囲気中において、例え
ば1000ワツト、周波数約12〜15MHz、好ましくは
約13.5MHzの高周波電力を用い、分散性画像形成
材料層などで覆わている基板１６上にプラズマを
発生させると、約10〜50Å／秒、好ましくは約30
Å／秒の蒸着速度で、厚さ約200Åの四フツ化炭
素からなる重合体層が分散性画像形成材料層上に
形成される。 As is clear from the drawings, the space within the glow chamber 40 between the cathode 50 and the grounded metal wall of the drum 36 is for generating plasma by causing glow discharge between the two. . Before depositing the surface-modifying material layer, the pressure inside the vacuum chamber 32 is first reduced to about 20 mTorr using the pump 44. Thereafter, a polymerizable gas consisting of, for example, carbon tetrafluoride (CF 4 ) is fed into the glow chamber 40 through one or two conduits 54 . At that time, while maintaining the pressure in the glow chamber 40 within a range of about 0.1 to 2 Torr, preferably about 0.1 to 0.5 Torr,
Gas is supplied at a constant rate of about 10 to 50 standard cubic centimeters per minute. The partial pressure within the glow chamber 40 and the gas supplied into the chamber create an atmosphere containing the gas in the chamber. In this atmosphere, a plasma is generated on the substrate 16 covered with a layer of dispersive imaging material or the like using a high frequency power of, for example, 1000 watts and a frequency of about 12 to 15 MHz, preferably about 13.5 MHz. 50 Å/sec, preferably about 30
At a deposition rate of Å/sec, a polymeric layer of carbon tetrafluoride approximately 200 Å thick is formed on the dispersible imaging material layer.
このようにして表面改質物質層が形成された
ら、引き続きこの層の上に、例えば、GeO2を含
む第二の不動態化層を第一の不動態化層形成の場
合と同様にして蒸着させる。ここで断わつておく
が、第一および第二の不動態化層は同じ材料で形
成してもよく或いはそれぞれ異なつた材料で形成
してもよいことは明らかであろう。従つて蒸着さ
れるべき第二（もしくは最後）の不動態化層の形
成には、例えばSiOを用いてもよい。これと同様
のことが表面改質物質層についても言うことがで
き、たとえば第６図では分散性画像形成材料層１
８の両側にそれぞれ表面改質物質層２０を設けて
ある例が示されているが、この場合も、それぞれ
の層２０はいずれも同じ表面改質物質からなるも
のでも或いはそれぞれが別の表面改質物質からな
るものでもよい。 Once the surface-modifying material layer has been formed in this way, a second passivation layer containing, for example, GeO 2 is subsequently deposited on top of this layer in the same manner as in the formation of the first passivation layer. let It should be noted that it will be appreciated that the first and second passivation layers may be formed from the same material or may be formed from different materials. For example, SiO may thus be used to form the second (or last) passivation layer to be deposited. The same can be said about the surface modifying material layer, for example in FIG. 6, the dispersible image forming material layer 1
An example is shown in which surface-modifying material layers 20 are provided on both sides of 8, but in this case as well, each layer 20 may be made of the same surface-modifying material or may be made of a different surface-modifying material. It may also be made of solid matter.
第二の不動態化層を形成した後、ウエブを真空
室から取り出して厚さ約500〜6000Åの重合体保
護外層をロール塗布により形成する。この塗布工
程においてもそうであるが、前述の各蒸着工程に
おいても、巻出スプールおよび巻取スプールの扱
いに注意して、ウエブが走行中に引つかかつた
り、竹の子状になつたりすることなどのないよう
にウエブ張力を調整することが必要である。さて
次に、再び第１〜６図を参照しながら、本発明の
画像形成用フイルムにおける画像形成について説
明する。画像形成用フイルム１０，１２および１
４は、画像マスク２６を通して、例えばキセノン
ランプもしくはフラツシユバルブ等からの非干渉
性輻射エネルギーのようなエネルギーを印加する
ことによつて画像形成される。画像マスク２６
は、これを通過する非干渉性輻射エネルギー量お
よび分散性画像形成材料層１８に吸収されるエネ
ルギー量を調整するものであり、これによつて画
像形成部における分散性画像形成材料の分散量お
よび光学濃度を調整することができる。 After forming the second passivation layer, the web is removed from the vacuum chamber and a protective outer layer of polymer approximately 500-6000 Å thick is applied by roll coating. In this coating process as well as in each of the above-mentioned vapor deposition processes, care must be taken to handle the unwinding spool and take-up spool to prevent the web from getting stuck or becoming bamboo shoot-like while running. It is necessary to adjust the web tension to avoid this. Now, referring again to FIGS. 1 to 6, image formation in the image forming film of the present invention will be described. Image forming films 10, 12 and 1
4 is imaged by applying energy, such as incoherent radiant energy from a xenon lamp or flash bulb, through an image mask 26. Image mask 26
is for adjusting the amount of incoherent radiant energy passing through it and the amount of energy absorbed by the dispersible image forming material layer 18, thereby controlling the amount of dispersion of the dispersible image forming material in the image forming section and the amount of energy absorbed by the dispersible image forming material layer 18. Optical density can be adjusted.
