DE2935859A1 - OPTICAL RECORDING PART - Google Patents
OPTICAL RECORDING PARTInfo
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Description
DR. BriRG DIPI, -ING. STaPF DIPL-ING. GCHWABE DR. DR. SANDMAIRDR. BriRG DIPI, -ING. STaPF DIPL-ING. GCHWABE DR. DR. SANDMAIR
-3--3-
Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Kadoma-shi, Osaka-fu / JapanMatsushita Electric Industrial Co., Ltd. Kadoma-shi, Osaka-fu / Japan
Optisches AufzeichnungsteilOptical recording part
VII/XX/LaVII / XX / La
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N η 74 TELEX: Bayet Vereinsbank Manchen 453100 (BLZ 700 202 70)N η 74 TELEX: Bayet Vereinsbank Manchen 453100 (BLZ 700 202 70)
MMl 0524560 BERG dp 1J " Π 1 ? / Π 8 1 3 Potocheck Manchen 65343-W« (BLZ 7ODI0OM» MMl 0524560 BERG dp 1 J "Π 1? / Π 8 1 3 Potocheck Manchen 65343-W« (BLZ 7ODI0OM »
Anwaltsakte: 30 370Attorney's file: 30,370
Beschreibungdescription
Die Erfindung betrifft ein optisches Aufzeichnungsteil gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.The invention relates to an optical recording part according to the preamble of claim 1.
Es sind bereits verschiedene optische Aufzeichnungssysteme zum Aufzeichnen von zeitlich aufeinanderfolgenden Tonfrequenz- und Videosignalen durch Abtasten eines sehr feinen Laserstrahles vorgeschlagen worden. Die in diesen Systemen verwendeten, photoempfindlichen Aufzeichnungsplatten können in Platten aus Silbersalz und solche aus amorphen Oxiden unterteilt werden. Bei den Silbersalz-Platten führt die Belichtung mit dem Laserstrahl zu chemischen Reaktionen der Silbersalze. Bei den Platten aus amorphen Oxiden steigt die Stelle einer dünnen Schicht aus amorphen Oxiden, die dem Laserstrahl ausgesetzt worden ist, augenblicklich auf hohe Temperaturen, was zu chemischen Umwandlungen, beispielsweise zu Änderungen des Brechungsindex oder des Durchlässigkeitskoeffizienten der belichteten Stelle führt.There are already various optical recording systems for recording audio frequency and video signals successive in time by scanning a very fine one Laser beam has been proposed. The photosensitive recording disks used in these systems can can be divided into plates made of silver salt and those made of amorphous oxides. In the case of the silver salt plates, the exposure leads with the laser beam to chemical reactions of the silver salts. In the case of the plates made of amorphous oxides, this increases Instantly raise a thin layer of amorphous oxides that has been exposed to the laser beam Temperatures, leading to chemical conversions, for example changes in the refractive index or the permeability coefficient the exposed area leads.
Die Silbersalz-Platten haben den Nachteil, daß sie nach einer Belichtung einem Entwicklungsverfahren unterzogen werden müssen, was verhältnismäßig lange Zeit in Anspruch nimmt, soThe silver salt plates have the disadvantage that they are subjected to a development process after exposure have to, which takes a relatively long time, so
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daß eine unmittelbare Wiedergabe nicht möglich ist. Bei den Scheiben aus amorphen Oxiden muß die Unterlage, welche eine amorphe Oxidschicht trägt , aus optisch transparenten Kunstharzen oder -stoffen hergestellt sein. Diese Kunstharze oder -stoffe haben jedoch im allgemeinen eine hohe spezifische Wärmeleitfähigkeit, so daß die in der amorphen Oxidschicht erzeugte Wärme sich schnell durch die Kunststoffunterlage ausbreiten kann und folglich der thermische Wirkungsgrad sehr niedrig ist.that an immediate reproduction is not possible. In the case of discs made of amorphous oxides, the base must be, which is a wearing amorphous oxide layer, be made of optically transparent synthetic resins or materials. These synthetic resins or However, substances generally have a high specific thermal conductivity, so that those in the amorphous oxide layer The heat generated can spread quickly through the plastic base and consequently the thermal efficiency is very low.
Mit der Erfindung sollen die vorstehend angeführten Schwierigkeiten bei den herkömmlichen optischen Aufzeichnungsplatten aus amorphen Oxiden überwunden werden, und gemäß der Erfindung soll ein optisches Aufzeichnungsteil geschaffen werden, in welchem die übertragung oder Zerstreuung der in der dünnen optischen Aufzeichnungsschicht aus amorphen Oxiden erzeugte Wärme zu der Kunstharz- oder Kunststoffunterlage erheblich verzögert werden kann.The invention addresses the difficulties outlined above in the conventional amorphous oxide optical recording disks, and according to the invention an optical recording part is to be created, in which the transmission or dispersion of the in the thin optical recording layer made of amorphous oxides generated heat to the synthetic resin or plastic substrate can be significantly delayed.
Gemäß der Erfindung ist daher ein optisches Aufzeichnungsteil geschaffen, bei welchem eine dünne transparente Wärmeisolierschicht zwischen der optischen Aufzeichnungsschicht und der Kunstharz- bzw. Kunststoffunterlage angeordnet ist, wobei die dünne Wärmeisolierschicht aus Polystyrolkunstharzen oder Fluorkunstharzen besteht und durch Beschichten oder Aufdampfen im Vakuum gebildet ist.According to the invention, therefore, is an optical recording part in which a thin transparent thermal insulating layer is provided between the optical recording layer and the synthetic resin sheet is arranged, wherein the thin heat insulating layer is made of polystyrene synthetic resins or fluorine resins and is formed by coating or vapor deposition in a vacuum.
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Gemäß der Erfindung ist somit ein optisches Aufzeichnungsteil aus einer optischen Aufzeichnungsschicht aus amorphen Oxiden, einer Kunstharzunterlage und einer dünnen transparenten Wärmeisolierschicht geschaffen, die zwischen der optischen Aufzeichnungsschicht und der Kunststoffunterlage angeordnet ist. Hierdurch ist ein optisches Aufzeichnungsteil geschaffen, bei dem Information mit einer sehr hohen Schreibdichte erhalten werden kann und Information mit einem Laserstrahl geringer Intensität aufgezeichnet werden kann.According to the invention there is thus an optical recording part from an optical recording layer made of amorphous Oxides, a synthetic resin base and a thin transparent thermal insulation layer created between the optical Recording layer and the plastic substrate is arranged. This is an optical recording part in which information with a very high writing density can be obtained and information with a laser beam low intensity can be recorded.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die anliegenden Zeichnungen im einzelnen erläutert. Es zeigen:The invention is described below on the basis of preferred exemplary embodiments explained in detail with reference to the accompanying drawings. Show it:
Fig.1 eine perspektivische Ansicht einer herkömmFig.1 is a perspective view of a conventional
lichen optischen Aufzeichnungsplatte aus amorphen Oxiden;amorphous oxide optical recording disc;
Fig.2 bis 5 perspektivische Ansichten einer ersten bis2 to 5 perspective views of a first to
vierten Ausfuhrungsform gemäß der Erfindung; undfourth embodiment according to the invention; and
Fig.6 und 7 Kurven, in welchen die Beziehung zwischenFigures 6 and 7 are graphs showing the relationship between
der Aufzeichnungsempfindlichkeit und der Dicke von dünnen Wärmeisolierschichten der optischen Aufzeichnungsteile gemäß der Erfindung gezeigt ist.the recording sensitivity and the Thickness of thin thermal insulating layers of the optical recording parts according to the invention is shown.
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In den Figuren sind mit denselben Bezugszeichen die gleichen oder entsprechende Teile bezeichnet.In the figures, the same or corresponding parts are denoted by the same reference symbols.
In Fig.1 ist schematisch eine herkömmliche optische Aufzeichnungs- und Wiedergabeeinrichtung dargestellt, die eine Platte 3 und einen Lichtfühler 5 aufweist. Die Platte 3 weist eine Kunstharz- bzw. Kunststoffunterlage 1 und eine dünne amorphe Oxidschicht 2 für eine optische Aufzeichnung auf, die auf der Unterlage 1 aufgebracht oder auf andere Weise ausgebildet ist.In Fig. 1 is schematically a conventional optical recording and display device is shown, which has a plate 3 and a light sensor 5. The plate 3 has a synthetic resin or plastic base 1 and a thin one amorphous oxide layer 2 for an optical recording, which is applied to the substrate 1 or in some other way is trained.