本発明に従えば、既に述べた通り、画像形成用
フイルムの種類に応じてそれぞれ行なわれる高コ
ントラスト画像形成または連続階調性すなわちグ
レースケール画像形成のいずれの場合でも、超高
感度乾式画像形成が可能である。第１図中、画像
マスク２６における２６ａで表わされる部分は非
常に高い光学濃度を有するため、ここを通して分
散性画像形成材料層１８に印加されるエネルギー
（図中、矢印で示してある）の量ないし強度が極
度に制限される結果、材料に吸収されたエネルギ
ーが前述のように一定臨界値を越えることがな
い。その結果、材料が実質的な流動状態へ変化す
ることもなく、分散性画像形成材料層１８は依然
として高光学濃度を有する実質的に不透明な固体
の状態のままである。画像形成材料層１８には光
が通過しうるオープニングが全くないため、この
層１８は実質的に不透明であつて、大体1.0ない
し1.5程度の光学濃度を有する。画像形成過程に
おいてこのような段階のあることは、本発明の高
いコントラスト画像形成用フイルムおよび連続階
調性すなわちグレースケール画像形成用フイルム
のいずれの場合にも言えることである。 According to the present invention, as already mentioned, ultra-high-sensitivity dry image formation is possible in either high-contrast image formation or continuous tone, i.e., grayscale image formation, which is performed depending on the type of image-forming film. It is possible. In FIG. 1, the portion of the image mask 26 designated by 26a has a very high optical density, so that the amount of energy (indicated by the arrow in the figure) that is applied to the dispersible imaging material layer 18 through this portion is very high. Otherwise, the strength is extremely limited so that the energy absorbed by the material does not exceed a certain critical value as mentioned above. As a result, the material does not change to a substantially fluid state, and the dispersible imaging material layer 18 remains in a substantially opaque solid state with high optical density. Because there are no openings in imaging material layer 18 through which light can pass, layer 18 is substantially opaque and has an optical density on the order of 1.0 to 1.5. The presence of such steps in the imaging process is true for both the high contrast imaging film and the continuous tone or gray scale imaging film of the present invention.
第２図においては、画像マスク２６の部分２６
ｂの光学濃度が第１図の場合より低くなつている
ため、より多くの輻射エネルギー（図中、矢印で
示されている）がこれを通過し、分散性画像形成
材料層１８に印加される。このとき印加されたエ
ネルギーの強度は、層１８に吸収されたエネルギ
ーが前記の臨界値をわずかに上回る程度である
が、このようなエネルギー印加により分散性画像
形成材料層１８は実質的流動状態へと変化する。
この状態になつた時、材料がその表面張力のため
に分散する結果、層１８は光の通過できるオープ
ニング１８ａおよび変形した材料１８ｂからなる
不連続層へと変化し、これが前記エネルギー印加
後そのまま凍結される。連続階調性すなわちグレ
ースケール画像形成の場合、分散性画像形成材料
は、１８ｂで示されるようにほんの少ししか変形
せず従つて層１８中に生じたオープニング１８ａ
の占める領域もほんの僅かであり、オープニング
１８ａからの変形材料１８ｂのロールバツク量も
ほんの僅かに止まる。このフイルムの光透過性は
低いが、第１図、第５図および第６図における実
質的不透明な未分散フイルム１０，１２および１
４の光透過性よりは高くなつている。斯くして、
エネルギーを印加された部分のフイルムの光学濃
度は少し低下する。このようなフイルムにおいて
は、実質的不透明の変形材料１８ｂが占める領域
が極めて大きいのに対し、オープニング１８ｂの
領域は極めて小さい。 In FIG. 2, portion 26 of image mask 26
Since the optical density of b is lower than in FIG. . The intensity of the energy applied at this time is such that the energy absorbed by the layer 18 slightly exceeds the above-mentioned critical value, but the application of such energy causes the dispersible imaging material layer 18 to enter a substantially fluid state. and changes.
When this condition is reached, the layer 18 transforms into a discontinuous layer consisting of openings 18a through which light can pass and deformed material 18b as a result of the dispersion of the material due to its surface tension, which remains frozen after the energy application. be done. In the case of continuous tone or grayscale imaging, the dispersible imaging material deforms only slightly, as shown at 18b, and thus creates an opening 18a in layer 18.
The area occupied by the opening 18a is also very small, and the amount of rollback of the deformed material 18b from the opening 18a is also very small. Although this film has low light transmission, the substantially opaque undispersed films 10, 12 and 1 in FIGS. 1, 5 and 6
The light transmittance is higher than that of No. 4. Thus,
The optical density of the film in the area to which energy is applied decreases slightly. In such a film, the area occupied by the substantially opaque deformable material 18b is very large, whereas the area of the opening 18b is very small.