Bei einer Aufzeichnung wird die Platte 3 gedreht und ein sehr feiner Laserstrahl 4, welcher moduliert ist, tastet die dünne Schicht 2 ab, so daß es durch die Wärme von dem Laserstrahl 4 zu Umwandlungen in der dünnen Schicht kommt. Das heißt, die dünne Schicht 2 wird bezüglich des Brechungsindex oder des Absorptionskoeffizienten in einer Form bzw. einem Muster verändert, welche(s) einer aufzuzeichnenden Information entspricht.When recording, the disk 3 is rotated and a very fine laser beam 4, which is modulated, is scanned removes the thin layer 2 so that the heat from the laser beam 4 causes transformations in the thin layer. That is, the thin layer 2 is formed in terms of the refractive index or the absorption coefficient in a shape or form. a pattern changes which one (s) to be recorded Information corresponds.
Bei der Wiedergabe tastet der Laserstrahl 4, welcher nicht moduliert ist, die dünne Schicht 2 ab, und der Strahl, welcher beispielsweise durch die Scheibe 3 hindurchgegangen ist, wird mittels des Lichtfühlers 5 gefühlt.When reproducing, the laser beam 4, which is not modulated, scans the thin layer 2, and the beam which is has passed through the pane 3, for example, is sensed by means of the light sensor 5.
Von den Materialien der Unterlage 1 wird gefordert, daß sie eine Transparenz bzw. Lichtdurchlässigkeit, eine hohe mecha-The materials of the base 1 are required to have a transparency or light permeability, a high mechanical
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nische Festigkeit und Verformbarkeit aufweisen. Infolgedessen werden im allgemeinen Akryl-, Vinylchlorid- und Polyesterkunstharze verwendet. Wie in Tabelle 1 dargestellt, weisen diese Kunstharze jedoch hohe spezifische Wärmeleitfähigkeiten auf, so daß die in der dünnen Schicht 2 erzeugte Wärme sich schnell über die Unterlage 1 ausbreitet, was zu einem niedrigen thermischen Wirkungsgrad führt.have niche strength and ductility. As a result, acrylic, vinyl chloride and polyester resins are generally used used. However, as shown in Table 1, these synthetic resins have high specific thermal conductivities on, so that the heat generated in the thin layer 2 spreads rapidly over the base 1, which leads to leads to a low thermal efficiency.
In Fig.2 ist eine erste Ausführungsform einer optischen Aufzeichnungsscheibe gemäß der Erfindung dargestellt, welche eine transparente bzw. lichtdurchlässige Kunststoffunterlage 1, eine dünne amorphe Oxidschicht 2 für eine optische Aufzeichnung und Wiedergabe sowie eine dünne, transparente Wärmeisolierschicht aufweist, die zwischen der Unterlage 1 und der Aufzeichnungsschicht 2 angeordnet ist.In Fig. 2 is a first embodiment of an optical recording disc shown according to the invention, which a transparent or translucent plastic base 1, an amorphous oxide thin film 2 for optical recording and reproduction as well as a thin, transparent heat insulating layer, which is between the base 1 and the recording layer 2 is arranged.
Die Unterlage 1 ist aus Akryl-, Vinylchlorid- und Polyesterkunstharzen hergestellt. Die dünne Wärmeisolierschicht 6 ist aus Kunstharzen oder Kunststoffen mit einer spezifischen Wärmeleitfähigkeit hergestellt, die niedriger als die der Kunstharzunterlage 1 ist. Diese Kunstharze sind beispielsweise Polychlortrifluoräthylen und Copolymere von 4-Fluoräthylen und 6-Fluorpropylen und Polyäthylen, wie in Tabelle 1 aufgeführt ist.The base 1 is made of acrylic, vinyl chloride and polyester synthetic resins manufactured. The thin heat insulating layer 6 is made of synthetic resins or plastics with a specific thermal conductivity which is lower than that of the resin base 1. These synthetic resins are, for example Polychlorotrifluoroethylene and copolymers of 4-fluoroethylene and 6-fluoropropylene and polyethylene as listed in Table 1 is.
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Tabelle 1Table 1
fähigkeit
10 cal/s, 0C, cm3 specific thermal conductivity
capability
10 cal / s, 0 C, cm 3
und 6-FluorpropylenCopolymers of 7-fluoroethylene
and 6-fluoropropylene
Ein Hauptmerkmal der Erfindung beruht auf der Tatsache, daß die dünne Wärmeisolierschicht 6 zwischen der Kunstharzunterlage 1 und der dünnen optischen Aufzeichnungsschicht 2 angeordnet ist. Bei der zweiten^in Fig.3 dargestellten Ausführungsform ist eine zusätzliche dünne Wärmeisolierschicht 6' auf der dünnen optischen Aufzeichnungsschicht 2 angeordnet, und eine Schutzschicht 7, welche transparent und aus Kunstharzen bzw. -stoffen hergestellt ist, ist auf der zusätzlichen dünnen Wärmeisolierschicht 6' angeordnet.A main feature of the invention is based on the fact that the thin heat insulating layer 6 is between the synthetic resin base 1 and the optical recording thin layer 2 is arranged. In the second embodiment shown in FIG an additional thin heat insulating layer 6 'is arranged on the thin optical recording layer 2, and a protective layer 7 which is transparent and made of synthetic resins is on the additional thin heat insulating layer 6 'arranged.
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293S859293S859
In Fig.4 ist die dritte Ausführungsform dargestellt, welche eine reflektierende Ausführungsform ist. Eine Platte weist eine Kunstharzunterlage 1, eine erste dünne Wärmeisolierschicht 6, eine dünne optische Aufzeichnungsschicht 2, eine zweite dünne Wärmeisolierschicht 6a und eine reflektierende Schicht 8 auf, welche alle in der angegebenen Reihenfolge aufeinandergeschichtet sind. Die unterste reflektierende Schicht 8 ist aus Aluminium hergestellt, so daß der Laserstrahl 4 ,wie durch den Strahl 9 angezeigt ist, zu dem Lichtfühler 5 reflektiert werden kann.In Figure 4, the third embodiment is shown, which is a reflective embodiment. One plate points a synthetic resin sheet 1, a first thermal insulating thin layer 6, an optical recording thin layer 2, a second thermal insulating thin layer 6a and reflective layer 8, all of which in the order given are stacked on top of each other. The lowest reflective Layer 8 is made of aluminum so that laser beam 4, as indicated by beam 9, is directed to the light sensor 5 can be reflected.
In Fig.5 ist die vierte Ausführungsform der Erfindung dargestellt, welche im Aufbau im wesentlichen der ersten in Fig.2 dargestellten Ausführungsform entspricht, außer daß die vierte Ausführungsform bandförmig ausgebildet ist.In Figure 5, the fourth embodiment of the invention is shown, which corresponds in structure essentially to the first embodiment shown in Figure 2, except that the fourth Embodiment is formed band-shaped.
Als nächstes werden die Verfahrensschritte für eine Ausbildung der dünnen Wärmeisolierschicht 6 oder 6a beschrieben. Zuerst wird der Verfahrensschritt beschrieben, bei welchem dünne Polystyrolschichten durch Aufdampfen im Vakuum aufgebracht werden. Als ein Polystyrol-Aufdampfmittel wird ein Oligomer verwendet, das ein gleichförmiges Molekulargewicht hat. Vorzugsweise werden die Oligomere verwendet, deren Schmelzpunkte genau festgelegt sind. Beispielsweise sind dies Piccolastic A-75 (mit einem Schmelzpunkt bei 75°C), Piccolastic D-125 (mit einem Schmelzpunkt bei 125°C) und Piccolastic D-150 (mit einem Schmelzpunkt bei 1500C); dies sindNext, the process steps for forming the heat insulating thin film 6 or 6a will be described. First, the process step is described in which thin polystyrene layers are applied by vapor deposition in a vacuum. As a polystyrene vapor deposition agent, an oligomer which has a uniform molecular weight is used. The oligomers whose melting points are precisely defined are preferably used. Examples of these are Piccolastic A-75 (having a melting point at 75 ° C) Piccolastic D-125 (having a melting point at 125 ° C) and Piccolastic D-150 (having a melting point at 150 0 C); these are
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alles Produkte, die von der Esso Chemical Corp. unter den angegebenen, eingetragenen Warenzeichen verkauft werden.all products sold by Esso Chemical Corp. under the specified, registered trademarks are sold.