第３図においては、画像マスク２６の部分２６
ｃは、更に低い光学濃度を有し、それ故矢印で示
される様に、更に多量の輻射エネルギーが通過
し、分散性画像形成材料層１８に印加される。こ
こで印加エネルギーの強度は、材料層１８に吸収
されたエネルギーが前記の或る臨界値をかなり越
える程度までなつている。印加エネルギーの強度
が増加されたため、分散性画像形成材料は１８ｂ
で示される様により大きく変形し、材料層１８中
により大きな領域を占めるオープニング１８ａを
生じ、オープニング１８からの変形材料１８ｂの
ロールバツクの量もより大きくなる。画像形成材
料層の光透過性はそれ故増大し、その光学濃度は
より大きく減少する。 In FIG. 3, portion 26 of image mask 26
c has a lower optical density and therefore more radiant energy passes through and is applied to the dispersible imaging material layer 18, as shown by the arrow. The intensity of the applied energy is here such that the energy absorbed by the material layer 18 significantly exceeds a certain critical value mentioned above. Because the intensity of the applied energy was increased, the dispersible imaging material
The deformed material 18a deforms more greatly as shown in FIG. 1, resulting in an opening 18a occupying a larger area in the material layer 18, and the amount of rollback of the deformed material 18b from the opening 18 also becomes greater. The light transmission of the imaging material layer is therefore increased and its optical density is reduced to a greater extent.
第４図においては、画像マスク２６の部分２６
ｄは更にもつと低い光学濃度を有し、それ故矢印
で示される様に更に多量の輻射エネルギーが通過
し、画像形成材料層１８に印加される。ここで印
加エネルギーの強度は、材料層８に吸収されたエ
ネルギーが、前記した或る臨界値を更に大きく越
え実質的に最大値となる程度である。印加エネル
ギーの強度がこの様に更に大きく増加されたため
に、分散性画像形成材料は小空間を占める小球１
８ｃとなるまで更に大きく変形し、オープニング
１８ａは大きくなり小球間に実質的自由空間を生
じ、オープニング１８ａからの変形材料１８ｃの
ロールバツク量も更に大きくなる。画像形成材料
層の光透過性はそれ故最大限に増加し、その光学
濃度は最小限に減少する。 In FIG. 4, portion 26 of image mask 26
d also has a lower optical density, so more radiant energy passes through and is applied to the imaging material layer 18, as shown by the arrow. The intensity of the applied energy is such that the energy absorbed by the material layer 8 exceeds the above-mentioned certain critical value to a substantially maximum value. Because the intensity of the applied energy is thus further increased, the dispersible imaging material becomes a small sphere occupying a small space.
8c, the opening 18a becomes larger, creating a substantial free space between the globules, and the amount of rollback of the deformed material 18c from the opening 18a also becomes larger. The light transmission of the imaging material layer is therefore maximally increased and its optical density is minimally reduced.
第２図および第３図に示される中間段階を有す
る連続階調性即ちグレースケールの画像形成とは
異なり、高コントラストの画像形成では、オープ
ニング１８ａおよび変形材料１８ｃの形成に際
し、第４図に示される不連続層状態への画像形成
材料のロールバツクが実質上瞬間的かつ完全に生
起する。 Unlike continuous tone or gray scale imaging, which has intermediate steps as shown in FIGS. 2 and 3, high contrast imaging requires the formation of opening 18a and deformable material 18c as shown in FIG. Rollback of the imaging material into a discontinuous layer state occurs substantially instantaneously and completely.
第５図および第６図に例示されている画像形成
用フイルム１２および１４は、次のような点で第
１〜４図に示されている画像形成用フイルム１０
と異なる。すなわち、画像形成用フイルム１２で
は、分散性画像形成料層１８と表面改質物質層２
０との位置関係がフイルム１０の場合とは逆にな
つており、またフイルム１４では、画像形成材料
層１８の両面にそれぞれ表面改質物質層２０が隣
接して設けられている。 The image forming films 12 and 14 illustrated in FIGS. 5 and 6 are different from the image forming films 10 shown in FIGS. 1 to 4 in the following respects.
different from. That is, in the image forming film 12, the dispersible image forming material layer 18 and the surface modifying substance layer 2
0 is reversed from that of the film 10, and in the film 14, surface modifying substance layers 20 are provided adjacent to both sides of the image forming material layer 18, respectively.
本発明のフイルムの画像形成に使用されるエネ
ルギーとしては色々な形態のエネルギーを用いる
ことができる。例えば、ジユール熱エネルギーを
用いることができ、それは例えば直接的電気加熱
手段又は電気的に励起される加熱手段等を用いて
フイルムに印加し、フイルムに吸収させることが
できる。ある臨界値以上に印加されるジユール熱
エネルギーの強度は、前述したように、連続階調
性画像を形成するための不連続層への分散性画像
形成材料層の分散変化の量を決定する。加熱手段
としては、連続的にフイルム上を走査し且つその
強度が調節されるところの単一加熱点を用いるこ
とができ、あるいは強度調節された加熱点からな
る進行性マトリツクスを用いることもでき、かく
してフイルムに完全フオーマツト化画像（full
format image）が形成される。いずれの場合も
連続階調性画像が得られる。印加エネルギーはま
た干渉性（コヒレント）エネルギーであるレーザ
ービーム等の様な輻射エネルギーのビームでもよ
く、そのビームはフイルム上を連続的に走査し、
その強度は不連続層への分散変化の量を決定し連
続階調性即ちグレースケールの画像を形成すべく
調節される。 Various forms of energy can be used to image the film of the present invention. For example, thermal energy can be used, which can be applied to and absorbed by the film using, for example, direct electrical heating means or electrically excited heating means. The intensity of the Joule thermal energy applied above a certain critical value determines the amount of dispersion change of the dispersible imaging material layer into the discontinuous layer to form a continuous tone image, as discussed above. The heating means can be a single heating point which is continuously scanned over the film and whose intensity is adjusted, or a progressive matrix of heating points with adjusted intensity can be used. In this way, a fully formatted image (full
format image) is formed. In either case, a continuous tone image is obtained. The applied energy may also be a beam of radiant energy, such as a laser beam, that is coherent and that is continuously scanned across the film.