Während des Aufbringens wird die Unterlage gedreht, so daß auf ihr eine dünne Schicht gleichförmig aufgebracht werden kann und gleichzeitig kann das Verdampfen der mit Wärme aufgebrachten dünnen Schicht vermieden werden. Hierzu ist eine entsprechende Antriebseinrichtung in einer Glasglocke oder etwas ähnlichem vorgesehen, so daß die Kunstharzunterlage 1 mit etwa 120U/min gedreht werden kann. Ein Verdampfungsmittel wird in ein Wolframschiffchen gefüllt. Das Aufdampfen im Vakuum wird unter den folgenden Bedingungen durchgeführt:During application, the base is rotated so that on You can apply a thin layer uniformly and at the same time can evaporate the applied with heat thin layer should be avoided. For this purpose, a corresponding drive device is in a bell jar or something similar provided so that the synthetic resin base 1 can be rotated at about 120 rpm. A vaporizer is used in a tungsten boat filled. The evaporation in vacuo is carried out under the following conditions:
Druck oder Grad des Vakuums 2 bis 3 χ 10" TorrPressure or degree of vacuum 2 to 3 χ 10 "Torr
Abstand zwischen dem SchiffchenDistance between the shuttle
und der Unterlage etwa 10cmand the base about 10cm
Verdampfungssubstanz etwa 100mgVaporizing substance about 100mg
Aufdampfzeit 5 bis 10minEvaporation time 5 to 10 minutes
Strom am Schiffchen (Größe 10x110mmElectricity on the boat (size 10x110mm
aus Wolfram ) 20 bis 4OAmade of tungsten) 20 to 40A
Die dünnen Wärmeisolierschichten ,welche transparent sind, können in einer Dicke von etwa 0,3um aufgebracht werden. Wenn die Verdampfungszeit verlängert wird, kann die Schichtdicke auf 2μΐη erhöht werden; wenn aber die Schichtdicke 2μπι überschreitet, kommt es zu einer Körnchenbildung, was zu Rauschen führen kann.The thin thermal insulation layers, which are transparent, can be applied in a thickness of about 0.3 µm. If the evaporation time is increased, the layer thickness can increase can be increased to 2μΐη; but if the layer thickness exceeds 2μπι, grain formation occurs, which can lead to noise.
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Als nächstes wird die Ausbildung der dünnen Wärmeisolierschichten durch Aufbringen von Polystyrol beschrieben. Dieser Verfahrensschritt ist vorteilhaft, da die dünnen Wärmeisolierschichten, deren Dicke von 1000A bis etwa 2μΐη reicht, gleichförmig auf den Unterlagen ausgebildet werden können, ist aber nachteilig, da ein verhältnismäßig langes Zeitintervall zum Trocknen nach dem Aufbringen erforderlich ist. Auch ist es äußerst schwierig, gleichförmig dünne Schichten mit einer Stärke von über 2μπι auszubilden.Next, the formation of the thin heat insulating layers by applying polystyrene will be described. This The process step is advantageous because the thin heat insulating layers, the thickness of which ranges from 1000A to about 2μΐη, are uniform can be trained on the documents, but is disadvantageous because a relatively long time interval to Drying after application is required. Also, it is extremely difficult to uniformly thin layers with a Train strength of over 2μπι.
Als nächstes werden einige Beispiele beschrieben. Piccolastic D-125 der vorbeschriebenen Art wird in Xylol (beispielsweise der Speziaisorte von KANTO KAGAKU K.K.) gelöst, um drei abgeteilte Mengen oder Quanten vorzubereiten. Ein erster Quantum besteht aus 6g Piccolastic D-125, das in 500cm3 Xylol gelöst ist, ein zweites Quantum besteht aus 24g, das in 500cm3 Xylol gelöst ist, und ein drittes Quantum besteht aus 50g, das in 500cm3 Xylol gelöst ist.Some examples will next be described. Piccolastic D-125 of the type described above is dissolved in xylene (for example the special type of KANTO KAGAKU KK) in order to prepare three divided quantities or quanta. A first quantity consists of 6g Piccolastic D-125, which is dissolved in 500cm 3 xylene, a second quantity consists of 24g, which is dissolved in 500cm 3 xylene, and a third quantity consists of 50g, which is dissolved in 500cm 3 xylene.
Zum Aufbringen wird die Kunstharzscheibe mit 10 bis 300U/min gedreht. Die dünnen Schichten, die mit den ersten, zweiten und dritten, abgeteilten Quanten aufgebracht worden sind, haben eine Dicke von etwa 1000Ä, 4000A bzw. 1μπι.For application, the synthetic resin disc is rotated at 10 to 300 rpm. The thin layers that came with the first, second and third, divided quanta have been applied, have a thickness of about 1000 Å, 4000 Å or 1μπι.