The intensity is adjusted to determine the amount of dispersion change into the discrete layer and to form a continuous tone or gray scale image.
印加エネルギーは、また例えばキセノンラン
プ、フラツシユバルブ等により生ずる非干渉性
（ノンコヒレント）輻射エネルギーでもよい。こ
のエネルギーは実質的に均一に；印加エネルギー
に対し連続的に異なつた透過性の部分を包含する
完全フオーマツト化連続階調性画像パターンを有
する画像マスクを通して；画像マスクの完全フオ
ーマツト化連続階調性パターンに対応し且つ或る
臨界値以上の印加エネルギーの強度が部分部分で
異なる完全フオーマツト化パターン状となるよう
に；実質的に不透明な分散性画像形成材料層へ印
加され；それによつて実質的な不透明な分散性画
像形成材料層に、印加エネルギーの完全フオーマ
ツト化連続階調性パターンに対応した不連続層か
らなる安定な完成した完全フオーマツト化画像パ
ターンを一時に形成するものである。この場合
は、エネルギーは、短いパルスの形で印加するの
が好ましい。 The applied energy may also be non-coherent radiant energy, such as produced by a xenon lamp, flash bulb, or the like. This energy is applied substantially uniformly; through an image mask having a fully formatted continuous tone image pattern containing portions of successively different transmissivity to the applied energy; fully formatted continuous tone of the image mask; is applied to the substantially opaque dispersible imaging material layer such that the intensity of the applied energy corresponding to the pattern and above a certain critical value is in a completely formatted pattern that differs from section to section; A stable completed fully formatted image pattern consisting of discontinuous layers corresponding to a fully formatted continuous tone pattern of applied energy is formed in a layer of opaque dispersible imaging material at once. In this case, the energy is preferably applied in the form of short pulses.
即に述べたように、本発明の主たる目的は、最
小限の印加エネルギーによつて高光学濃度の固体
連続層からなる画像形成用フイルムをより低い光
学濃度の不連続層からなる画像形成用フイルムへ
と変えることができるような高感度画像形成用フ
イルムを提供することにある。そこで、本発明の
画像形成用フイルムにおける予想外の超高感度に
ついて説明するために、本発明に従つて画像形成
用フイルムを製造し、これを前述の特開昭54−
46049号に記載されている高感度画像形成用フイ
ルムと比較してみることにする。いずれの場合に
も、分散性画像形成材料層は、ビスマスとスズと
からの厚さ約400Åの共蒸着層よりなるものであ
る。 As immediately mentioned, it is a principal object of the present invention to transform an imaging film consisting of a solid continuous layer of high optical density into an imaging film consisting of a discontinuous layer of lower optical density with a minimum of applied energy. It is an object of the present invention to provide a high-sensitivity image forming film that can be changed to Therefore, in order to explain the unexpected ultra-high sensitivity of the image forming film of the present invention, an image forming film was manufactured according to the present invention, and this was used in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No.
Let's compare it with the high-sensitivity image forming film described in No. 46049. In each case, the layer of dispersible imaging material consists of a co-deposited layer of bismuth and tin about 400 Å thick.
前記特開昭に記載のフイルムには、酸化ゲルマ
ニウムからなる厚さ約150Åの透明不動態化層が、
分散性画像形成材料層の内側すなわち基板側と外
側すなわち最外保護層側のどちらにも、それぞれ
分散性画像形成材料層と接して設けられている。
分散性画像形成材料層および不動態化層は、厚さ
約127ミクロン（約５ミル）の透明なポリエステ
ル基板上に支持されている。そして、上側すなわ
ち外側の不動態化層の上にポリウレタンからなる
厚さ約5000Åの透明な最外保護層が設けられた形
になつている。このフイルムの最大光学濃度
（ODmax）は約1.6、しきいエネルギー値（Eth）
は約0.15J／cm2、最小光学濃度（ODmin）は約
0.18、および最大印加エネルギー値（Emax）は
約0.6J／cm2であつた。 The film described in JP-A-Sho has a transparent passivation layer of about 150 Å thick made of germanium oxide.
They are provided on both the inner side, that is, the substrate side, and the outer side, that is, the outermost protective layer side of the dispersible image forming material layer, in contact with the dispersible image forming material layer.
The dispersible imaging material layer and passivation layer are supported on a transparent polyester substrate about 127 microns (about 5 mils) thick. A transparent outermost protective layer of polyurethane having a thickness of approximately 5000 Å is provided on the upper or outer passivation layer. The maximum optical density (ODmax) of this film is approximately 1.6, the threshold energy value (Eth)
is approximately 0.15J/cm 2 , and the minimum optical density (ODmin) is approximately
0.18, and the maximum applied energy value (Emax) was approximately 0.6 J/cm 2 .
本発明の画像形成用フイルムが前記特開昭に記
載のフイルムと異なつている点は、ビスマス−ス
ズからなる分散性画像形成材料層とこの上側すな
わち最外保護層側に設けられているGeO2不動態
化層との間に、四フツ化炭素の重合体からなる厚
さ約150Åの透明層を介在させてあるということ
であり、その他のフイルム構成は前記特開昭に記
載のフイルムと全く同じにしてある。このフイル
ムにおける画像形成前の最大光学濃度
（ODmax）は約1.6、しきいエネルギー値（Eth）
は約0.002J／cm2、最小光学濃度（ODmin）は約
0.20、および最大印加エネルギー値（Emax）は
約0.008J／cm2であつた。 The image-forming film of the present invention is different from the film described in JP-A-Sho, in that it has a dispersible image-forming material layer made of bismuth-tin and a GeO 2 layer provided above the layer, that is, on the outermost protective layer side. A transparent layer of about 150 Å thick made of carbon tetrafluoride polymer is interposed between the passivation layer and the other film structure is completely different from that of the film described in JP-A-Sho. It's the same. The maximum optical density (ODmax) of this film before image formation is approximately 1.6, and the threshold energy value (Eth)
is approximately 0.002J/cm 2 , and the minimum optical density (ODmin) is approximately
0.20, and the maximum applied energy value (Emax) was about 0.008 J/cm 2 .
以上のことから明らかなように、本発明におけ
る画像形成用フイルムの分散性画像形成層を分散
すなわちロールバツクさせるに必要なエネルギー
は、フイルム自体が高感度を有するという特徴を
持つている特開昭54−46049号に記載のフイルム
の場合に比べ、その1/75程度ですむということが
判る。 As is clear from the above, the energy required to disperse or roll back the dispersible image forming layer of the image forming film of the present invention is due to the fact that the film itself is characterized by high sensitivity. It can be seen that the amount required is about 1/75 compared to the case of the film described in No.-46049.
以上、本発明の種々の態様を示して本発明を説
明したが、本発明はこれらに限定されることな
く、特許請求の範囲に包含されるその他の態様を
も広く含むことは本願明細書の記載に微して明ら
かであろう。 Although the present invention has been described above by showing various aspects of the present invention, it is understood from the specification of the present application that the present invention is not limited to these and broadly includes other aspects that fall within the scope of the claims. It should be clear from the description.
本発明の乾式像形成フイルムでは、
分散像形成層の材料が大気中の酸素によつて酸
化されるのを防ぐべく分散像形成材料層の少なく
とも一方の側に隣接して配置された少なくとも一
つの不動態化層が設けられている故に、分散像形
成層の感度等が経時変化又は低下する虞れが少な
く、且つ
分散像形成材料層のある部分において該層の分
散像形成材料が流動状態に変化せしめられた際、
該層が該ある部分において連続的不透明層状態か
らより光透過性の分散した不連続層状態に変化さ
れ得るように、前記分散像形成材料層の少なくと
も一方の側と接するように配置された少なくとも
一つの表面改質物質層が設けられている故に、分
散像形成像の像形成感度及び形成される像の解像
度等が比較的高められ得るのは勿論のこと、
特に、不動態化層が、金属元素又は半導体元素
の酸化物又はハロゲン化物を含む組成物からなる
が故に、分散像形成層の材料の酸化の虞れが低下
せしめられ得、
就中、表面改質物質層が、金属元素又は半導体
元素の酸化物又はハロゲン化物を含む組成物から
なる前記不動態化層材料よりも分散像形成材料に
対してぬれにくい、重合性の有機又は有機類似気
体状材料からの堆積によつて形成された重合体か
らなるが故に、
分散像形成材料層のある部分において該層の分
散像形成材料が流動状態に変化せしめられた際、
該層が該ある部分において連続的不透明層状態か
らより光透過性の分散した不連続層状態に変化さ
れ得る感度がより高められる。 The dry imaging film of the present invention includes at least one layer of dispersed imaging material disposed adjacent to at least one side of the layer of dispersed imaging material to prevent the material of the dispersed imaging layer from being oxidized by oxygen in the atmosphere. Since the passivation layer is provided, there is little risk that the sensitivity etc. of the dispersed image forming layer will change or decrease over time, and the dispersed image forming material in the layer will be in a fluid state in a certain part of the dispersed image forming material layer. When forced to change,
at least one layer disposed in contact with at least one side of the layer of dispersed imaging material, such that the layer can be changed from a continuous opaque layer state to a more optically transparent dispersed discontinuous layer state in some portions. Since one surface-modifying material layer is provided, it goes without saying that the imaging sensitivity of the dispersed image and the resolution of the formed image can be relatively improved. In particular, the passivation layer is Since it is composed of a composition containing an oxide or halide of a metal element or a semiconductor element, the risk of oxidation of the material of the dispersed image forming layer can be reduced. The passivation layer is formed by deposition of a polymerizable organic or organic-like gaseous material that is less wettable to the dispersed imaging material than the passivation layer material, which is composed of a composition containing an oxide or halide of a semiconductor element. When the dispersed image-forming material of the dispersed image-forming material layer is changed into a fluid state in a certain part of the dispersed image-forming material layer,
The sensitivity with which the layer can be changed from a continuous opaque layer state to a more light-transparent dispersed discontinuous layer state in the certain portions is enhanced.