Als nächstes wird das Aufbringen der dünnen Wärmeisolierschichten aus Polychlortrifluoräthylen durch Aufdampfen im Vakuum beschrieben. Die Aufdampfsubstanz kann in Form von Pulver,The next step is the application of the thin thermal insulation layers made of polychlorotrifluoroethylene by vapor deposition in a vacuum described. The vapor deposition substance can be in the form of powder,
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Tabletten, Kügelchen u.a. vorliegen. Beispielsweise kann eine getrocknete DaifIon-Dispersion D50# ein Produkt von DAIKIN K.K. verwendet werden.Tablets, beads, etc. are present. For example, a dried DaifIon dispersion D50 # a product from DAIKIN KK can be used.
Die Kunstharzunterlage wird während des Aufbringens gedreht, um ein gleichförmiges Aufbringen zu gewährleisten und um ein Verdampfen der aufgebrachten Schicht zu verhindern. Hierzu ist eine Antriebseinrichtung in einer Glasglocke u.a. angeordnet, um so die Kunstharzunterlage mit 120U/min zu drehen. Eine Verdampfungssubstanz wird in ein Quarzschiffchen gefüllt, das durch eine Wolfram-Heizspule erhitzt wird. Das Verdampfen wird unter den folgenden Bedingungen durchgeführt: Druck oder Grad des Vakuums 2 bis 3x10 TorrThe synthetic resin base is rotated during application, to ensure uniform application and to prevent evaporation of the applied layer. For this a drive device is arranged in a bell jar, among other things, so as to rotate the synthetic resin base at 120 rpm. A vaporizing substance is placed in a quartz boat, which is heated by a tungsten heating coil. The evaporation is carried out under the following conditions: pressure or degree of vacuum 2 to 3x10 Torr
Abstand zwischen der Kunstharzscheibe
und der Verdampfungsquelle etwa 10cmDistance between the synthetic resin washer
and the evaporation source about 10cm
eingefüllte Verdampfungssubstanz etwa 200mg Verdampfungszeit etwa 4minFilled vaporization substance about 200mg Evaporation time about 4min
Verdampungstemperatur etwa 800 bis 9000CEvaporation temperature about 800 to 900 0 C
Hierdurch können dünne transparente Wärmeisolierschichten mit einer Dicke von etwa 0,2μΐη erhalten werden. Wenn die Menge an Verdampfungssubstanz erhöht und die Verdampfungszeit verlängert wird, kann die Schichtdicke auf 2μπι erhöht werden; wenn aber die Dicke 2μπι überschreitet, bilden sich Körnchen u.äf, was ein Rauschen zur Folge hat. Folglich sollte die Schichtdicke vorzugsweise nicht größer als 2μΐη sein. Bei dem Aufbringen der dünnen transparenten Wärmeisolierschichten ausIn this way, thin, transparent heat insulating layers with a thickness of about 0.2μΐη can be obtained. If the amount of evaporation substance is increased and the evaporation time is increased, the layer thickness can be increased to 2μπι; but if the thickness exceeds 2μπι, to form granules u.ä f, which has a noise result. Consequently, the layer thickness should preferably not be greater than 2μΐη. When applying the thin transparent thermal insulation layers
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dem Copolymer von 4-Fluoräthylen und 6-Fluorpropylen ist eine Verdampfungssubstanz beispielsweise "Teflon-FEP"# welches ein eingetragenes Warenzeichen der du Pont de Nemours & Co., Inc., USA ist, und wird in Stücke geschnitten. Die Aufdampfbedingungen sind im wesentlichen diegleichen, wie die ,die in Verbindung mit dem Aufbringen der dünnen WärmeIsolierschichten aus Polychlortrifluoräthylen beschrieben worden sind. Dieses Copolymer hat eine verhältnismäßig hohe spezifische Wärmeleitfähigkeit, so daß es nur auf den Kunstharzscheiben, wie Akryl-Kunstharzscheiben mit verhältnismäßig hohen spezifischen Leitfähigkeiten, aufgebracht werden kann. Dieses Copolymer ist vorteilhaft, da die Transparenz der aufgebrachten Schicht sehr hoch ist. Die Schichtdicke ist ebenfalls auf 2μπι begrenzt.the copolymer of 4-fluoroethylene and 6-fluoropropylene, an evaporation substance is, for example, "Teflon-FEP"# which is a registered trademark of du Pont de Nemours & Co., Inc., USA, and is cut into pieces. The evaporation conditions are essentially the same as those described in connection with the application of the thin thermal insulating layers of polychlorotrifluoroethylene. This copolymer has a relatively high specific thermal conductivity, so that it can only be applied to synthetic resin disks, such as acrylic synthetic resin disks with relatively high specific conductivities. This copolymer is advantageous because the transparency of the applied layer is very high. The layer thickness is also limited to 2μπι.