第１図は、本発明の高感度画像形成用フイルム
の一例を示す模式化拡大断面図で、画像形成前の
ものを示す。第２図は、第１図と同様のフイルム
に一定臨界値以上の比較的低いエネルギーを印加
することにより画像形成された状態のフイルムを
示す模式化拡大断面図であり、このフイルムは比
較的高い光学濃度を有し、フイルム上には連続階
調性すなわちグレースケールの画像が形成された
状態を示す。第３図は、第２図と同様の断面図
で、第２図の場合よりも高いエネルギーの印加に
よつて連続階調性すなわちグレースケールの画像
が形成された状態のフイルムを示す。第４図は、
第２図および第３図と同様の断面図で、更に高い
エネルギーの印加によつて高コントラスト画像が
第１図のフイルム上に形成された状態を示す。第
５図は、本発明における高感度画像形成用フイル
ムの他の具体例の模式化拡大断面図であり、分散
性画像形成材料層に隣接する表面改質物質層が第
１図、第２図および第３図の場合とは反対側に設
けられている例を示す。第６図は、分散性画像形
成材料層の両側に表面改質物質層をそれぞれ設け
てなる高感度画像形成用フイルムの例を示す模式
化拡大断面図である。第７図は、画像形成用フイ
ルムを連続巻取方式により製造するための装置の
概略図である。第８図は、第７図の装置における
グロー放電蒸着ステーシヨンの拡大概要図であ
る。
１０，１２および１４……画像形成用フイル
ム、１６……基板、１８……分散性画像形成材料
層、１８ａ……オープニング、１８ｂおよび１８
ｃ……変形材料、２０……表面改質物質層、２２
……不動態化層、２４……最外保護層。
FIG. 1 is a schematic enlarged sectional view showing an example of the high-sensitivity image forming film of the present invention, before image formation. FIG. 2 is a schematic enlarged cross-sectional view showing a film similar to that shown in FIG. 1 in which an image has been formed by applying relatively low energy above a certain critical value to the film; It has an optical density and shows a state in which a continuous tone, ie, gray scale, image is formed on the film. FIG. 3 is a cross-sectional view similar to FIG. 2, showing the film with a continuous tone or gray scale image formed by application of higher energy than in FIG. Figure 4 shows
A cross-sectional view similar to FIGS. 2 and 3, showing a high contrast image formed on the film of FIG. 1 by application of higher energy. FIG. 5 is a schematic enlarged sectional view of another specific example of the high-sensitivity image forming film according to the present invention, in which the surface modifying substance layer adjacent to the dispersible image forming material layer is as shown in FIGS. 1 and 2. And an example is shown in which it is provided on the opposite side from the case in FIG. FIG. 6 is a schematic enlarged cross-sectional view showing an example of a high-sensitivity image-forming film in which a surface-modifying material layer is provided on both sides of a dispersible image-forming material layer. FIG. 7 is a schematic diagram of an apparatus for manufacturing an image forming film by a continuous winding method. FIG. 8 is an enlarged schematic diagram of the glow discharge deposition station in the apparatus of FIG. 7. 10, 12 and 14... Image forming film, 16... Substrate, 18... Dispersible image forming material layer, 18a... Opening, 18b and 18
c...Deformable material, 20...Surface modification material layer, 22
... Passivation layer, 24 ... Outermost protective layer.
Claims (1)
態に変化せしめられる材料からなる実質的に連続
で不透明な分散像形成層と、 金属元素又は半導体元素の酸化物又はハロゲン
化物を含む組成物からなり、分散像形成層の材料
が大気中の酸素によつて酸化されるものを防ぐべ
く分散像形成材料層の少なくとも一方の側に隣接
して配置された少なくとも一つの不動態化層と、 分散像形成材料層のある部分において該層の分
散像形成材料が流動状態に変化せしめられた際、
該層が該ある部分において連続的不透明層状態か
らより光透過性の分散した不連続層状態に変化さ
れ得るように、流動状態の分散像形成材料に対し
て前記不動態化層の材料よりもねれにくい、重合
性の有機又は有機類似気体状材料からの堆積によ
つて形成された重合体からなり、前記分散像形成
材料層の少なくとも一方の側と接するように配置
された少なくとも一つの表面改質物質層と を有する高感度乾式像形成フイルム。 ２ 一つの不動態化層が分散像形成材料層の前記
表面改質物質層に接している側とは逆側の面に接
するように配置されている特許請求の範囲第１項
に記載のフイルム。 ３ 前記表面改質物質層が、前記分散像形成材料
層の前記一方の側と接するように、該分散像形成
材料層と前記不動態化層との間に配置されている
特許請求の範囲第１項又は第２項に記載のフイル
ム。 ４ 前記不動態化層、前記分散像形成材料層及び
前記表面改質物質層が基板上に支持されている特
許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれかに記載
のフイルム。 ５ 分散像形成材料層及び表面改質物質層を保護
するために透明な外側保護重合体層が設けられて
いる特許請求の範囲第４項に記載のフイルム。 ６ 不動態化層が二つあり、一方の不動態化層が
可撓性の基板と接しており、他方の不動態化層が
可撓性の外側保護層と接している特許請求の範囲
第５項に記載のフイルム。 ７ 表面改質物質層が分散像形成材料層の両側に
設けられている特許請求の範囲第１項乃至第５項
のいずれかに記載のフイルム。 ８ 各表面改質物質層が分散像形成材料層の対向
面上に配設されており、不動態化層が各表面改質
物質層の分散像形成材料層と接していない側の面
上に設けられている特許請求の範囲第１項乃至第
５項のいずれかに記載のフイルム。 ９ 不動態化層が二つあり、二つの不動態化層が
夫々異なる材料で形成されている特許請求の範囲
第１項乃至第８項のいずれかに記載のフイルム。 １０ 表面改質物質層が二つあり、この二つの表
面改質物質層が異なる重合体物質で形成されてい
る特許請求の範囲第１項乃至第９項のいずれかに
記載のフイルム。 １１ 分散像形成材料層以外のすべての層が透明
で、非透過性で且つ可撓性である特許請求の範囲
第１項乃至第１０項のいずれかに記載のフイル
ム。 １２ 表面改質物質層の厚さが少なくとも単分子
の厚さである特許請求の範囲第１項乃至第１１項
のいずれかに記載のフイルム。 １３ 表面改質物質層が透明で且つ可撓性である
特許請求の範囲第１項乃至第１０項及び第１２項
のいずれかに記載のフイルム。 １４ 表面改質物質層用の重合性材料がフツ素化
炭化水素を含む特許請求の範囲第１項乃至第１３
項のいずれかに記載のフイルム。 １５ 表面改質層の重合体が四フツ化炭素の重合
体を含む特許請求の範囲第１４項に記載のフイル
ム。 １６ 前記表面改質層の重合体がエテンを気相堆
積させてなる重合体からなる特許請求の範囲第１
項乃至第１３項のいずれかに記載のフイルム。 １７ 前記表面改質物質層がグロー放電堆積によ
つて形成されている特許請求の範囲第１項乃至第
１３項のいずれかに記載のフイルム。 １８ 前記不動態化層が透明である特許請求の範
囲第１項乃至第１０項、及び第１２項乃至第１７
項のいずれかに記載のフイルム。 １９ 前記不動態化層が第族金属の酸化物の非
晶質体からなる特許請求の範囲第１項乃至第１７
項のいずれかに記載のフイルム。 ２０ 前記酸化物が酸化ゲルマニウムである特許