In der nachfolgenden Tabelle 2 sind die Aufzeichnungsempfindlichkeiten der verschiedenen Scheiben angegeben.In Table 2 below the record Rec are ind possibilities of the different slices specified.
keitSensitive
speed
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Die Aufzeichnungsempfindlichkeit ist als ein Relatiwerhältnis der reziproken Werte der Intensität des Laserstrahls festgelegt, wenn die Durchlässigkeit der dünnen optischen Aufzeichnungsschichten aus niedrigen Teluroxiden wegen deren Dunklerwerden infolge der Belichtungen durch den Laserstrahl auf 1/2 absinkt.The recording sensitivity is as a relative ratio the reciprocal values of the intensity of the laser beam set when the transmittance of the thin optical recording layers from low Teluroxides because they become darker as a result of exposure to the laser beam drops to 1/2.
Aus Tabelle 2 ist zu ersehen, daß, wenn die dünne Wärmeisolierschicht zwischen der Unterlage und der dünnen optischen Aufzeichnungsschicht angeordnet ist, die Wärmeenergie von dem Laserstrahl in der dünnen optischen Aufzeichnungsschicht 2 wirksam eingefangen ist, und die Wärmeableitung in die Kunstharzunterlage im wesentlichen vermieden ist. Folglich ist die Empfindlichkeit im Vergleich zu den Scheiben ohne Wärmeisolierschichten um 20 bis 35% erhöht.It can be seen from Table 2 that when the heat insulating thin layer is arranged between the base and the thin optical recording layer, the thermal energy from the Laser beam in the optical recording thin layer 2 is effectively trapped, and heat dissipation into the resin pad is substantially avoided. Hence the Sensitivity increased by 20 to 35% compared to the panes without thermal insulation layers.
Als nächstes wird anhand der Fig.6 und 7, die auf Ergebnissen der von der Anmelderin bzw. von den Erfindern durchgeführtenNext, referring to Figures 6 and 7, the results the one carried out by the applicant or the inventors
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Versuchen beruhen, die Beziehung zwischen der Dicke der dünnen Wärmeisolierschichten und der Wärmeisolierwirkung hinsichtlich der Aufzeichnungsempfindlichkeit beschrieben.Attempts are based on the relationship between the thickness of the thin heat insulating layers and the heat insulating effect the recording sensitivity.
In Fig.6 ist die Beziehung zwischen der Empfindlichkeit und der Schichtdicke der dünnen Wärmeisolierschichten aus Polystyrol dargestellt, die auf den Akryl-Kunstharzunterlagen aufgebracht sind. Die dünnen Schichten, die eine Dicke von weniger als 0,3μπι haben, wurden im Vakuum aufgedampft, während die dünnen Schichten mit einer Dicke von mehr als 0,5μπι mittels eines Auftrag- oder Beschichtungsverfahrens aufgebracht wurden, da es lange Zeit in Anspruch nimmt, um durch Aufdampfen im Vakuum dünne Schichten mit einer Dicke von mehr als 0,3μπι zu erhalten. Die Aufzeichnungsempfindlichkeit ist genauso festgesetzt wie die Definition in der Beschreibung zu der Tabelle 2.In Fig.6 is the relationship between the sensitivity and the layer thickness of the thin thermal insulation layers made of polystyrene, which are applied to the acrylic synthetic resin base are. The thin layers, which have a thickness of less than 0.3μπι, were evaporated in a vacuum while the thin layers with a thickness of more than 0.5μπι means an application or coating process because it takes a long time to apply by vapor deposition to obtain thin layers with a thickness of more than 0.3μπι in a vacuum. The recording sensitivity is the same as defined in the description of Table 2.