請求の範囲第１９項に記載のフイルム。 ２１ 前記不動態化材料層が真空蒸着によつて形
成されている特許請求の範囲第１項乃至第２０項
のいずれかに記載のフイルム。 ２２ 前記分散像形成材料が真空蒸着によつて形
成されている特許請求の範囲第１項乃至第２１項
のいずれかに記載のフイルム。 ２３ 前記分散像形成材料がビスマス又はその合
金からなる特許請求の範囲第１項乃至第２２項の
いずれかに記載のフイルム。 ２４ 分散像形成材料の前記層は、比較的高い融
点を有しており且つ比較的低融点の共晶をつくる
異種の実質的に相互に不溶な成分からなる複数の
別個の層と、この層間において比較的低融点を有
する界面部とからなり、 分散像形成材料の前記層は、更に、ある臨界値
よりも大きいエネルギが与えられた際該分散像形
成材料での吸収エネルギが十分に増大して前記界
面部の前記の比較的低融点に関連したある臨界温
度値をこえて、実質的に流動状態に変化せしめら
れ得、この流動状態では分散像形成材料の表面張
力のために実質的に不透明の層が前記エネルギに
さらされた部分において分散せしめられて開口部
と変形された材料部とを含む不連続層に変化せし
められ、前記エネルギ付与後前記開口部と変形材
料部とがそのまゝの位置に凍結され、該開口部を
光が通過し得ることによつてこの部分の光学濃度
が減少せしめられる特許請求の範囲第１項乃至第
２２項のいずれかに記載のフイルム。 ２５ 前記層間の前記界面部は、該界面部が低融
点であるように前記別個の成分の共晶混合物の層
を含んでいる特許請求の範囲第２４項に記載のフ
イルム。 ２６ 前記分散像形成材料を構成する複数の別個
の層をなす夫々の成分のしめる原子量パーセント
は、該成分からなる共晶における原子量パーセン
トに実質的に対応している特許請求の範囲第２４
項に記載のフイルム。 ２７ 前記分散像形成材料を構成する別個の層を
なす夫々の成分のしめる原子量パーセントは、該
成分からなる共晶における原子量パーセントと実
質的に異なる特許請求の範囲第２４項に記載のフ
イルム。 ２８ 前記分散像形成材料層は、実質的に相互に
不溶であり且つ異種の成分からなる別個の層の組
を複数有しており、前記層の組の間には、エネル
ギが与えられた際分散像形成材料層が実質的に流
動状態に変化せしめられる場合に固体状態を維持
し得る固体材料の層が介在せしめられている特許
請求の範囲第１項乃至第２２項のいずれかに記載
のフイルム。 ２９ 基板が可撓性のポリエステルシート材料で
形成されている特許請求の範囲第１項乃至第２８
項のいずれかに記載のフイルム。[Scope of Claims] 1. A substantially continuous, opaque, dispersed imaging layer consisting of a material that is transformed into a fluid state when heated to a temperature above a given temperature, and an oxide of a metallic or semiconducting element or at least one composition comprising a halide-containing composition and disposed adjacent to at least one side of the dispersed imaging material layer to prevent the material of the dispersed imaging layer from being oxidized by atmospheric oxygen. a passivating layer and a portion of the dispersed imaging material layer when the dispersed imaging material of the layer is changed to a fluid state;
relative to the material of the passivation layer for the dispersed imaging material in the fluid state so that the layer can be changed from a continuous opaque layer state to a more optically transparent dispersed discontinuous layer state in the certain portions. at least one surface comprising a polymer formed by deposition from a kink-resistant, polymerizable organic or organic-like gaseous material and disposed in contact with at least one side of the layer of dispersed imaging material; A highly sensitive dry imaging film having a modifying material layer. 2. The film according to claim 1, wherein one passivation layer is disposed in contact with a side of the dispersed imaging material layer opposite to the side that is in contact with the surface modifying substance layer. . 3. The surface-modifying material layer is disposed between the dispersed imaging material layer and the passivation layer so as to be in contact with the one side of the dispersed imaging material layer. The film according to item 1 or 2. 4. A film according to any one of claims 1 to 3, wherein the passivation layer, the dispersed imaging material layer and the surface modification material layer are supported on a substrate. 5. The film according to claim 4, wherein a transparent outer protective polymer layer is provided to protect the dispersed image forming material layer and the surface modifying material layer. 6 There are two passivation layers, one passivation layer in contact with the flexible substrate and the other passivation layer in contact with the flexible outer protective layer. The film according to item 5. 7. The film according to any one of claims 1 to 5, wherein the surface modifying substance layer is provided on both sides of the dispersed image forming material layer. 8 Each surface-modifying material layer is disposed on the opposite surface of the dispersed imaging material layer, and a passivating layer is disposed on the surface of each surface-modifying material layer on the side not in contact with the dispersed imaging material layer. A film according to any one of claims 1 to 5 provided herein. 9. The film according to any one of claims 1 to 8, wherein there are two passivation layers, and the two passivation layers are each made of a different material. 10. The film according to any one of claims 1 to 9, wherein there are two surface modifying material layers, and the two surface modifying material layers are formed of different polymer materials. 11. The film according to any one of claims 1 to 10, wherein all layers other than the dispersed image forming material layer are transparent, non-transparent and flexible. 12. The film according to any one of claims 1 to 11, wherein the surface modifying substance layer has a thickness of at least one molecule. 13. The film according to any one of claims 1 to 10 and 12, wherein the surface modifying substance layer is transparent and flexible. 14 Claims 1 to 13 in which the polymerizable material for the surface modification material layer contains a fluorinated hydrocarbon
The film described in any of the above. 15. The film according to claim 14, wherein the polymer of the surface modification layer contains a carbon tetrafluoride polymer. 16 Claim 1, wherein the polymer of the surface modification layer is a polymer formed by vapor-depositing ethene.
14. The film according to any one of items 1 to 13. 17. The film according to any one of claims 1 to 13, wherein the surface-modifying material layer is formed by glow discharge deposition. 18 Claims 1 to 10 and 12 to 17, wherein the passivation layer is transparent.
The film described in any of the above. 19 Claims 1 to 17, wherein the passivation layer is made of an amorphous substance of an oxide of a group metal.
The film described in any of the above. 20. The film according to claim 19, wherein the oxide is germanium oxide. 21. The film according to any one of claims 1 to 20, wherein the passivating material layer is formed by vacuum deposition. 22. The film according to any one of claims 1 to 21, wherein the dispersed image forming material is formed by vacuum deposition. 23. The film according to any one of claims 1 to 22, wherein the dispersed image forming material is made of bismuth or an alloy thereof. 24. Said layer of dispersed imaging material has a relatively high melting point and comprises a plurality of separate layers of dissimilar substantially mutually insoluble components forming a relatively low melting point eutectic, and a plurality of separate layers between the layers. and an interfacial region having a relatively low melting point in the dispersed imaging material, and the layer of the dispersed imaging material further has a structure in which the absorbed energy in the dispersed imaging material is sufficiently increased when energy is applied above a certain critical value. Above a certain critical temperature value associated with the relatively low melting point of the interfacial region, the fluid state can be changed to a substantially fluid state in which the surface tension of the dispersed imaging material substantially The opaque layer is dispersed in the area exposed to the energy to transform it into a discontinuous layer containing an aperture and a deformed material, and after application of the energy the aperture and the deformed material remain intact. 23. A film according to any one of claims 1 to 22, wherein the film is frozen in a position such that light can pass through the aperture, thereby reducing the optical density of this portion. 25. The film of claim 24, wherein the interface between the layers includes a layer of a eutectic mixture of the separate components such that the interface has a low melting point. 26. Claim 24, wherein the percent atomic weight of each of the components of the plurality of separate layers constituting the dispersed imaging material substantially corresponds to the percent atomic weight of the eutectic of the component.
Films listed in section. 27. The film of claim 24, wherein the percent atomic weight of each component in the separate layers constituting the dispersed imaging material is substantially different from the percent atomic weight in the eutectic of the component. 28. The layer of dispersed imaging material has a plurality of distinct sets of layers that are substantially mutually insoluble and of dissimilar components, and that when energized there is a 23. A method according to any one of claims 1 to 22, wherein there is interposed a layer of solid material capable of remaining in a solid state when the layer of dispersed imaging material is changed into a substantially fluid state. film. 29 Claims 1 to 28, wherein the substrate is formed of a flexible polyester sheet material.
The film described in any of the above.
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