Wie aus Fig.6 zu ersehen ist, wird bei den dünnen Wärmeisolierschichten, deren Dicke von 0,1 bis 1μπι reicht, je größer die Schichtdicke ist, die Empfindlichkeit umso höher, während jedoch bei einer Dicke von 1 bis 2μπι die Empfindlichkeit beinahe gesättigt ist. über 2μΐη kann eine genaue Auswertung wegen der Risse und der Fehler durch die Körnchen in den Polystyrolschichten nicht erhalten werden; es kann jedoch gesagt werden, daß die Empfindlichkeit bei Stärken über 2μπι abnimmt, da, wenn die Schichtdicke zunimmt, die Wärmekapazität zunimmt und folglich die Temperatur, die durch die dünne opti-As can be seen from Fig. 6, in the case of the thin thermal insulation layers, whose thickness ranges from 0.1 to 1μπι, the greater the layer thickness, the higher the sensitivity, while but at a thickness of 1 to 2μπι the sensitivity almost is saturated. over 2μΐη can be an exact evaluation because of the crack and the defect are not obtained by the granules in the polystyrene layers; however it can be said be that the sensitivity decreases at strengths over 2μπι, because, when the layer thickness increases, the heat capacity increases and consequently the temperature, which is caused by the thin opti-
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sehe Aufzeichnungsschicht 2 erhalten werden kann, abnimmt. Ferner hat nicht nur die Wärmeisolierschicht selbst, sondern auch die Grenzschicht zwischen der Wärmeisolierschicht und der Kunstharzunterlage eine Wärmeisolierwirkung, so daß folglich, wenn die Schichtdicke zunimmt, der Isolierwirkungsgrad insgesamt abnimmt. Folglich ist es besser ,wenn die Dicke der Wärmeisolierschicht geringer als 2μΐη ist.see recording layer 2 can be obtained decreases. Furthermore, not only the heat insulating layer itself but also the boundary layer between the heat insulating layer and the resin base has a heat insulating effect, so that as the layer thickness increases, the insulating efficiency overall decreases. Consequently, it is better if the thickness of the heat insulating layer is less than 2μΐη.
In Fig.7 ist die Beziehung zwischen der Empfindlichkeit und der Dicke der dünnen Wärmeisolierschichten aus Polychlortrifluoräthylen dargestellt, welche durch Aufdampfen im Vakuum aufgebracht wurden. Die Schichtdicke ist eine Funktion der Menge an eingefüllter Verdampfungssubstanz und der Verdampfungszeit. Die Aufzeichnungsempfindlichkeit ist genauso festgelegt wie die Definition in der Beschreibung zu Tabelle 2. Es ist zu sehen, daß bis zu einer Dicke von weniger als 0,5μπι ,die Empfindlichkeit höher wird, je dicker die Schichtstärke ist, während jedoch über 0,5μπι die Empfindlichkeit gesättigt ist. Wie bei den Poylstyrolschichten ist eine genaue Auswertung wegen der Risse und der Fehler in der Oberfläche schwierig, wenn die Schichtstärke 2μΐη überschreitet. Im allgemeinen reicht für eine wirksame Wärmeisolierung eine Schichtdicke von weniger als 2μΐη aus.In Fig.7 is the relationship between the sensitivity and the thickness of the thin thermal insulation layers made of polychlorotrifluoroethylene, which is obtained by vacuum vapor deposition were applied. The layer thickness is a function of the amount of evaporation substance filled in and the evaporation time. The recording sensitivity is set in the same way as defined in the description of Table 2. It can be seen that up to a thickness of less than 0.5μπι, the higher the sensitivity, the thicker the layer thickness is, however, while the sensitivity is saturated above 0.5μπι is. As with the polystyrene layers, an accurate evaluation is necessary because of the cracks and defects in the surface difficult if the layer thickness exceeds 2μΐη. In general A layer thickness of less than 2μΐη is sufficient for effective thermal insulation.
Gemäß der Erfindung ist somit die Wärmeisolierschicht zwischen der Kunstharz- oder Kunststoffunterlage und der dünnen optischen Aufzeichnungsschicht angeordnet, so daß die Wärmener-According to the invention, the heat insulating layer is thus between the synthetic resin or plastic substrate and the thin optical recording layer arranged so that the heat
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gie von dem abtastenden Laserstrahl effektiv und wirksam in der dünnen optischen Aufzeichnungsschicht eingefangen werden
kann. Folglich kann bei dem optischen Aufzeichnungsmedium gemäß der Erfindung eine zuverlässige optische Aufzeichnung
selbst bei einem Laserstrahl mit geringer Intensität gewährleistet werden.The amount of the scanning laser beam can be effectively and efficiently captured in the optical recording thin layer. Consequently, with the optical recording medium according to the invention, reliable optical recording can be achieved
can be ensured even with a low-intensity laser beam.
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